JP5030009B2 - 発光装置 - Google Patents
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Description
しかしなら、積層基板と二次基板が異なる材料で形成されていると、熱膨張係数の相違により、半田クラックが生じて、接合が損傷するおそれがある。
また、電気的機械的接合に半田を用いると、多くの半田には、鉛成分が含有されていることから、環境汚染の心配もある。
なお、以下に述べる実施の形態は、本発明の好適な具体例であるから、技術的に好ましい種々の限定が付されているが、本発明の範囲は、以下の説明において特に本発明を限定する旨の記載がない限り、これらの形態に限られるものではない。
これらの図において、発光装置20は、ほぼ中央に貫通孔24を形成した絶縁性の基体30と、該基体30の貫通孔24内に上面が突出するように挿入された熱伝導率の高い放熱体40と、該放熱体40の上面に実装された発光素子21とを有している。そして、基体30の上部から露出した部分は透光性の封止部材50により封止されている。
また、前記発光素子21が実装され最も熱の影響を受ける前記放熱体40の上面を前記基体30より突出させていることから、前記基体30へかかる熱応力を抑制することができる。
貫通孔24の内径は上部で小さく、下部では大きい。すなわち、貫通孔24は階段状に拡径されており、下方の貫通孔24bの内径は上方の貫通孔24aの内径より大きい。この貫通孔24の内側が、後述する放熱体が挿入される空間とされている。すなわち、前記空間は、図2に示すように、略凸形状とされており、内側に下向き段部36を備えている。
なお、基体30および、後述する放熱体も正方形ではなく、円形その他の形状とすることもできる。
基体30を構成する材料としては、本実施形態では、セラミックスが選択されている。また、後述する係止部の態様により、放熱体40もセラミックスで形成した場合に、該放熱体40より熱伝導率の低いセラミックスにて形成することができる。このように、一般に高価とされる放熱性に優れたセラミック材料を使用する部分を放熱体40の部分に限定することで、大幅にコストを下げることができる。
なお、導電ペーストは、タングステンやモリブデンなど高融点金属を樹脂バインダーに含有させたペースト状の材料であり、例えばスクリーン印刷などの手法により焼結前のグリーンシート成形物に塗布し、セラミックス材料の焼結とともに、メタライズ部を形成することができるものである。
この放熱体40は、図2に示すように、基体30の開口部37の内径よりもわずかに小さな外形を備えた基部である第1の部分41と、第1の部分41よりも小さな外形であって、貫通孔24の内径よりも僅かに小さな外形を備えた第2の部分42とを有している。
係止部11の外径は、発光装置20が実装される二次基板10の取付け孔13の内径と対応している。なお二次基板10の該取付け孔13には予め雌ネジ部が形成されている。
そして、図2に示すように、第1部分41の下面と、基体30の下面は同一面とされることが好ましく、実装端子34は、導電部の厚みh1の寸法だけ、第1部分41の下面よりも下方に突出している。
以上の構成の放熱体40が、基体30の貫通孔24の内側に収容された状態で、放熱体40の上向き段部43と、基体30の下向き段部36の間に、高強度の接着が可能な硬ロウ材料や共晶材料などの接着部材45を適用して固定されている。具体的な堅ロウ材料として、銀と銅の合金を主原料とする銀ロウや、銅と亜鉛の合金が主材料である真鍮ロウ、アルミニウムが主原料であるアルミニウムロウ、ニッケルロウなどをあげることができる。
各発光素子は図1に示すように、それぞれ陽極と陰極に区分された電極パッド33に対してワイヤボンディングされることにより電気的に接続されており、このようにして、発光素子21が実装されている。
ただし、発光素子21の生成する光が外部に効率良く取り出されるように、封止部材50は、光を透過する材料でなければならない。
さらに、透明な封止部材50には、視野角を増加するためチタン酸バリウム、酸化チタン、酸化アルミニウム、酸化珪素等の拡散剤を混入してもよい。
