JP5007544B2 - 有機半導体素子用基板、有機トランジスタ付基板、および、これらが用いられた有機半導体素子 - Google Patents
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しかしながら、このようなパッシベーション層を形成したとしても、なお、上記有機半導体材料の経時劣化を十分に防止できるには至っていない。また、上述したように上記有機半導体材料は、他の化合物との作用によってもその半導体としての性質が損なわれる場合があるため、特許文献1のように、有機半導体層上にパッシベーション層を形成すると、パッシベーションの膜応力により有機半導体層が破壊されたり、あるいは、パッシーション層を形成する工程において上記有機半導体層に高温がかかることにより、有機半導体層の半導体性能の劣化を引き起こすという問題点がある。さらに、上記パッシベーション層は、上記有機半導体層に接することになるため、これが原因で有機半導体材料が破壊されたり、経時でその半導体としての性質が損なわれるという問題点もある。
このようなことから、本発明の有機トランジスタ付基板によれば性能の経時安定性に優れた有機半導体素子を製造することができる。
以下、本発明の有機半導体素子用基板、有機トランジスタ付基板、および、有機半導体素子について順に説明する。
まず、本発明の有機半導体素子用基板について説明する。本発明の有機半導体素子用基板は、基板と、上記基板上に形成された透明電極と、上記透明電極上に形成され、開口部を有する枠状の有機トランジスタ保護用隔壁部とを有することを特徴とするものである。
図1(a)、(b)に例示するように、本発明の有機半導体素子用基板10は、基板1と、上記基板1上に形成された透明電極2と、上記透明電極2上に形成され、開口部を有する枠状の有機トランジスタ保護用隔壁部3とを有するものである。
本発明の有機半導体素子用基板は、通常、基板と、上記基板上に形成された複数の有機トランジスタを有するトランジスタ側基板と対向配置することによって有機半導体素子を製造するために用いられるものである。
こうして製造された有機半導体素子40Aは、上記有機トランジスタ保護用隔壁部3の開口部の内側に、上記有機トランジスタ32が収納された状態となる。このため、本発明の有機半導体素子10を用いて製造した有機半導体素子40Aにおいては、有機トランジスタ32に他の化合物が接触すること等によって、経時で性能が損なわれてしまうことを防止できる。
したがって、例えば、図3に例示するように、上記有機半導体素子用基板10と、上記トランジスタ側基板30との間に液晶材料41を充填することにより、上記有機半導体素子40Aを用いて液晶表示素子を作製した場合であっても、上記有機トランジスタ32に液晶材料41が接することにより、上記有機トランジスタの性能が経時で損なわれしまうことを防止することができる。
このようなことから、本発明の有機半導体素子用基板によれば、性能の経時安定性に優れた有機半導体素子を製造することができる。
以下、本発明の有機半導体素子用基板に用いられる各構成について順に説明する。
まず、本発明に用いられる有機トランジスタ保護用隔壁部について説明する。本発明に用いられる有機トランジスタ保護用隔壁部は、後述する透明電極上に形成されるものであり、開口部を有する枠状の形状を有するものである。また、本発明に用いられる有機トランジスタ保護用隔壁部は、本発明の有機半導体素子用基板を用いて製造される有機半導体素子において、有機トランジスタが経時劣化することを防止する保護機能を有するものである。さらに、本発明に用いられる有機トランジスタ保護用隔壁部は、本発明の有機半導体素子用基板を用いて製造される有機半導体素子において、本発明の有機半導体素子用基板に対向するように配置される基板との間隔を制御する機能を有するものである。
以下、このような有機トランジスタ保護用隔壁部について詳細に説明する。
例えば、本発明の有機半導体素子用基板を強誘電性液晶を用いた液晶表示装置を作製するために用いる場合、上記高さは0.5μm〜2.5μmの範囲内であることが好ましく、特に1μm〜2μmの範囲内であることが好ましい。また、強誘電性液晶ではなく、他の液晶が用いられた液晶表示装置を作製するために用いる場合、上記高さは2μm〜10μmの範囲内であることが好ましく、なかでも5μm〜7μmの範囲内であることが好ましい。さらに、本発明の有機半導体素子用基板を電子ペーパーを作製するために用いる場合、上記高さは、10μm〜300μmの範囲内であることが好ましく、特に30μm〜100μmの範囲内であることが好ましい。
また、フォトリソグラフィー法では、上述の2P法で例示したような材料を基材上に塗布し、有機トランジスタ保護用隔壁部形成用の所望のフォトマスクを介して塗布膜を露光した後、現像することにより有機トランジスタ保護用隔壁部を形成することができる。
なお、上記の(メタ)アクリレートとは、アクリレートあるいはメタクリレートを意味するものとする。
次に、本発明に用いられる透明電極について説明する。本発明に用いられる透明電極は、後述する基板上に形成されたものである。また、本発明に用いられる透明電極は、本発明の有機半導体素子用基板を用いて製造した有機半導体素子をディスプレイ装置に用いる場合に、各画素の発光強度を制御する電極として機能するものである。
