JP5029864B2 - 成膜方法 - Google Patents
成膜方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP5029864B2 JP5029864B2 JP2006137781A JP2006137781A JP5029864B2 JP 5029864 B2 JP5029864 B2 JP 5029864B2 JP 2006137781 A JP2006137781 A JP 2006137781A JP 2006137781 A JP2006137781 A JP 2006137781A JP 5029864 B2 JP5029864 B2 JP 5029864B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- aerosol
- substrate
- film
- spraying
- potential
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
Images
Landscapes
- Application Of Or Painting With Fluid Materials (AREA)
- Physical Vapour Deposition (AREA)
- Other Surface Treatments For Metallic Materials (AREA)
Description
特に、容器に収容された材料粒子にキャリアガスを吹き付けつつ、この容器に加振装置による振動を加えてエアロゾルを発生させる機構を備えたものでは、振動の振動数またはキャリアガスの流量を調整することにより、容易にエアロゾル濃度を調整することができる。
また、粒子は帯電するものであれば良く、セラミックス(例えばPZT、アルミナ)等の無機粉体、または樹脂等の有機粉体を使用できる。
また、キャリアガスとしてはエアロゾルデポジション法に通常に用いられるものであれば特に制限はなく、例えばヘリウム、窒素、酸素、空気等が使用できる。
以下、本発明を具体化した参考例について、図1を参照しつつ詳細に説明する。
図1には、本発明を具体化した成膜装置1を示す。この成膜装置1は、材料粒子Mをキャリアガスに分散させてエアロゾルZを形成するエアロゾル発生部10、およびエアロゾルZを噴射ノズル23から噴出させて金属基板B1に付着させるための成膜チャンバ20を備えている。
また、このエアロゾル室11には、エアロゾル供給管13(本発明のエアロゾル送出経路に該当する)の一方の端部が挿入されている。
以下、本発明の第1実施形態について、図2を参照しつつ説明する。
本実施形態の成膜装置30には、成膜チャンバ20内においてステージ21の側方に、検査用基板31が設置されている。この検査用基板31はステンレス等の導電性材料により形成されたものであって、電位測定のための電圧計24が接続されている。また、噴射ノズル23は、この検査用基板31−ステージ21間を移動可能とされている。その余の構成は参考例と同様であるので同一の符号を付して説明を省略する。
次に、参考例と同様にして、エアロゾル発生部10でエアロゾルZを発生させる(エアロゾル発生工程)。
以下、試験例を挙げて本発明をさらに詳細に説明する。
基板としては、長さ30mm、幅15mm、厚さ0.2mmのSUS430基板を用いた。また、材料粒子としてはアルミナ(昭和電工製 160SG−3)を用いた。
塩化ビニル粘着テープ上に基板を貼り付けて固定し、この基板に電圧計を接続した。この基板の表面に、上記参考例と同様の構成の成膜装置を用いて成膜を行った。成膜は、電圧計により基板電圧をモニタリングしつつ、噴射ノズルを基板の長さ方向に沿って複数回往復走査しながら材料粒子のエアロゾルを吹き付けることにより行った。キャリアガスとしてはヘリウムガスを使用し、ガス供給管側、流量調整管側の2台のマスフローコントローラによってキャリアガスの流量を制御することにより、2台のマスフローコントローラから吐出されるキャリアガスの流量の合計が常に一定となるように調整した。またノズルスキャン速度を50mm/min、ノズル−基板間距離を12mm、成膜チャンバ内の気圧を100Pa、噴出ノズルからのエアロゾルガス流量を8.6L/minとした。なお、電圧計としては株式会社キーエンス製 データ収拾システム NR1000を、マスフローコントローラとしては株式会社堀場エスペック製 マスフローコントローラ SEC−E50を用いた。
成膜後、形成された膜の厚さを株式会社東京精密製 サーフコム 1400Dにより測定した。
試験例1と同様の条件で成膜を行った。
表2には、試験を行った8つのサンプルについての基板電圧、膜厚の測定値、走査往復回数、2台のマスフローコントローラ(ガス供給管側をA、流量調整管側をBとする)から吐出されるキャリアガスの流量、および一往復走査当たりの膜厚(膜厚の測定値を往復走査回数で除した値)を示した。また、基板電圧と一往復走査当たりの膜厚との関係を示すグラフを図6に示した。
(1)参考例においては基板として金属基板B1を用いたが、基板の材質は金属でなくてもよく、例えばシリコンであっても構わない。
10…エアロゾル発生部
11…エアロゾル室(容器)
12…超音波加振装置(エアロゾル濃度制御機構)
13…エアロゾル供給管(エアロゾル送出経路)
14…ガス供給管(第1のガス供給部)
15A…マスフローコントローラ(第1のバルブ部、エアロゾル濃度制御機構)
15B…マスフローコントローラ(第2のバルブ部、エアロゾル濃度制御機構)
16…流量調整管(第2のガス供給部)
23…噴射ノズル
24…電圧計(電位測定機構)
25…コントローラ(バルブ制御部、エアロゾル濃度制御機構)
B1…金属基板(基板)
M…材料粒子
Z…エアロゾル
Claims (1)
- キャリアガスに材料粒子を分散させてエアロゾルを発生させるエアロゾル発生工程と、
前記エアロゾルを噴射ノズルから噴出させて基板に吹き付けることにより前記材料粒子を前記基板上に付着させて膜を形成する膜形成工程と、を含む成膜方法であって、
前記膜形成工程が、
前記基板とは別に設けた検査用基板に前記エアロゾルを吹き付けつつ前記検査用基板の電位を測定する仮成膜工程と、
前記仮成膜工程によって得られた測定結果に基づいて前記エアロゾルの吹き付け条件が予め定めた本成膜条件に合致するか否かを判定する判定工程と、
前記本成膜条件に従って前記基板に前記エアロゾルを吹き付ける本成膜工程と、
を含むものである成膜方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2006137781A JP5029864B2 (ja) | 2006-05-17 | 2006-05-17 | 成膜方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2006137781A JP5029864B2 (ja) | 2006-05-17 | 2006-05-17 | 成膜方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2007308748A JP2007308748A (ja) | 2007-11-29 |