また、封止部材50には、特定の波長をカットするための着色料を混入させてもよい。 さらには、LEDチップからの青色系の光を一部吸収して補色となる黄色系の光を発するYAG:Ce蛍光体などの蛍光物質を含有させることにより、白色系の光を発光することが可能な高出力なLEDを形成することができる。
この場合、基体30の下面に形成した実装端子34が、二次基板10の表面に予め形成された電極端子15に押し付けられることにより、発光装置20と二次基板10の電気的接続がなされる。
すなわち、発光装置20の係止部11を二次基板10の取付け孔13に螺合させるだけで、機械的結合と、電気的結合が同時に、しかも簡単に実現できる。
また、この場合、発光装置20の実装に半田を用いていないので、基体30と二次基板10の材料の相違に基づく熱膨張係数の相違により、温度環境の変化で半田クラックが発生して、実装部分が損傷する不都合がない。
さらに、半田を利用しない実装なので、半田に含まれる鉛成分で環境を汚損することもなく、実装作業自体もきわめて簡単である。
これらの図において、第1の実施形態と同一の符合を付した箇所は共通する構成であるから、重複する説明は省略し、以下、相違点を中心に説明する。
発光装置20−1は、基体30−1と放熱体40−1がともに円形である。
基体40−1の上面には、複数の発光素子20−1,20−2(図示の場合2個)が接合されている。基体30の上面39には、異なる種類の電極パッド33−1,33−2が形成されており、これらに対して、対応する発光素子20−1,20−2がワイヤボンディングにより接続されることで、各別に駆動され、別々に発光できるようにされている。
これにより、本実施形態によれば、係止部11を後述する二次基板の取付け孔に挿入して、螺合させた際に、二次基板の電極パッドと接続されるべき基体30−1の下面の実装端子34−1,34−2は、それぞれ同心円状に、リング状に形成されているので、その回転位置のいずれの箇所においても、電気的接続をすることができる。
図示されているように、二次基板10−1は、アルミニウムや銅などでなる金属層16の上に絶縁層17を積層したものである。絶縁層17の表面には、銅箔などによりパターン形成した互いに異なる種類の電極端子15−1,15−2が形成されている。
そして、上述したように、発光装置20−1の係止部11を二次基板11−1の取付け孔13に挿入して、螺合させる。これにより、二次基板10−1の互いに異なる種類の電極端子15−1,15−2に対して、発光装置20−1の対応する実装端子34−1,34−2が、電気的に接続される。この場合、係止部11の回転位置のいずれの箇所においても、確実な電気的接合を得ることができる。
この場合、本体61は、熱伝導性の良好な金属もしくはセラミックス材料で形成されている。本体61は、大きく、かつ多くのフィン62を有しているので、効率よく放熱することができる。
これらの図において、第1の実施形態と同一の符合を付した箇所は共通する構成であるから、重複する説明は省略し、以下、相違点を中心に説明する。
一方、二次基板10−2には、ボス18,18を挿通させる貫通孔19a,19aが形成されており(図9参照)、この通過用の貫通孔19a,19aを通ることで、図8に示すように係止部11−1を二次基板10−2の取付け孔13に挿通させる。
この状態において、二次基板10−2の各電極端子15と基体30の実装端子34が当接して、電気的に接続される。
このような点から、本実施形態において、セラミックス製の放熱体40を、窒化珪素(Si3N4)で形成する場合には、熱伝達率が70乃至80(W/m2h℃)と、比較的高く、放熱性に優れるとともに、可撓性があることで、成形性、加工性に優れている点を利用して製造が容易となる。
また、放熱体40を、窒化アルミニウム(AlH)により形成すると、その200(W/m2h℃)を超える良好な熱伝導率により、特に放熱機能に優れた発光装置を得ることができる。
また、放熱体40を、金属浸透複合材料(Al/C、Al/SiC、Cu/Moなど)により形成すると、150−350(W/m2h℃)の高い熱伝達率を有するだけでなく、成形性・加工性にも優れているという利点がある。