次に、本発明に用いられる基板について説明する。本発明に用いられる基板は上記透明電極および上記有機トランジスタ保護用隔壁部を支持するものである。
以下、このような基板について詳細に説明する。
ここで、基板の透過率は、JIS K7361−1(プラスチックー透明材料の全光透過率の試験方法)により測定することができる。
なお、本発明に用いられる基板が複数の層が積層された構成を有するものである場合、上記厚みは各層の厚みを合計した基板全体としての厚みを指すものとする。
ここで、上記表面粗さは、原子間力顕微鏡(AFM:ATOMIC FORCE MICROSCOPE)またはレーザー干渉形式形状測定機により測定することができる。
本発明の有機半導体素子用基板は、上記有機トランジスタ保護用隔壁部、透明電極、および、基板以外に他の構成を有するものであってもよい。このような他の構成としては特に限定されるものではなく、本発明の有機半導体素子用基板を用いて製造する有機半導体素子の用途等に応じて任意の機能を備える構成を用いることができる。
なかでも本発明に好適に用いられる他の構成としては、上記基板と上記透明電極との間に形成され、複数の着色層を有するカラーフィルター層、上記透明電極上に形成され、液晶材料に対して配向規制力を有する配向層、および、上記透明電極上に形成されるスペーサー部を挙げることができる。
以下、このようなカラーフィルター層、配向層、および、スペーサー部について順に説明する。
まず、上記カラーフィルター層について説明する。本発明に用いられるカラーフィルター層は、上記基板と上記透明電極との間に形成され、複数の着色層を有するものである。このようなカラーフィルター層を有することにより、本発明の有機半導体素子用基板を用いて、カラーフィルター方式の液晶表示装置に好適に用いられる有機半導体素子を製造することができる。
なお、図5に例示するように、本発明の有機半導体素子用基板10’にカラーフィルター層4が形成されている場合、通常、有機トランジスタ保護用隔壁部3は上記着色層4a’、4a’’、4a’’’の境界上に形成されることになる。
また、図5に例示するように、本発明に用いられるカラーフィルター層4は、上記着色層4aを覆うようにオーバーコート層4bが形成されているものであってもよい。
本発明に用いられるカラーフィルター層が有する着色層としては、本発明の有機半導体素子用基板を用いて製造する有機半導体素子の用途に応じて、所望の色を発色できるものであれば特に限定されるものではない。このような着色層としては、一般的に液晶表示装置用のカラーフィルターに用いられている各色の着色層を用いることができる。なかでも本発明においては、通常、R、G、Bの3色からなる複数の着色層が用いられる。
本発明に用いられるカラーフィルター層は、少なくとも上述した着色層を有するものであるが、必要に応じて上記着色層以外の他の構成を有するものであってもよい。このような他の構成としては特に限定されるものではなく、本発明の有機半導体素子用基板を用いて製造する有機半導体素子の用途等に応じて任意の機能を備えるものを用いることができる。なかでも本発明においては、このような他の構成として上述した着色層の境界に形成される遮光部を有することが好ましい。このような遮光部を有することにより、本発明の有機半導体素子用基板を用いて製造した有機半導体素子において、有機トランジスタに光が照射されることによって誤作動が起こることを防止できるからである。
次に、本発明に用いられる配向層について説明する。本発明に用いられる配向層は、上記透明電極上に形成されるものであり、液晶材料に対して配向規制力を有するものである。このような配向層が形成されていることにより、本発明の有機半導体素子用基板を用いて製造される有機半導体素子を、液晶表示装置に好適に用いられるものにできる。
なお、本発明に用いられる上記ラビング膜および上記光配向膜については、一般的に液晶表示装置に用いられるラビング膜および光配向膜として公知のものを用いることができるため、ここでの詳しい説明は省略する。
次に、本発明に用いられるスペーサー部について説明する。本発明に用いられるスペーサー部は、上記透明電極上に形成されるものである。また、本発明に用いられるスペーサー部は、本発明の有機半導体素子用基板を用いて製造される有機半導体素子において、上記有機半導体素子用基板と、当該有機半導体素子用基板に対向して配置される基板との間隔を均一に保持する機能を有するものである。
図9(a)に例示するように本発明の有機半導体素子用基板10’’’は、上記透明電極2上にスペーサー部6が形成されているものであってもよい。
また、図9(b)に例示するように、本発明の有機半導体素子用基板10’’’にスペーサー部6が形成されている場合、上記スペーサー部6は、通常、有機トランジスタ保護用隔壁部3と同一の高さに形成される。
次に、本発明の有機半導体素子用基板の製造方法について説明する。本発明の有機半導体素子用基板の製造方法としては、上記構成を有する有機半導体素子用基板を製造できる方法であれば特に限定されるものではない。このような製造方法としては、例えば、上記基板を用い、上記基板上に透明電極を形成する透明電極形成工程と、上記透明電極上に上記有機トランジスタ保護用隔壁部を形成する有機トランジスタ保護用隔壁部形成工程とからなる方法を例示することができる。
