JP5030856B2

JP5030856B2 - カラーフィルタの着色パターン修正装置及び着色パターン修正方法

Info

Publication number: JP5030856B2
Application number: JP2008124085A
Authority: JP
Inventors: 剛村松; 昇加藤; 豊熊沢; 准治妹尾; 隆弘苗村
Original assignee: Hitachi High Technologies Corp
Current assignee: Hitachi High Tech Corp
Priority date: 2008-05-09
Filing date: 2008-05-09
Publication date: 2012-09-19
Anticipated expiration: 2028-05-09
Also published as: JP2009271452A

Description

本発明は、表示用パネルのカラーフィルタの検査において、着色パターンに異物又は色抜けの欠陥が検出された場合に、カラーフィルタの着色パターンを修正するカラーフィルタの着色パターン修正装置及び着色パターン修正方法に関する。

液晶ディスプレイ装置に用いられる液晶パネルは、ＴＦＴ（ＴｈｉｎＦｉｌｍＴｒａｎｓｉｓｔｏｒ）基板とカラーフィルタ基板との間に液晶を封入して構成されている。カラーフィルタは、透明な基板上に、光遮断用のブラックマトリクス、カラー表示用のＲ、Ｇ、Ｂの着色パターン、着色パターン保護用の保護膜、及び液晶駆動用の透明電極膜を形成して製造される。着色パターンの形成後には、着色パターンに異物又は色抜けの欠陥がないか検査が行われ、欠陥が見つかったものには、着色パターンの修正又は再加工が行われる。

従来、カラーフィルタの着色パターンの修正は、欠陥の種類や大きさ及び高さに応じて、次のいずれかの方法で行われていた。
（１）着色パターンに面積の大きな異物が付着している場合は、異物の付着した部分をレーザー装置で切り取り、切り取った部分にカラーインクを充填する。
（２）着色パターンに面積は大きくないが高さの高い異物が付着している場合は、異物をテープ研磨により削る。
（３）着色パターンに色抜けがある場合は、色抜け部分にカラーインクを充填する。
この様なカラーフィルタの修正方法に関するものとして、例えば特許文献１及び特許文献２に記載のものがある。
特開２００６−１０６５２４号公報特開２００７−１９９５６４号公報

従来の着色パターンの修正では、着色パターンに異物が付着している場合と色抜けがある場合とで、異なる修正方法が用いられていた。また、着色パターンに異物が付着している場合も、異物の大きさ及び高さによって、異なる修正方法が用いられていた。そのため、作業内容が複雑となり、カラーフィルタ全体で修正作業に時間が掛かるという問題があった。また、着色パターンに面積の大きな異物が付着している場合又は色抜けがある場合、レーザー装置で切り取る部分又は色抜け部分の面積が、欠陥毎に異なっていた。そのため、充填に必要なカラーインクの量が欠陥毎に異なり、カラーインクの量を適切に調節することが困難なため、修正作業の自動化を阻害する原因となっていた。

本発明の課題は、カラーフィルタの着色パターンの修正を短時間で行うことである。また、本発明の課題は、カラーフィルタの着色パターンの修正作業を自動化することである。

本発明によるカラーフィルタの着色パターン修正装置は、着色パターンが形成され、着色パターンに異物又は色抜けの欠陥が検出されたカラーフィルタ基板を搭載するステージと、ステージに搭載されたカラーフィルタ基板の着色パターンを切り取るレーザー装置と、ステージに搭載されたカラーフィルタ基板へカラーインクを充填するインク充填装置と、ステージとレーザー装置及びインク充填装置とを相対的に移動する移動手段と、カラーフィルタ基板に形成されたカラーフィルタの画素の形状に対応した形状の孔を有するマスクと、マスクを移動するマスク移動装置と、カラーフィルタ基板の表面の画像を取得して画像信号を出力し、またマスクの画像を取得して画像信号を出力するセンサーと、センサーの画像信号を処理して、カラーフィルタ基板の着色パターンに欠陥を有する画素の位置を検出し、またマスクの孔の位置を検出する画像処理装置と、移動手段、レーザー装置及びインク充填装置を制御する制御手段とを備え、制御手段は、レーザー装置がカラーフィルタ基板の着色パターンを切り取るとき、画像処理装置の検出結果に基づき、移動手段を制御し、マスクの孔の位置を、カラーフィルタ基板の着色パターンに欠陥を有する画素の位置と一致させて、着色パターンに欠陥を有する画素の周囲をマスクで覆い、レーザー装置は、制御手段の制御により、欠陥が異物であるか色抜けであるかに関わらず、かつ異物の大きさ及び高さ又は色抜けの大きさに関わらず、着色パターンに欠陥を有する一画素全体の着色パターンを切り取り、インク充填装置は、制御手段の制御により、一画素分の量のカラーインクを、レーザー装置が着色パターンを切り取った画素へ充填するものである。