また、本実施形態では、反射金属膜23が発光素子21からの光を反射する機能を有している。このため、透明もしくは光透過性(窒化アルミニウム)、あるいは基本的には多孔質材料であるセラミックスからなる放熱体に、放熱性を低下させる原因となる白色顔料などを含有させなくても、高い放熱性と光取り出し効率とを兼ね備えた発光装置を得ることができる。この反射金属膜23は、以下の構成を考慮して形成する。
ここで、表示用のカラーディスプレイに用いる発光装置として利用するためには、赤色系発光素子と、緑色系発光素子とともに、発光波長が430nmから490nmである青色系発光素子を用いることが必要である。また、図1のように、同色発光の発光素子を複数個用いることもできる。このような発光素子21としては、広く用いられているものを利用することができるが、青色系発光素子としては、InGaNの半導体を発光層として形成した発光ダイオード(LED)を好適に利用することができる。
このような金属膜としては、金、アルミニウム、銀、パラジウム、ロジウムなどを主成分とする合金からなる反射金属膜23を形成することが好ましい。金は波長430nmか面44に対して、スパッタリングや、ニッケルの下地を形成後にメッキすることなどにより形成することができる。
アルミニウムは波長430nmから490nmの光に対して、ほぼ92パーセントの反射率を有しており、放熱体40の上面44に対して、スパッタリングなどにより形成することができ、金等よりも安価である。
また、銀は波長430nmから490nmの光に対して、ほぼ96パーセントの反射率を有しており、放熱体40の上面44に対して、スパッタリングやニッケルの下地を形成後にメッキすることなどにより形成することができる。あるいは銀ペーストなどによるメタライズを形成することによっても形成可能である。
硫化防止膜の膜厚は、3〜22nmとすることが好ましい。3nm以上あれば、スパッタリングにより形成された膜がほぼ均一になるので硫化防止機能を発揮するが、これよりも薄いと、部分的に欠陥を生じる確率が急に高くなってしまう。また、22nmを超えると、膜厚の増加と共に反射金属膜23の反射率が低下してしまう。
Claims (7)
- 貫通孔を有する絶縁性の基体と、
前記基体より高い熱伝導率を有し、前記貫通孔から上面が突出するように挿入された放熱体と、
前記放熱体の上面に実装された発光素子と
を有し、
前記絶縁性の放熱体の下端が前記基体の下端よりも突出しており、該放熱体の下端に、実装対象に対して直接接触する係止部が形成されていて、
該係止部にて前記実装対象に係止した状態で、前記基体下面に形成した実装端子と、前記実装対象の電極端子とが当接して導通される構成とされ、
前記実装端子が、前記基体の下面に同心円状に形成した導電パターンとされており、
前記同心円状の実装端子が、前記発光素子に対応して、互いに極性の異なる別々の導電パターンとされている
ことを特徴とする発光装置。 - 前記係止部が前記実装対象である二次基板に形成した取付け孔と螺合可能なネジ部であることを特徴とする請求項1
に記載の発光装置。 - 前記係止部が前記放熱体の下端において外方に突出するボスであり、前記実装対象である二次基板の凹部に挿入固定される構成としたことを特徴とする請求項1
に記載の発光装置。 - 前記基体および/ または前記放熱体がセラミックス、合成樹脂、もしくは有機物に無機物が含有されたハイブリッド材料のいずれかの材料で形成されていることを特徴とする請求項1ないし3のいずれかに記載の発光装置。
- 前記発光素子として個々に点灯される複数の発光素子を備えていることを特徴とする請求項1ないし4のいずれかに記載の発光装置。
- 前記放熱体が、窒化アルミニウム、シリコンカーバイド、もしくは炭化アルミニウムのいずれかの材料により形成されていることを特徴とする請求項4または5のいずれかに記載の発光装置。
- 前記放熱体が、第1の部分と、前記第1の部分の上方に、前記第1の部分よりも小さな外形を備えた第2の部分とを有しており、前記第1の部分の下面が、前記二次基板の上面に当接される構成としたことを特徴とする請求項3ないし6のいずれかに記載の発光装置。
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