JP5029864B2 true JP5029864B2 (ja) | 2012-09-19 |
Family
ID=38841883
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2006137781A Expired - Fee Related JP5029864B2 (ja) | 2006-05-17 | 2006-05-17 | 成膜方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP5029864B2 (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US20210086214A1 (en) * | 2019-09-24 | 2021-03-25 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Processing system, processing method, and storage medium |
Family Cites Families (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP4664054B2 (ja) * | 2004-12-09 | 2011-04-06 | 富士フイルム株式会社 | 成膜装置 |
-
2006
- 2006-05-17 JP JP2006137781A patent/JP5029864B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US20210086214A1 (en) * | 2019-09-24 | 2021-03-25 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Processing system, processing method, and storage medium |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2007308748A (ja) | 2007-11-29 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US7186296B2 (en) | Film formation apparatus | |
Mishra et al. | High-speed and drop-on-demand printing with a pulsed electrohydrodynamic jet | |
KR20200114363A (ko) | 금속나노입자와 탄소나노튜브 혼합물의 직접 인쇄에 기반한 고감도 유연성 스트레인 센서 및 이를 제조하는 방법 | |
JPWO2012081053A1 (ja) | 成膜方法 | |
JP5029864B2 (ja) | 成膜方法 | |
JPH0836184A (ja) | 微粒子分散装置 | |
JP2006200013A (ja) | 成膜方法及び成膜装置 | |
JP2006326523A (ja) | 成膜方法、該成膜方法により形成された圧電膜、および該圧電膜を備えた圧電素子、ならびに該圧電素子を用いたインクジェット装置 | |
JP2009161805A (ja) | エアロゾルデポジション法を用いた成膜方法及び成膜装置 | |
JP2001348659A (ja) | セラミック構造物作製装置 | |
Shan et al. | Spray characteristics of an ultrasonic microdroplet generator with a continuously variable operating frequency | |
JP4590594B2 (ja) | エアロゾルデポジッション成膜装置 | |
JP2007213841A (ja) | 電極製造方法 | |
JP4866088B2 (ja) | 成膜方法 | |
JP5656036B2 (ja) | 複合構造物 | |
US7472850B2 (en) | Ultrasonic standing-wave atomizer arrangement | |
JP2009209413A (ja) | エアロゾルデポジション法の最適実施条件の選定方法、及び成膜方法 | |
JP4741447B2 (ja) | 成膜方法及び成膜装置 | |
JP4736022B2 (ja) | 複合構造物形成システム及び形成方法 | |
JP7161197B2 (ja) | エアロゾル生成装置及びこれを備えた成膜装置 | |
KR20210127066A (ko) | 성막 장치 | |
JP2009185374A (ja) | 複合構造物形成装置および複合構造物の形成方法 | |
JP3994895B2 (ja) | 複合構造物形成装置 | |
JP2008240052A (ja) | 成膜装置及び成膜方法 | |
JP2006241544A (ja) | 微粒子成膜法及び微粒子成膜装置 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20090326 |
|
RD02 | Notification of acceptance of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7422 Effective date: 20091013 |
|
RD04 | Notification of resignation of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7424 Effective date: 20091013 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20111026 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20111101 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20111220 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20120531 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20120613 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20150706 Year of fee payment: 3 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |