JP5038216B2 - Ceramic molded body, ceramic part, method for manufacturing ceramic molded body, and method for manufacturing ceramic part - Google Patents

Ceramic molded body, ceramic part, method for manufacturing ceramic molded body, and method for manufacturing ceramic part Download PDF

Info

Publication number
JP5038216B2
JP5038216B2 JP2008092063A JP2008092063A JP5038216B2 JP 5038216 B2 JP5038216 B2 JP 5038216B2 JP 2008092063 A JP2008092063 A JP 2008092063A JP 2008092063 A JP2008092063 A JP 2008092063A JP 5038216 B2 JP5038216 B2 JP 5038216B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
film
molded body
ceramic molded
conductor
ceramic
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Active
Application number
JP2008092063A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JP2009241472A (en
Inventor
政彦 滑川
幸久 武内
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
NGK Insulators Ltd
Original Assignee
NGK Insulators Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by NGK Insulators Ltd filed Critical NGK Insulators Ltd
Priority to JP2008092063A priority Critical patent/JP5038216B2/en
Publication of JP2009241472A publication Critical patent/JP2009241472A/en
Application granted granted Critical
Publication of JP5038216B2 publication Critical patent/JP5038216B2/en
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Landscapes

  • Filters And Equalizers (AREA)

Description

本発明は、内部に導体が埋設されたセラミック成形体、セラミック部品、セラミック成形体の製造方法及びセラミック部品の製造方法に関し、例えば高周波特性に優れた受動部品等を構成することができるセラミック成形体、セラミック部品、セラミック成形体の製造方法及びセラミック部品の製造方法に関する。   The present invention relates to a ceramic molded body having a conductor embedded therein, a ceramic component, a method for manufacturing a ceramic molded body, and a method for manufacturing a ceramic component, and for example, a ceramic molded body capable of constituting a passive component having excellent high-frequency characteristics. The present invention relates to a ceramic part, a method for producing a ceramic molded body, and a method for producing a ceramic part.

誘電体基板を用いた受動部品等を作製する場合、セラミック粉末と樹脂を含むグリーンシート上に導体パターンを印刷によって形成したものを積層一体化した後に、成形加工した後、焼成するようにしている(例えば特許文献1、2参照)。   When manufacturing passive components using a dielectric substrate, a conductor pattern is formed on a green sheet containing ceramic powder and resin by laminating and integrating them, then molding and firing. (For example, refer to Patent Documents 1 and 2).

この場合、導体パターンがグリーンシート上において凸形状に形成されるため、グリーンシートを積層する際に、導体パターンの周縁近傍に圧力がかからず、積層した後に、剥がれが生じたり、導体パターンの端部がつぶれてしまい、導体パターンの電気的特性を劣化させる。また、これらの問題のために、導体パターンの厚みを厚くできないため、抵抗値を下げるのに限界があり、また、高周波特性の向上にも限界があった。   In this case, since the conductor pattern is formed in a convex shape on the green sheet, no pressure is applied to the vicinity of the periphery of the conductor pattern when the green sheet is laminated. The end portion is crushed and the electrical characteristics of the conductor pattern are deteriorated. In addition, because of these problems, since the thickness of the conductor pattern cannot be increased, there is a limit to lowering the resistance value, and there is a limit to improving high-frequency characteristics.

そこで、従来では、上述の欠点を解決するために、樹脂フィルムのような基体やグリーンシート上に、導体ペーストを印刷形成した後、セラミック粉末と樹脂からなるスラリーを塗布し、その後、カチオン性凝固浴に浸漬して前記スラリーをゲル化したグリーンシートにすることで、導体パターンをグリーンシート内に埋設する方法が提案されている(例えば特許文献1参照)。   Therefore, conventionally, in order to solve the above-described drawbacks, a conductive paste is printed on a substrate such as a resin film or a green sheet, and then a slurry composed of a ceramic powder and a resin is applied, followed by cationic solidification. There has been proposed a method of embedding a conductor pattern in a green sheet by immersing it in a bath to form a gelled green sheet (for example, see Patent Document 1).

また、他の従来例では、導体パターンの変形を抑制するために、導体ペーストに熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂あるいは紫外線硬化性樹脂を混入させる方法が提案されている(例えば特許文献2参照)。   In another conventional example, a method of mixing a thermoplastic resin, a thermosetting resin, or an ultraviolet curable resin in a conductor paste is proposed in order to suppress deformation of the conductor pattern (see, for example, Patent Document 2). .

さらに他の従来例では、鋳込み型内にコイル形状の金属線を設置し、さらに、鋳込み型内にセラミックスラリーを充填して、セラミックスラリーで金属線を内包させる。その後、乾燥することによって、セラミック成形体内に金属線によるコイルが内包された電子部品を得るようにしている(例えば特許文献3参照)。   In still another conventional example, a coil-shaped metal wire is installed in a casting mold, and further, a ceramic slurry is filled in the casting mold, and the metal wire is encapsulated with the ceramic slurry. Thereafter, by drying, an electronic component in which a coil made of a metal wire is included in a ceramic molded body is obtained (for example, see Patent Document 3).

特開2005−1279号公報Japanese Patent Laid-Open No. 2005-1279 特開平8−167537号公報JP-A-8-167537 特開平11−126724号公報JP-A-11-126724

ところで、セラミック粉末と熱可塑性樹脂を含むスラリーと、熱可塑性樹脂を含む導体ペーストとを使用した場合、スラリーが乾燥する際に生ずる大きな収縮により、セラミック成形体のうち、導体近傍に亀裂が発生したりして、セラミック成形体と導体との一体化に問題が生じたり、導体の凸形状の影響でグリーンシートが凹凸形状になったりする。また、導体ペーストに含まれる熱可塑性樹脂は溶剤に溶解し易いため、セラミック成形体とする際に、導体がセラミック中に溶けて導体のパターン形状が崩れるという問題がある。   By the way, when a slurry containing ceramic powder and a thermoplastic resin and a conductor paste containing a thermoplastic resin are used, cracks occur in the vicinity of the conductor in the ceramic molded body due to the large shrinkage that occurs when the slurry dries. As a result, there is a problem in the integration of the ceramic molded body and the conductor, or the green sheet becomes uneven due to the influence of the convex shape of the conductor. In addition, since the thermoplastic resin contained in the conductor paste is easily dissolved in a solvent, there is a problem that when forming a ceramic molded body, the conductor is dissolved in the ceramic and the pattern shape of the conductor is broken.

また、特許文献1では、グリーンシート上への導体パターンの形成、スラリーの塗布、カチオン性凝固浴への浸漬、乾燥を1層ごとに行う必要があり、導体パターンの多層化に伴って工数が増加するという問題がある。   Moreover, in patent document 1, it is necessary to perform formation of the conductor pattern on a green sheet, application | coating of a slurry, immersion to a cationic coagulation bath, and drying for every layer, and a man-hour is accompanied by multilayering of a conductor pattern. There is a problem of increasing.

特許文献2では、グリーンシート上に導体パターンを印刷によって形成したものを積層一体化した後に、プレス加工するようにしているため、特許文献1や2と同様に、導体パターンの周縁近傍に圧力がかからず、積層した後に、剥がれが生じるおそれがある。   In Patent Literature 2, since a conductor pattern formed by printing on a green sheet is laminated and integrated and then pressed, pressure is applied in the vicinity of the periphery of the conductor pattern as in Patent Literatures 1 and 2. However, there is a risk of peeling after lamination.

なお、特許文献3に記載された提案例は、抵抗やコイル等の素子をセラミック成形体に埋設するには好都合であるが、導体パターンの多層化には適用することができないという問題がある。   The proposed example described in Patent Document 3 is convenient for embedding elements such as resistors and coils in a ceramic molded body, but has a problem that it cannot be applied to multilayer conductor patterns.

本発明はこのような課題を考慮してなされたものであり、導体パターンの剥がれや崩れがなく、しかも、導体パターンの厚みを厚くでき、抵抗値の低減化、高周波特性の向上を容易に図ることができるセラミック成形体、セラミック部品、セラミック成形体の製造方法及びセラミック部品の製造方法を提供することを目的とする。   The present invention has been made in consideration of such problems, and there is no peeling or collapse of the conductor pattern, the thickness of the conductor pattern can be increased, the resistance value can be reduced, and the high-frequency characteristics can be easily improved. An object of the present invention is to provide a ceramic molded body, a ceramic part, a method for manufacturing a ceramic molded body, and a method for manufacturing a ceramic part.

先ず、本発明者らは、本発明に係るセラミック成形体を得る前に以下の構成を有するセラミック成形体(参考例に係るセラミック成形体)を作製した。   First, the present inventors produced a ceramic molded body (ceramic molded body according to a reference example) having the following configuration before obtaining the ceramic molded body according to the present invention.

すなわち、金属粉末とバインダ(熱硬化性樹脂前駆体)を含む導体ペーストをパターン形成し、その後、硬化してなる導体成形部と、熱硬化性樹脂前駆体とセラミック粉末と溶剤とが混合されたスラリーを、導体成形部を被覆するように供給した後に硬化して得られるセラミック成形部とを有する参考例に係るセラミック成形体を得た。   That is, a conductor paste containing a metal powder and a binder (thermosetting resin precursor) is patterned and then cured, and the thermosetting resin precursor, ceramic powder and solvent are mixed. The ceramic molded body which concerns on the reference example which has a ceramic molded part obtained by hardening | curing, after supplying a slurry so that a conductor molded part may be coat | covered was obtained.

しかし、この参考例に係るセラミック成形体は、以下のような問題点を有することが判明した。   However, it has been found that the ceramic molded body according to this reference example has the following problems.

参考例に係るセラミック成形体は、熱硬化性樹脂前駆体とセラミック粉末と溶剤とが混合されたスラリーを導体成形部を被覆するように供給しているが、スラリーの溶剤の種類によっては、導体成形部のバインダが溶解する場合がある。これを抑制するために、熱硬化性樹脂前駆体(例えばレゾール型フェノール樹脂)をバインダとした導体ペーストを硬化させて導体成形部としているが、導体ペーストによる印刷物(導体パターン)の厚み制御、外形寸法制御、版抜け性制御が困難であるという問題がある。   In the ceramic molded body according to the reference example, the slurry in which the thermosetting resin precursor, the ceramic powder, and the solvent are mixed is supplied so as to cover the conductor molding portion. The binder in the molded part may be dissolved. In order to suppress this, a conductor paste using a thermosetting resin precursor (for example, a resol type phenol resin) as a binder is cured to form a conductor molding part. There is a problem in that it is difficult to control the dimensions and the plate slippage.

また、導体ペーストに含まれるバインダとして、熱硬化性樹脂前駆体、熱可塑性樹脂前駆体のいずれを用いた場合であっても、焼成後のセラミック部品のクラックや電極−セラミック界面での剥がれを抑制するために、導体成形部の焼成収縮率をセラミック成形部と合わせる必要がある。例えば高周波回路部品(フィルタ、カプラ、バラン、アンテナ等)を作製する場合、高周波での導体損失低減を目的として、内層導体を厚く、且つ、内層導体のエッジを矩形又は半円形とすることが望ましいが、このような内層導体を得るためには、導体ペーストの印刷膜厚が厚く、また、印刷パターンのエッジを矩形又は半円形とする必要がある。   Regardless of whether a thermosetting resin precursor or thermoplastic resin precursor is used as the binder contained in the conductor paste, it suppresses cracking of ceramic parts after firing and peeling at the electrode-ceramic interface. In order to achieve this, it is necessary to match the firing shrinkage ratio of the conductor molding part with the ceramic molding part. For example, when manufacturing high-frequency circuit components (filters, couplers, baluns, antennas, etc.), it is desirable to thicken the inner layer conductor and to make the edge of the inner layer conductor rectangular or semicircular for the purpose of reducing conductor loss at high frequencies. However, in order to obtain such an inner layer conductor, it is necessary that the printed film thickness of the conductor paste is thick and the edge of the printed pattern is rectangular or semicircular.

導体ペーストの印刷膜厚を厚く、また、印刷パターンのエッジを矩形又は半円形とするためには、印刷パターンの流動性を抑制するために、導体ペースト中のバインダの量を極力少なくする必要がある一方、導体ペースト中のバインダの量を削減すると、導体成形部の焼成収縮率が小さくなり、セラミック成形部との焼成収縮率を一致させるのが困難になる。   In order to increase the printed film thickness of the conductive paste and make the edges of the printed pattern rectangular or semicircular, it is necessary to reduce the amount of binder in the conductive paste as much as possible in order to suppress the fluidity of the printed pattern. On the other hand, if the amount of the binder in the conductor paste is reduced, the firing shrinkage rate of the conductor molding portion becomes small, and it becomes difficult to match the firing shrinkage rate with the ceramic molding portion.

さらに、導体成形部に低融点金属(Ag、Cu、Au等)を使用すると、導体成形部の焼成収縮開始温度がセラミック成形部の焼成収縮開始温度よりも低温になり易くなるため、焼成収縮開始温度を上げることを狙って、導体ペーストに含まれる金属粉末として、凝集粉や粗粒粉を使用するが、この場合、導体成形部とセラミック成形部の界面が粗くなり易く、結果として、高周波回路部品として使用する場合、導体損失が悪化するという問題があった。   Furthermore, if a low melting point metal (Ag, Cu, Au, etc.) is used for the conductor molded part, the firing shrinkage start temperature of the conductor molded part tends to be lower than the firing shrinkage start temperature of the ceramic molded part, and thus firing shrinkage starts. With the aim of raising the temperature, agglomerated powder or coarse powder is used as the metal powder contained in the conductor paste, but in this case, the interface between the conductor molded part and the ceramic molded part tends to become rough, resulting in a high-frequency circuit. When used as a component, there was a problem that the conductor loss deteriorated.

そこで、第1の本発明に係るセラミック成形体は、金属粉末とバインダを含む導体ペーストをパターン形成し、その後、硬化してなる導体成形部と、樹脂とセラミック粉末と溶剤とが混合されたスラリーを、前記導体成形部を被覆するように供給した後に硬化して得られるセラミック成形部とを有するセラミック成形体であって、前記導体成形部と前記セラミック成形部との界面に焼成収縮率調整膜が形成されていることを特徴とする。   Accordingly, the ceramic molded body according to the first aspect of the present invention is a slurry in which a conductor paste containing a metal powder and a binder is patterned and then cured, and a resin, ceramic powder and solvent are mixed. A ceramic molded body having a ceramic molded part obtained by curing after being supplied so as to cover the conductor molded part, and a firing shrinkage rate adjusting film at an interface between the conductor molded part and the ceramic molded part Is formed.

そして、第1の本発明において、前記焼成収縮率調整膜は、有機膜(CVD又は印刷)又は無機膜(CVD又はスパッタ)であってもよい。この場合、前記焼成収縮率調整層に含まれる前記有機膜は、フェノール樹脂、エポキシ樹脂、ポリウレタン樹脂又はポリパラキシリレン樹脂であってもよい。あるいは、前記焼成収縮率調整層に含まれる前記無機膜は、シリカ膜であってもよい。   In the first aspect of the present invention, the firing shrinkage rate adjusting film may be an organic film (CVD or printing) or an inorganic film (CVD or sputtering). In this case, the organic film included in the baking shrinkage rate adjusting layer may be a phenol resin, an epoxy resin, a polyurethane resin, or a polyparaxylylene resin. Alternatively, the inorganic film included in the firing shrinkage rate adjusting layer may be a silica film.

また、第1の本発明において、前記セラミック成形部は、前記スラリーを、基体上に成形された前記導体成形部を被覆するように塗布した後に硬化して得るようにしてもよい。   In the first aspect of the present invention, the ceramic molding part may be obtained by curing the slurry after applying the slurry so as to cover the conductor molding part molded on the substrate.

また、第1の本発明において、前記導体ペーストに含まれる金属粉末は、銀(Ag)、金(Au)、銅(Cu)系の金属の少なくとも1種類の粉末であり、前記導体ペーストに含まれるバインダは、熱可塑性樹脂前駆体又は熱硬化性樹脂前駆体であってもよい。この場合、前記導体ペーストに含まれる前記熱硬化性樹脂前駆体は、フェノール樹脂であってもよい。   In the first aspect of the present invention, the metal powder contained in the conductor paste is at least one powder of silver (Ag), gold (Au), and copper (Cu) based metals, and is contained in the conductor paste. The binder may be a thermoplastic resin precursor or a thermosetting resin precursor. In this case, the thermosetting resin precursor contained in the conductor paste may be a phenol resin.

また、第1の本発明において、前記スラリーに含まれる前記樹脂は、熱硬化性樹脂前駆体であって、ポリウレタン樹脂前駆体であってもよい。   In the first aspect of the present invention, the resin contained in the slurry may be a thermosetting resin precursor and a polyurethane resin precursor.