また、本発明によるカラーフィルタの着色パターン修正方法は、着色パターンが形成され、着色パターンに異物又は色抜けの欠陥が検出されたカラーフィルタ基板をステージに搭載し、ステージとレーザー装置とを相対的に移動して、レーザー装置をカラーフィルタ基板の着色パターンに欠陥を有する画素と対向させ、カラーフィルタ基板に形成されたカラーフィルタの画素の形状に対応した形状の孔を有するマスクと、マスクを移動するマスク移動装置と、カラーフィルタ基板の表面の画像を取得して画像信号を出力し、またマスクの画像を取得して画像信号を出力するセンサーと、センサーの画像信号を処理して、カラーフィルタ基板の着色パターンに欠陥を有する画素の位置を検出し、またマスクの孔の位置を検出する画像処理装置とを設け、画像処理装置の検出結果に基づき、ステージとマスク移動装置とを相対的に移動し、マスクの孔の位置を、カラーフィルタ基板の着色パターンに欠陥を有する画素の位置と一致させて、着色パターンに欠陥を有する画素の周囲をマスクで覆い、欠陥が異物であるか色抜けであるかに関わらず、かつ異物の大きさ及び高さ又は色抜けの大きさに関わらず、着色パターンに欠陥を有する一画素全体の着色パターンをレーザー装置で切り取り、ステージとインク充填装置とを相対的に移動して、インク充填装置をレーザー装置が着色パターンを切り取った画素と対向させ、一画素分の量のカラーインクを、インク充填装置からレーザー装置が着色パターンを切り取った画素へ充填するものである。

欠陥が異物であるか色抜けであるかに関わらず、かつ異物の大きさ及び高さ又は色抜けの大きさに関わらず、着色パターンに欠陥を有する一画素全体の着色パターンをレーザー装置で切り取り、一画素分の量のカラーインクを、インク充填装置からレーザー装置が着色パターンを切り取った画素へ充填するので、従来の様に欠陥の種類や大きさ及び高さに応じて欠陥毎に作業内容を変更することなく、常に同じ作業内容で、着色パターンに欠陥を有する一画素全体の着色パターンの修正が行われる。各欠陥の修理に要する時間が一定となり、作業内容の変更に要する時間が無くなるので、カラーフィルタ全体で修正作業に要する時間が短くなる。また、着色パターンに欠陥を有する一画素全体の着色パターンをレーザー装置で切り取ることにより、充填に必要なカラーインクの量が常に一定となって作業条件が安定化し、修正作業の自動化が可能となる。

さらに、カラーフィルタ基板に形成されたカラーフィルタの画素の形状に対応した形状の孔を有するマスクと、マスクを移動するマスク移動装置と、カラーフィルタ基板の表面の画像を取得して画像信号を出力し、またマスクの画像を取得して画像信号を出力するセンサーと、センサーの画像信号を処理して、カラーフィルタ基板の着色パターンに欠陥を有する画素の位置を検出し、またマスクの孔の位置を検出する画像処理装置とを設け、画像処理装置の検出結果に基づき、ステージとマスク移動装置とを相対的に移動し、マスクの孔の位置を、カラーフィルタ基板の着色パターンに欠陥を有する画素の位置と一致させて、着色パターンに欠陥を有する画素の周囲をマスクで覆うことにより、光遮断用のブラックマトリクスや他の画素に損傷を与えることなく、レーザー装置による一画素全体の着色パターンの切り取りが短時間で容易に行われる。マスクは、カラーフィルタの画素の形状に応じて交換する。

