JP5051754B2 - 導体層形成用組成物、導体層の形成方法および回路基板の製造方法 - Google Patents
導体層形成用組成物、導体層の形成方法および回路基板の製造方法 Download PDFInfo
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Description
ポリイミド前駆体樹脂と、
金属化合物と、
粘度調整剤としての含窒素複素環化合物と、
を含有するものである。
上記導体層形成用組成物を塗布液として前記絶縁基材の表面に塗布し、乾燥して塗布膜を形成する塗布膜形成工程と、
前記塗布膜中に存在する金属イオンを還元し、前記塗布膜の表面に前記導体層としての金属析出層を形成する還元工程と、
熱処理を行って前記塗布膜中の前記ポリイミド前駆体樹脂をイミド化してポリイミド樹脂層を形成するイミド化工程と、
を備えている。
前記導体層を、上記導体層の形成方法により形成するものである。
本実施の形態に係る導体層形成用組成物は、絶縁基材上に導体層を形成するための塗布液として用いられる。この導体層形成用組成物は、ポリイミド前駆体樹脂と、金属化合物と、粘度調整剤とを含有している。
[第1の実施の形態]
図1は、第1の実施の形態に係る導体層の形成方法が適用される回路基板の概略構成を示す斜視図である。図2は、図1の回路基板の要部断面を拡大して示す説明図である。
次に、図10を参照して、本発明の第2の実施の形態に係る導体層の形成方法について説明する。図10は、本実施の形態に係る導体層の形成方法の手順の概要を示すフロー図である。本実施の形態に係る導体層の形成方法は、図10に示すステップS11〜ステップS16の各工程を備えている。本実施の形態では、第1の実施の形態におけるステップS1の塗布膜形成工程に相当するステップS12の塗布膜形成工程の前に、絶縁基材3の表面改質を行うステップS11の表面処理工程を備えている。なお、本実施の形態におけるステップS12〜ステップS16までの工程は、第1の実施の形態のステップS1〜ステップS5までの各工程と同様であるため説明を省略する。
次に、図11および図12を参照して、本発明の第3の実施の形態に係る導体層の形成方法について説明する。図11は、本実施の形態に係る導体層の形成方法の手順の概要を示すフロー図である。本実施の形態に係る導体層の形成方法は、図11に示すステップS21〜ステップS24の各工程を備えている。本実施の形態の導体層の形成方法は、無電解めっき工程を実施しない点以外は、ほぼ第1の実施の形態と同様に行うことができる。従って、ステップS21〜S24については第1の実施の形態におけるステップS1、S2、S4およびS5とほぼ同様に行うことができるので、以下では相違点のみを説明する。
次に、図13を参照して、第4の実施の形態に係る導体層の形成方法について説明する。図13は、本実施の形態における塗布膜形成工程を説明する説明図である。上記第1〜第3の実施の形態では、塗布膜形成工程における塗布液20の塗布手段として、ディスペンサー30を使用したが、本実施の形態では、ディスペンサー30の替わりに、微小液滴を吐出する液滴吐出ヘッド52を備えた液滴吐出装置50を用いる。なお、塗布膜形成工程で液滴吐出装置50を使用する点を除き、本実施の形態における各工程は、第1〜第3の実施の形態の各工程と同様に行うことができるため、以下では相違点のみを説明する。
N−メチル−2−ピロリジノン(以下、「NMP」と略す)200mlに、3,3',4,4'−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物(以下、「BPDA」と略す)7.36gと2,2−ビス[4−(4−アミノフェノキシ)フェニル]プロパン(以下、「BAPP」と略す)10.26gを加え、室温で4時間攪拌し、ポリイミド前駆体樹脂ワニスAを作成した。
ポリイミド前駆体ワニスAに、粘度調整剤としてピリジン3.96gを加え、30分間攪拌した。この混合物に、市販のニッケル(II)アセチルアセトナート二水和物3gをNMP20mlに溶解した溶液を添加し、室温で1時間攪拌することにより、導体層形成用組成物として青色のポリイミド前駆体ニッケル錯体溶液1を作製した。この溶液の粘度は、E型粘度計で測定したところ、22,118cpsであった。
ポリイミド前駆体ワニスAに、粘度調整剤としてピリジン3.96g及びアセチルアセトン1.00gを加え、30分間攪拌した。この混合物に、市販のニッケル(II)アセチルアセトナート二水和物3gをNMP20mlに溶解した溶液を添加し、室温で1時間攪拌することにより、導体層形成用組成物として青色のポリイミド前駆体ニッケル錯体溶液2を作製した。この溶液の粘度は、E型粘度計で測定したところ、8,960cpsであった。
ポリイミド前駆体ワニスAに、粘度調整剤としてピリジン3.96g及びアセチルアセトン2.00gを加え、30分間攪拌した。この混合物に、市販のニッケル(II)アセチルアセトナート二水和物3gをNMP20mlに溶解した溶液を添加し、室温で1時間攪拌することにより、導体層形成用組成物として青色のポリイミド前駆体ニッケル錯体溶液3を作製した。この溶液の粘度は、E型粘度計で測定したところ、780cpsであった。
ポリイミド前駆体ワニスAに、粘度調整剤としてピリジン3.96g及びアセチルアセトン5.00gを加え、30分攪拌した。この混合物に、市販のニッケル(II)アセチルアセトナート二水和物3gをNMP20mlに溶解した溶液を添加し、室温で1時間攪拌することにより、導体層形成用組成物として青色のポリイミド前駆体ニッケル錯体溶液4を作製した。この溶液の粘度は、E型粘度計で測定したところ、410cpsであった。