次に、第2の本発明に係るセラミック部品は、上述した第1の本発明に係るセラミック成形体を焼成してなることを特徴とする。   Next, the ceramic component according to the second aspect of the present invention is obtained by firing the ceramic molded body according to the first aspect of the present invention described above.

次に、第3の本発明に係るセラミック成形体の製造方法は、金属粉末とバインダを含む導体ペーストをパターン形成し、その後、硬化してなる導体成形部を形成する導体形成工程と、前記導体成形部の表面の一部又は全部に焼成収縮率調整膜を形成する焼成収縮率調整膜形成工程と、熱硬化性樹脂前駆体とセラミック粉末と溶剤とが混合されたスラリーを、前記焼成収縮率調整層と共に前記導体成形部を被覆するように供給するスラリー供給工程と、前記スラリーを硬化してセラミック成形部にすることにより、セラミック成形体を作製するスラリー硬化工程とを有することを特徴とする。   Next, a method for producing a ceramic molded body according to a third aspect of the present invention includes a conductor forming step of patterning a conductor paste containing metal powder and a binder, and then forming a conductor molding portion formed by curing, and the conductor A firing shrinkage rate adjusting film forming step for forming a firing shrinkage rate adjusting film on part or all of the surface of the molding part, and a slurry in which a thermosetting resin precursor, ceramic powder and a solvent are mixed, A slurry supply step for supplying the conductive molded portion together with the adjustment layer, and a slurry curing step for producing a ceramic molded body by curing the slurry into a ceramic molded portion. .

そして、第3の本発明において、前記焼成収縮率調整膜は、有機膜(CVD又は印刷)又は無機膜(CVD又はスパッタ)であってもよい。この場合、焼成収縮率調整膜形成工程は、前記導体成形部の表面の一部又は全部に前記有機膜をCVD法又は印刷法にて形成するようにしてもよい。あるいは、前記導体成形部の表面の一部又は全部に前記無機膜をCVD法又はスパッタ法にて形成するようにしてもよい。   In the third aspect of the present invention, the firing shrinkage rate adjusting film may be an organic film (CVD or printing) or an inorganic film (CVD or sputtering). In this case, in the firing shrinkage rate adjusting film forming step, the organic film may be formed on a part or all of the surface of the conductor molding portion by a CVD method or a printing method. Alternatively, the inorganic film may be formed on a part or all of the surface of the conductor molding portion by a CVD method or a sputtering method.

また、第3の本発明において、前記スラリーに使用される前記熱硬化性樹脂前駆体がポリウレタン樹脂前駆体であってもよい。   In the third aspect of the present invention, the thermosetting resin precursor used in the slurry may be a polyurethane resin precursor.

また、第3の本発明において、前記導体形成工程は、基体上に前記導体成形部を形成し、前記焼成収縮率調整膜形成工程は、前記基体上に形成された前記導体成形部上に、前記焼成収縮率調整膜を形成し、前記スラリー供給工程は、前記スラリーを、前記焼成収縮率調整層と共に前記導体成形部を被覆するように前記基体上に塗布するようにしてもよい。   In the third aspect of the present invention, the conductor forming step forms the conductor molded portion on a base, and the firing shrinkage adjustment film forming step is performed on the conductor molded portion formed on the base. The firing shrinkage rate adjusting film may be formed, and in the slurry supplying step, the slurry may be applied onto the base together with the firing shrinkage rate adjusting layer so as to cover the conductor molding portion.

また、第3の本発明において、前記導体形成工程は、フィルム上に導体成形部を形成し、前記焼成収縮率調整膜形成工程は、前記フィルム上に形成された前記導体成形部上に、前記焼成収縮率調整膜を形成し、前記スラリー供給工程は、前記導体成形部及び前記焼成収縮率調整膜が形成された前記フィルムを鋳込み型内に設置し、前記スラリーを前記鋳込み型内に鋳込むようにしてもよい。   In the third aspect of the present invention, the conductor forming step forms a conductor molded portion on the film, and the firing shrinkage ratio adjusting film forming step is performed on the conductor molded portion formed on the film. A firing shrinkage rate adjustment film is formed, and in the slurry supplying step, the conductor formed portion and the film on which the firing shrinkage rate adjustment film is formed are placed in a casting mold, and the slurry is cast into the casting mold. You may make it.

この場合、前記スラリー供給工程は、前記フィルムを前記鋳込み型内に設置する際に、前記フィルムと他のフィルムとを前記導体成形部及び前記焼成収縮率調整膜が形成された面と前記他のフィルムとを対向させ、さらに、前記フィルムと前記他のフィルムの間にスペーサを挟んで設置し、前記スペーサにて形成される空間内に前記スラリーを流し込むようにしてもよい。さらに、前記フィルムの表面に塗布された剥離剤の剥離力と、前記他のフィルムの表面に塗布された剥離剤の剥離力とが異なるようにしてもよい。   In this case, in the slurry supply step, when the film is installed in the casting mold, the film and the other film are combined with the surface on which the conductor molding portion and the firing shrinkage adjustment film are formed, and the other film. The film may be opposed, and a spacer may be interposed between the film and the other film, and the slurry may be poured into a space formed by the spacer. Further, the peeling force of the release agent applied to the surface of the film may be different from the release force of the release agent applied to the surface of the other film.

また、第3の本発明において、前記導体ペーストに含まれる金属粉末は、銀(Ag)、金(Au)、銅(Cu)系の金属の少なくとも1種類の粉末であり、前記導体ペーストに含まれるバインダは、熱可塑性樹脂前駆体又は熱硬化性樹脂前駆体であってもよい。この場合、前記導体ペーストに含まれる前記熱硬化性樹脂前駆体がフェノール樹脂であってもよい。さらには、自己反応性のレゾール樹脂であってもよい。   In the third aspect of the present invention, the metal powder contained in the conductor paste is at least one powder of silver (Ag), gold (Au), and copper (Cu) based metals, and is contained in the conductor paste. The binder may be a thermoplastic resin precursor or a thermosetting resin precursor. In this case, the thermosetting resin precursor contained in the conductor paste may be a phenol resin. Furthermore, a self-reactive resole resin may be used.

次に、第4の本発明に係るセラミック部品の製造方法は、セラミック成形体を作製する工程と、作製された前記セラミック成形体を焼成する工程とを有するセラミック部品の製造方法であって、前記セラミック成形体を作製する工程は、金属粉末とバインダを含む導体ペーストをパターン形成し、その後、硬化してなる導体成形部を形成する導体形成工程と、前記導体成形部の表面の一部又は全部に焼成収縮率調整膜を形成する焼成収縮率調整膜形成工程と、熱硬化性樹脂前駆体とセラミック粉末と溶剤とが混合されたスラリーを、前記焼成収縮率調整層と共に前記導体成形部を被覆するように供給するスラリー供給工程と、前記スラリーを硬化してセラミック成形部にすることにより、セラミック成形体を作製するスラリー硬化工程とを有することを特徴とする。   Next, a method for manufacturing a ceramic component according to a fourth aspect of the present invention is a method for manufacturing a ceramic component, comprising: a step of manufacturing a ceramic molded body; and a step of firing the manufactured ceramic molded body. The step of producing a ceramic molded body includes a conductor forming step of patterning a conductor paste containing a metal powder and a binder, and then forming a conductor molded portion, and a part or all of the surface of the conductor molded portion. A step of forming a firing shrinkage rate adjusting film on the surface, and a slurry in which a thermosetting resin precursor, a ceramic powder and a solvent are mixed, and the conductor molding part are coated together with the firing shrinkage rate adjusting layer. A slurry supply step for supplying the ceramic molded body, and a slurry curing step for producing a ceramic molded body by curing the slurry into a ceramic molded portion. And wherein the Rukoto.

以上説明したように、本発明に係るセラミック成形体、セラミック部品、セラミック成形体の製造方法及びセラミック部品の製造方法によれば、導体パターンの剥がれや崩れがなく、しかも、導体パターンの厚みを厚くでき、抵抗値の低減化、高周波特性の向上を容易に図ることができる。   As described above, according to the ceramic molded body, the ceramic part, the ceramic molded body manufacturing method, and the ceramic part manufacturing method according to the present invention, the conductor pattern is not peeled or collapsed, and the thickness of the conductor pattern is increased. Therefore, it is possible to easily reduce the resistance value and improve the high frequency characteristics.

以下、本発明に係るセラミック成形体、セラミック部品、セラミック成形体の製造方法及びセラミック部品の製造方法の実施の形態例を図1〜図15を参照しながら説明する。   Embodiments of a ceramic molded body, a ceramic part, a ceramic molded body manufacturing method, and a ceramic part manufacturing method according to the present invention will be described below with reference to FIGS.

[第1の実施の形態]
先ず、第1の実施の形態に係るセラミック成形体(以下、第1セラミック成形体10Aと記す)は、図1に示すように、導体成形部12と、該導体成形部12を被覆するように形成されたセラミック成形部13と、導体成形部12とセラミック成形部13との界面に形成された焼成収縮率調整膜14とを有する。
[First Embodiment]
First, as shown in FIG. 1, the ceramic molded body according to the first embodiment (hereinafter referred to as the first ceramic molded body 10 </ b> A) covers the conductor molded portion 12 and the conductor molded portion 12. The formed ceramic molded part 13 and the firing shrinkage rate adjusting film 14 formed at the interface between the conductor molded part 12 and the ceramic molded part 13 are included.

この第1セラミック成形体10Aは、以下のように作製することができる。すなわち、図2Aに示すように、樹脂と銀(Ag)、金(Au)、銅(Cu)系の金属の少なくとも1種類の粉末を含む導体ペースト15を所定の形状に成形硬化して導体成形部12とした後に、該導体成形部12の表面全面に焼成収縮率調整膜14を形成する。   The first ceramic molded body 10A can be manufactured as follows. That is, as shown in FIG. 2A, a conductor paste 15 containing at least one kind of resin and silver (Ag), gold (Au), or copper (Cu) -based metal is molded and cured into a predetermined shape to form a conductor. After forming the portion 12, the firing shrinkage rate adjusting film 14 is formed on the entire surface of the conductor molding portion 12.

その後、図2Bに示すように、表面に焼成収縮率調整膜14が形成された導体成形部12を鋳込み型16内に設置し、熱硬化性樹脂前駆体とセラミック粉末と溶媒を含むゲルキャスト用スラリー(以下、スラリー18と記す)を鋳込み型16内に鋳込んだ後に、硬化してセラミック成形部13とすることによって第1セラミック成形体10Aが得られる(図2C参照)。なお、鋳込み型16は断面で示す構造の一部が開放されていてもスラリー18の漏洩がなければ問題ない。   Thereafter, as shown in FIG. 2B, the conductor molding portion 12 having the surface on which the firing shrinkage rate adjusting film 14 is formed is placed in the casting mold 16, and the gel casting containing the thermosetting resin precursor, the ceramic powder, and the solvent is used. A first ceramic molded body 10A is obtained by casting a slurry (hereinafter referred to as slurry 18) into a casting mold 16 and then curing to form a ceramic molded portion 13 (see FIG. 2C). The casting mold 16 has no problem as long as the slurry 18 does not leak even if a part of the structure shown in cross section is open.

導体ペースト15に使用される樹脂は、熱可塑性樹脂前駆体又は熱硬化性樹脂前駆体のどちらでもよいが、熱硬化性樹脂前駆体であることが好ましい。この場合、熱硬化性樹脂前駆体は、自己反応性のレゾール型フェノール樹脂であることがこのましい。   The resin used for the conductor paste 15 may be either a thermoplastic resin precursor or a thermosetting resin precursor, but is preferably a thermosetting resin precursor. In this case, the thermosetting resin precursor is preferably a self-reactive resol type phenol resin.

スラリー18に使用される熱硬化性樹脂前駆体は、ポリウレタン樹脂前駆体であることが好ましい。   The thermosetting resin precursor used for the slurry 18 is preferably a polyurethane resin precursor.

また、焼成収縮率調整膜14として、有機膜又は無機膜を用いることができる。   Further, an organic film or an inorganic film can be used as the firing shrinkage rate adjusting film 14.

導体成形部12は、導体ペースト15を印刷法によってパターン形成した後、硬化することによって得られる。   The conductor molding part 12 is obtained by forming a pattern of the conductor paste 15 by a printing method and then curing.

ここで、第1セラミック成形体10Aのこの好ましい製造方法について図3A〜図10を参照しながら説明する。   Here, this preferable manufacturing method of the first ceramic molded body 10A will be described with reference to FIGS.

先ず、図3Aに示すように、フィルム20上に導体ペースト15を印刷法によってパターン形成した後、硬化してフィルム20上に導体成形部12を形成する。その後、フィルム20上の導体成形部12の表面(この場合、上面及び側面)に、焼成収縮率調整膜14をコーティングする。焼成収縮率調整膜14として有機膜を使用する場合は、例えばCVD(化学気相成長)、印刷によって形成することができ、無機膜を使用する場合は、例えばスパッタによって形成することができる。なお、CVD、スパッタによる成膜の際は、導体成形部12の存在しないフィルム20上の部分をマスキングする等して、導体成形部12以外への焼成収縮率調整膜14の形成を阻害することが好ましい。   First, as shown in FIG. 3A, the conductor paste 15 is patterned on the film 20 by a printing method and then cured to form the conductor molding portion 12 on the film 20. Thereafter, the surface of the conductor molding portion 12 on the film 20 (in this case, the upper surface and the side surface) is coated with the firing shrinkage rate adjusting film 14. When an organic film is used as the firing shrinkage adjustment film 14, it can be formed by, for example, CVD (chemical vapor deposition) or printing, and when an inorganic film is used, it can be formed by, for example, sputtering. During film formation by CVD or sputtering, a portion on the film 20 where the conductor molding portion 12 does not exist is masked to inhibit the formation of the baking shrinkage rate adjusting film 14 other than the conductor molding portion 12. Is preferred.

その後、図3Bに示すように、フィルム20を鋳込み型16内に設置し、スラリー18を鋳込み型16内に鋳込んだ後に、硬化してセラミック成形部13とする。これによって、第1セラミック成形体10Aが得られる(図3C参照)。この場合、図4Aに示すように、フィルム20上に第1セラミック成形体10A(導体成形体12が埋設されている)が設置された状態になっているため、第1セラミック成形体10Aをフィルム20から離型することによって、図4Bに示すように、セラミック成形部13内に導体成形部12が埋設された第1セラミック成形体10Aが得られる。   Thereafter, as shown in FIG. 3B, the film 20 is placed in the casting mold 16 and the slurry 18 is cast into the casting mold 16, and then cured to form the ceramic molding portion 13. Thereby, the first ceramic molded body 10A is obtained (see FIG. 3C). In this case, as shown in FIG. 4A, since the first ceramic molded body 10A (the conductor molded body 12 is embedded) is placed on the film 20, the first ceramic molded body 10A is used as the film. By releasing from 20, the first ceramic molded body 10A in which the conductor molded portion 12 is embedded in the ceramic molded portion 13 is obtained as shown in FIG. 4B.

第1セラミック成形体10Aは、全体の形状がテープ状であってもよい。この場合、図5に示すように、第1セラミック成形体10Aを複数積層して第1積層体60とし、複数の導体成形部12が三次元構造に埋設されるようにしてもよい。   The first ceramic molded body 10A may have a tape shape as a whole. In this case, as shown in FIG. 5, a plurality of first ceramic molded bodies 10A may be laminated to form a first laminated body 60, and the plurality of conductor molded portions 12 may be embedded in a three-dimensional structure.

なお、前記第1セラミック成形体10Aを積層する際に、有機バインダーとセラミック粉末と可塑剤と溶剤からなる接着ペーストが塗布・乾燥されていてもよい。   In addition, when laminating | stacking the said 1st ceramic molded object 10A, the adhesive paste which consists of an organic binder, ceramic powder, a plasticizer, and a solvent may be apply | coated and dried.

また、複数の第1セラミック成形体10Aは、スラリー18に含まれる溶剤の一部が残存していてもよい。この場合、硬化後の第1セラミック成形体10Aは柔軟性を有する。従って、一般に硬くて脆い熱硬化性樹脂前駆体をバインダに使用しても、柔軟性のあるテープ成形体として工程間を搬送させることができ、複数の第1セラミック成形体10Aを積層しても、積層間に空隙が生じる等の不具合は生じない(積層性の向上)。なお、積層の際の圧力、温度は、デラミネーションや積層体の変形、積層ずれを勘案して適宜設定される。   Further, in the plurality of first ceramic molded bodies 10 </ b> A, a part of the solvent contained in the slurry 18 may remain. In this case, the cured first ceramic molded body 10A has flexibility. Therefore, even if a hard and fragile thermosetting resin precursor is used as a binder, it can be transported between processes as a flexible tape molded body, and a plurality of first ceramic molded bodies 10A can be laminated. In addition, there are no defects such as voids between the layers (improved layerability). The pressure and temperature at the time of stacking are appropriately set in consideration of delamination, deformation of the stacked body, and stacking deviation.

