JP4987243B2

JP4987243B2 - シール構造体

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Publication number: JP4987243B2
Application number: JP2005129816A
Authority: JP
Inventors: 敦細川
Original assignee: Mitsubishi Cable Industries Ltd
Current assignee: Mitsubishi Cable Industries Ltd
Priority date: 2005-04-27
Filing date: 2005-04-27
Publication date: 2012-07-25
Anticipated expiration: 2025-04-27
Also published as: JP2006307930A

Description

本発明は、シール構造体に関する。

従来から弾性シールの装着性、脱落を防止することができるという点で、蟻溝に弾性シールを嵌め込んだシール構造体が用いられており（例えば、特許文献１参照）、特に半導体やＦＰＤ（Flat Panel Display）の製造装置に於て使用されている。

しかし、近年では、液晶ディスプレイ、プラズマディスプレイなどの平面パネルのディスプレイが年々大型化（Ｇ６サイズ、すなわち、1500mm×1800mm以上）されていることにともなって、これらディスプレイの表面処理装置も大型化の傾向にあり、これらディスプレイを出し入れするチャンバーゲートに使用するシール構造体（密封構造体）も当然ながら大型化となる。

このようなシール構造体のシール性を維持するためには、相手蓋材（相手部材）の重さや密封するための力などの過大な荷重（例えば、40Ｎ／mm以上）が弾性シールにかかるので、弾性シールが変形してシール溝の隅々まで入り込んでしまい、相手蓋材と、弾性シールが取り付けてある部材（シール取付部材）とが接触（すなわち、メタルタッチ）し、金属パーティクルが発生するという問題が生じている。金属パーティクルは、高い清浄度が要求される半導体やＦＰＤの製造装置に於て、悪影響を与えるので、厳禁すべきものである。また、このようなシール構造体に使用される弾性シールは、断面積が大きいので、シール取付部材に設けたシール溝に嵌め込む際、非常に時間がかかり、作業性が格段に悪いという装着性の問題があった。
特表平９−５１０２８６号公報

解決しようとする課題は、弾性シールに過大な荷重がかかると、相手部材とシール取付部材がメタルタッチして、金属パーティクルが発生する点である。

そこで、本発明に係るシール構造体は、シール溝を凹設したシール取付部材と、上記シール溝内へ装着される弾性シールと、該弾性シールを押圧する相手部材と、から成るシール構造体に於て、上記弾性シールは、横断面形状が、上面と下面がフラットであるとともに頭部と胴部とから成る略だるま型に形成され、上記シール溝が、密封状態を形成する際に上記相手部材による押圧荷重を受けて上記弾性シールの体積移動を抑制する移動抑制手段と、上記弾性シールが上記相手部材への固着により該相手部材と共に離脱することを抑制するシール離脱抑制手段とを、具備し、かつ、上記シール溝は、横断面形状が、上記シール取付部材の上面側から奥部へ向かって、開口部と、奥方向に溝の幅寸法が増加する幅増加部と、最大幅部と、該最大幅部から底面に近づくにつれてしだいに幅寸法が減少する幅減少部とを、順に有し、上記移動抑制手段が、上記幅減少部により上記シール溝の左右底隅部を肉付けして構成されており、かつ、圧縮密封状態において、上記頭部の一部が、上記開口部から幅方向外側へまわりこむように、上記シール取付部材と上記相手部材との間に形成される間隙に、はみ出すように構成し、Ｇ６サイズ以上の平面パネルの表面処理装置のチャンバーゲートに用いるものである。