ポリイミド前駆体ワニスAに、粘度調整剤として1−メチルイミダゾール4.12gを加え、30分攪拌した。この混合物に、市販のニッケル(II)アセチルアセトナート二水和物3gをNMP20mlに溶解した溶液を添加し、室温で1時間攪拌することにより、導体層形成用組成物として青色のポリイミド前駆体ニッケル錯体溶液5を作製した。この溶液の粘度は、E型粘度計で測定したところ、570cpsであった。
ポリイミド前駆体ワニスAに、粘度調整剤として1−メチルイミダゾール4.12g及びアセチルアセトン1.00gを加え、30分攪拌した。この混合物に、市販のニッケル(II)アセチルアセトナート二水和物3gをNMP20mlに溶解した溶液を添加し、室温で1時間攪拌することにより、導体層形成用組成物として青色のポリイミド前駆体ニッケル錯体溶液6を作製した。この溶液の粘度は、E型粘度計で測定したところ、430cpsであった。
ポリイミド前駆体ワニスAに、市販のニッケル(II)アセチルアセトナート二水和物3gをNMP20mlに溶解した溶液を添加し、室温で1時間攪拌したが、ゲル化が起こり、液状にはならなかった。
ポリイミド前駆体ワニスAに、市販のニッケル(II)アセチルアセトナート二水和物3gをNMP20mlに溶解した溶液と粘度調整剤としてのアセチルアセトン3.7gを添加し、室温で1時間攪拌することで、導体層形成用組成物として緑色のポリイミド前駆体ニッケル錯体溶液8を作製した。この溶液の粘度は、E型粘度計で測定したところ51,375cpsであった。
表2に示す組成で比較例2と同様にして、導体層形成用組成物としてポリイミド前駆体ニッケル錯体溶液9〜13を調製した。また、比較例1、2で作成したポリイミド前駆体ニッケル錯体溶液7、8の組成および比較例1〜7のポリイミド前駆体ニッケル錯体溶液7〜13の粘度も併せて表2に示した。
ポリイミド前駆体ワニスAに、粘度調整剤としてピリジン3.96g及びアセチルアセトン9.4gを加え、30分攪拌した後、市販のニッケル(II)アセチルアセトナート二水和物11gをNMP80mlに溶解した溶液を添加し、室温で1時間攪拌することにより、導体層形成用組成物として青色のポリイミド前駆体ニッケル錯体溶液7を作製した。この溶液の粘度は、E型粘度計で測定したところ、2,000cpsであった。
東レ・デュポン製のポリイミドフィルム“カプトンEN”(商品名)の試験片10cm×10cm(厚み25μm)を用意した。このポリイミド基板上に、ディスペンサーを使って、実施例7で作製したポリイミド前駆体ニッケル錯体溶液7を、約200μm幅の直線になるように描画した後、125℃、10分乾燥した。描画、乾燥して形成した膜の厚みは2μmであった。
実施例6で作製したポリイミド前駆体ニッケル錯体溶液6に、更にNMP450mlを加えてポリイミド前駆体ニッケル錯体溶液9を作製した。この溶液の粘度は、E型粘度計で測定したところ、15cpsであった。
Claims (6)
- 基材上に導体層を形成する導体層の形成方法であって、
ポリイミド前駆体樹脂と、金属化合物と、粘度調整剤としての、金属イオンとキレート錯体を形成する含窒素複素環化合物とを含有する導体層形成用組成物を塗布液として前記基材の表面に塗布し、乾燥して塗布膜を形成する塗布膜形成工程と、
前記塗布膜を、ホウ素化合物を含む還元剤溶液に浸漬して前記塗布膜中に存在する金属イオンを還元し、前記塗布膜の表面に前記導体層としての金属析出層を形成する還元工程と、
前記金属析出層を核として、無電解めっきおよび/または電気めっきを行うめっき工程と、
熱処理を行って前記塗布膜中の前記ポリイミド前駆体樹脂をイミド化してポリイミド樹脂層を形成するイミド化工程と、
を含むことを特徴とする導体層の形成方法。
- 前記含窒素複素環化合物が、第3級アミノ化合物であることを特徴とする請求項1に記載の導体層の形成方法。
- 前記含窒素複素環化合物が、置換または非置換の、ピリジンまたはイミダゾールであることを特徴とする請求項1に記載の導体層の形成方法。
- 前記塗布膜形成工程では、前記導体層形成用組成物を細線状に塗布することを特徴とする請求項1から3のいずれか1項に記載の導体層の形成方法。
- 前記金属化合物が、金属種としてニッケルを含有する化合物であることを特徴とする請求項1から4のいずれか1項に記載の導体層の形成方法。
- 請求項1から5のいずれか1項に記載の導体層の形成方法によって基材上に導体層を形成する工程を含む回路基板の製造方法。
Priority Applications (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2007135488A JP5051754B2 (ja) | 2007-05-22 | 2007-05-22 | 導体層形成用組成物、導体層の形成方法および回路基板の製造方法 |
PCT/JP2008/059103 WO2008143202A1 (ja) | 2007-05-22 | 2008-05-19 | 導体層形成用組成物、導体層の形成方法および回路基板の製造方法 |
TW97118635A TWI386518B (zh) | 2007-05-22 | 2008-05-21 | 導體層之形成方法及電路基板之製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2007135488A JP5051754B2 (ja) | 2007-05-22 | 2007-05-22 | 導体層形成用組成物、導体層の形成方法および回路基板の製造方法 |
Publications (3)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2008294060A JP2008294060A (ja) | 2008-12-04 |