第1セラミック成形体10Aの鋳込み型16からの離型性を良好にするために、図6A〜図7Bに示すようにしてもよい。すなわち、図6Aに示すように、フィルム20上に導体ペースト15を印刷法によってパターン形成した後、硬化してフィルム20上に導体成形部12を形成し、さらに導体成形部12の表面に焼成収縮率調整膜14を形成する。   In order to improve the releasability of the first ceramic molded body 10A from the casting mold 16, it may be as shown in FIGS. 6A to 7B. That is, as shown in FIG. 6A, after the conductor paste 15 is patterned on the film 20 by a printing method, it is cured to form the conductor molding portion 12 on the film 20, and further the firing shrinkage on the surface of the conductor molding portion 12 A rate adjusting film 14 is formed.

その後、図6Bに示すように、導体成形部12及び焼成収縮率調整膜14が形成されたフィルム20を鋳込み型16内に設置する際に、フィルム20と他のフィルム22とを導体成形部12が形成された面と他のフィルム22とを対向させ、さらに、フィルム20と他のフィルム22の間にスペーサ24を挟んで設置する。そして、スペーサ24にて形成される空間内にスラリー18を流し込んだ後に、硬化してセラミック成形部13とすることによって第1セラミック成形体10Aを得るようにしてもよい(図6C参照)。この場合、図7Aに示すように、第1セラミック成形体10Aがフィルム20、他のフィルム22及びスペーサ24にて囲まれた状態となっているため、第1セラミック成形体10Aが鋳込み型16に不要に付着することなく、簡単に鋳込み型16から離型することができる。   Thereafter, as shown in FIG. 6B, when the film 20 on which the conductor molding portion 12 and the firing shrinkage rate adjusting film 14 are formed is placed in the casting mold 16, the film 20 and the other film 22 are connected to the conductor molding portion 12. The surface on which the film is formed and the other film 22 are opposed to each other, and a spacer 24 is interposed between the film 20 and the other film 22. And after pouring the slurry 18 in the space formed in the spacer 24, you may make it obtain the 1st ceramic molded object 10A by hardening and setting it as the ceramic molded part 13 (refer FIG. 6C). In this case, as shown in FIG. 7A, since the first ceramic molded body 10A is surrounded by the film 20, the other film 22 and the spacer 24, the first ceramic molded body 10A becomes the casting mold 16. It can be easily released from the casting mold 16 without being unnecessarily attached.

さらに、導体成形部12が形成されるフィルム20の表面に塗布された剥離剤の剥離力と、他のフィルム22の表面に塗布された剥離剤の剥離力とを異なるようにすれば、必ずどちらかのフィルム20(又は22)が剥がれ易くなり、フィルム20(又は22)からの離型も容易になる。図7Bに、フィルム20、他のフィルム22及びスペーサ24から第1セラミック成形体10Aを離型した状態を示す。   Furthermore, if the release force of the release agent applied to the surface of the film 20 on which the conductor molding part 12 is formed differs from the release force of the release agent applied to the surface of the other film 22, it is always The film 20 (or 22) is easily peeled off, and release from the film 20 (or 22) is facilitated. FIG. 7B shows a state where the first ceramic molded body 10 </ b> A is released from the film 20, the other film 22, and the spacer 24.

そして、第1の実施の形態に係るセラミック部品(以下、第1セラミック部品と記す)は、上述した第1セラミック成形体10Aを乾燥し、その後、焼成することによって得ることができる。   And the ceramic component (henceforth a 1st ceramic component) which concerns on 1st Embodiment can be obtained by drying 10 A of 1st ceramic molded bodies mentioned above, and baking after that.

上述した第1セラミック成形体10A(及び第1積層体60)及び第1セラミック部品は、導体ペースト15による導体成形部12(電極パターン等)の剥がれや崩れがなく、しかも、電極パターン等の厚みを厚くでき、抵抗値の低減化、高周波特性の向上を容易に図ることができる。   In the first ceramic molded body 10A (and the first laminated body 60) and the first ceramic component described above, the conductor molded portion 12 (electrode pattern or the like) is not peeled or collapsed by the conductor paste 15, and the thickness of the electrode pattern or the like is further reduced. Therefore, the resistance value can be reduced and the high frequency characteristics can be easily improved.

特に、導体成形部12とセラミック成形部13との界面に焼成収縮率調整膜14を介在させるようにしたので、以下のような効果を奏する。   In particular, since the firing shrinkage rate adjusting film 14 is interposed at the interface between the conductor molding part 12 and the ceramic molding part 13, the following effects are produced.

(1)第1セラミック成形体10Aは、熱硬化性樹脂前駆体とセラミック粉末と溶剤とが混合されたスラリー18を導体成形部12を被覆するように供給しているが、導体成形部12の表面に焼成収縮率調整膜14を形成するようにしたので、スラリー18の溶剤の種類に関係なく、導体成形部12のバインダが溶解することがない。そのため、導体成形部12の形状(印刷時の形状)を維持させることができ、導体ペースト15による印刷物(導体パターン)の厚み制御、外形寸法制御、版抜け性制御が容易になる。 (1) The first ceramic molded body 10A supplies the slurry 18 in which the thermosetting resin precursor, the ceramic powder, and the solvent are mixed so as to cover the conductor molded part 12, but the conductor molded part 12 Since the firing shrinkage ratio adjusting film 14 is formed on the surface, the binder of the conductor molding portion 12 is not dissolved regardless of the type of the solvent of the slurry 18. Therefore, the shape of the conductor molding portion 12 (the shape at the time of printing) can be maintained, and the thickness control, the outer dimension control, and the plate slippage control of the printed matter (conductor pattern) by the conductor paste 15 are facilitated.

(2)導体ペースト15に含まれるバインダとして、熱硬化性樹脂前駆体、熱可塑性樹脂前駆体のいずれを用いた場合であっても、焼成後のセラミック部品のクラックや電極−セラミック界面での剥がれを抑制するために、通常、導体成形部12の焼成収縮率をセラミック成形部13と合わせる必要があるが、第1セラミック成形体10Aでは、導体成形部12の表面に焼成収縮率調整膜14を形成するようにしたので、この焼成収縮率調整膜14が導体成形部12の焼成収縮率とセラミック成形部13の焼成収縮率の違いを吸収し、焼成後のセラミック部品のクラックや電極−セラミック界面での剥がれを抑制することができる。そのため、導体成形部12とセラミック成形部13の焼成収縮率の違いを気にすることなく、導体ペースト15の印刷膜厚を厚く、また、印刷パターンのエッジを矩形又は半円形とする目的で、印刷パターンの流動性を抑制(導体ペースト中のバインダの量を極力少なく)することができ、例えば高周波での導体損失低減を図った高周波回路部品(フィルタ、カプラ、バラン等)を容易に作製することができる。 (2) Regardless of whether a thermosetting resin precursor or a thermoplastic resin precursor is used as the binder contained in the conductor paste 15, cracks in the ceramic parts after firing and peeling at the electrode-ceramic interface In general, it is necessary to match the firing shrinkage rate of the conductor molding portion 12 with the ceramic molding portion 13. However, in the first ceramic molded body 10 </ b> A, the firing shrinkage rate adjusting film 14 is formed on the surface of the conductor molding portion 12. Since the firing shrinkage rate adjusting film 14 absorbs the difference between the firing shrinkage rate of the conductor molding portion 12 and the firing shrinkage rate of the ceramic molding portion 13, cracks in the ceramic parts after firing and the electrode-ceramic interface are formed. Can be prevented from peeling off. Therefore, without worrying about the difference in firing shrinkage between the conductor molding part 12 and the ceramic molding part 13, for the purpose of thickening the printed film thickness of the conductor paste 15 and making the edge of the printing pattern rectangular or semicircular, The fluidity of the printed pattern can be suppressed (the amount of binder in the conductor paste is minimized). For example, high-frequency circuit components (filters, couplers, baluns, etc.) that reduce conductor loss at high frequencies can be easily produced. be able to.

(3)導体成形部12に低融点金属(Ag、Cu、Au等)を使用すると、導体成形部12の焼成収縮開始温度がセラミック成形部13の焼成収縮開始温度よりも低温になり易くなるため、焼成収縮開始温度を上げることを狙って、導体ペースト15に含まれる金属粉末として、凝集粉や粗粒粉を使用するが、この場合、導体成形部12とセラミック成形部13の界面が粗くなり易い。しかし、第1セラミック成形体10Aでは、導体成形部12とセラミック成形部13との間に焼成収縮率調整膜14が介在しているため、該界面の粗さが焼成収縮率調整膜14によって吸収され、高周波回路部品として使用する場合においても、導体損失が悪化するということはない。 (3) When a low melting point metal (Ag, Cu, Au, etc.) is used for the conductor molding part 12, the firing shrinkage start temperature of the conductor molding part 12 tends to be lower than the firing shrinkage start temperature of the ceramic molding part 13. For the purpose of raising the firing shrinkage start temperature, aggregated powder or coarse powder is used as the metal powder contained in the conductor paste 15, but in this case, the interface between the conductor molded part 12 and the ceramic molded part 13 becomes rough. easy. However, in the first ceramic molded body 10 </ b> A, since the firing shrinkage rate adjusting film 14 is interposed between the conductor molded portion 12 and the ceramic molded portion 13, the roughness of the interface is absorbed by the fired shrinkage rate adjusting film 14. Even when used as a high-frequency circuit component, the conductor loss does not deteriorate.

(4)第1セラミック成形体10Aでは、導体成形部12に含まれる樹脂として熱硬化性樹脂前駆体を用いたが、前記樹脂として、熱可塑性樹脂前駆体を用いたとしても、上述した(1)〜(3)の効果を得ることができる。 (4) In the first ceramic molded body 10A, a thermosetting resin precursor is used as the resin contained in the conductor molded portion 12, but the above-described (1) is used even if a thermoplastic resin precursor is used as the resin. ) To (3) can be obtained.

次に、上述した第1セラミック成形体10A及び第1セラミック部品並びに第1セラミック成形体10Aの製造方法及び第1セラミック部品の製造方法の実施例について図8〜図10を参照しながら説明する。   Next, examples of the first ceramic molded body 10A, the first ceramic component, the method of manufacturing the first ceramic molded body 10A, and the method of manufacturing the first ceramic component will be described with reference to FIGS.

この実施例では、図8に示す鋳込み型16が使用される。   In this embodiment, a casting mold 16 shown in FIG. 8 is used.

鋳込み型16は、一度に複数枚(例えば3枚)の第1セラミック成形体10Aを作製することができるようになっている。   The casting mold 16 can produce a plurality of (for example, three) first ceramic molded bodies 10A at a time.

鋳込み型16は、図8に示すように、1つの基台30と、基台30上に載置される複数枚の板部材(第1板部材32a〜第4板部材32d)と、第4板部材32d上に載置される上板34とを有する。   As shown in FIG. 8, the casting mold 16 includes one base 30, a plurality of plate members (first plate member 32 a to fourth plate member 32 d) placed on the base 30, and a fourth And an upper plate 34 placed on the plate member 32d.

さらに、基台30は、その上面のうち、第1側面に近接する部分と第2側面(第1側面と対向する側面)に近接する部分にそれぞれ数本(例えば3本)の棒部材36が設けられている。各棒部材36は、軸方向が基台30の上面の法線方向となるように基台30の上面に設けられている。   Furthermore, the base 30 has several (for example, three) rod members 36 on the upper surface thereof and on the portion adjacent to the first side surface and the portion adjacent to the second side surface (side surface facing the first side surface). Is provided. Each bar member 36 is provided on the upper surface of the base 30 so that the axial direction is the normal direction of the upper surface of the base 30.

第1板部材32a〜第4板部材32d並びに上板34は、基台30の棒部材36と対応する部分にそれぞれ位置決め用の貫通孔(以下、位置決め孔38と記す)が設けられ、第1板部材32a〜第4板部材32d並びに上板34を基台30上に順番に載置した際に、各位置決め孔38を通じて基台30の棒部材36が挿通されるようになっている。   The first plate member 32a to the fourth plate member 32d and the upper plate 34 are provided with through holes for positioning (hereinafter referred to as positioning holes 38) in portions corresponding to the rod members 36 of the base 30, respectively. When the plate member 32 a to the fourth plate member 32 d and the upper plate 34 are placed on the base 30 in order, the bar member 36 of the base 30 is inserted through each positioning hole 38.

そして、第1板部材32aと第2板部材32b間、第2板部材32bと第3板部材32c間、第3板部材32cと第4板部材32d間に、第1フィルム20と、スペーサ24と、第2フィルム22の積層体が挿入される。第1フィルム20には、その上面に導体ペースト15の形成硬化によって複数の電極パターン40が形成され、さらに電極パターン40の表面に焼成収縮率調整膜14が形成されている。   The first film 20 and the spacer 24 are provided between the first plate member 32a and the second plate member 32b, between the second plate member 32b and the third plate member 32c, and between the third plate member 32c and the fourth plate member 32d. And the laminated body of the 2nd film 22 is inserted. A plurality of electrode patterns 40 are formed on the upper surface of the first film 20 by forming and curing the conductor paste 15, and a firing shrinkage rate adjusting film 14 is further formed on the surface of the electrode pattern 40.

これら第1フィルム20、第2フィルム22及びスペーサ24は、鋳込み型16内で作製された第1セラミック成形体10Aが鋳込み型16の第1板部材32a〜第4板部材32d等に不要に付着するのを防止するためのものであり、特に、第1フィルム20は、作製される第1セラミック成形体10Aの下面の形状を決定づけ、第2フィルム22は、作製される第1セラミック成形体10Aの上面の形状を決定づけるようになっている。スペーサ24は、開口部を有するほぼ枠状に形成され、第1セラミック成形体10Aの面積と高さを決定づける。図8の例では、第1フィルム20上に形成された電極パターン40の群を三方から囲むようにほぼ枠状に形成されている。このスペーサ24は、例えば第1フィルム20や第2フィルム22と同様の材質で構成してもよい。また、これら第1フィルム20、第2フィルム22及びスペーサ24は、各表面に、離型剤がコートされており、作製された第1セラミック成形体10Aが容易に離れるようになっている。   In the first film 20, the second film 22, and the spacer 24, the first ceramic molded body 10A produced in the casting mold 16 is unnecessarily attached to the first plate member 32a to the fourth plate member 32d of the casting mold 16. In particular, the first film 20 determines the shape of the lower surface of the first ceramic molded body 10A to be produced, and the second film 22 is the first ceramic molded body 10A to be produced. The shape of the upper surface of the is determined. The spacer 24 is formed in a substantially frame shape having an opening, and determines the area and height of the first ceramic molded body 10A. In the example of FIG. 8, the electrode pattern 40 formed on the first film 20 is formed in a substantially frame shape so as to surround the group from three sides. The spacer 24 may be made of the same material as the first film 20 and the second film 22, for example. The first film 20, the second film 22, and the spacer 24 are coated with a release agent on each surface so that the manufactured first ceramic molded body 10A can be easily separated.

これら第1フィルム20、第2フィルム22及びスペーサ24には、基台30の棒部材36と対応する部分にそれぞれ位置決め孔42、46及び44が設けられている。   The first film 20, the second film 22, and the spacer 24 are provided with positioning holes 42, 46, and 44 in portions corresponding to the rod members 36 of the base 30.

さらに、上板34には、スラリー18を注入するためのU字状の切欠き48が形成され、第2板部材32b〜第4板部材32dにも、それぞれU字状の切欠き48に対応した部分に、スラリー18を注入するための貫通孔(以下、注入孔50と記す)が形成されている。   Further, a U-shaped notch 48 for injecting the slurry 18 is formed in the upper plate 34, and the second plate member 32b to the fourth plate member 32d also correspond to the U-shaped notch 48, respectively. A through-hole (hereinafter referred to as an injection hole 50) for injecting the slurry 18 is formed in the part.

第1フィルム20、第2フィルム22及びスペーサ24にも、第2板部材32b〜第4板部材32dの注入孔50に対応した部分にそれぞれ切欠き52や注入孔(図示せず)が形成されている。   The first film 20, the second film 22, and the spacer 24 are also formed with notches 52 and injection holes (not shown) at portions corresponding to the injection holes 50 of the second plate member 32b to the fourth plate member 32d. ing.