次に、本発明の有機トランジスタ付基板について説明する。本発明の有機トランジスタ付基板は、基板と、上記基板上に形成された複数の有機トランジスタと、上記基板上に、上記有機トランジスタを囲うように形成され、開口部を有する枠状の有機トランジスタ保護用隔壁部とを有することを特徴とするものである。
図10(a)、(b)に例示するように、本発明の有機トランジスタ付基板20は、基板21と、上記基板21上に形成された、複数の有機トランジスタ22と、上記基板21上に、上記有機トランジスタ22を囲うように形成され、開口部を有する枠状の有機トランジスタ保護用隔壁部23とを有するものである。
このようなことから、本発明の有機トランジスタ付基板によれば性能の経時安定性に優れた有機半導体素子を製造することができる。
本発明の有機トランジスタ付基板は、通常、基板と、上記基板上に形成された透明電極を有する対向基板と対向配置することによって、有機半導体素子を製造するために用いられるものである。
こうして製造された有機半導体素子40Bは、上記有機トランジスタ保護用隔壁部23の開口部の内側に、上記有機トランジスタ22が密封された状態となる。このため、本発明の有機トランジスタ付基板20を用いて製造した有機半導体素子40Bは、有機トランジスタ22に他の化合物が接触すること等によって、経時で性能が損なわれてしまうことを防止できる。
このようなことから、本発明の有機トランジスタ付基板によれば、性能の経時安定性に優れた有機半導体素子を製造することができる。
以下、本発明の有機トランジスタ付基板に用いられる各構成について詳細に説明する。
まず、本発明に用いられる有機トランジスタ保護用隔壁部について説明する。本発明に用いられる有機トランジスタ保護用隔壁部は、後述する基板上に、有機トランジスタを囲うように形成されるものであり、開口部を有する枠状の形状を有するものである。また、本発明に用いられる有機トランジスタ保護用隔壁部は、本発明の有機トランジスタ付基板を用いて製造された有機半導体素子において有機トランジスタが経時劣化することを防止する保護機能を有するものである。さらに、本発明に用いられる有機トランジスタ保護用隔壁部は、本発明の有機トランジスタ付基板を用いて製造される有機半導体素子において、本発明の有機トランジスタ付基板に対向するように配置される基板との間隔を制御する機能を有するものである
以下、このような有機トランジスタ保護用隔壁部について詳細に説明する。
次に、本発明に用いられる有機トランジスタについて説明する。本発明に用いられる有機トランジスタは、有機半導体材料が用いられたものである。
以下、このような有機トランジスタについて説明する。
まず、本発明に用いられる有機半導体層について説明する。本発明に用いられる有機半導体層は、有機半導体材料からなるものである。
次に、本発明に用いられるゲート絶縁層について説明する。本発明に用いられるゲート絶縁層は、絶縁性材料によって構成されるものである。
次に、本発明に用いられるソース電極およびドレイン電極について説明する。本発明に用いられるソース電極およびドレイン電極は、上記有機半導体層と接するように形成されるものである。
次に、本発明に用いられるゲート電極について説明する。本発明に用いられるゲート電極は、上記ゲート絶縁層上に形成されるものである。
ここで、本発明に用いられるゲート電極については一般的に有機トランジスタに用いられるものと同様であるため、ここでの詳しい説明は省略する。
本発明に用いられる有機トランジスタは、上記ゲート絶縁層、有機半導体層、ソース電極、ドレイン電極、および、ゲート電極以外に他の構成を有するものであってもよい。このような他の構成としては、本発明の有機トランジスタ付基板を用いて製造される有機半導体素子の用途等に応じて任意の機能を有するものを用いることができる。なかでも上記他の構成として本発明に好適に用いられるものとしては、有機半導体層の経時劣化を防止するために、有機トランジスタの最表面に位置するように形成されるパッシベーション層を挙げることができる。このようなパッシベーション層としては、例えば、フッ素系樹脂、PVA、および、PVP等からなるものを用いることができる。
次に、本発明に用いられる基板について説明する。本発明に用いられる基板は上記有機トランジスタ、および、上記有機トランジスタ保護用隔壁部を支持するものである。
ここで、本発明に用いられる基板は、上記「A.有機半導体素子用基板」の項において説明したものと同様であるため、ここでの説明は省略する。
本発明の有機トランジスタ付基板は、上記有機トランジスタ保護用隔壁部、有機トランジスタ、および、基板以外に他の構成を有するものであってもよい。このような他の構成としては特に限定されるものではなく、本発明の有機トランジスタ付基板を用いて製造される有機半導体素子の用途等に応じて任意の機能を備える構成を用いることができる。なかでも本発明に好適に用いられる上記他の構成としては、液晶材料に対して配向規制力を有する配向層、スペーサー部、および、上記有機トランジスタのドレイン電極に接続するように形成された画素電極を挙げることができる。
以下、このような配向層、スペーサー部、および、画素電極について順に説明する。
まず、本発明に用いられる配向層について説明する。本発明に用いられる配向層は、液晶材料に対して配向規制力を有するものである。このような配向層が形成されていることにより、本発明の有機トランジスタ付基板を用いて製造される有機半導体素子を、液晶表示装置に好適に用いられるものにできる。