JP2008294060A5 JP2008294060A5 (ja) | 2010-05-27 |
JP5051754B2 true JP5051754B2 (ja) | 2012-10-17 |
Family
ID=40031900
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2007135488A Expired - Fee Related JP5051754B2 (ja) | 2007-05-22 | 2007-05-22 | 導体層形成用組成物、導体層の形成方法および回路基板の製造方法 |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP5051754B2 (ja) |
TW (1) | TWI386518B (ja) |
WO (1) | WO2008143202A1 (ja) |
Families Citing this family (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
TWI500370B (zh) * | 2012-05-25 | 2015-09-11 | Nat Univ Chung Hsing | A method of forming a conductive metal pattern and a wiring on a surface of a plastic substrate and a method for forming a printing ink |
CN110049619B (zh) * | 2018-01-17 | 2020-08-07 | 庆鼎精密电子(淮安)有限公司 | 电路板及其制作方法 |
JP7340179B2 (ja) * | 2018-05-24 | 2023-09-07 | 学校法人 芝浦工業大学 | 導体の製造方法、配線基板の製造方法及び導体形成用組成物 |
Family Cites Families (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH06101054A (ja) * | 1992-09-21 | 1994-04-12 | Ishihara Chem Co Ltd | 銅系素材選択型無電解めっき用触媒液 |
JPH08193275A (ja) * | 1994-11-17 | 1996-07-30 | Ibiden Co Ltd | 無電解めっき液、無電解めっき方法およびプリント配線板の製造方法 |
JP3355832B2 (ja) * | 1994-12-08 | 2002-12-09 | 三菱マテリアル株式会社 | 回路パターンの形成方法及びそのペースト |
JPH11302375A (ja) * | 1997-11-20 | 1999-11-02 | Kanegafuchi Chem Ind Co Ltd | 金属を含有するポリアミド酸組成物並びにポリイミドフィルム及びそれからなるフレキシブル印刷配線用基板及びそれらの製造方法 |
JP2005154880A (ja) * | 2003-11-28 | 2005-06-16 | Toray Eng Co Ltd | ポリイミド前駆体金属錯体溶液およびそれを用いた電子部品用基材およびその製造方法 |
JP2006104504A (ja) * | 2004-10-01 | 2006-04-20 | Yoichi Haruta | ポリイミド樹脂材の無電解めっき前処理方法および表面金属化方法、並びにフレキシブルプリント配線板およびその製造方法 |
KR100568569B1 (ko) * | 2004-10-26 | 2006-04-07 | 주식회사 이녹스 | 폴리이미드 접착제용 조성물 및 이를 이용한 폴리이미드접착테이프 |
JP2006165476A (ja) * | 2004-12-10 | 2006-06-22 | Tokai Rubber Ind Ltd | フレキシブルプリント基板の製法 |
-
2007
- 2007-05-22 JP JP2007135488A patent/JP5051754B2/ja not_active Expired - Fee Related
-
2008
- 2008-05-19 WO PCT/JP2008/059103 patent/WO2008143202A1/ja active Application Filing
- 2008-05-21 TW TW97118635A patent/TWI386518B/zh not_active IP Right Cessation
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
TW200902756A (en) | 2009-01-16 |
JP2008294060A (ja) | 2008-12-04 |
WO2008143202A1 (ja) | 2008-11-27 |
TWI386518B (zh) | 2013-02-21 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20100413 |
|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20100413 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20111213 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20120123 |
|
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