従って、鋳込み型16を組み立てる場合は、例えば以下のようにして行われる。   Therefore, when assembling the casting mold 16, for example, it is performed as follows.

先ず、基台30の上面に第1板部材32aを載置する。このとき、基台30の棒部材36を第1板部材32aの位置決め孔38にそれぞれ挿通させて載置する。その後、第1板部材32a上に第1フィルム20、スペーサ24、第2フィルム22を重ねて載置する。このとき、第1フィルム20、スペーサ24、第2フィルム22の各位置決め孔42、44及び46にそれぞれ基台30の棒部材36を挿通させて載置する。以下、同様に、第2板部材32bを載置し、該第2板部材32b上に、第1フィルム20、スペーサ24、第2フィルム22を重ねて載置し、さらに、第3板部材32cを載置し、該第3板部材32c上に、第1フィルム20、スペーサ24、第2フィルム22を重ねて載置し、さらに、第4板部材32dを載置し、そして、最後に上板34を載置する。これによって、鋳込み型16が完成する。   First, the first plate member 32 a is placed on the upper surface of the base 30. At this time, the rod member 36 of the base 30 is inserted through the positioning hole 38 of the first plate member 32a and placed. Then, the 1st film 20, the spacer 24, and the 2nd film 22 are accumulated and mounted on the 1st board member 32a. At this time, the rod member 36 of the base 30 is inserted and placed in the positioning holes 42, 44 and 46 of the first film 20, the spacer 24, and the second film 22. Hereinafter, similarly, the second plate member 32b is placed, the first film 20, the spacer 24, and the second film 22 are placed on the second plate member 32b, and further, the third plate member 32c. The first film 20, the spacer 24, and the second film 22 are placed on the third plate member 32c, and the fourth plate member 32d is placed. A plate 34 is placed. Thereby, the casting mold 16 is completed.

鋳込み型16内には、第1板部材32aと第2板部材32b間、第2板部材32bと第3板部材32c間、第3板部材32cと第4板部材32d間に、それぞれ第1フィルム20、スペーサ24及び第2フィルム22によって囲まれた中空部が形成される。   In the casting mold 16, the first plate member 32a and the second plate member 32b, the second plate member 32b and the third plate member 32c, between the third plate member 32c and the fourth plate member 32d, respectively. A hollow portion surrounded by the film 20, the spacer 24, and the second film 22 is formed.

次に、鋳込み型16を使用して第1セラミック成形体10A並びに第1セラミック部品を作製する方法について図9及び図10を参照しながら説明する。   Next, a method for producing the first ceramic molded body 10A and the first ceramic component using the casting mold 16 will be described with reference to FIGS.

先ず、図9のステップS1において、第1フィルム20上に導体ペースト15を印刷して複数の電極パターン40を形成する。   First, in step S <b> 1 of FIG. 9, the conductor paste 15 is printed on the first film 20 to form a plurality of electrode patterns 40.

具体的には、第1フィルム20は、表面にシリコーン離型剤がコートされたPET(ポリエチレンテレフタレート)である。導体ペースト15の加熱硬化時における収縮、歪を抑制するために、予め第1フィルム20に温度150℃で10分以上のアニール処理を施す。   Specifically, the first film 20 is PET (polyethylene terephthalate) whose surface is coated with a silicone release agent. In order to suppress shrinkage and distortion during the heat curing of the conductor paste 15, the first film 20 is preliminarily annealed at a temperature of 150 ° C. for 10 minutes or more.

その後、鋳込み型16への積層時の位置決めを行えるように、第1フィルム20に位置決め孔42を形成する。次いで、第1フィルム20の上面のうち、位置決め孔42を基準した所定領域に導体ペースト15を印刷して、複数の電極パターン40を形成する。この導体ペースト15は、例えばレゾール型フェノール樹脂を含有した熱硬化型の銀(Ag)ペーストである。導体ペースト15中のAg粉末は、誘電体との同時焼成の際の焼成収縮温度特性を近づけるため、粒度調整された粉末を使用している。   Thereafter, a positioning hole 42 is formed in the first film 20 so that positioning at the time of lamination onto the casting mold 16 can be performed. Next, the conductor paste 15 is printed in a predetermined region on the upper surface of the first film 20 with reference to the positioning holes 42 to form a plurality of electrode patterns 40. The conductor paste 15 is, for example, a thermosetting silver (Ag) paste containing a resol type phenol resin. The Ag powder in the conductor paste 15 is a powder whose particle size is adjusted in order to bring close the firing shrinkage temperature characteristics upon simultaneous firing with the dielectric.

次に、図9のステップS2において、第1フィルム20上に形成された電極パターン40を加熱硬化する。すなわち、熱硬化型のAgペーストを硬化させるために、120℃×1時間の熱処理を施す。   Next, in step S2 of FIG. 9, the electrode pattern 40 formed on the first film 20 is heat-cured. That is, in order to cure the thermosetting Ag paste, a heat treatment is performed at 120 ° C. for 1 hour.

その後、ステップS3において、第1フィルム20上に形成された電極パターンの表面(この場合、上面及び側面)に、焼成収縮率調整膜14をコーティングする。焼成収縮率調整膜14として有機膜を使用する場合は、例えばCVD(化学気相成長)、印刷によって形成することができ、無機膜を使用する場合は、例えばスパッタによって形成することができる。   Thereafter, in step S3, the surface of the electrode pattern formed on the first film 20 (in this case, the upper surface and the side surface) is coated with the firing shrinkage rate adjusting film 14. When an organic film is used as the firing shrinkage adjustment film 14, it can be formed by, for example, CVD (chemical vapor deposition) or printing, and when an inorganic film is used, it can be formed by, for example, sputtering.

その後、図9のステップS4において、鋳込み型16を組み立てて、電極パターン40と焼成収縮率調整膜14が形成された第1フィルム20を第2フィルム22及びスペーサ24と共に鋳込み型16内に設置する。図8の鋳込み型16では、第1板部材32aと第2板部材32b間、第2板部材32bと第3板部材32c間、第3板部材32cと第4板部材32d間にそれぞれ第1フィルム20が設置される。もちろん、スペーサ24及び第2フィルム22も第1フィルム20上に積層されて設置される。   Thereafter, in step S4 of FIG. 9, the casting mold 16 is assembled, and the first film 20 on which the electrode pattern 40 and the firing shrinkage adjustment film 14 are formed is placed in the casting mold 16 together with the second film 22 and the spacer 24. . In the casting mold 16 of FIG. 8, the first plate member 32a and the second plate member 32b, the second plate member 32b and the third plate member 32c, between the third plate member 32c and the fourth plate member 32d, respectively. A film 20 is installed. Of course, the spacer 24 and the second film 22 are also laminated on the first film 20.

一方、図9のステップS5及びステップS6において、鋳込み型16に注入されるスラリー18を調製する。   On the other hand, in step S5 and step S6 of FIG. 9, a slurry 18 to be injected into the casting mold 16 is prepared.

先ず、ステップS5において、セラミックスラリーを調製する。セラミックスラリーは、酸化チタン、酸化バリウム系粉末と焼結助剤としてのボロシリケートガラスとを混合したセラミック粉末を有する。すなわち、セラミックスラリーは、上述のセラミック粉末を100重量部と、脂肪族二塩基酸エステルを15〜40重量部、トリアセチンを0.5〜10重量部及びポリカルボン酸共重合体を0.5〜10重量部からなる有機分散媒(ポリカルボン酸は有機分散剤として作用)との混合物からなる。   First, in step S5, a ceramic slurry is prepared. The ceramic slurry has a ceramic powder obtained by mixing titanium oxide or barium oxide powder and borosilicate glass as a sintering aid. That is, the ceramic slurry is 100 parts by weight of the above ceramic powder, 15 to 40 parts by weight of aliphatic dibasic acid ester, 0.5 to 10 parts by weight of triacetin, and 0.5 to 5 parts of polycarboxylic acid copolymer. It consists of a mixture with an organic dispersion medium consisting of 10 parts by weight (polycarboxylic acid acts as an organic dispersant).

その後、ステップS6において、上述のセラミックスラリーに、ゲル化剤としてポリメチレンポリフェニルポリイソシアネートの変性物1〜10重量部とエチレングリコール0.05〜2.7重量部、反応触媒として6−ジメチルアミノ−1−ヘキサノールを0.03〜0.3重量部添加した後、攪拌して、スラリー18、すなわち、ゲルキャスト用のスラリー18を調製する。   Thereafter, in step S6, 1 to 10 parts by weight of a modified product of polymethylene polyphenyl polyisocyanate as a gelling agent and 0.05 to 2.7 parts by weight of ethylene glycol as a gelling agent, and 6-dimethylamino as a reaction catalyst. After adding 0.03-0.3 weight part of -1-hexanol, it stirs and the slurry 18, ie, the slurry 18 for gel casting, is prepared.

次に、ステップS7において、鋳込み型16内にスラリー18を注入(注型)する。具体的には、鋳込み型16における上板34のU字状の切欠き48から露出する第4板部材32dの注入孔50(図8、図10参照)を介してスラリー18を注入する。この注入によって、鋳込み型16内の複数の中空部にスラリー18がそれぞれ充填される。スラリー18は、ゲルキャスト用スラリーであることから、中空部に充填された状態でそのまま硬化されてセラミック成形部13となる。これによって、鋳込み型16内に例えば3つの第1セラミック成形体10Aが作製されることになる。   Next, in step S <b> 7, the slurry 18 is poured (cast) into the casting mold 16. Specifically, the slurry 18 is injected through the injection hole 50 (see FIGS. 8 and 10) of the fourth plate member 32 d exposed from the U-shaped notch 48 of the upper plate 34 in the casting mold 16. By this injection, the slurry 18 is filled in the plurality of hollow portions in the casting mold 16. Since the slurry 18 is a gel casting slurry, the slurry 18 is cured as it is in a state of being filled in the hollow portion to become the ceramic molded portion 13. As a result, for example, three first ceramic molded bodies 10 </ b> A are produced in the casting mold 16.

その後、ステップS8において、鋳込み型16を分解し、第1フィルム20、スペーサ24及び第2フィルム22から第1セラミック成形体10Aを剥がす。これによって、第1セラミック成形体10A、すなわち、導体成形部12(表面に焼成収縮率調整膜14が形成されている)を埋設した第1セラミック成形体10A(セラミックテープ10Aとも記す)が完成する(図10参照)。   Thereafter, in step S8, the casting mold 16 is disassembled, and the first ceramic molded body 10A is peeled off from the first film 20, the spacer 24, and the second film 22. Thus, the first ceramic molded body 10A, that is, the first ceramic molded body 10A (also referred to as ceramic tape 10A) in which the conductor molded portion 12 (with the firing shrinkage ratio adjusting film 14 formed on the surface) is embedded is completed. (See FIG. 10).

次に、図9のステップS9において、複数枚のセラミックテープ10Aを積層して第1積層体60を作製する(図10参照)。このとき、セラミックテープ10Aの反応性官能基が完全に反応しない状態(室温において、注型後、1時間〜48時間経過後)で、5〜100kgf/cm2の圧力で加圧積層する。加圧力は、セラミックテープ10Aの強度と許容される積層ずれに応じて適宜選択される。 Next, in step S9 of FIG. 9, a plurality of ceramic tapes 10A are laminated to produce a first laminate 60 (see FIG. 10). At this time, pressure lamination is performed at a pressure of 5 to 100 kgf / cm 2 in a state where the reactive functional groups of the ceramic tape 10A do not completely react (at room temperature, after 1 hour to 48 hours have elapsed after casting). The applied pressure is appropriately selected according to the strength of the ceramic tape 10A and the allowable stacking deviation.

積層時の加圧力が小さい場合は、積層ずれは小さいものの、積層時の接着不良による焼成体のデラミネーションが発生し易くなる一方、積層時の加圧力が大きい場合は、上述のデラミネーションの発生を抑制できるものの、セラミックテープ10Aの積層圧力による変形及び破損が発生し易くなる。しかし、上述した加圧力の範囲であれば、積層ずれとデラミネーションを抑制することができ、好ましい。また、必要に応じて、上記5〜100kgf/cm2の加圧に引き続き、50〜400kgf/cm2の加圧力で一体性を高めてもよい。また、60℃〜80℃に加温しながら積層することが好ましい。 When the pressing force at the time of lamination is small, the laminating deviation is small, but delamination of the fired body is likely to occur due to poor adhesion at the time of lamination. On the other hand, when the pressing force at the time of lamination is large, the above-mentioned delamination occurs. However, deformation and breakage due to the lamination pressure of the ceramic tape 10A are likely to occur. However, if it is the range of the applied pressure mentioned above, a stacking shift and delamination can be suppressed and it is preferable. If necessary, the integrity may be enhanced by applying a pressure of 50 to 400 kgf / cm 2 following the pressurization of 5 to 100 kgf / cm 2 . Moreover, it is preferable to laminate | stack, heating at 60 to 80 degreeC.

あるいは、セラミックテープ10Aを十分に硬化したものや、さらに乾燥した後に、セラミックテープ10Aと同一の無機粉末、ブチラール樹脂、アクリル樹脂、ブチルカルビトールアセテート溶剤及び/又は脂肪族二塩基酸エステル等の有機溶剤を混合した接着ペーストをセラミックテープ10A上に塗布又は印刷した後、積層することも好ましい。   Alternatively, the ceramic tape 10A is sufficiently cured, or after drying, the same inorganic powder, butyral resin, acrylic resin, butyl carbitol acetate solvent and / or aliphatic dibasic acid ester, etc. as the ceramic tape 10A It is also preferable to laminate after applying or printing the adhesive paste mixed with the solvent on the ceramic tape 10A.

このようにすることで、セラミックテープ10A相互の接着性が向上し、上述のデラミネーションを抑制することができる。なお、接着ペーストを使用する場合は、反応硬化テープ中の溶剤が残っていてもよいし、60℃〜100℃の温度で予め溶剤を乾燥させてもよい。溶剤を乾燥させた反応硬化テープは可塑性が著しく低下し、ハンドリングに困難をきたすため、乾燥後のセラミックテープ10Aに可塑性を付与する目的で、反応硬化前のスラリーに可塑剤(DOPあるいはDBP)を1〜10重量部添加することがさらに好ましい。   By doing in this way, the adhesiveness of ceramic tape 10A mutual can improve, and the above-mentioned delamination can be controlled. In addition, when using an adhesive paste, the solvent in the reaction hardening tape may remain, or the solvent may be dried in advance at a temperature of 60 ° C to 100 ° C. Since the reaction-cured tape after drying the solvent has a significant decrease in plasticity and is difficult to handle, a plasticizer (DOP or DBP) is added to the slurry before reaction-curing for the purpose of imparting plasticity to the dried ceramic tape 10A. It is more preferable to add 1 to 10 parts by weight.

次に、図9のステップS10において、第1積層体60を乾燥した後、ステップS11において、積層体を複数のチップ62に分割する(図10参照)。   Next, after the first stacked body 60 is dried in step S10 of FIG. 9, the stacked body is divided into a plurality of chips 62 in step S11 (see FIG. 10).

その後、ステップS12において、各チップ62の表面や側面に端子電極を印刷により形成する。   Thereafter, in step S12, terminal electrodes are formed on the surface and side surfaces of each chip 62 by printing.

そして、ステップS13において、各チップ62を焼成することで、実施例に係るセラミック部品が完成する。   In step S13, each chip 62 is fired to complete the ceramic component according to the example.

ここで、各構成部材の好ましい態様について説明する。   Here, the preferable aspect of each structural member is demonstrated.

[導体ペースト15:第1の実施の形態]
導体ペースト15としては、バインダとしてエポキシ、フェノール等の未硬化物を含有するものが好ましいが、とりわけ、レゾール型フェノール樹脂を含有するものが好ましい。また、金属粉末については、Ag、Pd、Au、Pt、Cu、Ni、Rhといった金属の単体又は合金、金属間化合物を用いることができるが、同時焼成されるセラミック部材に要求される特性、すなわち、焼成時の酸素分圧、温度、焼成収縮温度特性を考慮し、適宜選択される。焼成収縮温度特性については金属粉末組成だけではなく、金属粉末の粒径、比表面積、凝集度によっても適宜制御される。導体ペースト15中のバインダ分量については、例えば、Ag粉末の場合、金属粉末重量の1%〜10%の範囲を使用するが、セラミック部材の焼成収縮率、スクリーン印刷時の印刷性を考慮し、3〜6%の範囲が好ましい。
[Conductive paste 15: First embodiment]
The conductor paste 15 preferably contains an uncured material such as epoxy or phenol as a binder, but particularly preferably contains a resol type phenol resin. As for the metal powder, a simple substance or alloy of metal such as Ag, Pd, Au, Pt, Cu, Ni, Rh, or an intermetallic compound can be used. The oxygen partial pressure, temperature, and firing shrinkage temperature characteristics during firing are selected as appropriate. The firing shrinkage temperature characteristic is appropriately controlled not only by the metal powder composition but also by the particle size, specific surface area, and aggregation degree of the metal powder. As for the binder content in the conductive paste 15, for example, in the case of Ag powder, the range of 1% to 10% of the weight of the metal powder is used, but considering the firing shrinkage rate of the ceramic member and the printability during screen printing, A range of 3-6% is preferred.

