JP4975793B2 - 半導体集積回路 - Google Patents

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Description

本発明は、半導体集積回路に関し、より詳しくは、差動アンプを備える半導体集積回路に関する。
一般的な差動アンプを含む半導体集積回路では、入力電圧に基づいて、NチャネルDMOS(Double−Diffused Metal−Oxide−Semiconductor)及びPチャネルDMOSのアナログスイッチを使用して、差動アンプのオフセット電圧の補正(以下、「オフセット補正」という)が行われる。
従来の差動アンプを含む半導体集積回路(特許文献1を参照)では、入力電圧のモニタリング時とオフセット補正時とで回路を切り換えることによって、オフセット補正が行われる。例えば、特許文献1の直流増幅回路では、信号経路を切り、差動アンプの入力電圧(以下、「差動入力電圧」という)を0[V]にすることによって、オフセット補正を行う。
しかしながら、従来の差動アンプを含む半導体集積回路では、DMOSのアナログスイッチが入力端子に直接接続される。従って、入力電圧が負電圧(例えば、−2[V])の場合に、シリコンウエハのPチャネル基板とDMOSのドレインとの間に寄生PNダイオードが生成される。この場合には、差動アンプは動作しない。
すなわち、従来の差動アンプを含む半導体集積回路では、入力電圧が負電圧の場合には、差動アンプを動作させることができない。
特開2000−252770号公報
本発明の目的は、入力電圧が負電圧であっても差動アンプを動作させることである。
本発明の一態様によれば、
第1入力電圧を受け付ける第1入力端子と、
第2入力電圧を受け付ける第2入力端子と、
前記第1入力端子によって受け付けられた前記第1入力電圧と前記第2入力端子によって受け付けられた前記第2入力電圧との差から得られる差動入力電圧を増幅することによって、差動出力電圧を生成する差動アンプと、
前記第1入力端子と前記第2入力端子とを電気的に接続する又は切り離す切替部と、
基準電圧を生成する電源に接続され、前記切替部によって前記第1入力端子と前記第2入力端子とが電気的に接続されたときに、前記差動出力電圧及び前記基準電圧に基づいて、前記差動アンプのオフセット補正電圧を生成するサンプルホールド部と、を備えることを特徴とする半導体集積回路が提供される。
本発明によれば、入力電圧が負電圧であっても差動アンプを動作させることができる。
本発明の実施形態に係る半導体集積回路10の構成を示すブロック図である。 図1の半導体集積回路10の一例を示す回路図である。 本発明の実施形態に係る半導体集積回路10の動作を説明する図表である。
以下、本発明の実施形態について、図面を参照して詳細に説明する。
本発明の実施形態に係る半導体集積回路10の構成について説明する。図1は、本発明の実施形態に係る半導体集積回路10の構成を示すブロック図である。
図1に示すように、本発明の実施形態に係る半導体集積回路10は、入力部11と、切替部12と、制御部13と、差動アンプ14と、サンプルホールド部15と、出力部16と、を備える。
図1の入力部11は、外部回路(図示せず)から供給される入力電圧VIN(第1入力電圧VIN1及び第2入力電圧VIN2)を受け付けるように構成される。例えば、入力部11は、第1入力電圧VIN1及び第2入力電圧VIN2の入力端子である。例えば、入力電圧VINは、−2[V]<VINである。
図1の切替部12は、入力部11と差動アンプ14との間の回路を切り換えるように構成される。例えば、切替部12は、入力部11によって受け付けられた第1入力電圧VIN1及び第2入力電圧VIN2から差動アンプ14のオフセット電圧VOFFを補正するための差動入力電圧VIDを得るための回路である。
図1の制御部13は、外部電源から供給される駆動電圧Vに基づいて、差動入力電圧VIDが小さくなるように、入力電圧VINの大きさに応じて切替部12を制御するように構成される。例えば、制御部13は、切替部12を制御することによって、差動入力電圧VIDを低減させる。
図1の差動アンプ14は、差動入力電圧VIDを増幅することによって、差動出力電圧VODを生成するように構成される。