次に、本発明に用いられるスペーサー部について説明する。本発明に用いられるスペーサー部は、本発明の有機トランジスタ付基板を用いて製造される有機半導体素子において、本発明の有機トランジスタ付基板と、当該有機トランジスタ付基板に対向するように配置される基板との間隔を均一に保持する機能を有するものである。
図15(a)に例示するように本発明の有機トランジスタ付基板20’’は、上記基板21上にスペーサー部25が形成されているものであってもよい。
また、図22(b)に例示するように、本発明の有機トランジスタ付基板20’’にスペーサ部25が形成されている場合、上記スペーサー部25は、通常、有機トランジスタ保護用隔壁部23と同一の高さに形成される。
次に、本発明に用いられる画素電極について説明する。本発明に用いられる画素電極は、本発明の有機トランジスタ付基板が備える各有機トランジスタのドレイン電極に接続されるように形成されるものである。
このような画素電極が形成されていることにより、本発明の有機トランジスタ付基板を用いて製造した有機半導体素子を、ディスプレイ装置に好適に用いられるものにできる。
次に、本発明の有機トランジスタ付基板の製造方法について説明する。本発明の有機トランジスタ付基板の製造方法としては、上記構成を有する有機トランジスタ付基板を製造できる方法であれば特に限定されるものではない。このような製造方法としては、例えば、上記基板を用い、上記基板上に有機トランジスタを形成する有機トランジスタ形成工程と、上記有機トランジスタを囲うように、上記有機トランジスタ保護用隔壁部を形成する有機トランジスタ保護用隔壁部形成工程とからなる方法を例示することができる。
次に、本発明の有機半導体素子について説明する。本発明の有機半導体素子は、上記本発明に係る有機半導体素子用基板が用いられた態様(第1態様)と、上記本発明に係る有機トランジスタ付基板が用いられた態様(第2態様)とに分けることができる。したがって、以下、各態様に分けて本発明の有機半導体素子について説明する。
まず、本発明の第1態様の有機半導体素子について説明する。本態様の有機半導体素子は、上記本発明に係る有機半導体素子用基板が用いられたものである。すなわち、本態様の有機半導体素子は、上記本発明に係る有機半導体素子用基板、および、基板と、上記基板上に形成された有機トランジスタと、を有するトランジスタ側基板を有する有機半導体素子であって、上記有機トランジスタ保護用隔壁部の開口部内に上記有機トランジスタが収まるように、上記有機半導体素子用基板と、上記トランジスタ側基板とが対向配置されていることを特徴とするものである。
以下、本態様の有機半導体素子に用いられる各構成について順に説明する。
まず、本態様に用いられる有機半導体素子用基板について説明する。本態様に用いられる有機半導体素子用基板は、上記本発明の有機半導体素子用基板である。したがって、本態様に用いられる有機半導体素子用基板については、上記「A.有機半導体素子用基板」の項において説明したものと同様であるため、ここでの説明は省略する。
次に、本態様に用いられるトランジスタ側基板について説明する。本態様に用いられるトランジスタ側基板は、基板と、上記基板上に形成された複数の有機トランジスタとを有するものである。
なお、上記画素電極および配向層については、上記「B.有機トランジスタ付基板」の項において説明したものと同様であるため、ここでの説明は省略する。
本態様の有機半導体素子は、上記有機半導体素子用基板、および、上記トランジスタ側基板以外の他の構成を有するものであってもよい。このような他の構成としては特に限定されるものではなく、本態様の有機半導体素子の用途等に応じて、任意の機能を有するものを用いることができる。
また、逆に本態様の有機半導体素子を製造する工程において、上記有機半導体素子用基板と、上記トランジスタ側基板とを減圧下で貼り合わせた場合は、上記有機トランジスタ保護用隔壁部内が減圧されることになる。
本態様の有機半導体素子は、例えば、上記有機半導体素子用基板と、上記トランジスタ側基板との間に液晶材料を充填することにより、液晶表示素子として用いることができる。
また、本態様の有機半導体素子は、液晶表示素子以外に、マイクロカプセル型電気泳動ディスプレイ、ツイストボール型電子ペーパー、電子粉流体型電子ペーパー、インプレーン型電気泳動ディスプレイ、着色溶液型電気泳動ディスプレイ、粒子移動型電子ペーパーなどの電気泳動型ディスプレイ等に用いることができる。
本態様の有機半導体素子は、上記有機半導体素子用基板と、上記トランジスタ側基板とを貼り合わせることによって製造することができる。また、上記有機半導体素子用基板と、上記トランジスタ側基板とを減圧下で張り合わせることにより、上記有機トランジスタ保護用隔壁部内が減圧された有機半導体素子を製造することができる。ここで、上記有機半導体素子用基板と、上記トランジスタ側基板とを貼り合わせる方法としては、一般的に公知の方法を用いることができるため、ここでの詳しい説明は省略する。
次に、本発明の第2態様の有機半導体素子について説明する。本態様の有機半導体素子は、上記本発明に係る有機トランジスタ付基板が用いられたものである。すなわち、本態様の有機半導体素子は、上記本発明に係る有機トランジスタ付基板、および、基板と、上記基板上に形成された透明電極とを有する対向基板を有する有機半導体素子であって、上記対向基板によって上記有機トランジスタ保護用隔壁部の開口部が塞がれるように、上記有機トランジスタ付基板と、対向基板とが対向配置されていることを特徴とするものである。