導体ペースト15は、上述したように、印刷後、加熱硬化させるが、硬化条件は、硬化剤の種類により異なり、例えば、第1の実施の形態で使用するレゾール型フェノール樹脂の場合、120℃で10分〜60分硬化させる。   As described above, the conductor paste 15 is heat-cured after printing, but the curing conditions differ depending on the type of the curing agent. For example, in the case of the resol type phenol resin used in the first embodiment, the conductive paste 15 is 120 ° C. Cure for 10-60 minutes.

導体ペースト15による電極パターン40を硬化した後、硬化した電極パターン40の表面に焼成収縮率調整膜14をコーティングし、その後、第1フィルム20(この場合、PETフィルム)を鋳込み型16に設置するが、PETフィルムを鋳込み型に設置する際、PETフィルムのうねりを抑制するため、所望の平行度、平坦度を有する型板(第1板部材32a〜第3板部材32c)に真空吸着、糊付け、静電吸着等の手段により吸着させる。   After the electrode pattern 40 is cured by the conductive paste 15, the surface of the cured electrode pattern 40 is coated with the firing shrinkage adjustment film 14, and then the first film 20 (in this case, a PET film) is placed on the casting mold 16. However, when installing a PET film in a casting mold, in order to suppress the waviness of the PET film, vacuum suction and gluing are performed on the mold plates (first plate member 32a to third plate member 32c) having desired parallelism and flatness. And adsorbed by means such as electrostatic adsorption.

[焼成収縮率調整膜14]
上述したように、焼成収縮率調整膜14として有機膜又は無機膜を用いることができる。有機膜の場合は、熱硬化性樹脂前駆体であることが好ましく、例えば自己反応性のレゾール型フェノール樹脂、エポキシ樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリパラキシリレン樹脂を用いることができる。無機膜の場合は、シリカ膜を用いることができる。
[Firing shrinkage adjustment film 14]
As described above, an organic film or an inorganic film can be used as the firing shrinkage rate adjusting film 14. In the case of an organic film, it is preferably a thermosetting resin precursor, and for example, a self-reactive phenolic resin, epoxy resin, polyurethane resin, or polyparaxylylene resin can be used. In the case of an inorganic film, a silica film can be used.

[鋳込み型16(金型):第1の実施の形態]
型板(第1板部材32a〜第3板部材32c)は、吸着手段に応じた板部材を使用する。例えば真空吸着の場合は、金属、セラミック、樹脂等の材質は関係なく、多孔質板や吸着用孔を多数あけた板を使用し、糊付けの場合は、糊との反応性がなく、後に溶剤等で糊を拭き取る際にも変質を起こさない材質の板を使用し、静電吸着の場合は、PETと静電吸着し易い材料でできた板を使用することが好ましい。
[Casting Die 16 (Mold): First Embodiment]
As the template (first plate member 32a to third plate member 32c), a plate member corresponding to the suction means is used. For example, in the case of vacuum adsorption, regardless of the material such as metal, ceramic, resin, etc., use a porous plate or a plate with a large number of holes for adsorption. It is preferable to use a plate made of a material that does not change in quality even when the paste is wiped off, etc., and in the case of electrostatic adsorption, a plate made of a material that is easily electrostatically adsorbed with PET is preferably used.

鋳込み型16は、内部にスラリー18が流通する経路を有し、鋳込み硬化後のスラリー18が所望の厚みの板状となるように、型板間に、電極パターン40が形成された第1フィルム20、第2フィルム22(電極パターンが形成されていても、されていなくてもよい)及びスペーサ24を設置して、第1フィルム20及び第2フィルム22を平行に対向した形態を有し、且つ、第1フィルム20と第2フィルム22との間に適当な間隔が設定されるようにすることが好ましい。   The casting mold 16 has a path through which the slurry 18 circulates, and the first film in which the electrode pattern 40 is formed between the mold plates so that the slurry 18 after the casting hardening has a plate shape with a desired thickness. 20, a second film 22 (with or without an electrode pattern) and a spacer 24 are installed, and the first film 20 and the second film 22 are parallelly opposed, In addition, it is preferable that an appropriate interval is set between the first film 20 and the second film 22.

第1フィルム20、第2フィルム22、スペーサ24は、PETフィルム、離型剤をコートした金属板・セラミック板、あるいはテフロン(登録商標)樹脂板等を用いることができる。   As the first film 20, the second film 22, and the spacer 24, a PET film, a metal plate / ceramic plate coated with a release agent, a Teflon (registered trademark) resin plate, or the like can be used.

そして、この鋳込み型16に、反応硬化する樹脂を含有するスラリー18を流し込み、硬化させる。   Then, a slurry 18 containing a reaction-curing resin is poured into the casting mold 16 and cured.

[スラリー18:第1の実施の形態]
スラリー18は、用途に応じ、アルミナ、安定化ジルコニア、各種圧電セラミック材料、各種誘電セラミック材料、といった酸化物セラミックスをはじめ、シリコンナイトライド、アルミナイトライドといった窒化物セラミックス、シリコンカーバイド、タングステンカーバイドといった炭化物セラミックス粉末やバインダとしてのガラス成分を含んだセラミックス粉末といった無機成分と、例えば分散剤とゲル化剤もしくはゲル化剤相互の化学反応が誘起される有機化合物とからなる。
[Slurry 18: First embodiment]
The slurry 18 includes oxide ceramics such as alumina, stabilized zirconia, various piezoelectric ceramic materials, and various dielectric ceramic materials, nitride ceramics such as silicon nitride and aluminum nitride, and carbides such as silicon carbide and tungsten carbide, depending on applications. It consists of an inorganic component such as ceramic powder or ceramic powder containing a glass component as a binder, and an organic compound that induces a chemical reaction between the dispersant and the gelling agent or the gelling agent.

このスラリー18は、無機成分粉末の他、有機分散媒、ゲル化剤を含み、粘性や固化反応調整のための分散剤、触媒を含んでもよい。有機分散媒は反応性官能基を有していてよく、あるいは有していなくともよい。しかし、この有機分散媒は、反応性官能基を有することが特に好ましい。   The slurry 18 includes an organic dispersion medium and a gelling agent in addition to the inorganic component powder, and may include a dispersant and a catalyst for adjusting viscosity and solidification reaction. The organic dispersion medium may or may not have a reactive functional group. However, the organic dispersion medium particularly preferably has a reactive functional group.

反応性官能基を有する有機分散媒としては、以下を例示することができる。   The following can be illustrated as an organic dispersion medium which has a reactive functional group.

すなわち、反応性官能基を有する有機分散媒は、ゲル化剤と化学結合し、スラリー18を固化可能な液状物質であること、及び鋳込みが容易な高流動性のスラリー18を形成できる液状物質であることの2つを満足する必要がある。   That is, the organic dispersion medium having a reactive functional group is a liquid substance that can be chemically bonded to the gelling agent to solidify the slurry 18 and can form a highly fluid slurry 18 that can be easily cast. Two things need to be satisfied.

ゲル化剤と化学結合し、スラリー18を固化するためには、反応性官能基、すなわち、水酸基、カルボキシル基、アミノ基のようなゲル化剤と化学結合を形成し得る官能基を分子内に有していることが必要である。分散媒は少なくとも1の反応性官能基を有するものであれば足りるが、より十分な固化状態を得るためには、2以上の反応性官能基を有する有機分散媒を使用することが好ましい。2以上の反応性官能基を有する液状物質としては、例えば多価アルコール、多塩基酸が考えられる。なお、分子内の反応性官能基は必ずしも同種の官能基である必要はなく、異なる官能基であってもよい。また、反応性官能基はポリグリセリンのように多数あってもよい。   In order to chemically bond with the gelling agent and solidify the slurry 18, a reactive functional group, that is, a functional group capable of forming a chemical bond with the gelling agent such as a hydroxyl group, a carboxyl group, or an amino group is included in the molecule. It is necessary to have. The dispersion medium need only have at least one reactive functional group, but in order to obtain a more solidified state, it is preferable to use an organic dispersion medium having two or more reactive functional groups. Examples of liquid substances having two or more reactive functional groups include polyhydric alcohols and polybasic acids. In addition, the reactive functional group in a molecule | numerator does not necessarily need to be the same kind of functional group, and a different functional group may be sufficient as it. Moreover, there may be many reactive functional groups like polyglycerol.

一方、注型が容易な高流動性のスラリー18を形成するためには、可能な限り粘性の低い液状物質を使用することが好ましく、特に、20℃における粘度が20cps以下の物質を使用することが好ましい。既述の多価アルコールや多塩基酸は水素結合の形成により粘性が高い場合があるため、たとえスラリー18を固化することが可能であっても反応性分散媒として好ましくない場合がある。従って、多塩基酸エステル、多価アルコールの酸エステル等の2以上のエステル基を有するエステル類を前記有機分散媒として使用することが好ましい。また、多価アルコールや多塩基酸も、スラリー18を大きく増粘させない程度の量であれば、強度補強のために使用することは有効である。エステル類は比較的安定ではあるものの、反応性が高いゲル化剤とであれば十分反応可能であり、粘性も低いため、上記2条件を満たすからである。特に、全体の炭素数が20以下のエステルは低粘性であるため、反応性分散媒として好適に用いることができる。   On the other hand, in order to form a highly fluid slurry 18 that is easy to cast, it is preferable to use a liquid material having a viscosity as low as possible, and in particular, a material having a viscosity at 20 ° C. of 20 cps or less. Is preferred. Since the polyhydric alcohols and polybasic acids described above may have high viscosity due to the formation of hydrogen bonds, even if the slurry 18 can be solidified, it may not be preferable as a reactive dispersion medium. Therefore, it is preferable to use esters having two or more ester groups such as polybasic acid esters and acid esters of polyhydric alcohols as the organic dispersion medium. In addition, it is effective to use polyhydric alcohol and polybasic acid for strength reinforcement as long as they do not greatly thicken the slurry 18. This is because esters are relatively stable, but can be sufficiently reacted with a highly reactive gelling agent and have a low viscosity, so the above two conditions are satisfied. In particular, an ester having a total carbon number of 20 or less can be suitably used as a reactive dispersion medium because of its low viscosity.

スラリー18に含有されていてもよい反応性官能基を有する有機分散媒としては、具体的には、エステル系ノニオン、アルコールエチレンオキサイド、アミン縮合物、ノニオン系特殊アミド化合物、変性ポリエステル系化合物、カルボキシル基含有ポリマー、マレイン系ポリアニオン、ポリカルボン酸エステル、多鎖型高分子非イオン系、リン酸エステル、ソルビタン脂肪酸エステル、アルキルベンゼンスルホン酸Na、マレイン酸系化合物を例示できる。また、非反応性分散媒としては、炭化水素、エーテル、トルエン等を例示できる。   Specific examples of the organic dispersion medium having a reactive functional group that may be contained in the slurry 18 include ester-based nonions, alcohol ethylene oxides, amine condensates, nonionic special amide compounds, modified polyester compounds, carboxyls. Examples thereof include a group-containing polymer, a maleic polyanion, a polycarboxylic acid ester, a multi-chain polymer nonionic system, a phosphoric acid ester, a sorbitan fatty acid ester, an alkylbenzenesulfonic acid Na, and a maleic acid compound. Examples of the non-reactive dispersion medium include hydrocarbon, ether, toluene and the like.

[ゲル化剤:第1の実施の形態]
スラリー18中に含有されるゲル化剤は、分散媒に含まれる反応性官能基と反応して固化反応を引き起こすものであり、以下を例示することができる。
[Gelling agent: first embodiment]
The gelling agent contained in the slurry 18 reacts with the reactive functional group contained in the dispersion medium to cause a solidification reaction, and the following can be exemplified.

すなわち、ゲル化剤の20℃における粘度が3000cps以下であることが好ましい。具体的には、2以上のエステル基を有する有機分散媒と、イソシアナート基、及び/又はイソチオシアナート基を有するゲル化剤とを化学結合させることによりスラリー18を固化することが好ましい。   That is, it is preferable that the viscosity of the gelling agent at 20 ° C. is 3000 cps or less. Specifically, it is preferable to solidify the slurry 18 by chemically bonding an organic dispersion medium having two or more ester groups and a gelling agent having an isocyanate group and / or an isothiocyanate group.

具体的には、この反応性のゲル化剤は、分散媒と化学結合し、スラリー18を固化可能な物質である。従って、ゲル化剤は、分子内に、分散媒と化学反応し得る反応性官能基を有するものであればよく、例えば、モノマー、オリゴマー、架橋剤の添加により三次元的に架橋するプレポリマー(例えば、ポリビニルアルコール、エポキシ樹脂、フェノール樹脂等)等のいずれであってもよい。   Specifically, this reactive gelling agent is a substance that can chemically bond with the dispersion medium and solidify the slurry 18. Accordingly, the gelling agent only needs to have a reactive functional group capable of chemically reacting with the dispersion medium in the molecule. For example, a prepolymer (three-dimensionally cross-linked by adding a monomer, oligomer, or cross-linking agent) For example, any of polyvinyl alcohol, an epoxy resin, a phenol resin, etc. may be sufficient.

但し、反応性ゲル化剤は、スラリー18の流動性を確保する観点から、粘性が低いもの、具体的には20℃における粘度が3000cps以下の物質を使用することが好ましい。   However, as the reactive gelling agent, from the viewpoint of ensuring the fluidity of the slurry 18, it is preferable to use a material having a low viscosity, specifically, a material having a viscosity at 20 ° C. of 3000 cps or less.

一般に、平均分子量が大きなプレポリマー及びポリマーは、粘性が高いため、本実施例では、これらより分子量が小さいもの、具体的には平均分子量(GPC法による)が2000以下のモノマー又はオリゴマーを使用することが好ましい。なお、ここでの「粘度」とは、ゲル化剤自体の粘度(ゲル化剤が100%の時の粘度)を意味し、市販のゲル化剤希釈溶液(例えば、ゲル化剤の水溶液等)の粘度を意味するものではない。   In general, since prepolymers and polymers having a large average molecular weight have high viscosity, in this example, monomers or oligomers having a molecular weight smaller than these, specifically, a monomer or oligomer having an average molecular weight (by GPC method) of 2000 or less are used. It is preferable. Here, “viscosity” means the viscosity of the gelling agent itself (viscosity when the gelling agent is 100%), and a commercially available gelling agent diluted solution (for example, an aqueous solution of the gelling agent). It does not mean the viscosity of.

ゲル化剤の反応性官能基は、反応性分散媒との反応性を考慮して適宜選択することが好ましい。例えば反応性分散媒として比較的反応性が低いエステル類を用いる場合は、反応性が高いイソシアナート基(−N=C=O)、及び/又はイソチオシアナート基(−N=C=S)を有するゲル化剤を選択することが好ましい。   The reactive functional group of the gelling agent is preferably selected as appropriate in consideration of the reactivity with the reactive dispersion medium. For example, when an ester having a relatively low reactivity is used as the reactive dispersion medium, a highly reactive isocyanate group (—N═C═O) and / or an isothiocyanate group (—N═C═S). It is preferred to select a gelling agent having

イソシアナート類は、ジオール類やジアミン類と反応させることが一般的であるが、ジオール類は既述の如く高粘性のものが多く、ジアミン類は反応性が高すぎて注型前にスラリー18が固化してしまう場合がある。   Isocyanates are generally reacted with diols and diamines. However, diols are often highly viscous as described above, and diamines are too reactive so that the slurry 18 is cast before casting. May solidify.

このような観点からも、エステルからなる反応性分散媒と、イソシアナート基及び/又はイソチオシアナート基を有するゲル化剤との反応によりスラリー18を固化することが好ましく、より充分な固化状態を得るためには、2以上のエステル基を有する反応性分散媒と、イソシアナート基、及び/又はイソチオシアナート基を有するゲル化剤との反応によりスラリー18を固化することが好ましい。また、ジオール類、ジアミン類も、スラリー18を大きく増粘させない程度の量であれば、強度補強のために使用することは有効である。   Also from such a viewpoint, it is preferable to solidify the slurry 18 by a reaction between a reactive dispersion medium composed of an ester and a gelling agent having an isocyanate group and / or an isothiocyanate group. In order to obtain it, it is preferable to solidify the slurry 18 by a reaction between a reactive dispersion medium having two or more ester groups and a gelling agent having an isocyanate group and / or an isothiocyanate group. In addition, it is effective to use diols and diamines for reinforcing the strength as long as the amount does not greatly increase the viscosity of the slurry 18.