図1のサンプルホールド部15は、差動出力電圧VODのサンプリング及びホールディングを行うことによって、差動アンプ14のオフセット電圧VOFFを補正するように構成される。
図1の出力部16は、サンプルホールド部15によって差動アンプ14のオフセット電圧VOFFが補正された後に差動アンプ14によって生成される差動出力電圧VODを半導体集積回路10の出力電圧VOUTとして外部回路に出力するように構成される。
本発明の実施形態に係る半導体集積回路10の構成の具体例について説明する。図2は、図1の半導体集積回路10の一例を示す回路図である。
図2に示すように、入力部11は、第1入力端子11aと、第2入力端子11bと、を備える。第1入力端子11aは、外部電源から供給される第1入力電圧VIN1を受け付けるように構成される。第2入力端子11bは、外部電源から供給される第2入力電圧VIN2を受け付けるように構成される。
切替部12は、NチャネルDMOSトランジスタMA1及びMA2と、PチャネルDMOSトランジスタMA3及びMA4と、を備える。すなわち、切替部12は、複数のDMOSトランジスタから構成されるアナログスイッチである。以下、NチャネルDMOSトランジスタMA1を第1NチャネルDMOS12aといい、NチャネルDMOSトランジスタMA2を第2NチャネルDMOS12bといい、PチャネルDMOSトランジスタMA3を第1PチャネルDMOS12cといい、PチャネルDMOSトランジスタMA4を第2PチャネルDMOS12dという。
制御部13は、第1NチャネルDMOS12aをオンに切り換えるオン駆動回路13aと、第2NチャネルDMOS12bをオンに切り換えるオン駆動回路13bと、第1PチャネルDMOS12c及び第2PチャネルDMOS12dをオンに切り換えるオン駆動回路13cと、第1PチャネルDMOS12c及び第2PチャネルDMOS12dをオフに切り換えるオフ駆動回路13dと、を備える。各オン駆動回路13a乃至13cは、所定の駆動電圧Vに基づいて動作する。オフ駆動回路13dは、接地される。すなわち、制御部13は、複数のDMOSトランジスタから構成されるアナログスイッチを制御する回路である。
サンプルホールド部15は、サンプルホールドアンプ15aと、Gmアンプ15bと、スイッチ15cと、を備える。
第1入力端子11aには、抵抗RA1a及びツェナーDA1のカソードが接続される。ツェナーDA1のアノードには、ベース−エミッタ間がショートしたNPNトランジスタQA1のコレクタが接続される。第1NチャネルDMOS12aのゲート−ソース間には、抵抗RA5が接続される。NPNトランジスタQA1のエミッタには、第1NチャネルDMOS12aのゲート、抵抗RA5及びオン駆動回路13aが接続される。第1NチャネルDMOS12aのソースには、第1PチャネルDMOS12cのドレイン及び抵抗RA1bが接続される。抵抗RA1bには、差動アンプ14の負電圧入力端子及び抵抗RA3が接続される。抵抗RA3には、サンプルホールド部15のサンプルホールドアンプ15aの出力端子が接続される。第1PチャネルDMOS12cのゲートには、第2PチャネルDMOS12dのゲート、オン駆動回路13c及びオフ駆動回路13dが接続される。第1PチャネルDMOS12cのソースには、第2PチャネルDMOS12dのソース及びオン駆動回路13cが接続される。
第2入力端子11bには、抵抗RA2a及びツェナーDA2のカソードが接続される。ツェナーDA2のアノードには、ベース−エミッタ間がショートしたNPNトランジスタQA2のコレクタが接続される。第2NチャネルDMOS12bのゲート−ソース間には、抵抗RA6が接続される。NPNトランジスタQA2のエミッタには、第2NチャネルDMOS12bのゲート、抵抗RA6及びオン駆動回路13bが接続される。第2NチャネルDMOS12bのソースには、第2PチャネルDMOS12dのドレイン及び抵抗RA2bが接続される。抵抗RA2bには、差動アンプ14の正電圧入力端子及び抵抗RA4が接続される。抵抗RA4には、差動アンプ14の出力端子及びサンプルホールド部15のGmアンプ15bの負電圧入力端子が接続される。第2PチャネルDMOS12dのゲートには、第1PチャネルDMOS12cのゲート、オン駆動回路13c及びオフ駆動回路13dが接続される。第2PチャネルDMOS12dのソースには、第1PチャネルDMOS12cのソース及びオン駆動回路13cが接続される。
