JP4994659B2 - リソグラフィ装置及びデバイス製造方法 - Google Patents
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Description
1.ステップ・モードでは、マスク・テーブルMT及び基板テーブルWTは、基本的に静止が保たれ、放射ビームに付与されたパターン全体が目標部分C上に1回の動作で(つまり1回の静止露光で)投影される。次いで、別の目標部分Cが露光されるように、基板テーブルWTはX方向及び/又はY方向に移動される。ステップ・モードでは、露光範囲の最大サイズによって1回の静止露光で結像される目標部分Cのサイズが制約される。
2.走査モードでは、放射ビームに付与されたパターンが目標部分C上に投影(つまり1回の動的露光)される間、マスク・テーブルMTと基板テーブルWTとが同時に走査される。マスク・テーブルMTに対する基板テーブルWTの速度及び方向は、投影系PSの拡大(縮小)特性及び像反転特性によって決まることがある。走査モードでは、露光範囲の最大サイズによって1回の動的露光における目標部分の(非走査方向の)幅が制約されるが、目標部分の(走査方向の)高さは、走査動作の距離によって決まる。
3.別のモードでは、マスク・テーブルMTは、プログラム可能なパターニング装置を保持しながら基本的に静止が保たれ、基板テーブルWTは、放射ビームに付与されたパターンが目標部分C上に投影される間移動又は走査される。このモードでは、一般に、パルス状の放射ソースが使用され、プログラム可能なパターニング装置は、基板テーブルWTの移動が終わるたびに、又は走査中の連続的な放射パルスの合間に、必要に応じて更新される。この動作モードは、先に述べたようなタイプのプログラム可能なミラー・アレイなど、プログラム可能なパターニング装置を利用しマスクを利用しないリソグラフィに容易に適用することができる。
BD ビーム送出系
IL 照明系
AD 調整装置
IN 積算器
CO 集光器
B 放射ビーム
MA マスク
M1、M2 マスク位置合わせマーク
MT 支持体
PM 第1の位置決め装置
PS 投影系
W 基板
P1、P2 基板位置合わせマーク
WT 基板テーブル
PW 第2の位置決め装置
IF 位置センサ
20 屈折光学素子
21 第1の集光レンズ
22 光学アセンブリ(マイクロ・レンズ・アレイ)
23 第2の集光レンズ
24 集光ロッド
30 レンズ群
40 光学アセンブリ
41、42 レンズ
50 光学アセンブリ
60 光学アセンブリ
61、62 レンチキュラ・レンズ
70 マイクロ・レンズ・アレイ
71 ユニット・セル
80 ウェッジ素子
81 出射面
90 フレネル・レンズ
100 マイクロ・レンズ・アレイ
101、102、103、105、106、107 フレネル・レンズ
110 マイクロ・レンズ・アレイ
Claims (14)
- リソグラフィ装置であって、
放射ビームを提供するように構成された放射ソースと、
前記放射ビームを調整するように構成された照明系と、
パターニングされた放射ビームを形成するために、前記放射ビームの断面にパターンを付与するように構成されたパターニング装置と、
前記パターニングされた放射ビームを基板上に投影するように構成された投影系と、
前記放射ソースと前記パターニング装置との間に2次元的に配置され、前記放射ビームの所定角分布を作るように構成される、複数の光学素子を含む光学アセンブリとを含み、
前記光学素子は、光軸を横切る断面形状が多角形であり、該多角形の角度が+90°又は−90°のうちの1つであって、他の光学素子と異なるサイズを有し、
前記複数の光学素子が、矩形内に稠密に配置される、リソグラフィ装置。 - 前記複数の光学素子の数が、10個である、請求項1に記載のリソグラフィ装置。
- 前記光学素子が、フレネル素子又はホログラフィ素子である、請求項1または2に記載のリソグラフィ装置。