以下、本態様の液晶表示装置に用いられる各構成について順に説明する。
まず、本態様に用いられる有機トランジスタ付基板について説明する。本態様に用いられる有機トランジスタ付基板は、上記本発明の有機トランジスタ付基板である。したがって、本態様に用いられる有機トランジスタ付基板については、上記「B.有機トランジスタ付基板」の項において説明したものと同様であるため、ここでの説明は省略する。
次に、本態様に用いられる対向基板について説明する。本態様に用いられる対向基板は基板と、上記基板上に形成された透明電極とを有するものである。
ここで、上記対向基板に用いられる上記基板および透明電極については、上記「A.有機半導体素子用基板」の項において説明したものと同様であるため、ここでの説明は省略する。
本態様の有機半導体素子は、上記有機トランジスタ付基板、および、上記対向基板以外の他の構成を有するものであってもよい。このような他の構成としては特に限定されるものではなく、本態様の有機半導体素子の用途等に応じて、任意の機能を有するものを用いることができる。
また、逆に本態様の有機半導体素子を製造する工程において、上記有機トランジスタ付基板と、上記対向基板とを減圧下で張り合わせた場合は、上記有機トランジスタ保護用隔壁部内が減圧されることになる。
本態様の有機半導体素子は、例えば、上記有機トランジスタ付基板と、上記対向基板との間に液晶材料を充填することにより液層表示素子として用いることができる。また、本態様の有機半導体素子は、液晶表示素子以外に、マイクロカプセル型電気泳動ディスプレイ、ツイストボール型電子ペーパー、電子粉流体型電子ペーパー、インプレーン型電気泳動ディスプレイ、着色溶液型電気泳動ディスプレイ、粒子移動型電子ペーパーなどの電気泳動型ディスプレイ等に用いることができる。
本態様の有機半導体素子は、上記有機トランジスタ付基板と、上記対向基板とを貼り合わせることによって製造することができる。また、上記有機トランジスタ付基板と、上記対向基板とを減圧下で張り合わせることにより、上記有機トランジスタ保護用隔壁部内が減圧された有機半導体素子を製造することができる。ここで、上記有機トランジスタ付基板と、上記対向基板とを貼り合わせる方法としては、一般的に公知の方法を用いることができるため、ここでの詳しい説明は省略する。
(1)有機トランジスタ付基板の作製
(ゲート電極形成工程)
まず、大きさ150mm×150mm×0.7mmのガラス基板表面に、ゲート電極形状の開口部を有するメタルマスクを配置した後、膜厚10nmのクロム膜を形成した。次いで、200nmのアルミニウム膜を蒸着し、ゲート電極を形成した。蒸着の際の真空度は、1×104Paとし、蒸着速度は約1Å/secとした。
次に、上記基板にゲート絶縁層としてフォトレジスト(アクリル系ネガレジスト)をスピンコートした。このときのスピンコートは、800rpmで10sec保持させた。その後、基板を80℃で3分乾燥させた後、350mJ/cm2でパターン露光した。次いで、ゲート電極以外の部分を除去するために現像工程を行い、その後、200℃のオーブンで30分乾燥させた。
上記基板上に光二量化反応型の光配向膜材料(商品名:ROP-102、ロリックテクノロジー社製)の2質量%シクロペンタノン溶液をスピンコートし、130℃で10分間乾燥した後、直線紫外線偏光を約100mJ/cm2照射し、配向処理を行った。
次にゲート絶縁層形成後の基板表面に、ソース・ドレイン電極形状の開口部を有するメタルマスクを配置した後、膜厚50nmのAu膜を蒸着し、ソース・ドレイン電極を形成した。このとき、蒸着の際の真空度は1×104Paとし、蒸着速度は約1Å/secとした。形成されたソース電極およびドレイン電極を反射型光学顕微鏡にて観察したところ、ソース電極とドレイン電極との電極間距離(チャネル長)は50μmであった。
有機トランジスタが形成された基板上に透明レジスト(商品名:NN780、JSR社製)をスピンコートして、減圧乾燥し、90℃で3分間プリベークを行った。
次いで、100mJ/cm2の紫外線でマスク露光し、無機アルカリ溶液で現像を行い、230℃で30分間ポストベークを行った。
これにより、有機TFT部を取り囲む高さ1.5μmの有機トランジスタ保護用隔壁部を形成した。
上記ソース電極およびドレイン電極が形成された側の基板の全面に膜厚50nmのチオフェン系有機半導体からなる有機半導体層を蒸着した。
以上の工程により、有機トランジスタを有する有機トランジスタ付基板を作製した。
次いで、ソース・ドレイン電圧を−80Vと固定し、ソース・ドレイン間に流れる電流値を測定した。また、トランジスタ評価においてはいずれの場合においても大気中で測定を行った。
共通電極としてITO電極が形成されたガラス基板をよく洗浄し、このガラス基板上に光二量化反応型の光配向膜材料(商品名:ROP-103、ロリックテクノロジー社製)の2質量%シクロペンタノン溶液をスピンコートし、130℃で10分間乾燥した後、直線紫外線偏光を約100mJ/cm2照射し、配向処理を行った。
対向基板の周縁部に紫外線硬化型シール材を塗布し、有機TFTを形成したガラス基板との関係が、上記の偏光紫外線照射方向と平行かつアンチパラレルの状態となるように両基板を対向させ圧力をかけながらシール剤を光硬化させた。