また、シール溝を凹設したシール取付部材と、上記シール溝内へ装着される弾性シールと、該弾性シールを押圧する相手部材と、から成るシール構造体に於て、上記弾性シールは、横断面形状が、上面と下面がフラットであるとともに頭部と胴部とから成る略だるま型に形成され、上記シール溝が、密封状態を形成する際に上記相手部材による押圧荷重を受けて上記弾性シールの体積移動を抑制する移動抑制手段と、上記弾性シールが上記相手部材への固着により該相手部材と共に離脱することを抑制するシール離脱抑制手段とを、具備し、かつ、上記シール溝は、横断面形状が、上記シール取付部材の上面側から奥部へ向かって、開口部と、奥方向に溝の幅寸法が増加する幅増加部と、最大幅部と、該最大幅部から底面に近づくにつれてしだいに幅寸法が減少する幅減少部とを、順に有し、上記幅減少部が、上記シール溝の全体深さ寸法の30％以上80％以下の曲率半径を有する凹曲面と、上記底面をもって形成され、上記移動抑制手段が、上記幅減少部により上記シール溝の左右底隅部を肉付けして構成されており、かつ、圧縮密封状態において、上記頭部の一部が、上記開口部から幅方向外側へまわりこむように、上記シール取付部材と上記相手部材との間に形成される間隙に、はみ出すように構成し、Ｇ６サイズ以上の平面パネルの表面処理装置のチャンバーゲートに用いるものである。

本発明のシール構造体によれば、メタルタッチを防止し、金属パーティクルの発生を抑制してチャンバー内を清浄に保ちつつ確実にシール（密封）することができる。特に、Ｇ６サイズ（1500mm×1800mm）以上の液晶ディスプレイやプラズマディスプレイ等の大型の平面パネルの表面処理装置に好適なシール構造体である。

図１は、本発明と関係が深い参考例の分解図を示し、図２〜図４は、使用状態を説明するための要部拡大断面図を示す。このシール構造体は、半導体製造装置や（大型）液晶製造装置のチャンバー入口のゲート部の（主として真空の）密封用として、好適である。このとき、（後述の）シール取付部材２はバルブシート（又はゲート）が相当し、他方、これに接近離間自在に対応する平坦面10（後述）を有する相手部材６（後述）は、ゲート（又はバルブシート）が相当する。特に、本発明のシール構造体は、Ｇ６サイズ以上の平面パネルの表面処理装置のチャンバーゲートに用いるものである。

Ｔは清浄空間部（内径側）を示し、Ｍは大気側（外径側）を示す。清浄空間部Ｔとは、半導体や液晶パネル等（図示省略）が収納されて各種加工が施されるチャンバー空間室の存在する側であって、特に、清浄な（微粉塵の無い）ことが要求される空間部を言う。本発明に係るシール構造体は、この清浄空間部Ｔと大気側Ｍとを遮断して密封する。

シール構造体は、開口部４の幅寸法Ａよりも奥側の最大幅部14（図12参照）の幅寸法Ｂが大きい蟻溝状シール溝３を凹設した金属製シール取付部材２と、シール溝３内へ装着される弾性シール１と、弾性シール１がシール溝３の開口部４から突出している突出部５を押圧する金属製相手部材６と、から成る。

弾性シール１は、例えば、シリコーンゴム、ふっ素ゴム、ＥＰＤＭ、パーフロロエラストマ（パーフロエラストマ、パーフルオロエラストマともいう）等の弾性材から成る。中でも、液晶やプラズマなどの平面パネルの表面を処理する装置の場合、耐薬品性などの点で、パーフロロエラストマが好ましい。また、プラズマ処理などを行なう処理装置では、シリコーンゴム、ふっ素ゴム、ＥＰＤＭなどが好適である。弾性シール１は全体が略矩形状（図１参照）や競技トラック状（長円形状）等の環状である。開口部４の幅寸法Ａは、開口部４の幅が最も小さくなる位置に於ける幅寸法のことをいう。最大幅部14（図12参照）の幅寸法Ｂは、最大幅部14の幅が最も大きくなる位置に於ける幅寸法のことをいう。

図２〜図４、及び、図12に示すように、シール溝３の横断面形状は、シール取付部材２の上面21側から奥部へ向かって、開口部４と、奥方向にしだいに幅寸法が増加する幅増加部22と、最大幅部14と、底面部19を、順に有する。最大幅部14は垂直側面18，18をもって形成されている。底面部19は、凹曲面25，25と底面８をもって形成されている。凹曲面25は、一般に切削加工時に必然的に形成されるものである。