サンプルホールドアンプ15aの正電圧入力端子には、電源が接続される。サンプルホールドアンプ15aの負電圧入力端子には、論理回路(図示せず)の出力信号Lに基づいて動作するスイッチ15cが接続される。サンプルホールドアンプ15aの負電圧入力端子と出力端子との間には、キャパシタCA1が接続される。例えば、サンプルホールドアンプ15aは、スイッチ15cがオンのときにサンプリングを行い、スイッチ15cがオフのときにホールディングを行う。
Gmアンプ15bの正電圧入力端子は、基準電圧VREFを供給する電源に接続される。Gmアンプ15bの負電圧入力端子は、差動アンプ14の出力端子及び出力部16に接続される。Gmアンプ15bの出力端子は、スイッチ15cに接続される。
出力部16には、差動アンプ14の出力端子、抵抗RA4及びGmアンプ15bの負電圧入力端子が接続される。
各抵抗の抵抗値の関係は、RA1a=RA2a、RA1b=RA2b、RA3=RA4、RA3=n(RA1a+RA1b)である。上記関係を満たすことによって、n倍の差動動作を行う差動アンプ14が実現される。
すなわち、切替部12は、差動アンプ14の負電圧入力端子に接続される抵抗分割点Aにソースが接続される第1PチャネルDMOS12cと、差動アンプ14の負電圧入力端子に接続される抵抗分割点Aにドレインが接続される第1NチャネルDMOS12aと、差動アンプ14の正電圧入力端子に接続される抵抗分割点Bにソースが接続される第2PチャネルDMOS12dと、差動アンプ14の正電圧入力端子に接続される抵抗分割点Bにドレインが接続される第2NチャネルDMOS12bと、を備える。第1PチャネルDMOS12cと第2PチャネルDMOS12dとは、互いにドレイン同士が接続される。第1NチャネルDMOS12aと第2NチャネルDMOS12bとは、互いにゲートとソースとが接続される。
本発明の実施形態に係る半導体集積回路10の動作について説明する。図3は、本発明の実施形態に係る半導体集積回路10の動作を説明する図表である。
<図3(1)> 制御部13は、入力電圧VINが所定の閾値電圧VTH(例えば、電源電圧の半分)より大きい場合には、第1PチャネルDMOS12c及び第2PチャネルDMOS12dがオンになり、第1NチャネルDMOS12a及び第2NチャネルDMOS12bがオフになるように、切替部12を制御する(図3の(1)を参照)。この場合には、第1NチャネルDMOS12aと第2NチャネルDMOS12bとの間がショートし、第1PチャネルDMOS12c及び第2PチャネルDMOS12dによって形成される回路が接続される。その結果、差動入力電圧VIDが略0[V]に低減される。なお、図2の例では、入力電圧差の最大値(以下、「最大入力電圧差」という)ΔVMAXを考慮して、抵抗RA1a及びRA2aに対する第1PチャネルDMOS12c及び第2PチャネルDMOS12dのオン抵抗を小さくすることが好ましい。
<図3(2)> 制御部13は、入力電圧VINが所定の閾値電圧VTH以下である場合には、第1NチャネルDMOS12a及び第2NチャネルDMOS12bがオンになり、第1PチャネルDMOS12c及び第2PチャネルDMOS12dがオフになるように、切替部12を制御する(図3の(2)を参照)。この場合には、第1PチャネルDMOS12c及び第2PチャネルDMOS12dによって形成される回路がショートし、第1NチャネルDMOS12a及び第2NチャネルDMOS12bによって形成される回路が接続される。その結果、所定の差動入力電圧VIDが略0[V]に低減される。なお、図2の例では、最大入力電圧差ΔVMAXを考慮して、抵抗RA1a及びRA2aに対する第1NチャネルDMOS12a及び第2NチャネルDMOS12bのオン抵抗を小さくすることが好ましい。
図3(1)及び(2)の何れの場合にも、差動入力電圧VIDは略0[V]になる。従って、差動出力電圧VODはオフセット電圧VOFFである。サンプルホールド部15は、サンプルホールドアンプ15a、Gmアンプ15b及びスイッチ15cを使用することによって、オフセット電圧VOFFを基準電圧VREF相当に補正し、補正されたオフセット電圧VOFFをホールディングする。その結果、差動アンプ14のオフセット電圧が補正される。