有機トランジスタは液晶を注入した後も破壊されておらず、有機トランジスタのトランジスタ特性を測定した結果、トランジスタとして駆動していることが分かった。このとき、有機トランジスタのON電流は1×10−4A、OFF電流は1×10−11Aで変化が無かった。測定条件はゲート電圧を100V〜−80Vまで−2V刻みで印加し、次いで、ソース・ドレイン電圧を−80Vと固定し、ソース・ドレイン間に流れる電流値を測定した。また、トランジスタ評価においてはいずれの場合においても大気中で測定を行った。
また、このトランジスタ特性の経時変化を作製直後、1日後、3日後、7日後、2週間後、1ヶ月後と評価したところ、ON電流およびOFF電流ともに低下は見られなかった。
(1)有機トランジスタ付基板の作製
有機トランジスタ保護用隔壁部作製工程を実施しなかったこと以外は、実施例と同様の方法により有機トランジスタを有する有機トランジスタ付基板を作製した。
共通電極としてITO電極が形成されたガラス基板をよく洗浄し、このガラス基板上に光二量化反応型の光配向膜材料(商品名:ROP-103、ロリックテクノロジー社製)の2質量%シクロペンタノン溶液をスピンコートし、130℃で10分間乾燥した後、直線紫外線偏光を約100mJ/cm2照射し、配向処理を行った。次に1.5μのビーズスペーサーをスピンコーターにて散布した。
対向基板の周縁部に紫外線硬化型シール材を塗布し、有機TFTを形成したガラス基板との関係が、上記の偏光紫外線照射方向と平行かつアンチパラレルの状態となるように両基板を対向させ圧力をかけながらシール剤を光硬化させた。次いで、両ガラス基板のセルギャップ内に液晶を注入するための注入口を一端に設け、この注入口の上部に、液晶物質(AZエレクトロニックマテリアルズ社製 R2301)を付着し、真空チャンバー内が10Torrになるように排気を行った状態で、ネマチック相−等方転移温度より10〜20℃高い温度でセルギャップ内に注入した。注入後、液晶物質を徐冷して常温に戻した。
有機トランジスタは液晶を注入した後、液晶により破壊されており、トランジスタとして駆動していないことが分かった。
(1)有機トランジスタ付基板の作製
有機トランジスタ保護用隔壁部作製工程を実施せず、かつ有機半導体層形成工程後に以下のパッシベーション層形成工程を行ったこと以外は、実施例と同様の方法により有機トランジスタを有する有機トランジスタ付基板を作製した。
パッシベーション層の形成は、エタノール溶媒で15質量%に希釈したPVP溶液を有機半導体層形成後の基板にスピンコートすることにより行った。このとき、スピンコートは2000rpm、15sec保持で行った。その後、基板を100℃のホットプレートで30min乾燥させた。
共通電極としてITO電極が形成されたガラス基板をよく洗浄し、このガラス基板上に光二量化反応型の光配向膜材料(商品名:ROP-103、ロリックテクノロジー社製)の2質量%シクロペンタノン溶液をスピンコートし、130℃で10分間乾燥した後、直線紫外線偏光を約100mJ/cm2照射し、配向処理を行った。次に1.5μのビーズスペーサーをスピンコーターにて散布した。
対向基板の周縁部に紫外線硬化型シール材を塗布し、有機TFTを形成したガラス基板との関係が、上記の偏光紫外線照射方向と平行かつアンチパラレルの状態となるように両基板を対向させ圧力をかけながらシール剤を光硬化させた。
次いで、両ガラス基板のセルギャップ内に液晶を注入するための注入口を一端に設け、この注入口の上部に、液晶物質(AZエレクトロニックマテリアルズ社製 R2301)を付着し、真空チャンバー内が10Torrになるように排気を行った状態で、ネマチック相−等方転移温度より10〜20℃高い温度でセルギャップ内に注入した。注入後、液晶物質を徐冷して常温に戻した。
有機トランジスタは液晶を注入した後、特性を評価したところ、トランジスタとして駆動していないことが分かった。
(1)有機半導体素子用基板の作製
透明電極としてITO電極が形成されたガラス基板をよく洗浄し、このガラス基板上に透明レジスト(商品名:NN780、JSR社製)をスピンコートして、減圧乾燥し、90℃で3分間プリベークを行った。
次いで、100mJ/cm2の紫外線でマスク露光し、無機アルカリ溶液で現像を行い、230℃で30分間ポストベークを行った。これにより、有機トランジスタを取り囲む高さ1.5μmの有機トランジスタ保護用隔壁部を形成した。
(ゲート電極形成工程)
まず、大きさ150mm×150mm×0.7mmのガラス基板表面に、ゲート電極形状の開口部を有するメタルマスクを配置した後、膜厚10nmのクロム膜を形成した。次いで、200nmのアルミニウム膜を蒸着し、ゲート電極を形成した。蒸着の際の真空度は、1×104Paとし、蒸着速度は約1Å/secとした。
次に、上記基板にゲート絶縁層としてフォトレジスト(アクリル系ネガレジスト)をスピンコートした。このときのスピンコートは、800rpmで10sec保持させた。その後、基板を80℃で3分乾燥させた後、350mJ/cm2でパターン露光した。次いで、ゲート電極以外の部分を除去するために現像工程を行い、その後、200℃のオーブンで30分乾燥させた。
上記基板上に光二量化反応型の光配向膜材料(商品名:ROP-102、ロリックテクノロジー社製)の2質量%シクロペンタノン溶液をスピンコートし、130℃で10分間乾燥した後、直線紫外線偏光を約100mJ/cm2照射し、配向処理を行った。