幅増加部22は、鉛直方向に対して、角度θだけ傾斜している。角度θは、10°≦θ≦90°に設定されている。角度θがこの範囲にある場合、弾性シール１を、確実にシール溝３に収納することができ、その離脱を防止することができる。角度θが、θ＜10°の場合、弾性シール１がシール溝３から離脱する虞れがある。また、角度θが、90°＜θの場合、圧縮密封状態（後述）に於て弾性シール１が損傷を受け易くなるとともに、蟻溝状シール溝３を製造するのに手間がかかる。

図２に示すように、弾性シール１の未装着状態に於ける横断面形状は、円形であって、その横断面積Ｓ₁は、シール溝３の横断面積Ｓ₃───シール溝３の各壁面（側面７、底面８等）と２点鎖線によって囲まれた部分の面積───よりも大きく設定されている。具体的には、弾性シール１の横断面積Ｓ₁のシール溝３の横断面積Ｓ₃に対する百分率を占有率Ｋと定義すると、占有率Ｋは、 100％＜Ｋ≦ 150％に設定されている。占有率Ｋは、好ましくは、 105％≦Ｋ≦ 130％に設定されている。占有率Ｋは、より好ましくは、 110％≦Ｋ≦ 120％に設定されている。Ｋ≦ 100％の場合、後述の圧縮密封状態に於て、シール取付部材２と相手部材６が、メタルタッチする虞れがある。また、 150％＜Ｋの場合、弾性シール１をシール溝３内へ装着困難であったり、あるいは、弾性シール１が、圧縮密封状態に於て、破損してしまう虞れがある。

図３は、弾性シール１をシール溝３に嵌合させた（装着した）状態を示す。
図４は、相手部材６の平坦面10が突出部５を押圧した圧縮密封状態を示す。このとき、弾性シール１の横断面積Ｓ₁とシール溝３の横断面積Ｓ₃の大小関係が上述のように設定されているので、弾性シール１がシール溝３の隅々にまで充満しても、外部に突出部５が残されて、平坦面10とシール取付部材２との間に間隙Ｙが常に形成される。弾性シール１から相手部材６に対して弾性的反発力Ｆがはたらいている。

図５は、他の参考例を示す。弾性シール１の横断面形状が、楕円形状に形成されている。
図６は、さらに他の参考例を示す。弾性シール１の横断面形状が、シール溝３（図１〜図４参照）への装着状態で突出部５となるべき頂部15が凸曲面状であって、全体が略７角形状に形成されている。
図７は、第１の実施の形態を示す。弾性シール１の横断面形状が略だるま型に形成されている。なお、頂部15を、２点鎖線のように凸曲面状とするも好ましい。
図８は、別の参考例を示す。弾性シール１の横断面形状が、左右非対称に形成されている。例えば、大気側に位置する方（図８でいう左下位置）に膨出部11を有する。

図９及び図13は、さらに別の参考例を示す。このシール溝３は、シール取付部材２に凹設され、横断面形状が、シール取付部材２の上面21側から奥部へ向かって、開口部28と、幅増加部29と、最大幅部30と、底面部32を、順に有する。最大幅部30は垂直側面33，33をもって形成されている。底面部32は、凹曲面34，34と底面31をもって形成されている。凹曲面34は、一般に切削加工時に必然的に形成されるものである。
開口部28に、弾性シール１（図１〜図４参照）の離脱を防止するためのひっかけ部12を有する。具体的には、横断面形状の左右両側にひとつずつ、計ふたつのひっかけ部12，12が突設されている。幅増加部29が、横断面小矩形状のひっかけ部12の内面部26をもって構成されているといえる。内面部26は、段付部27をもって形成されている。