すなわち、本発明の実施形態に係る半導体集積回路10では、差動出力電圧VODのサンプリングが行われる前に、入力電圧VINの大きさに応じて切替部12が切り換えられることによって、入力電圧VINの値に関わらず差動アンプ14のオフセット補正が適切に行われ、オフセット補正が行われた後に、差動出力電圧VODのサンプリングが行われる。
本発明の実施形態では、切替部12の2つのアナログスイッチ(第1NチャネルDMOS12a及び第2NチャネルDMOS12b、又は第1PチャネルDMOS12c及び第2PチャネルDMOS12d)のドレイン同士が直列に接続され、抵抗分割点A及びBにアナログスイッチのソースが接続される。また、2つのアナログスイッチのドレイン間はショートする。従って、入力電圧VINが小さい(例えば、負電圧である)場合には、各アナログスイッチのドレインとシリコンウエハのPチャネル基板との間に形成される寄生PNダイオードがオンになった状態で抵抗分割点Aと抵抗分割点Bとの間がショートする。しかしながら、本発明の実施形態では、抵抗分割点Aと抵抗分割点Bとの間がショートすることによって差動入力電圧VIDが低減するので、寄生PNダイオードがオンになったとしても問題はない。
また、本発明の実施形態では、入力電圧VINのモニタリングを行う場合には、切替部12のアナログスイッチがオフになる。その結果、入力電圧VINが小さい(例えば、負電圧である)場合であっても、抵抗分割点A及びBには、アナログスイッチのドレインとシリコンウエハのPチャネル基板との間に寄生PNダイオードが形成されない。従って、入力電圧VINが小さい場合であっても、差動アンプ14は正常に動作する。
また、本発明の実施形態では、DMOSのゲートを保護するために付加される素子もシリコンウエハのPチャネル基板との間に寄生PNダイオードが形成されないような特性を有することが好ましい。この場合にも、入力電圧VINに応じてアナログスイッチを使い分けることによって、制御部13の駆動電圧Vを確保することができる。
また、本発明の実施形態では、駆動電圧Vが確保できる範囲において、入力抵抗(RA1a+RA2a)のうち抵抗RA1aの抵抗比率が小さいことが好ましい。差動アンプ14のオフセット補正動作時には、抵抗分割点Aと抵抗分割点Bとの間がショートするので、抵抗RA1a及びRA2aは補正外ループになり、抵抗RA1aと抵抗RA2aとの相対誤差がオフセット補正誤差として残る。しかしながら、上記のような理由で、入力抵抗における抵抗RA1aの抵抗比率を小さくすることによって、このオフセット補正誤差を低減することができる。
すなわち、本発明の実施形態に係る半導体集積回路10は、差動入力電圧VIDを略0[V]にすることによって、サンプルホールド部15の出力電圧VOSHを基準電圧VREF相当に補正し、補正された出力電圧VOSHを保持し(すなわち、差動アンプ14のオフセット電圧VOFFを補正し)、差動アンプ14を動作させる。
本発明の実施形態では、切替部12が第1NチャネルDMOS12a、第2NチャネルDMOS12b、第1PチャネルDMOS12c及び第2PチャネルDMOS12dを備える例について説明した。しかしながら、本発明の範囲はこれに限られるものではない。本発明の代替の実施形態では、切替部12は、入力部11と差動アンプ14との間に少なくとも1対のMOSトランジスタを備えていれば良い。この場合には、制御部13は、少なくとも1対のMOSトランジスタのオン又はオフの切換を制御する。すなわち、切替部12は、1対のNチャネルDMOSを備えていれば良い。
本発明の実施形態によれば、入力電圧VINと所定の閾値電圧VTHとの大小関係に応じて入力部11と差動アンプ14との間に設けられた切替部12の回路を切り替えることによって、差動入力電圧VIDを低減させ、その差動入力電圧VIDを用いてオフセット補正が行われる。従って、入力電圧VINが負電圧であっても差動アンプを動作させることができる。
また、本発明の実施形態によれば、切替部12は、少なくとも1対のMOS(例えば、NチャネルDMOS)を備える。従って、差動入力電圧VIDを大きく低減することができる。