本発明によれば、欠陥が異物であるか色抜けであるかに関わらず、かつ異物の大きさ及び高さ又は色抜けの大きさに関わらず、着色パターンに欠陥を有する一画素全体の着色パターンをレーザー装置で切り取り、一画素分の量のカラーインクを、インク充填装置からレーザー装置が着色パターンを切り取った画素へ充填することにより、各欠陥の修理に要する時間を一定にすることができ、作業内容の変更に要する時間を無くすことができるので、カラーフィルタの着色パターンの修正を短時間で行うことができる。また、着色パターンに欠陥を有する一画素全体の着色パターンをレーザー装置で切り取ることにより、充填に必要なカラーインクの量を常に一定にして作業条件を安定化することができるので、カラーフィルタの着色パターンの修正作業を自動化することができる。

さらに、カラーフィルタの画素の形状に対応した形状の孔を有するマスクと、マスクを移動するマスク移動装置と、カラーフィルタ基板の表面の画像を取得して画像信号を出力し、またマスクの画像を取得して画像信号を出力するセンサーと、センサーの画像信号を処理して、カラーフィルタ基板の着色パターンに欠陥を有する画素の位置を検出し、またマスクの孔の位置を検出する画像処理装置とを設け、画像処理装置の検出結果に基づき、ステージとマスク移動装置とを相対的に移動し、マスクの孔の位置を、カラーフィルタ基板の着色パターンに欠陥を有する画素の位置と一致させて、着色パターンに欠陥を有する画素の周囲をマスクで覆うことにより、光遮断用のブラックマトリクスや他の画素に損傷を与えることなく、着色パターンに欠陥を有する一画素全体の着色パターンをレーザー装置により短時間で容易に切り取ることができる。また、マスクを交換することにより、カラーフィルタの画素の形状に対応することができる。

図１は本発明の一実施の形態によるカラーフィルタの着色パターン修正装置の上面図、図２は同側面図、図３は同正面図である。着色パターン修正装置は、マスク２、ステージ１０、ベース１１、Ｘガイド１２、ゲート１３、Ｙガイド１４、Ｙ移動ベース１５、Ｚガイド１６、Ｚ移動ベース１７、光源２１、対物レンズ２２、ＣＣＤセンサー２３、マスク移動装置２４、レーザー装置３０、及びインク充填装置４０を含んで構成されている。

なお、以下に説明する実施の形態におけるＸＹ方向は例示であって、Ｘ方向とＹ方向とを入れ替えてもよい。

図１〜図３において、表面に光遮断用のブラックマトリクスとカラー表示用のＲ、Ｇ、Ｂの着色パターンが形成され、検査装置による検査で着色パターンに異物又は色抜けの欠陥が検出されたカラーフィルタ基板１が、ステージ１０に搭載されている。ステージ１０は、ベース１１上に設けられたＸガイド１２に搭載されており、図示しないボールねじ及びモータ等の移動機構により、Ｘガイド１２に沿ってＸ方向へ移動する。

ベース１１上には、ステージ１０をまたいでゲート１３が設けられている。図１及び図３において、ゲート１３の水平部分の側面にはＹガイド１４が設けられ、Ｙガイド１４にはＹ移動ベース１５が搭載されている。Ｙ移動ベース１５は、図示しないボールねじ及びモータ等の移動機構により、Ｙガイド１４に沿ってＹ方向へ移動する。図１及び図２において、Ｙ移動ベース１５にはＺガイド１６が設けられ、Ｚガイド１６にはＺ移動ベース１７が搭載されている。Ｚ移動ベース１７は、図示しないボールねじ及びモータ等の移動機構により、Ｚガイド１６に沿ってＺ方向へ移動する。