ひっかけ部12の厚さ寸法ｔは、シール溝３の全体深さ寸法Ｈの５％以上10％以下に設定されている。厚さ寸法ｔが全体深さ寸法Ｈの５％未満の場合、ひっかけ部12の強度が弱くなる。また、厚さ寸法ｔが全体深さ寸法Ｈの10％を越える場合、弾性シール１（図１〜図４参照）の装着性が悪くなる傾向にある。弾性シール１を、容易にシール溝３に収納することができ、その離脱を防止することができる。
シール溝３の横断面積Ｓ₃は、シール溝３の各壁面（側面35、底面31等）と２点鎖線によって囲まれた部分の面積をいう。

図10及び図14は、第２の実施の形態を示す。このシール溝３は、横断面形状が略６角形に形成されている。具体的には、横断面形状が、シール取付部材２の上面21側から奥部へ向かって、開口部４と、奥方向にしだいに幅寸法が増加する幅増加部22と、最大幅部14と、底面８に近づくにつれてしだいに幅寸法が減少する幅減少部23を、順に有する。幅減少部23は勾配面16，16と底面８をもって形成されている。図10の２点鎖線は、従来の蟻溝状シール溝の形状を示す。すなわち、本願発明は、従来の蟻溝状シール溝よりも横断面積Ｓ₃が小さくなるように、左右の底隅部Ｅ₁，Ｅ₂を奥方（下方）縮幅勾配面16，16となるように埋めた（肉付けした）形状に形成されている。横断面積Ｓ₃をこのように従来よりも減少させている。

シール取付部材２の上面21から最大幅部14までの深さ寸法ｈは、シール溝３の全体深さ寸法Ｈの10％以上90％以下に設定されている。好ましくは、深さ寸法ｈは、全体深さ寸法Ｈの15％以上70％以下に設定されている。より好ましくは、深さ寸法ｈは、全体深さ寸法Ｈの15％以上65％以下に設定されている。深さ寸法ｈが全体深さ寸法Ｈの10％未満の場合、弾性シール１（図１〜図４参照）が離脱しやすくなる虞れがある。深さ寸法ｈが全体深さ寸法Ｈの90％を超える場合、相手部材６（図１・図３・図４参照）とシール取付部材２がメタルタッチする虞れがある。言い換えると、深さ寸法ｈが全体深さ寸法Ｈの10％未満であると、チャンバーゲートの開け閉め（シール構造の形成、解除）にともなって、弾性シール１がシール溝３から外れてしまう（全部外れてしまうのではなく、部分的に外れることも含む）不具合が起こり易くなる（弾性シール１と相手部材６とが固着しやすくなる）傾向にある。逆に、90％を超えると、弾性シール１が変形（体積移動）できうる空間が大きくなるため、シール取付部材２と相手部材６とのメタルタッチが発生しやすい傾向になり、また、装着性が格段に低下するので、シール取付作業が煩雑になる。

図11及び図15は、第３の実施の形態を示す。このシール溝３は、略長円状に形成されている。具体的には、幅減少部23が凹曲面17，17と底面８をもって形成されている。すなわち、本願発明は、従来の蟻溝状シール溝よりも横断面積Ｓ₃が小さくなるように、従来の左右底隅部Ｅ₁，Ｅ₂を大きな曲率半径Ｒ───例えば、シール溝３の全体深さ寸法Ｈの30％以上80％以下に設定する───の凹曲面17，17となるように埋めた（肉付けた）形状である。

以上、各実施の形態に於て、相手部材６の接近押圧によって弾性シール１が押圧荷重を受けて弾性シール１の体積移動（弾性変形移動）が行なわれるときにその体積移動（弾性変形移動）を抑制する移動抑制手段50を、本発明のシール溝及びシール構造体が具備している。即ち、この移動抑制手段50は、最大幅部14、最大幅部30、幅減少部23、底面部19、底面部32、及び、0.10×Ｈ≦ｈ≦0.90×Ｈの関係式の成立するシール溝形状等により構成されているといえる。また、弾性シール１が相手部材６にて押圧されることに伴って、相手部材６の平坦面10に固着し、開放作動時に、弾性シール１が相手部材６と共にシール溝３から離脱することを抑制するシール離脱抑制手段49を、本発明のシール溝及びシール構造体が具備している。即ち、このシール離脱抑制手段49は、幅増加部22、幅増加部29等をもって構成されている。具体的には、上面21と平行な方向の段付を有するひっかけ部12（図９参照）や、図２〜図４（図12）や図10（図14）や図11（図15）の幅増加部22の側面形状から成る。