イソシアナート基及び/又はイソチオシアナート基を有するゲル化剤としては、例えば、MDI(4,4’−ジフェニルメタンジイソシアナート)系イソシアナート(樹脂)、HDI(ヘキサメチレンジイソシアナート)系イソシアネート(樹脂)、TDI(トリレンジイソシアナート)系イソシアナート(樹脂)、IPDI(イソホロンジイソシアナート)系イソシアナート(樹脂)、イソチオシアナート(樹脂)等を挙げることができる。   Examples of the gelling agent having an isocyanate group and / or an isothiocyanate group include MDI (4,4′-diphenylmethane diisocyanate) -based isocyanate (resin), HDI (hexamethylene diisocyanate) -based isocyanate ( Resin), TDI (tolylene diisocyanate) based isocyanate (resin), IPDI (isophorone diisocyanate) based isocyanate (resin), isothiocyanate (resin) and the like.

また、反応性分散媒との相溶性等の化学的特性を考慮して、前述した基本化学構造中に他の官能基を導入することが好ましい。例えば、エステルからなる反応性分散媒と反応させる場合には、エステルとの相溶性を高めて、混合時の均質性を向上させる点から、親水性の官能基を導入することが好ましい。   In consideration of chemical characteristics such as compatibility with the reactive dispersion medium, it is preferable to introduce another functional group into the basic chemical structure described above. For example, when making it react with the reactive dispersion medium which consists of ester, it is preferable to introduce a hydrophilic functional group from the point which improves the compatibility with ester and improves the homogeneity at the time of mixing.

なお、ゲル化剤分子内に、イソシアナート基又はイソチオシアナート基以外の反応性官能基を含有させてもよく、イソシアナート基とイソチオシアナート基が混在してもよい。さらには、ポリイソシアナートのように、反応性官能基が多数存在してもよい。   The gelling agent molecule may contain a reactive functional group other than an isocyanate group or an isothiocyanate group, or an isocyanate group and an isothiocyanate group may be mixed. Furthermore, a large number of reactive functional groups may be present, such as polyisocyanate.

スラリー18には、上述した成分以外に、消泡剤、界面活性剤、焼結助剤、触媒、可塑剤、特性向上剤等の各種添加剤を添加してもよい。   In addition to the components described above, various additives such as an antifoaming agent, a surfactant, a sintering aid, a catalyst, a plasticizer, and a property improver may be added to the slurry 18.

上述したスラリー18は、以下のように作製することができる。   The slurry 18 described above can be produced as follows.

(a)分散媒に無機物粉体を分散してスラリー18とした後、ゲル化剤を添加する。   (A) An inorganic powder is dispersed in a dispersion medium to form a slurry 18, and then a gelling agent is added.

(b)分散媒に無機物粉体及びゲル化剤を同時に添加して分散することによりスラリー18を製造する。   (B) The slurry 18 is produced by simultaneously adding and dispersing the inorganic powder and the gelling agent in the dispersion medium.

注型時及び塗布時の作業性を考慮すると、20℃におけるスラリー18の粘度は30000cps以下であることが好ましく、20000cps以下であることがより好ましい。スラリー18の粘度は、既述した反応性分散媒やゲル化剤の粘度の他、粉体の種類、分散剤の量、スラリー18の濃度(スラリー18全体の体積に対する粉体体積%)によっても調整することができる。   Considering workability at the time of casting and coating, the viscosity of the slurry 18 at 20 ° C. is preferably 30000 cps or less, and more preferably 20000 cps or less. The viscosity of the slurry 18 depends not only on the viscosity of the reactive dispersion medium and the gelling agent described above, but also on the type of powder, the amount of the dispersant, and the concentration of the slurry 18 (powder volume% with respect to the total volume of the slurry 18). Can be adjusted.

但し、スラリー18の濃度は、通常は、25〜75体積%のものが好ましく、乾燥収縮によるクラックを少なくすることを考慮すると、35〜75体積%のものがさらに好ましい。有機成分として分散媒、分散剤、反応硬化物、反応触媒を有する。このうち、例えば分散媒とゲル化剤もしくはゲル化剤相互の化学反応により固化する。   However, the concentration of the slurry 18 is usually preferably 25 to 75% by volume, and more preferably 35 to 75% by volume in consideration of reducing cracks due to drying shrinkage. It has a dispersion medium, a dispersant, a reaction cured product, and a reaction catalyst as organic components. Among these, for example, it is solidified by a chemical reaction between the dispersion medium and the gelling agent or the gelling agent.

[第2の実施の形態]
次に、第2の実施の形態に係るセラミック成形体(以下、第2セラミック成形体10Bと記す)について図11〜図15を参照しながら説明する。
[Second Embodiment]
Next, a ceramic molded body according to a second embodiment (hereinafter referred to as a second ceramic molded body 10B) will be described with reference to FIGS.

この第2セラミック成形体10Bは、図11に示すように、導体成形部12の表面(上面及び側面)に焼成収縮率調整膜14を形成し、さらに、熱硬化性樹脂前駆体とセラミック粉末と溶剤とが混合されたスラリー18を、導体成形部12(表面に焼成収縮率調整膜14が形成されている)の上面及び側面を被覆するように塗布した後に硬化してセラミック成形部13とすることによって得られる。なお、第2セラミック成形体10Bの厚みが0.05mm以下のように薄い場合には、型に鋳込むような方法では困難が伴うため、基体上へ塗布する方法が好ましい。   As shown in FIG. 11, the second ceramic molded body 10 </ b> B is formed with a firing shrinkage rate adjusting film 14 on the surface (upper surface and side surface) of the conductor molded portion 12, and further, a thermosetting resin precursor, ceramic powder, The slurry 18 mixed with the solvent is applied so as to cover the upper surface and the side surface of the conductor molded portion 12 (on which the firing shrinkage rate adjusting film 14 is formed), and then cured to form the ceramic molded portion 13. Can be obtained. In addition, when the thickness of the second ceramic molded body 10B is as thin as 0.05 mm or less, it is difficult to perform the method by casting into a mold. Therefore, the method of coating on the substrate is preferable.

ここで、具体的に、第2セラミック成形体10B及び第2セラミック部品の製造方法について図12A〜図14Cを参照しながら説明する。   Here, the manufacturing method of the 2nd ceramic molded object 10B and a 2nd ceramic component is demonstrated concretely, referring FIG. 12A-FIG. 14C.

先ず、図12Aに示すように、フィルム等の基体64の上面に剥離剤(図示せず)を塗布し、その後、基体64の上面に導体ペースト15を例えば印刷法によってパターン形成し、さらに、このパターン形成された導体ペースト15を加熱硬化して、基体64上に導体成形部12を形成する。   First, as shown in FIG. 12A, a release agent (not shown) is applied to the upper surface of the substrate 64 such as a film, and then the conductor paste 15 is patterned on the upper surface of the substrate 64 by, for example, a printing method. The patterned conductor paste 15 is heat-cured to form the conductor molding portion 12 on the base 64.

その後、基体64上に形成された導体成形部12の表面(この場合、上面及び側面)に、焼成収縮率調整膜14をコーティングする。焼成収縮率調整膜14として有機膜を使用する場合は、例えばCVD(化学気相成長)、印刷によって形成することができ、無機膜を使用する場合は、例えばCVD、スパッタによって形成することができる。   Thereafter, the surface of the conductor molding portion 12 formed on the base 64 (in this case, the upper surface and the side surface) is coated with the firing shrinkage rate adjusting film 14. When an organic film is used as the firing shrinkage adjustment film 14, it can be formed by, for example, CVD (chemical vapor deposition) or printing, and when an inorganic film is used, it can be formed by, for example, CVD or sputtering. .

その後、図12Bに示すように、熱硬化性樹脂前駆体とセラミック粉末と溶剤とが混合されたスラリー18を、導体成形部12を被覆するように基体64上に塗布する。塗布方法としては、ディスペンサー法や、図13A及び図13Bに示す方法やスピンコート法等がある。図13A及び図13Bに示す方法は、一対のガイド板66a及び66bの間に基体64(導体成形部12が形成された基体64)を設置し、その後、スラリー18を、導体成形部12を被覆するように基体64上に塗布した後、ブレード状の治具68を一対のガイド板66a及び66bの上面を滑らせて(摺り切って)、余分なスラリー18を取り除く方法である。一対のガイド板66a及び66bの高さを調整することによって、スラリー18の厚みを容易に調整することができる。   Thereafter, as shown in FIG. 12B, a slurry 18 in which a thermosetting resin precursor, a ceramic powder, and a solvent are mixed is applied on a base 64 so as to cover the conductor molding portion 12. As a coating method, there are a dispenser method, a method shown in FIGS. 13A and 13B, a spin coating method, and the like. In the method shown in FIGS. 13A and 13B, a base body 64 (base body 64 on which the conductor molding portion 12 is formed) is installed between a pair of guide plates 66a and 66b, and then the slurry 18 is coated with the conductor molding portion 12. In this way, after applying on the base 64, the blade-shaped jig 68 is slid (slid) on the upper surfaces of the pair of guide plates 66a and 66b to remove the excess slurry 18. By adjusting the height of the pair of guide plates 66a and 66b, the thickness of the slurry 18 can be easily adjusted.

その後、図14Aに示すように、基体64上に塗布されたスラリー18を硬化(室温硬化や乾燥硬化等)させてセラミック成形部13とする。   Thereafter, as shown in FIG. 14A, the slurry 18 applied on the substrate 64 is cured (room temperature curing, dry curing, etc.) to form the ceramic molded portion 13.

その後、図14Bに示すように、基体64を剥離、除去することによって第2セラミック成形体10Bが完成する。   Thereafter, as shown in FIG. 14B, the second ceramic molded body 10B is completed by peeling and removing the base body 64.

さらに、図14Cに示すように、第2セラミック成形体10Bを焼成することによって、導体成形部12が埋め込まれたセラミック焼成体70を有する第2セラミック部品72が完成する。   Further, as shown in FIG. 14C, by firing the second ceramic molded body 10B, the second ceramic component 72 having the ceramic fired body 70 in which the conductor molded portion 12 is embedded is completed.

ここで、各構成部材の好ましい態様について説明する。   Here, the preferable aspect of each structural member is demonstrated.

[導体ペースト15:第2の実施の形態]
第1の実施の形態と同様であるため、重複する記載を省略するが、第2の実施の形態における導体ペースト15は、樹脂と銀(Ag)、金(Au)、銅(Cu)系の金属の少なくとも1種類の粉末を含む。導体ペースト15に使用される樹脂は、熱硬化性樹脂前駆体であることが好ましい。この場合、熱硬化性樹脂前駆体は、自己反応性のレゾール型フェノール樹脂であることが好ましい。
[Conductive paste 15: Second embodiment]
Since it is the same as that of the first embodiment, overlapping description is omitted, but the conductor paste 15 in the second embodiment is made of resin and silver (Ag), gold (Au), and copper (Cu). Contains at least one powder of metal. The resin used for the conductor paste 15 is preferably a thermosetting resin precursor. In this case, the thermosetting resin precursor is preferably a self-reactive resol type phenol resin.

導体ペースト15は、上述したように、印刷後、加熱硬化されるが、硬化条件は、硬化剤の種類により異なり、例えば、第2の実施の形態で使用するレゾール型フェノール樹脂の場合、温度80〜150℃、時間10分〜60分で硬化させることができる。   As described above, the conductor paste 15 is heat-cured after printing, but the curing conditions differ depending on the type of the curing agent. For example, in the case of the resol type phenol resin used in the second embodiment, the temperature of the conductor paste 15 is 80. It can be cured at ˜150 ° C. for 10 minutes to 60 minutes.

[焼成収縮率調整膜14:第2の実施の形態]
この第2の実施の形態においても、焼成収縮率調整膜14として有機膜又は無機膜を用いることができる。有機膜の場合は、熱硬化性樹脂前駆体であることが好ましく、例えば自己反応性のレゾール型フェノール樹脂、エポキシ樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリパラキシリレン樹脂を用いることができる。無機膜の場合は、シリカ膜を用いることができる。
[Baking Shrinkage Adjustment Film 14: Second Embodiment]
Also in the second embodiment, an organic film or an inorganic film can be used as the firing shrinkage rate adjusting film 14. In the case of an organic film, it is preferably a thermosetting resin precursor, and for example, a self-reactive phenolic resin, epoxy resin, polyurethane resin, or polyparaxylylene resin can be used. In the case of an inorganic film, a silica film can be used.

[スラリー18:第2の実施の形態]
第1の実施の形態と同様であるため、重複する記載を省略するが、第2の実施の形態におけるスラリー18に含まれるセラミック粉末は、用途に応じて、アルミナ、安定化ジルコニア、各種圧電セラミック材料、各種誘電セラミック材料、といった酸化物セラミックスをはじめ、シリコンナイトライド、アルミナイトライドといった窒化物セラミックス、シリコンカーバイド、タングステンカーバイドといった炭化物セラミックス粉末やバインダとしてのガラス成分を含む。
[Slurry 18: Second Embodiment]
Since it is the same as that of the first embodiment, overlapping description is omitted, but the ceramic powder contained in the slurry 18 in the second embodiment is alumina, stabilized zirconia, various piezoelectric ceramics depending on applications. It includes oxide ceramics such as materials and various dielectric ceramic materials, nitride ceramics such as silicon nitride and aluminum nitride, carbide ceramic powders such as silicon carbide and tungsten carbide, and glass components as binders.

スラリー18に含まれる熱硬化性樹脂前駆体は、イソシアネート基又はイソチオシアネート基を有するゲル化剤と、水酸基を有する高分子とを有する。   The thermosetting resin precursor contained in the slurry 18 has a gelling agent having an isocyanate group or an isothiocyanate group and a polymer having a hydroxyl group.

上述した塗布方法のうち、ディスペンサー法や図13A及び図13Bに示す方法にてスラリー18を基体64上に塗布する場合、スラリー18の粘度は比較的高いことが好ましい。スラリー18の粘度は第1の実施の形態と同様でもよいが、スラリー18が低粘度だと、塗布した後の保形性が低く、流動による厚みバラつきが発生し易い。そのため、スラリー18の粘度は200cps〜2000cpsが好ましい。   Among the application methods described above, when the slurry 18 is applied onto the substrate 64 by the dispenser method or the method shown in FIGS. 13A and 13B, the viscosity of the slurry 18 is preferably relatively high. The viscosity of the slurry 18 may be the same as that of the first embodiment. However, if the slurry 18 has a low viscosity, the shape retention after coating is low, and the thickness variation due to flow tends to occur. Therefore, the viscosity of the slurry 18 is preferably 200 cps to 2000 cps.

そこで、水酸基を有する高分子として分子量の大きい樹脂を用いることで、スラリー18の粘度を高くできる。一例としてブチラール樹脂は分子量が大きいため、スラリー18の粘度を高くするには好適である。もちろん、高分子の分子量でスラリー18の粘度の制御が可能となることから、塗布方法に応じて、高分子として使用する樹脂を適宜選択すればよい。   Therefore, the viscosity of the slurry 18 can be increased by using a resin having a large molecular weight as the polymer having a hydroxyl group. As an example, since the butyral resin has a large molecular weight, it is suitable for increasing the viscosity of the slurry 18. Of course, since the viscosity of the slurry 18 can be controlled by the molecular weight of the polymer, the resin used as the polymer may be appropriately selected according to the coating method.

上述したブチラール樹脂は、一般に、ポリビニルアセタール樹脂であるが、その中には原料のポリビニルアルコール樹脂に由来するOH基が残るので、このOH基がゲル化剤のイソシアネート基又はイソチオシアネート基と反応するものと考えられる。   The above-mentioned butyral resin is generally a polyvinyl acetal resin, but since OH groups derived from the raw material polyvinyl alcohol resin remain in the resin, this OH group reacts with the isocyanate group or isothiocyanate group of the gelling agent. It is considered a thing.