- 前記光学素子が、出射面を有するウェッジであり、前記ウェッジは、前記出射面の垂線が光軸に対して異なる角度に配置される、請求項1または2に記載のリソグラフィ装置。
- 前記パターニング装置が、前記リソグラフィ装置内で、光軸に垂直な走査方向に移動可能に装着される、請求項1ないし4のいずれか一項に記載のリソグラフィ装置。
- 前記光学アセンブリが、前記パターニング装置の矩形照明領域を照明するように構成され、前記矩形領域の長軸が、前記走査方向に垂直な非走査方向に向けられる、請求項1ないし5のいずれか一項に記載のリソグラフィ装置。
- 前記光学アセンブリが、前記複数の光学素子を含むレンズ群と同一配置を有する複数のユニット・セルを含む、請求項1ないし6のいずれか一項に記載のリソグラフィ装置。
- 各ユニット・セルの非走査方向サイズが、前記矩形照明領域の非走査方向サイズの10分の1を超える、請求項7に記載のリソグラフィ装置。
- 前記光学素子が、単一の光学構造に一体化される、請求項1ないし8のいずれか一項に記載のリソグラフィ装置。
- 前記放射ビームの強度分布の均一性を均等にするために、前記光学アセンブリと前記パターニング装置との間に集束ロッドが配置される、請求項1ないし9のいずれか一項に記載のリソグラフィ装置。
- リソグラフィ装置であって、
放射ビームを提供するように構成された照明系と、
前記放射ビームを所定のパターンにより空間的に変調するように構成された変調器と、
前記変調された放射ビームを基板上に投影するように構成された投影系と、
前記放射ビーム内に2次元的に配置され、前記放射ビームの所定角分布を作るように構成される、複数の光学素子を含む光学アセンブリとを含み、
前記光学素子は、光軸を横切る断面形状が多角形であり、該多角形の角度が+90°又は−90°のうちの1つであって、他の光学素子と異なるサイズを有し、
前記複数の光学素子が、矩形内に稠密に配置される、リソグラフィ装置。 - パターニングされた放射ビームを基板上に投影するように構成されたリソグラフィ投影装置であって、前記放射ビーム内に2次元的に配置され、前記放射ビームの所定角分布を作るように構成される、複数の光学素子を含む光学アセンブリを含み、
前記光学素子は、光軸を横切る断面形状が多角形であり、該多角形の角度が+90°又は−90°のうちの1つであって、他の光学素子と異なるサイズを有し、
前記複数の光学素子が、矩形内に稠密に配置される、リソグラフィ投影装置。 - リソグラフィ装置であって、
放射ビームを提供するように構成された照明系と、
前記放射ビームをパターニングするように構成されたパターニング装置と、
前記パターニングされた放射ビームを基板上に投影するように構成された投影系とを含み、
前記照明系が、放射を発生するように構成された放射ソースと、前記放射ソースと前記パターニング装置との間に2次元的に配置され、前記放射ビームの所定角分布を作るように構成される、複数の光学素子を含む光学アセンブリとを含み、
前記光学素子は、光軸を横切る断面形状が多角形であり、該多角形の角度が+90°又は−90°のうちの1つであって、他の光学素子と異なるサイズを有し、
前記複数の光学素子が、矩形内に稠密に配置される、リソグラフィ装置。 - 集積デバイスの製造方法であって、
放射ビームを提供する段階と、
前記放射ビームをパターニングする段階と、
前記パターニングされた放射ビームを基板の目標部分上に投影する段階とを含み、
前記放射ビームを提供する前記段階が、2次元的に配置される、複数の光学素子を含む光学アセンブリを通して前記放射ビームを通過させることによって、前記放射ビームの所定角分布を作る段階を含み、
前記光学素子は、光軸を横切る断面形状が多角形であり、該多角形の角度が+90°又は−90°のうちの1つであって、他の光学素子と異なるサイズを有し、
前記複数の光学素子が、矩形内に稠密に配置される、方法。
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