なお、本発明は、設計変更可能であって、例えば、ひっかけ部12の内面部26を勾配面をもって形成するも良い。また、シール溝３の横断面形状は、図10の角張った角部や隅部にアールを設ける（なめらかな曲面状とする）も好ましい。そして、弾性シール１の横断面形状が、図２（円形）、図５（楕円形）、図６（略７角形）、図７（ダルマ形）や図８（非対称ダルマ形）等のいずれもを、図２、図10、図11のいずれかと、組み合わせるも自由である。また、横断面形状の左右一方側のみを蟻溝状に形成し、左右他方側を非蟻溝状に形成するも良い。例えば、横断面形状の左右一方側のみにひっかけ部12を突設し、左右他方側を非蟻溝状に形成するも良い。また、シール溝３の長手方向に断続的に上述の横断面形状を有するものであっても良い。

以上のように、本発明は、シール取付部材２に凹設され、横断面形状が、シール取付部材２の上面21側から奥部へ向かって、開口部４と、奥方向に溝の幅寸法が増加する幅増加部22と、最大幅部14と、底面８を、順に有するシール溝であって、最大幅部14と底面８との間に、溝深さ方向にしだいに幅寸法が減少する幅減少部23、および／または、最大幅部14と略同等の幅を有する底面部19を有するシール溝であるので、所期目的を達成できて、メタルタッチを防止して、金属パーティクルの発生を抑制し、密封性に優れる。

また、シール取付部材２の上面21から最大幅部14までの深さ寸法ｈを、全体深さ寸法Ｈの10％以上90％以下に設定したシール溝であるので、確実にメタルタッチを防止することができるとともに、チャンバーゲートの明けしめ（シール構造の形成、解除）にともなって弾性シール１がシール溝３から取れるのを防止することができる。

また、シール取付部材２に凹設され、横断面形状が、シール取付部材２の上面21側から奥部へ向かって、開口部28と、幅増加部29と、最大幅部30と、底面31を、順に有するシール溝であって、開口部28に、弾性シール１の離脱を防止するためのひっかけ部12を有し、かつ、最大幅部30と底面31との間に、最大幅部30と略同等の幅を有する底面部32を有するシール溝であるので、所期目的を達成できて、メタルタッチを防止して、金属パーティクルの発生を抑制し、密封性に優れる。

また、相手部材６によって押圧される弾性シール１を装着するように、シール取付部材２に凹設されるシール溝に於て、密封状態を形成する際に相手部材６による押圧荷重を受けて弾性シール１の体積移動を抑制する移動抑制手段50と、弾性シール１の相手部材６への固着により相手部材６と共に離脱を抑制するシール離脱抑制手段49とを、具備するシール溝であるので、確実にメタルタッチを防止して優れた密封性を長期間にわたって発揮し、弾性シール１の寿命も延びる。

また、開口部４の幅寸法Ａよりも奥側の最大幅部14の幅寸法Ｂが大きい蟻溝状シール溝３の横断面積Ｓ₃よりも、シール溝３内へ装着される弾性シール１の横断面積Ｓ₁を大きく設定したので、弾性シール１に過大な荷重がかかった場合にも、メタルタッチを防止して金属パーティクルの発生を防ぎつつ確実にシール（密封）することができる。そして、大型の半導体やＦＰＤ等の製造装置に好適である。