次にゲート絶縁層形成後の基板表面に、ソース・ドレイン電極形状の開口部を有するメタルマスクを配置した後、膜厚50nmのAu膜を蒸着し、ソース・ドレイン電極を形成した。このとき、蒸着の際の真空度は1×104Paとし、蒸着速度は約1Å/secとした。形成されたソース電極およびドレイン電極を反射型光学顕微鏡にて観察したところ、ソース電極とドレイン電極との電極間距離(チャネル長)は50μmであった。
上記ソース電極およびドレイン電極が形成された側の基板の全面に膜厚50nmのチオフェン系有機半導体からなる有機半導体層を蒸着した。
上記有機半導体素子用基板の周縁部に紫外線硬化型シール材を塗布し、トランジスタ側基板との関係が、上記の偏光紫外線照射方向と平行かつアンチパラレルの状態となるように両基板を対向させ圧力をかけながらシール剤を光硬化させた。次いで、両基板のセルギャップ内に液晶を注入するための注入口を一端に設け、この注入口の上部に、液晶物質(AZエレクトロニックマテリアルズ社製 R2301)を付着し、真空チャンバー内が10Torrになるように排気を行った状態で、ネマチック相−等方転移温度より10〜20℃高い温度でセルギャップ内に注入した。注入後、液晶物質を徐冷して常温に戻した。
有機トランジスタは液晶を注入した後も破壊されておらず、有機トランジスタのトランジスタ特性を測定した結果、トランジスタとして駆動していることが分かった。このとき、有機トランジスタのON電流は1×10−4A、OFF電流は1×10−11Aで変化が無かった。測定条件はゲート電圧を100V〜−80Vまで−2V刻みで印加し、次いで、ソース・ドレイン電圧を−80Vと固定し、ソース・ドレイン間に流れる電流値を測定した。また、トランジスタ評価においてはいずれの場合においても大気中で測定を行った。
(1)液晶表示素子(有機半導体素子)の作製
以下の方法で作製した有機半導体素子用基板を用いたこと以外は、実施例2と同様の方法により、液晶表示素子(有機半導体素子)を作製した。
透明電極としてITO電極が形成されたガラス基板をよく洗浄し、このガラス基板上に直径1.5μのビーズスペーサーを塗布した。
有機トランジスタは液晶を注入した後に破壊されており、有機トランジスタのトランジスタ特性を測定した結果、トランジスタとして駆動していないことが分かった。
2、52 … 透明電極
3、23 … 有機トランジスタ保護用隔壁部
4 … カラーフィルター層
4a、4a’、4a’’、4a’’’ … 着色層
4b … オーバーコート層
4c … 遮光部
5、24 … 配向層
6、25… スペーサー部
10、10’、10’’、10’’’ … 有機半導体素子用基板
20、20’、20’’ … 有機トランジスタ付基板
22、32 … 有機トランジスタ
22A … ゲート電極
22B … ゲート絶縁膜
22C … 半導体層
22D … ソース電極
22E … ドレイン電極
30 … トランジスタ側基板
40A、40B … 有機半導体素子
41 … 液晶材料
Claims (23)
- 基板と、前記基板上に形成された透明電極と、前記透明電極上に形成され、開口部を有する枠状の有機トランジスタ保護用隔壁部とを有する有機半導体素子用基板であって、
前記有機半導体素子用基板と、基板上に有機トランジスタが形成されたトランジスタ側基板との間に液晶材料が充填された液晶表示素子に用いられるものであり、
前記有機トランジスタ保護用隔壁部は、前記有機トランジスタが前記液晶材料と接触するのを防止する機能と、前記有機半導体素子用基板および前記トランジスタ側基板の間隔を制御する機能とを有することを特徴とする、有機半導体素子用基板。 - 前記透明電極上に形成され、前記液晶材料の配列状態を規制するリブをさらに有し、
複数の前記有機トランジスタ保護用隔壁部が一体となって形成され、かつ前記リブの一部として形成されていることを特徴とする請求項1に記載の有機半導体素子用基板。 - 前記透明電極上に形成され、前記有機半導体素子用基板および前記トランジスタ側基板の間隔の間隔を均一に保持するスペーサー部をさらに有し、
前記有機トランジスタ保護用隔壁部および前記スペーサー部の高さが同一であることを特徴とする請求項1に記載の有機半導体素子用基板。 - 前記有機トランジスタ保護用隔壁部と前記スペーサー部とが一体となって形成されていることを特徴とする請求項3に記載の有機半導体素子用基板。
- 前記透明電極上に形成され、前記液晶材料に対して配向規制力を有する配向層をさらに有することを特徴とする請求項1から請求項4までのいずれかに記載の有機半導体素子用基板。
- 基板と、前記基板上に形成された透明電極と、前記透明電極上に形成され、開口部を有する枠状の有機トランジスタ保護用隔壁部とを有する有機半導体素子用基板であって、
前記有機半導体素子用基板と、基板上に有機トランジスタが形成されたトランジスタ側基板との間に電気泳動材料が充填された電気泳動型ディスプレイに用いられるものであり、
前記有機トランジスタ保護用隔壁部は、前記有機トランジスタが前記電気泳動材料と接触するのを防止する機能と、前記有機半導体素子用基板および前記トランジスタ側基板の間隔を制御する機能とを有することを特徴とする、有機半導体素子用基板。 - 前記透明電極上に形成され、前記有機半導体素子用基板および前記トランジスタ側基板の間隔を均一に保持するスペーサー部をさらに有し、