図１〜図３において、Ｚ移動ベース１７には、レーザー装置３０及びインク充填装置４０が取り付けられている。レーザー装置３０は、後述するレーザー制御装置３１の制御により、ステージ１０に搭載されたカラーフィルタ基板１へレーザー光を照射し、カラーフィルタ基板１の着色パターンを切り取る。インク充填装置４０は、Ｒ、Ｇ、Ｂのカラーインクを収容したインクタンクを有し、後述する主制御装置５０の制御により、ステージ１０に搭載されたカラーフィルタ基板１へカラーインクを充填する。

図１及び図２において、レーザー装置３０の側面には、画像検出用の光源２１及びＣＣＤセンサー２３が取り付けられている。また、図２及び図３において、レーザー装置３０の底面には、対物レンズ２２が取り付けられている。光源２１から発生された光は、レーザー装置３０内のハーフミラーで反射され、対物レンズ２２を通ってカラーフィルタ基板１の表面へ照射される。カラーフィルタ基板１の表面で反射された光は、対物レンズ２２で集光され、レーザー装置３０内の別のハーフミラーで反射され、ＣＣＤセンサー２３の受光面へ照射される。ＣＣＤセンサー２３は、受光面で受光した光の強度に応じた画像信号を出力する。

図３において、レーザー装置３０の底面には、マスク移動装置２４が設けられ、マスク移動装置２４には、後述するマスク２が取り付けられている。マスク移動装置２４は、モータの回転により、マスク２を、対物レンズ２２の視野から外れた位置から、対物レンズ２２の真下の位置へ移動する。図２及び図３は、マスク２が対物レンズ２２の真下の位置にある状態を示している。

ステージ１０のＸ方向への移動、及びＹ移動ベース１５のＹ方向への移動により、ステージ１０とレーザー装置３０及びインク充填装置４０とが、相対的にＸＹ方向へ移動される。Ｚ移動ベース１７のＺ方向への移動により、対物レンズ２２が上下に移動して、ＣＣＤセンサー２３で受光される光の焦点が調節され、またレーザー装置３０からカラーフィルタ基板１の表面へ照射されるレーザー光の焦点が調節される。

なお、ステージ１０をＸＹ方向へ移動することにより、ステージ１０とレーザー装置３０及びインク充填装置４０とを相対的にＸＹ方向へ移動してもよく、また、レーザー装置３０及びインク充填装置４０をＸＹ方向へ移動することにより、ステージ１０とレーザー装置３０及びインク充填装置４０とを相対的にＸＹ方向へ移動してもよい。

図４は、本発明の一実施の形態によるカラーフィルタの着色パターン修正装置の制御系を示すブロック図である。制御系は、画像処理装置２０、レーザー制御装置３１、主制御装置５０、ステージ駆動回路５１、Ｙ移動ベース駆動回路５２、Ｚ移動ベース駆動回路５３、及びメモリ６０を含んで構成されている。

画像処理装置２０は、ＣＣＤセンサー２３の画像信号を処理して、カラーフィルタ基板１の着色パターンに欠陥を有する画素の位置を検出する。レーザー制御装置３１は、主制御装置５０からの指令に基づき、レーザー装置３０のレーザー光の出力を制御する。ステージ駆動回路５１は、ボールねじ及びモータ等から成るステージ移動機構５４を駆動する。Ｙ移動ベース駆動回路５２は、ボールねじ及びモータ等から成るＹ移動ベース移動機構５５を駆動する。Ｚ移動ベース駆動回路５３は、ボールねじ及びモータ等から成るＺ移動ベース移動機構５６を駆動する。主制御装置５０は、マスク移動装置２４、レーザー制御装置３１、インク充填装置４０、ステージ駆動回路５１、Ｙ移動ベース駆動回路５２、及びＺ移動ベース駆動回路５３を制御する。