また、開口部４の幅寸法Ａよりも奥側の最大幅部14の幅寸法Ｂが大きい蟻溝状シール溝３を凹設したシール取付部材２と、シール溝３内へ装着される弾性シール１と、弾性シール１がシール溝３の開口部４から突出している突出部５を押圧する相手部材６と、から成るシール構造体に於て、シール溝３の横断面積Ｓ₃よりも弾性シール１の横断面積Ｓ₁を大きく設定し、相手部材６の平坦面10が突出部５を押圧した圧縮密封状態に於て平坦面10とシール取付部材２との間に間隙Ｙが常に形成されるよう構成したので、弾性シール１に過大な荷重がかかった場合にも、メタルタッチを防止して金属パーティクルの発生を防ぎつつ確実にシール（密封）することができる。そして、大型の半導体やＦＰＤ等の製造装置に好適である。

また、開口部28の幅寸法Ｃよりも奥側の最大幅部30の幅寸法Ｄが大きい蟻溝状シール溝３の横断面積Ｓ₃よりも、シール溝３内へ装着される弾性シール１の横断面積Ｓ₁を大きく設定したので、弾性シール１に過大な荷重がかかった場合にも、メタルタッチを防止して金属パーティクルの発生を防ぎつつ確実にシール（密封）することができる。そして、大型の半導体やＦＰＤ等の製造装置に好適である。

また、開口部28の幅寸法Ｃよりも奥側の最大幅部30の幅寸法Ｄが大きい蟻溝状シール溝３を凹設したシール取付部材２と、シール溝３内へ装着される弾性シール１と、弾性シール１がシール溝３の開口部４から突出している突出部５を押圧する相手部材６と、から成るシール構造体に於て、シール溝３の横断面積Ｓ₃よりも弾性シール１の横断面積Ｓ₁を大きく設定し、相手部材６の平坦面10が突出部５を押圧した圧縮密封状態に於て平坦面10とシール取付部材２との間に間隙Ｙが常に形成されるよう構成したので、弾性シール１に過大な荷重がかかった場合にも、メタルタッチを防止して金属パーティクルの発生を防ぎつつ確実にシール（密封）することができる。そして、大型の半導体やＦＰＤ等の製造装置に好適である。

また、弾性シール１の横断面積Ｓ₁のシール溝３の横断面積Ｓ₃に対する百分率を占有率Ｋと定義すると、占有率Ｋを、 100％＜Ｋ≦ 150％に設定したので、弾性シール１に過大な荷重がかかった場合にも、メタルタッチを防止して金属パーティクルの発生を防ぎつつ確実にシール（密封）することができる。そして、大型の半導体やＦＰＤ等の製造装置に好適である。さらに、弾性シール１が破損することがない。
そして、Ｇ６サイズ以上の平面パネルの表面処理装置のチャンバーゲートに用いられるシール構造体とすれば、有害な金属パーティクルが発生せずに確実な密封作用を発揮して、平面パネル製造の大型化に貢献できる発明である。

本発明と関係が深い参考例の分解図を示す斜視図である。弾性シールの未装着状態を示す断面正面図である。弾性シールを蟻溝に嵌込んだ状態を示す断面正面図である。圧縮密封状態を示す断面正面図である。他の参考例を示す断面正面図である。さらに他の参考例を示す断面正面図である。第１の実施の形態を示す断面正面図である。別の参考例を示す断面正面図である。さらに別の参考例を示す断面正面図である。第２の実施の形態を示す断面正面図である。第３の実施の形態を示す断面正面図である。本発明と関係が深い参考例のシール溝の横断面形状を示す説明図である。参考例のシール溝の横断面形状を示す説明図である。第２の実施の形態のシール溝の横断面形状を示す説明図である。第３の実施の形態のシール溝の横断面形状を示す説明図である。