特に、イソシアネート基又はイソチオシアネート基と反応に必要な量を超えてブチラール樹脂を添加すると、反応後に残ったブチラール樹脂は熱可塑性樹脂として作用するので、熱硬化性樹脂の欠点である、硬化後の接着性が悪くなるという特性を改善することができる。その結果、例えば図15に示すように、第2セラミック成形体10Bを複数積層して第2積層体74を構成する場合に、各第2セラミック成形体10Bの接着性が良好となることから、製造過程において第2セラミック成形体10Bが剥離するという不都合を回避でき、複数の第2セラミック成形体10Bの第2積層体74によるセラミック部品72の歩留まりを向上させることができる。   In particular, when a butyral resin is added in excess of the amount necessary for the reaction with an isocyanate group or an isothiocyanate group, the butyral resin remaining after the reaction acts as a thermoplastic resin, which is a drawback of the thermosetting resin. The characteristic that the adhesiveness is deteriorated can be improved. As a result, for example, as shown in FIG. 15, when the second laminated body 74 is formed by laminating a plurality of second ceramic molded bodies 10B, the adhesiveness of each second ceramic molded body 10B is improved. The inconvenience that the second ceramic molded body 10B is peeled off during the manufacturing process can be avoided, and the yield of the ceramic parts 72 by the second laminate 74 of the plurality of second ceramic molded bodies 10B can be improved.

水酸基を有する高分子としては、その他、エチルセルロース系樹脂、ポリエチレングリコール系樹脂、あるいはポリエーテル系樹脂を好ましく用いることができる。   In addition, as the polymer having a hydroxyl group, an ethyl cellulose resin, a polyethylene glycol resin, or a polyether resin can be preferably used.

上述した第2セラミック成形体10B(及び第2積層体74)及び第2セラミック部品72においても、導体成形部12とセラミック成形部13との間に焼成収縮率調整膜14が介在しているため、上述した第1セラミック成形体10Aにおける(1)〜(4)と同じ効果を奏する。従って、導体ペースト15による導体成形部12(電極パターン等)の剥がれや崩れがなく、しかも、導体成形部12(電極パターン等)の厚みを厚くでき、抵抗値の低減化、高周波特性の向上を容易に図ることができる。   Also in the second ceramic molded body 10B (and the second laminated body 74) and the second ceramic component 72 described above, the firing shrinkage rate adjusting film 14 is interposed between the conductor molded portion 12 and the ceramic molded portion 13. The same effects as (1) to (4) in the first ceramic molded body 10A described above are exhibited. Therefore, the conductor molding part 12 (electrode pattern or the like) is not peeled or collapsed by the conductor paste 15, and the conductor molding part 12 (electrode pattern or the like) can be thickened to reduce the resistance value and improve the high frequency characteristics. It can be easily achieved.

ここで、スラリー18に含まれる樹脂として、熱可塑性樹脂前駆体を用いた従来のセラミック成形体の問題点と、第1セラミック成形体10A及び第2セラミック成形体10B(以下、まとめて本実施の形態とも記す)による問題解決について説明する。   Here, as the resin contained in the slurry 18, the problems of the conventional ceramic molded body using a thermoplastic resin precursor, the first ceramic molded body 10A and the second ceramic molded body 10B (hereinafter collectively referred to as the present embodiment). (Problem solving) will be described.

従来においては、熱可塑性樹脂前駆体を含むスラリーの乾燥収縮時に導体成形部との界面で隙間やクラックが発生したり、グリーンシートが凹凸形状になったりする。   Conventionally, when the slurry containing the thermoplastic resin precursor is dried and contracted, a gap or a crack is generated at the interface with the conductor molding portion, or the green sheet becomes uneven.

一方、本実施の形態では、スラリー18に熱硬化性樹脂前駆体を含ませて、乾燥時に熱硬化性樹脂前駆体を硬化させて三次元網目構造を生成させ、収縮を小さくすることで前記問題は解決される。   On the other hand, in the present embodiment, the thermosetting resin precursor is included in the slurry 18, the thermosetting resin precursor is cured at the time of drying to form a three-dimensional network structure, and the shrinkage is reduced. Is solved.

この場合、スラリー18に使用する溶剤に、熱硬化性樹脂前駆体が硬化する温度での蒸気圧が小さいものを選定し、熱硬化時の溶剤乾燥による収縮を小さくすることが望ましい。室温で硬化する樹脂を用いた場合は、特に作業や装置が簡単になる。   In this case, it is desirable to select a solvent having a low vapor pressure at a temperature at which the thermosetting resin precursor is cured as the solvent used in the slurry 18 to reduce shrinkage due to solvent drying during thermosetting. When a resin that cures at room temperature is used, operations and equipment are particularly simplified.

ポリウレタン樹脂は、硬化後の弾性を制御し易く、柔軟な成形体も可能となる等の利点を有する。後工程での取り扱いを考えると、あまり硬い成形体は適さない場合があり、熱硬化性樹脂は三次元網目構造をとるので一般に硬いが、ポリウレタン樹脂は、柔軟性のある成形体も可能で、特にテープ状の成形体は、柔軟性が要求される場合が多いため望ましい。また、スラリー性状の制御のため、熱可塑性樹脂を含ませてもよい。   Polyurethane resin has advantages such as easy control of elasticity after curing and also enables a flexible molded body. Considering the handling in the subsequent process, a hard molded body may not be suitable, and the thermosetting resin is generally hard because it has a three-dimensional network structure, but the polyurethane resin can also be a flexible molded body, In particular, a tape-shaped molded body is desirable because flexibility is often required. Further, a thermoplastic resin may be included for controlling the slurry properties.

従来においては、熱可塑性樹脂を含む導体ペーストが、スラリーを塗布する際に、スラリーの溶剤に溶解して、パターン形状が崩れる。   Conventionally, when a conductive paste containing a thermoplastic resin is applied to a slurry, it is dissolved in the solvent of the slurry and the pattern shape is destroyed.

一方、本実施の形態においては、導体成形部12の表面に焼成収縮率調整膜14を形成するようにしたので、導体ペースト15に熱可塑性樹脂前駆体が含まれていたとしても、耐溶剤性が向上し、パターン形状の崩れは生じない。   On the other hand, in the present embodiment, since the firing shrinkage ratio adjusting film 14 is formed on the surface of the conductor molding portion 12, even if the conductor paste 15 contains a thermoplastic resin precursor, solvent resistance is achieved. The pattern shape is not broken.

従来において、熱可塑性樹脂をバインダとするセラミック成形部は、該セラミック成形部の密度ばらつきが発生し易く、そのために、焼成後のセラミック焼成体の寸法ばらつきが大きく、埋設された導体成形部の焼成寸法のばらつきも大きくなる。電子部品には、導体の寸法が部品の特性、性能を決めるものが多い。例えば導体内蔵のストリップラインフィルタは、その共振電極の寸法でフィルタの中心周波数が決まる。   Conventionally, a ceramic molded part using a thermoplastic resin as a binder is likely to have a density variation of the ceramic molded part, and therefore, the dimensional variation of the fired ceramic sintered body is large, and the embedded conductor molded part is fired. Variations in dimensions also increase. In many electronic parts, the dimensions of the conductor determine the characteristics and performance of the part. For example, in a stripline filter with a built-in conductor, the center frequency of the filter is determined by the size of the resonance electrode.

一方、本実施の形態においては、導体成形部12の表面に焼成収縮率調整膜14を形成し、スラリー18に熱硬化性樹脂前駆体を含めるようにしたので、焼成ばらつきを小さくすることができる。   On the other hand, in the present embodiment, since the firing shrinkage rate adjusting film 14 is formed on the surface of the conductor molding portion 12 and the thermosetting resin precursor is included in the slurry 18, firing variation can be reduced. .

例えば第2セラミック成形体10Bの焼成後の寸法は、第2セラミック成形体10Bのうち、導体成形部12を除く部分(セラミック成形部13)の生密度により主に決まる。これは第2セラミック部品72のセラミック焼成体70の構造は空隙が非常に少ないのに対し、セラミック成形部13は空隙が多いため、その空隙量の多少が、焼成中の収縮量を決めるからである。   For example, the size after firing of the second ceramic molded body 10B is mainly determined by the raw density of the second ceramic molded body 10B excluding the conductor molded portion 12 (ceramic molded portion 13). This is because the structure of the ceramic fired body 70 of the second ceramic component 72 has very few voids, whereas the ceramic molded part 13 has many voids, and the amount of voids determines the amount of shrinkage during firing. is there.

熱可塑性樹脂前駆体をバインダとして含むスラリーは、溶媒を乾燥してセラミック成形体を得るが、乾燥する際の塗工比(スラリー体積と成形後の成形体体積の比)が大きく、この大きな塗工比が成形体密度のばらつきの原因となる。   The slurry containing the thermoplastic resin precursor as a binder obtains a ceramic molded body by drying the solvent, but the coating ratio (ratio of the slurry volume and the molded body volume after molding) during drying is large. The work ratio causes variation in the density of the compact.

しかし、本実施の形態のように、熱硬化性樹脂前駆体をスラリー18のバインダとして使用した場合は、溶剤を含んだままでも硬化するため、塗工比を小さくすることができ、生密度のばらつきを小さくすることができる。その結果、焼成後の寸法ばらつきが小さくなり、埋設した導体成形部12の寸法ばらつきも小さくすることができる。   However, when the thermosetting resin precursor is used as a binder for the slurry 18 as in the present embodiment, the coating ratio can be reduced because the resin is cured while containing the solvent, and the raw density can be reduced. Variation can be reduced. As a result, the dimensional variation after firing is reduced, and the dimensional variation of the embedded conductor molding portion 12 can be reduced.

なお、セラミック成形体、セラミック部品、セラミック成形体の製造方法及びセラミック部品の製造方法は、上述の実施の形態に限らず、本発明の要旨を逸脱することなく、種々の構成を採り得ることはもちろんである。   The ceramic molded body, the ceramic part, the ceramic molded body manufacturing method, and the ceramic part manufacturing method are not limited to the above-described embodiments, and various configurations can be adopted without departing from the gist of the present invention. Of course.

第1セラミック成形体を示す断面図である。It is sectional drawing which shows a 1st ceramic molded object. 図2Aは導体ペーストによる導体成形部のパターンの表面に焼成収縮率調整膜を形成した状態を示す断面図であり、図2Bは鋳込み型内にパターンを設置した後、鋳込み型内にスラリーを注入した状態を示す断面図であり、図2Cは鋳込み型内に注入されたスラリーを硬化して第1セラミック成形体とした状態を示す断面図である。FIG. 2A is a cross-sectional view showing a state in which a firing shrinkage rate adjusting film is formed on the surface of a pattern of a conductor molding portion using a conductor paste, and FIG. FIG. 2C is a cross-sectional view showing a state in which the slurry injected into the casting mold is cured to form a first ceramic molded body. 図3Aはフィルム上に導体ペーストによる導体成形部のパターンの表面に焼成収縮率調整膜を形成した状態を示す断面図であり、図3Bは鋳込み型内にフィルムを設置した後、鋳込み型内にスラリーを注入した状態を示す断面図であり、図3Cは鋳込み型内に注入されたスラリーを硬化して第1セラミック成形体とした状態を示す断面図である。FIG. 3A is a cross-sectional view showing a state in which a firing shrinkage ratio adjusting film is formed on the surface of the pattern of the conductor molding portion made of a conductor paste on the film, and FIG. FIG. 3C is a cross-sectional view showing a state where the slurry is injected, and FIG. 3C is a cross-sectional view showing a state where the slurry injected into the casting mold is cured to form a first ceramic molded body. 図4Aは鋳込み型から第1セラミック成形体をフィルムごと離型した状態を示す断面図であり、図4Bはフィルムから第1セラミック成形体を離型した状態を示す断面図である。4A is a cross-sectional view showing a state in which the first ceramic molded body is released from the casting mold together with the film, and FIG. 4B is a cross-sectional view showing a state in which the first ceramic molded body is released from the film. 第1セラミック成形体を積層して第1積層体を構成した状態を示す断面図である。It is sectional drawing which shows the state which laminated | stacked the 1st ceramic molded body and comprised the 1st laminated body. 図6Aはフィルム上に導体ペーストによる導体成形部のパターンの表面に焼成収縮率調整膜を形成した状態を示す断面図であり、図6Bは鋳込み型内にフィルムを他のフィルム及びスペーサと共に設置した、鋳込み型内にスラリーを注入した状態を示す断面図であり、図6Cは鋳込み型内に注入されたスラリーを硬化して第1セラミック成形体とした状態を示す断面図である。FIG. 6A is a cross-sectional view showing a state in which a firing shrinkage rate adjusting film is formed on the surface of a pattern of a conductor molding portion made of a conductor paste on a film, and FIG. 6B shows a film placed in a casting mold together with other films and spacers. FIG. 6C is a cross-sectional view showing a state in which the slurry is injected into the casting mold, and FIG. 6C is a cross-sectional view showing a state in which the slurry injected into the casting mold is cured to form a first ceramic molded body. 図7Aは鋳込み型から第1セラミック成形体をフィルム、他のフィルム及びスペーサごと離型した状態を示す断面図であり、図7Bはフィルム、他のフィルム及びスペーサから第1セラミック成形体を離型した状態を示す断面図である。FIG. 7A is a cross-sectional view illustrating a state in which the first ceramic molded body is released from the casting mold together with the film, the other film, and the spacer, and FIG. 7B is a release of the first ceramic molded body from the film, the other film, and the spacer. It is sectional drawing which shows the state which carried out. 第1セラミック成形体を作製する場合に使用される鋳込み型を示す分解斜視図である。It is a disassembled perspective view which shows the casting type | mold used when producing a 1st ceramic molded object. 第1セラミック成形体及び第1セラミック部品を作製する手順を示す工程ブロック図である。It is a process block diagram which shows the procedure which produces a 1st ceramic molded object and a 1st ceramic component. 図9のステップS7〜ステップS11までの手順を示す説明図である。It is explanatory drawing which shows the procedure to step S7-step S11 of FIG. 第2セラミック成形体を示す断面図である。It is sectional drawing which shows a 2nd ceramic molded object. 図12Aは基体上に導体ペーストによる導体成形部のパターンの表面に焼成収縮率調整膜を形成した状態を示す工程図であり、図12Bは導体成形部を被覆するように基体上にスラリーを塗布した状態を示す工程図である。FIG. 12A is a process diagram showing a state in which a firing shrinkage ratio adjusting film is formed on the surface of the pattern of the conductor molding portion by the conductor paste on the substrate, and FIG. 12B is a slurry coating on the substrate so as to cover the conductor molding portion. It is process drawing which shows the state performed. 図13Aは基体上にスラリーを塗布する方法の一例を示す斜視図であり、図13Bはその側面図である。FIG. 13A is a perspective view showing an example of a method for applying slurry onto a substrate, and FIG. 13B is a side view thereof. 図14Aは基体上に塗布したスラリーを硬化した状態を示す工程図であり、図14Bは基体を剥離して第2セラミック成形体とした状態を示す工程図であり、図14Cは第2セラミック成形体を焼成して第2セラミック部品とした状態を示す工程図である。FIG. 14A is a process diagram showing a state where the slurry applied on the substrate is cured, FIG. 14B is a process diagram showing a state where the substrate is peeled to form a second ceramic molded body, and FIG. 14C is a second ceramic molding. It is process drawing which shows the state which sintered the body and was set as the 2nd ceramic component. 第2セラミック成形体を積層して第2積層体を構成した状態を示す断面図である。It is sectional drawing which shows the state which laminated | stacked the 2nd ceramic molded body and comprised the 2nd laminated body.