以下、本発明の一実施の形態によるカラーフィルタの着色パターン修正方法について説明する。図４において、主制御装置５０は、まず、検査装置７０から、検出した欠陥の位置データを入力する。主制御装置５０は、また、メモリ６０に格納されているレーザー光の出力や充填するインクの量等の作業条件を入力する。次に、主制御装置５０は、マスク移動装置２４を制御して、マスク２を対物レンズ２２の視野から外れた位置へ退避させる。続いて、主制御装置５０は、入力した位置データに基づき、ステージ駆動回路５１及びＹ移動ベース駆動回路５２を制御して、レーザー装置３０がカラーフィルタ基板１の着色パターンに欠陥を有する画素と対向する様に、ステージ１０及びＹ移動ベース１４を移動させる。そして、主制御装置５０は、Ｚ移動ベース駆動回路５３を制御して、対物レンズ２２の焦点がカラーフィルタ基板１の表面に合う様に、Ｚ移動ベース１７を移動させる。

ＣＣＤセンサー２３は、カラーフィルタ基板１の表面の画像を取得し、画像信号を画像処理装置２０及び主制御装置５０へ出力する。画像処理装置２０は、ＣＣＤセンサー２３の画像信号を処理して、着色パターンに欠陥を有する画素の位置を検出する。続いて、主制御装置５０は、マスク移動装置２４を制御して、マスク２を対物レンズ２２の真下の位置へ移動させる。図５は、マスクの上面図である。マスク２は、マスク移動装置２４の回転により、破線で示す位置から、実線で示す位置へ移動される。マスク２は、カラーフィルタ基板１に形成されたカラーフィルタの画素の形状に対応した形状の孔３を有する。

ＣＣＤセンサー２３は、マスク２の画像を取得し、画像信号を画像処理装置２０及び主制御装置５０へ出力する。画像処理装置２０は、ＣＣＤセンサー２３の画像信号を処理して、マスク２の孔３の位置を検出する。主制御装置５０は、画像処理装置２０の検出結果により、マスク２の孔３の位置が、カラーフィルタ基板１の着色パターンに欠陥を有する画素の位置と一致していることを確認する。マスク２の孔３の位置が画素の位置とずれている場合は、ステージ駆動回路５１及びＹ移動ベース駆動回路５２を制御して、ステージ１０及びＹ移動ベース１４を再度移動させる。

マスク２の孔３の位置が、カラーフィルタ基板１の着色パターンに欠陥を有する画素の位置と一致していることを確認した後、主制御装置５０は、レーザー制御装置３１へレーザー光の出力を指定して、着色パターンの切り取りを指令する。レーザー装置３０は、レーザー制御装置３１の制御により、欠陥が異物であるか色抜けであるかに関わらず、かつ異物の大きさ及び高さ又は色抜けの大きさに関わらず、着色パターンに欠陥を有する一画素全体の着色パターンを切り取る。

マスク２は、レーザー装置３０が着色パターンに欠陥を有する一画素全体の着色パターンを切り取るとき、着色パターンに欠陥を有する画素の周囲を覆う。図５に符号４を付した破線は、レーザー装置３０から対物レンズ２２を透過してマスク２へ照射されるレーザー光の直径を示し、レーザー光の直径は孔３より大きい。マスク２へ照射されたレーザー光のうち、孔３を通過したレーザー光が、カラーフィルタ基板１の着色パターンに欠陥を有する画素へ照射され、着色パターンに欠陥を有する一画素全体がレーザーカットされる。着色パターンに欠陥を有する画素の周囲をマスク２で覆うことにより、光遮断用のブラックマトリクスや他の画素に損傷を与えることなく、レーザー装置３０による一画素全体の着色パターンの切り取りが短時間で容易に行われる。マスク２は、カラーフィルタの画素の形状に応じて交換する。

続いて、図４において、主制御装置５０は、ステージ駆動回路５１及びＹ移動ベース駆動回路５２を制御して、インク充填装置４０がレーザー装置３０が着色パターンを切り取った画素と対向する様に、ステージ１０及びＹ移動ベース１４を移動させる。そして、主制御装置５０は、インク充填装置４０を制御して、カラーフィルタ基板１へカラーインクを充填させる。このとき、インク充填装置４０は、主制御装置５０の制御により、一画素分の量のカラーインクを、レーザー装置３０が着色パターンを切り取った画素へ充填する。