１弾性シール
２シール取付部材
３シール溝
４開口部
５突出部
６相手部材
８底面
10 平坦面
12 ひっかけ部
14 最大幅部
16 勾配面
17 凹曲面
18 垂直側面
19 底面部
21 上面
22 幅増加部
23 幅減少部
28 開口部
29 幅増加部
30 最大幅部
31 底面
32 底面部
49 シール離脱抑制手段
50 移動抑制手段
Ａ幅寸法
Ｂ幅寸法
Ｃ幅寸法
Ｄ幅寸法
Ｈ全体深さ寸法
ｈ深さ寸法
Ｋ占有率
Ｓ_１横断面積
Ｓ_３横断面積
Ｙ間隙
Ｅ_１左右底隅部
Ｅ_２左右底隅部
Ｒ曲率半径

Claims

シール溝（３）を凹設したシール取付部材（２）と、上記シール溝（３）内へ装着される弾性シール（１）と、該弾性シール（１）を押圧する相手部材（６）と、から成るシール構造体に於て、
上記弾性シール（１）は、横断面形状が、上面と下面がフラットであるとともに頭部と胴部とから成る略だるま型に形成され、
上記シール溝（３）が、密封状態を形成する際に上記相手部材（６）による押圧荷重を受けて上記弾性シール（１）の体積移動を抑制する移動抑制手段（50）と、上記弾性シール（１）が上記相手部材（６）への固着により該相手部材（６）と共に離脱することを抑制するシール離脱抑制手段（49）とを、具備し、
かつ、上記シール溝（３）は、横断面形状が、上記シール取付部材（２）の上面（21）側から奥部へ向かって、開口部（４）と、奥方向に溝の幅寸法が増加する幅増加部（22）と、最大幅部（14）と、該最大幅部（14）から底面（８）に近づくにつれてしだいに幅寸法が減少する幅減少部（23）とを、順に有し、
上記移動抑制手段（50）が、上記幅減少部（23）により上記シール溝（３）の左右底隅部（Ｅ _１）（Ｅ _２）を肉付けして構成されており、
かつ、圧縮密封状態において、上記頭部の一部が、上記開口部（４）から幅方向外側へまわりこむように、上記シール取付部材（２）と上記相手部材（６）との間に形成される間隙（Ｙ）に、はみ出すように構成し、
Ｇ６サイズ以上の平面パネルの表面処理装置のチャンバーゲートに用いることを特徴とするシール構造体。
シール溝（３）を凹設したシール取付部材（２）と、上記シール溝（３）内へ装着される弾性シール（１）と、該弾性シール（１）を押圧する相手部材（６）と、から成るシール構造体に於て、
上記弾性シール（１）は、横断面形状が、上面と下面がフラットであるとともに頭部と胴部とから成る略だるま型に形成され、
上記シール溝（３）が、密封状態を形成する際に上記相手部材（６）による押圧荷重を受けて上記弾性シール（１）の体積移動を抑制する移動抑制手段（50）と、上記弾性シール（１）が上記相手部材（６）への固着により該相手部材（６）と共に離脱することを抑制するシール離脱抑制手段（49）とを、具備し、
かつ、上記シール溝（３）は、横断面形状が、上記シール取付部材（２）の上面（21）側から奥部へ向かって、開口部（４）と、奥方向に溝の幅寸法が増加する幅増加部（22）と、最大幅部（14）と、該最大幅部（14）から底面（８）に近づくにつれてしだいに幅寸法が減少する幅減少部（23）とを、順に有し、
上記幅減少部（23）が、上記シール溝（３）の全体深さ寸法（Ｈ）の30％以上80％以下の曲率半径（Ｒ）を有する凹曲面（17）（17）と、上記底面（８）をもって形成され、
上記移動抑制手段（50）が、上記幅減少部（23）により上記シール溝（３）の左右底隅部（Ｅ_１）（Ｅ_２）を肉付けして構成されており、
かつ、圧縮密封状態において、上記頭部の一部が、上記開口部（４）から幅方向外側へまわりこむように、上記シール取付部材（２）と上記相手部材（６）との間に形成される間隙（Ｙ）に、はみ出すように構成し、
Ｇ６サイズ以上の平面パネルの表面処理装置のチャンバーゲートに用いることを特徴とするシール構造体。