符号の説明Explanation of symbols

10A…第1セラミック成形体
10B…第2セラミック成形体
12…導体成形体
13…セラミック成形部
14…焼成収縮率調整膜
15…導体ペースト
16…鋳込み型
18…スラリー
20…フィルム(第1フィルム)
22…他のフィルム(第2フィルム)
24…スペーサ
40…電極パターン
60…第1積層体
64…基体
70…セラミック焼成体
72…セラミック部品
74…第2積層体
DESCRIPTION OF SYMBOLS 10A ... 1st ceramic molded object 10B ... 2nd ceramic molded object 12 ... Conductor molded object 13 ... Ceramic molded part 14 ... Firing shrinkage rate adjustment film | membrane 15 ... Conductor paste 16 ... Casting type | mold 18 ... Slurry 20 ... Film (1st film)
22 ... Other films (second film)
24 ... Spacer 40 ... Electrode pattern 60 ... First laminate 64 ... Substrate 70 ... Ceramic fired body 72 ... Ceramic component 74 ... Second laminate

Claims (22)

金属粉末とバインダを含む導体ペーストをパターン形成し、その後、硬化してなる導体成形部と、
樹脂とセラミック粉末と溶剤とが混合されたスラリーを、前記導体成形部を被覆するように供給した後に硬化して得られるセラミック成形部とを有するセラミック成形体であって、
前記導体成形部と前記セラミック成形部との界面に焼成収縮率調整膜が形成されていることを特徴とするセラミック成形体。
Conductor paste containing metal powder and binder is formed into a pattern, and then hardened conductor molded part,
A ceramic molded body having a ceramic molded portion obtained by curing a slurry obtained by mixing a resin, ceramic powder and a solvent so as to cover the conductor molded portion,
A ceramic molded body, wherein a firing shrinkage rate adjusting film is formed at an interface between the conductor molded portion and the ceramic molded portion.
請求項1記載のセラミック成形体において、
前記焼成収縮率調整膜は、有機膜(CVD又は印刷)又は無機膜(CVD又はスパッタ)であることを特徴とするセラミック成形体。
The ceramic molded body according to claim 1,
The ceramic molded body, wherein the firing shrinkage rate adjusting film is an organic film (CVD or printing) or an inorganic film (CVD or sputtering).
請求項2記載のセラミック成形体において、
前記焼成収縮率調整膜に含まれる前記有機膜は、フェノール樹脂、エポキシ樹脂、ポリウレタン樹脂又はポリパラキシリレン樹脂であることを特徴とするセラミック成形体。
In the ceramic molded body according to claim 2,
The ceramic molded body, wherein the organic film included in the firing shrinkage rate adjusting film is a phenol resin, an epoxy resin, a polyurethane resin, or a polyparaxylylene resin.
請求項2記載のセラミック成形体において、
前記焼成収縮率調整層に含まれる前記無機膜は、シリカ膜であることを特徴とするセラミック成形体。
In the ceramic molded body according to claim 2,
The ceramic molded body, wherein the inorganic film contained in the firing shrinkage rate adjusting layer is a silica film.
請求項1〜4のいずれか1項に記載のセラミック成形体において、
前記セラミック成形部は、前記スラリーを、基体上に成形された前記導体成形部を被覆するように塗布した後に硬化して得られることを特徴とするセラミック成形体。
In the ceramic molded body according to any one of claims 1 to 4,
The ceramic molded part is obtained by curing the slurry after applying the slurry so as to cover the conductor molded part molded on a substrate.
請求項1〜5のいずれか1項に記載のセラミック成形体において、
前記導体ペーストに含まれる金属粉末は、銀(Ag)、金(Au)、銅(Cu)系の金属の少なくとも1種類の粉末であり、
前記導体ペーストに含まれるバインダは、熱可塑性樹脂前駆体又は熱硬化性樹脂前駆体であることを特徴とするセラミック成形体。
In the ceramic molded body according to any one of claims 1 to 5,
The metal powder contained in the conductor paste is a powder of at least one of silver (Ag), gold (Au), and copper (Cu) based metals,
The ceramic molded body, wherein the binder contained in the conductor paste is a thermoplastic resin precursor or a thermosetting resin precursor.
請求項6記載のセラミック成形体において、
前記導体ペーストに含まれる前記熱硬化性樹脂前駆体は、フェノール樹脂であることを特徴とするセラミック成形体。
In the ceramic molded body according to claim 6,
The ceramic molded body, wherein the thermosetting resin precursor contained in the conductor paste is a phenol resin.
請求項1〜7のいずれか1項に記載のセラミック成形体において、
前記スラリーに含まれる前記樹脂は、熱硬化性樹脂前駆体であって、ポリウレタン樹脂前駆体であることを特徴とするセラミック成形体。
In the ceramic molded body according to any one of claims 1 to 7,
The said resin contained in the said slurry is a thermosetting resin precursor, Comprising: The ceramic molded object characterized by being a polyurethane resin precursor.
請求項1〜8のいずれか1項に記載のセラミック成形体を焼成してなるセラミック部品。   The ceramic component formed by baking the ceramic molded body of any one of Claims 1-8. 金属粉末とバインダを含む導体ペーストをパターン形成し、その後、硬化してなる導体成形部を形成する導体形成工程と、
前記導体成形部の表面の一部又は全部に焼成収縮率調整膜を形成する焼成収縮率調整膜形成工程と、
熱硬化性樹脂前駆体とセラミック粉末と溶剤とが混合されたスラリーを、前記焼成収縮率調整層と共に前記導体成形部を被覆するように供給するスラリー供給工程と、
前記スラリーを硬化してセラミック成形部にすることにより、セラミック成形体を作製するスラリー硬化工程とを有するセラミック成形体の製造方法。
Conductor forming step of forming a conductor paste containing metal powder and a binder, and then forming a conductor molding portion formed by curing;
A firing shrinkage rate adjusting film forming step of forming a firing shrinkage rate adjusting film on a part or all of the surface of the conductor molding part,
A slurry supply step of supplying a slurry in which a thermosetting resin precursor, a ceramic powder, and a solvent are mixed so as to cover the conductor molding portion together with the firing shrinkage rate adjustment layer;
A method for producing a ceramic molded body, comprising: a slurry curing step for producing a ceramic molded body by curing the slurry to form a ceramic molded portion.
請求項10記載のセラミック成形体の製造方法において、
前記焼成収縮率調整膜は、有機膜(CVD又は印刷)又は無機膜(CVD又はスパッタ)であることを特徴とするセラミック成形体の製造方法。
In the manufacturing method of the ceramic forming object according to claim 10,
The method for producing a ceramic molded body, wherein the firing shrinkage rate adjusting film is an organic film (CVD or printing) or an inorganic film (CVD or sputtering).
請求項11記載のセラミック成形体の製造方法において、
焼成収縮率調整膜形成工程は、前記導体成形部の表面の一部又は全部に前記有機膜をCVD法又は印刷法にて形成することを特徴とするセラミック成形体の製造方法。
In the manufacturing method of the ceramic molded body of Claim 11,
In the firing shrinkage ratio adjusting film forming step, the organic film is formed on a part or all of the surface of the conductor molding portion by a CVD method or a printing method.
請求項11記載のセラミック成形体の製造方法において、
焼成収縮率調整膜形成工程は、前記導体成形部の表面の一部又は全部に前記無機膜をCVD法又はスパッタ法にて形成することを特徴とするセラミック成形体の製造方法。
In the manufacturing method of the ceramic molded body of Claim 11,
In the firing shrinkage rate adjusting film forming step, the inorganic film is formed on a part or all of the surface of the conductor molding part by a CVD method or a sputtering method.
請求項10〜13のいずれか1項に記載のセラミック成形体の製造方法において、
前記スラリーに使用される前記熱硬化性樹脂前駆体がポリウレタン樹脂前駆体であることを特徴とするセラミック成形体の製造方法。
In the manufacturing method of the ceramic molded body of any one of Claims 10-13,
The method for producing a ceramic molded body, wherein the thermosetting resin precursor used in the slurry is a polyurethane resin precursor.
請求項10記載のセラミック成形体の製造方法において、
前記導体形成工程は、基体上に前記導体成形部を形成し、
前記焼成収縮率調整膜形成工程は、前記基体上に形成された前記導体成形部上に、前記焼成収縮率調整膜を形成し、
前記スラリー供給工程は、前記スラリーを、前記焼成収縮率調整層と共に前記導体成形部を被覆するように前記基体上に塗布することを特徴とするセラミック成形体の製造方法。
In the manufacturing method of the ceramic forming object according to claim 10,
The conductor forming step forms the conductor molding part on a base,
In the firing shrinkage rate adjusting film forming step, the firing shrinkage rate adjusting film is formed on the conductor molding portion formed on the substrate,
In the slurry supplying step, the slurry is applied onto the base body so as to cover the conductor forming portion together with the firing shrinkage rate adjusting layer.
請求項10記載のセラミック成形体の製造方法において、
前記導体形成工程は、フィルム上に導体成形部を形成し、
前記焼成収縮率調整膜形成工程は、前記フィルム上に形成された前記導体成形部上に、前記焼成収縮率調整膜を形成し、
前記スラリー供給工程は、前記導体成形部及び前記焼成収縮率調整膜が形成された前記フィルムを鋳込み型内に設置し、前記スラリーを前記鋳込み型内に鋳込むことを特徴とするセラミック成形体の製造方法。
In the manufacturing method of the ceramic forming object according to claim 10,
The conductor forming step forms a conductor molding part on the film,
The firing shrinkage rate adjustment film forming step forms the firing shrinkage rate adjustment film on the conductor molding portion formed on the film,
In the slurry supply step, the film on which the conductor forming portion and the firing shrinkage rate adjustment film are formed is placed in a casting mold, and the slurry is cast in the casting mold. Production method.
請求項16記載のセラミック成形体の製造方法において、
前記スラリー供給工程は、前記フィルムを前記鋳込み型内に設置する際に、
前記フィルムと他のフィルムとを前記導体成形部及び前記焼成収縮率調整膜が形成された面と前記他のフィルムとを対向させ、さらに、前記フィルムと前記他のフィルムの間にスペーサを挟んで設置し、
前記スペーサにて形成される空間内に前記スラリーを流し込むことを特徴とするセラミック成形体の製造方法。
The method for producing a ceramic molded body according to claim 16,
In the slurry supply step, when the film is installed in the casting mold,
The film and the other film are opposed to the other film and the surface on which the conductor molding portion and the baking shrinkage rate adjusting film are formed, and a spacer is sandwiched between the film and the other film. Install
A method for producing a ceramic molded body, wherein the slurry is poured into a space formed by the spacer.
請求項17記載のセラミック成形体の製造方法において、
前記フィルムの表面に塗布された剥離剤の剥離力と、前記他のフィルムの表面に塗布された剥離剤の剥離力とが異なることを特徴とするセラミック成形体の製造方法。
In the manufacturing method of the ceramic molded body of Claim 17,
A method for producing a ceramic molded body, wherein a peeling force of a release agent applied to the surface of the film is different from a release force of a release agent applied to the surface of the other film.
請求項10〜18のいずれか1項に記載のセラミック成形体の製造方法において、
前記導体ペーストに含まれる金属粉末は、銀(Ag)、金(Au)、銅(Cu)系の金属の少なくとも1種類の粉末であり、
前記導体ペーストに含まれるバインダは、熱可塑性樹脂前駆体又は熱硬化性樹脂前駆体であることを特徴とするセラミック成形体の製造方法。
In the manufacturing method of the ceramic molded body of any one of Claims 10-18,
The metal powder contained in the conductor paste is a powder of at least one of silver (Ag), gold (Au), and copper (Cu) based metals,
The binder contained in the conductor paste is a thermoplastic resin precursor or a thermosetting resin precursor.
請求項19記載のセラミック成形体の製造方法において、
前記導体ペーストに含まれる前記熱硬化性樹脂前駆体がフェノール樹脂であることを特徴とするセラミック成形体の製造方法。
The method for producing a ceramic molded body according to claim 19,
The method for producing a ceramic molded body, wherein the thermosetting resin precursor contained in the conductor paste is a phenol resin.
請求項20記載のセラミック成形体の製造方法において、
前記導体ペーストに含まれる前記熱硬化性樹脂前駆体が自己反応性のレゾール樹脂であることを特徴とするセラミック成形体の製造方法。
The method for producing a ceramic molded body according to claim 20,
The method for producing a ceramic molded body, wherein the thermosetting resin precursor contained in the conductor paste is a self-reactive resol resin.
セラミック成形体を作製する工程と、
作製された前記セラミック成形体を焼成する工程とを有するセラミック部品の製造方法であって、
前記セラミック成形体を作製する工程は、
金属粉末とバインダを含む導体ペーストをパターン形成し、その後、硬化してなる導体成形部を形成する導体形成工程と、
前記導体成形部の表面の一部又は全部に焼成収縮率調整膜を形成する焼成収縮率調整膜形成工程と、
熱硬化性樹脂前駆体とセラミック粉末と溶剤とが混合されたスラリーを、前記焼成収縮率調整層と共に前記導体成形部を被覆するように供給するスラリー供給工程と、
前記スラリーを硬化してセラミック成形部にすることにより、セラミック成形体を作製するスラリー硬化工程とを有することを特徴とするセラミック部品の製造方法。
Producing a ceramic molded body;
A method for producing a ceramic component comprising a step of firing the produced ceramic molded body,
The step of producing the ceramic molded body includes
Conductor forming step of forming a conductor paste containing metal powder and a binder, and then forming a conductor molding portion formed by curing;
A firing shrinkage rate adjusting film forming step of forming a firing shrinkage rate adjusting film on a part or all of the surface of the conductor molding part,
A slurry supply step of supplying a slurry in which a thermosetting resin precursor, a ceramic powder, and a solvent are mixed so as to cover the conductor molding portion together with the firing shrinkage rate adjustment layer;
A method for producing a ceramic component, comprising: a slurry curing step for producing a ceramic molded body by curing the slurry to form a ceramic molded portion.
JP2008092063A 2008-03-31 2008-03-31 Ceramic molded body, ceramic part, method for manufacturing ceramic molded body, and method for manufacturing ceramic part Active JP5038216B2 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2008092063A JP5038216B2 (en) 2008-03-31 2008-03-31 Ceramic molded body, ceramic part, method for manufacturing ceramic molded body, and method for manufacturing ceramic part

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2008092063A JP5038216B2 (en) 2008-03-31 2008-03-31 Ceramic molded body, ceramic part, method for manufacturing ceramic molded body, and method for manufacturing ceramic part

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2009241472A JP2009241472A (en) 2009-10-22
JP5038216B2 true JP5038216B2 (en) 2012-10-03

Family

ID=41303949

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2008092063A Active JP5038216B2 (en) 2008-03-31 2008-03-31 Ceramic molded body, ceramic part, method for manufacturing ceramic molded body, and method for manufacturing ceramic part

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP5038216B2 (en)

Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN110272620A (en) * 2019-07-08 2019-09-24 武汉理工大学 A kind of flexible piezoelectric film composite material and preparation method thereof

Family Cites Families (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP3178168B2 (en) * 1993-07-13 2001-06-18 株式会社村田製作所 Manufacturing method of multilayer ceramic electronic component
JP3503206B2 (en) * 1994-09-09 2004-03-02 株式会社村田製作所 Multilayer ceramic electronic component and method of manufacturing the same
JP3292645B2 (en) * 1995-12-20 2002-06-17 京セラ株式会社 Wiring board and method of manufacturing the same
JPH09283360A (en) * 1996-04-16 1997-10-31 Fuji Elelctrochem Co Ltd Method for manufacturing green sheet for laminated part
JP2002255655A (en) * 2000-07-28 2002-09-11 Murata Mfg Co Ltd Ceramic compact and ceramic electronic parts
JP3449350B2 (en) * 2000-11-09 2003-09-22 株式会社村田製作所 Manufacturing method of multilayer ceramic electronic component and multilayer ceramic electronic component
JP2006253606A (en) * 2005-03-14 2006-09-21 Tdk Corp Method for manufacturing ceramic green sheet and ceramic electronic device

Also Published As

Publication number Publication date
JP2009241472A (en) 2009-10-22

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP5342820B2 (en) Ceramic molded body, ceramic part, method for manufacturing ceramic molded body, and method for manufacturing ceramic part
KR101041199B1 (en) Ceramic compact, ceramic part, method for producing ceramic compact, and method for producing ceramic part
JP5087455B2 (en) Ceramic laminate, ceramic component, method for producing ceramic laminate, and method for producing ceramic component
JP2009029134A (en) Laminated ceramic molding, calcinated ceramic body, manufacturing method for laminated ceramic molding and method of manufacturing calcinated ceramic body
JP5458050B2 (en) Manufacturing method of electrostatic chuck
CN101353259B (en) Ceramic moulding body, ceramic component, and manufacturing method of ceramic moulding body and ceramic component
JP2009099572A (en) Ceramic electronic component and method of manufacturing the same
WO2006001358A1 (en) Method for manufacturing multilayer electronic component
JP2009241456A (en) Dielectric substrate
WO2004088686A1 (en) Production method for laminated ceramic electronic component
JP5038216B2 (en) Ceramic molded body, ceramic part, method for manufacturing ceramic molded body, and method for manufacturing ceramic part
JP5819895B2 (en) Electrostatic chuck
JP2012216583A (en) Wiring board and manufacturing method of the same
JP2010239590A (en) Distributed constant structural component, and method of manufacturing the same
JP5619950B2 (en) Dielectric substrate manufacturing method
JP5465909B2 (en) Manufacturing method of ceramic molded body
JP5373451B2 (en) Ceramic chip parts
JP4619026B2 (en) Glass ceramic substrate and manufacturing method thereof
JP5581145B2 (en) Manufacturing method of composite electronic component
JP2012232511A (en) Ceramic laminate, ceramic component, method for manufacturing ceramic laminate and method for manufacturing ceramic component
JP2012199349A (en) Ceramic substrate
JPH09130018A (en) Wiring substrate and its manufacture
KR100658148B1 (en) Green sheet for laminated ceramic substrate and method of manufacturing the same
JP2004296884A (en) Sheet for manufacturing laminated component and manufacturing method of laminated component
JP5563036B2 (en) Multilayer ceramic substrate and manufacturing method thereof

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20110119

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20120529

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20120605

A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20120705

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20150713

Year of fee payment: 3

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 5038216

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150