欠陥が異物であるか色抜けであるかに関わらず、かつ異物の大きさ及び高さ又は色抜けの大きさに関わらず、着色パターンに欠陥を有する一画素全体の着色パターンをレーザー装置３０で切り取り、一画素分の量のカラーインクを、インク充填装置４０からレーザー装置３０が着色パターンを切り取った画素へ充填するので、従来の様に欠陥の種類や大きさ及び高さに応じて欠陥毎に作業内容を変更することなく、常に同じ作業内容で、着色パターンに欠陥を有する一画素全体の着色パターンの修正が行われる。各欠陥の修理に要する時間が一定となり、作業内容の変更に要する時間が無くなるので、カラーフィルタ全体で修正作業に要する時間が短くなる。また、着色パターンに欠陥を有する一画素全体の着色パターンをレーザー装置３０で切り取ることにより、充填に必要なカラーインクの量が常に一定となって作業条件が安定化し、修正作業の自動化が可能となる。

図６は本発明の他の実施の形態によるカラーフィルタの着色パターン修正装置の上面図、図７は同側面図、図８は同正面図である。図１〜図３に示した実施の形態では、落射照明を用いてカラーフィルタ基板１の表面の画像を取得しているが、本実施の形態では、透過照明を用いてカラーフィルタ基板１の表面の画像を取得する。図１〜図３の光源２１の代わりに、バックライト光源２５が、ステージ１０’の底部に設けられている。ステージ１０’には、バックライト光源２５の光が通過する開口１０’ａが設けられている。バックライト光源２５から発生された光は、ステージ１０’の開口１０’ａを通過して、カラーフィルタ基板１の裏面へ照射される。カラーフィルタ基板１の裏面へ照射された光は、カラーフィルタ基板１を透過し、対物レンズ２２で集光され、レーザー装置３０内のハーフミラーで反射されて、ＣＣＤセンサー２３の受光面へ照射される。その他の動作は、図１〜図３に示した実施の形態と同様である。

以上説明した実施の形態によれば、欠陥が異物であるか色抜けであるかに関わらず、かつ異物の大きさ及び高さ又は色抜けの大きさに関わらず、着色パターンに欠陥を有する一画素全体の着色パターンをレーザー装置３０で切り取り、一画素分の量のカラーインクを、インク充填装置４０からレーザー装置３０が着色パターンを切り取った画素へ充填することにより、各欠陥の修理に要する時間を一定にすることができ、作業内容の変更に要する時間を無くすことができるので、カラーフィルタの着色パターンの修正を短時間で行うことができる。また、着色パターンに欠陥を有する一画素全体の着色パターンをレーザー装置３０で切り取ることにより、充填に必要なカラーインクの量を常に一定にして作業条件を安定化することができるので、カラーフィルタの着色パターンの修正作業を自動化することができる。

さらに、カラーフィルタの画素の形状に対応した形状の孔３を有するマスク２を用いて、着色パターンに欠陥を有する画素の周囲を覆うことにより、光遮断用のブラックマトリクスや他の画素に損傷を与えることなく、着色パターンに欠陥を有する一画素全体の着色パターンをレーザー装置３０により短時間で容易に切り取ることができる。また、マスク２を交換することにより、カラーフィルタの画素の形状に対応することができる。

本発明の一実施の形態によるカラーフィルタの着色パターン修正装置の上面図である。本発明の一実施の形態によるカラーフィルタの着色パターン修正装置の側面図である。本発明の一実施の形態によるカラーフィルタの着色パターン修正装置の正面図である。本発明の一実施の形態によるカラーフィルタの着色パターン修正装置の制御系を示すブロック図である。マスクの上面図である。本発明の他の実施の形態によるカラーフィルタの着色パターン修正装置の上面図である。本発明の他の実施の形態によるカラーフィルタの着色パターン修正装置の側面図である。本発明の他の実施の形態によるカラーフィルタの着色パターン修正装置の正面図である。