前記有機トランジスタ保護用隔壁部および前記スペーサー部の高さが同一であることを特徴とする請求項6に記載の有機半導体素子用基板。 - 前記有機トランジスタ保護用隔壁部と前記スペーサー部とが一体となって形成されていることを特徴とする請求項7に記載の有機半導体素子用基板。
- 請求項1から請求項8までのいずれかに記載の有機半導体素子用基板、および、基板と、前記基板上に形成された有機トランジスタと、を有するトランジスタ側基板を有する有機半導体素子であって、
前記有機トランジスタ保護用隔壁部の開口部内に前記有機トランジスタが収まるように、前記有機半導体素子用基板と、前記トランジスタ側基板とが対向配置されていることを特徴とする、有機半導体素子。 - 基板と、前記基板上に形成された複数の有機トランジスタと、前記基板上に前記有機トランジスタを囲うように形成され、開口部を有する枠状の有機トランジスタ保護用隔壁部とを有する有機トランジスタ付基板であって、
前記有機トランジスタ付基板と、基板上に透明電極が形成された対向基板との間に液晶材料が充填された液晶表示素子に用いられるものであり、
前記有機トランジスタ保護用隔壁部は、前記有機トランジスタが前記液晶材料と接触するのを防止する機能と、前記有機トランジスタ付基板および前記対向基板の間隔を制御する機能とを有することを特徴とする、有機トランジスタ付基板。 - 前記基板上に形成され、前記液晶材料の配列状態を規制するリブをさらに有し、
複数の前記有機トランジスタ保護用隔壁部が一体となって形成され、かつ前記リブの一部として形成されていることを特徴とする請求項10に記載の有機トランジスタ付基板。 - 前記基板上に形成され、前記有機トランジスタ付基板および前記対向基板の間隔の間隔を均一に保持するスペーサー部をさらに有し、
前記有機トランジスタ保護用隔壁部および前記スペーサー部の高さが同一であることを特徴とする請求項10に記載の有機トランジスタ付基板。 - 前記有機トランジスタ保護用隔壁部と前記スペーサー部とが一体となって形成されていることを特徴とする請求項12に記載の有機トランジスタ付基板。
- 前記基板上に形成され、前記液晶材料に対して配向規制力を有する配向層をさらに有することを特徴とする請求項10から請求項13までのいずれかに記載の有機トランジスタ付基板。
- 基板と、前記基板上に形成された複数の有機トランジスタと、前記基板上に前記有機トランジスタを囲うように形成され、開口部を有する枠状の有機トランジスタ保護用隔壁部とを有する有機トランジスタ付基板であって、
前記有機トランジスタ付基板と、基板上に透明電極が形成された対向基板との間に電気泳動材料が充填された電気泳動型ディスプレイに用いられるものであり、
前記有機トランジスタ保護用隔壁部は、前記有機トランジスタが前記電気泳動材料と接触するのを防止する機能と、前記有機トランジスタ付基板および前記対向基板の間隔を制御する機能とを有することを特徴とする、有機トランジスタ付基板。 - 前記基板上に形成され、前記有機トランジスタ付基板および前記対向基板の間隔を均一に保持するスペーサー部をさらに有し、
前記有機トランジスタ保護用隔壁部および前記スペーサー部の高さが同一であることを特徴とする請求項15に記載の有機トランジスタ付基板。 - 前記有機トランジスタ保護用隔壁部と前記スペーサー部とが一体となって形成されていることを特徴とする請求項16に記載の有機トランジスタ付基板。
- 請求項10から請求項17までのいずれかに記載の有機トランジスタ付基板、および、基板と、前記基板上に形成された透明電極とを有する対向基板を有する有機半導体素子であって、
前記対向基板によって前記有機トランジスタ保護用隔壁部の開口部が塞がれるように、前記有機トランジスタ付基板と、対向基板とが対向配置されていることを特徴とする、有機半導体素子。 - 前記有機トランジスタ保護用隔壁部の内側が減圧されていることを特徴とする、請求項9または請求項18に記載の有機半導体素子。
- 請求項1から請求項5までのいずれかに記載の有機半導体素子用基板を有する、請求項9または請求項19に記載の有機半導体素子を用いた液晶表示素子であって、
前記有機半導体素子の有機半導体素子用基板とトランジスタ側基板との間に液晶材料が充填されていることを特徴とする液晶表示素子。 - 請求項10から請求項14までのいずれかに記載の有機トランジスタ付基板を有する、請求項18または請求項19に記載の有機半導体素子を用いた液晶表示素子であって、
前記有機半導体素子の有機トラジスタ付基板と対向基板との間に液晶材料が充填されていることを特徴とする液晶表示素子。 - 請求項6から請求項8までのいずれかに記載の有機半導体素子用基板を有する、請求項9または請求項19に記載の有機半導体素子を用いた電気泳動型ディスプレイであって、
前記有機半導体素子の有機半導体素子用基板とトランジスタ側基板との間に電気泳動材料が充填されていることを特徴とする電気泳動型ディスプレイ。 - 請求項15から請求項17までのいずれかに記載の有機トランジスタ付基板を有する、請求項18または請求項19に記載の有機半導体素子を用いた電気泳動型ディスプレイであって、
前記有機半導体素子の有機トラジスタ付基板と対向基板との間に電気泳動材料が充填されていることを特徴とする電気泳動型ディスプレイ。
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