符号の説明

１カラーフィルタ基板
２マスク
１０，１０’ ステージ
１１ベース
１２Ｘガイド
１３ゲート
１４Ｙガイド
１５Ｙ移動ベース
１６Ｚガイド
１７Ｚ移動ベース
２０画像処理装置
２１光源
２２対物レンズ
２３ＣＣＤセンサー
２４マスク移動装置
２５バックライト光源
２６ハーフミラー
３０レーザー装置
３１レーザー制御装置
４０インク充填装置
５０主制御装置
５１ステージ駆動回路
５２Ｙ移動ベース駆動回路
５３Ｚ移動ベース駆動回路
５４ステージ移動機構
５５Ｙ移動ベース移動機構
５６Ｚ移動ベース移動機構
６０メモリ
７０検査装置

Claims

着色パターンが形成され、着色パターンに異物又は色抜けの欠陥が検出されたカラーフィルタ基板を搭載するステージと、
前記ステージに搭載されたカラーフィルタ基板の着色パターンを切り取るレーザー装置と、
前記ステージに搭載されたカラーフィルタ基板へカラーインクを充填するインク充填装置と、
前記ステージと前記レーザー装置及び前記インク充填装置とを相対的に移動する移動手段と、
カラーフィルタ基板に形成されたカラーフィルタの画素の形状に対応した形状の孔を有するマスクと、
前記マスクを移動するマスク移動装置と、
カラーフィルタ基板の表面の画像を取得して画像信号を出力し、また前記マスクの画像を取得して画像信号を出力するセンサーと、
前記センサーの画像信号を処理して、カラーフィルタ基板の着色パターンに欠陥を有する画素の位置を検出し、また前記マスクの孔の位置を検出する画像処理装置と、
前記移動手段、前記レーザー装置及び前記インク充填装置を制御する制御手段とを備え、
前記制御手段は、前記レーザー装置がカラーフィルタ基板の着色パターンを切り取るとき、前記画像処理装置の検出結果に基づき、前記移動手段を制御し、前記マスクの孔の位置を、カラーフィルタ基板の着色パターンに欠陥を有する画素の位置と一致させて、着色パターンに欠陥を有する画素の周囲を前記マスクで覆い、
前記レーザー装置は、前記制御手段の制御により、欠陥が異物であるか色抜けであるかに関わらず、かつ異物の大きさ及び高さ又は色抜けの大きさに関わらず、着色パターンに欠陥を有する一画素全体の着色パターンを切り取り、
前記インク充填装置は、前記制御手段の制御により、一画素分の量のカラーインクを、前記レーザー装置が着色パターンを切り取った画素へ充填することを特徴とするカラーフィルタの着色パターン修正装置。
着色パターンが形成され、着色パターンに異物又は色抜けの欠陥が検出されたカラーフィルタ基板をステージに搭載し、
ステージとレーザー装置とを相対的に移動して、レーザー装置をカラーフィルタ基板の着色パターンに欠陥を有する画素と対向させ、
カラーフィルタ基板に形成されたカラーフィルタの画素の形状に対応した形状の孔を有するマスクと、マスクを移動するマスク移動装置と、カラーフィルタ基板の表面の画像を取得して画像信号を出力し、またマスクの画像を取得して画像信号を出力するセンサーと、センサーの画像信号を処理して、カラーフィルタ基板の着色パターンに欠陥を有する画素の位置を検出し、またマスクの孔の位置を検出する画像処理装置とを設け、
画像処理装置の検出結果に基づき、ステージとマスク移動装置とを相対的に移動し、マスクの孔の位置を、カラーフィルタ基板の着色パターンに欠陥を有する画素の位置と一致させて、着色パターンに欠陥を有する画素の周囲をマスクで覆い、
欠陥が異物であるか色抜けであるかに関わらず、かつ異物の大きさ及び高さ又は色抜けの大きさに関わらず、着色パターンに欠陥を有する一画素全体の着色パターンをレーザー装置で切り取り、
ステージとインク充填装置とを相対的に移動して、インク充填装置をレーザー装置が着色パターンを切り取った画素と対向させ、
一画素分の量のカラーインクを、インク充填装置からレーザー装置が着色パターンを切り取った画素へ充填することを特徴とするカラーフィルタの着色パターン修正方法。