また、本発明の実施形態によれば、制御部13は、入力電圧VINと閾値電圧VTHとの大小関係に応じてNチャネルDMOSとPチャネルDMOSを使い分ける。従って、同時駆動の場合と比べて、駆動電圧Vに基づいて発生する駆動電流を低減することができ、且つ、差動アンプ14の入力のダイナミックレンジを確保することができる。
また、本発明の実施形態によれば、入力抵抗(RA1a+RA2a)のうち第1入力端子11aに接続される抵抗RA1aの抵抗比率を小さくする。従って、オフセット補正誤差を低減することができる。例えば、切替部12のアナログスイッチを、入力部11にできるだけ近い位置に設けることが好ましい。
上述した実施形態は、いずれも一例であって限定的なものではないと考えられるべきである。本発明の技術的範囲は、特許請求の範囲によって示され、特許請求の範囲と均等の意味および範囲内でのすべての変更が含まれることが意図される。
10 半導体集積回路
11 入力部
11a 第1入力端子
11b 第2入力端子
12 切替部
12a 第1NチャネルDMOS
12b 第2NチャネルDMOS
12c 第1PチャネルDMOS
12d 第2PチャネルDMOS
13 制御部
13a〜13c オン駆動回路
13d オフ駆動回路
14 差動アンプ
15 サンプルホールド部
15a サンプルホールドアンプ
15b Gmアンプ
15c スイッチ
16 出力部
RA1a,RA1b,RA2a,RA2b,RA3,RA4 抵抗
DA1,DA2 ツェナー
QA1,QA2 NPNトランジスタ
MA1,MA2 NチャネルDMOSトランジスタ
MA3,MA4 PチャネルDMOSトランジスタ

Claims (20)

  1. 第1入力電圧を受け付ける第1入力端子と、
    第2入力電圧を受け付ける第2入力端子と、
    前記第1入力端子によって受け付けられた前記第1入力電圧と前記第2入力端子によって受け付けられた前記第2入力電圧との差から得られる差動入力電圧を増幅することによって、差動出力電圧を生成する差動アンプと、
    前記第1入力端子と前記第2入力端子とを電気的に接続する又は切り離す切替部と、
    基準電圧を生成する電源に接続され、前記切替部によって前記第1入力端子と前記第2入力端子とが電気的に接続されたときに、前記差動出力電圧及び前記基準電圧に基づいて、前記差動アンプのオフセット補正電圧を生成するサンプルホールド部と、を備えることを特徴とする半導体集積回路。
  2. 前記第1入力端子と前記第2入力端子とを電気的に接続する制御信号を、前記切替部に供給する制御部をさらに備え、
    前記切替部は、前記制御部から前記制御信号が供給された場合に、前記第1入力端子と前記第2入力端子とを電気的に接続する、請求項1に記載の半導体集積回路。
  3. 前記切替部は、少なくともPチャネルDMOS(Double−Diffused Metal−Oxide−Semiconductor)を備え、
    前記制御部は、前記PチャネルDMOSのオン及びオフを切り換える制御信号を、前記切替部に供給する、請求項2に記載の半導体集積回路。
  4. 前記切替部は、さらに、前記PチャネルDMOSと並列に接続されたNチャネルDMOSを備え、
    前記制御部は、さらに、前記NチャネルDMOSのオン及びオフを切り換える制御信号を、前記切替部に供給する、請求項3に記載の半導体集積回路。
  5. 前記制御部は、前記切替部に対して前記制御信号を供給する場合に、前記第1入力電圧又は前記第2入力電圧と、閾値電圧と、を比較し、比較結果に基づく制御信号を、前記切替部に供給する、請求項4に記載の半導体集積回路。
  6. 前記制御部は、前記第1入力電圧又は前記第2入力電圧が前記閾値電圧より高い場合には、前記PチャネルDMOSがオンになり、前記第1入力電圧又は前記第2入力電圧が前記閾値電圧以下である場合には、前記NチャネルDMOSがオンになるように、前記制御信号を前記切替部に供給する、請求項5に記載の半導体集積回路。
  7. 前記閾値電圧は、前記PチャネルDMOS及び前記NチャネルDMOSの両方が動作可能な範囲で定められる、請求項5に記載の半導体集積回路。
  8. 前記NチャネルDMOS及び前記PチャネルDMOSは、前記制御部から前記制御信号が供給された場合に、前記第1入力端子と前記第2入力端子とを電気的に接続する、請求項4に記載の半導体集積回路。
  9. 前記NチャネルDMOS及び前記PチャネルDMOSの少なくとも一方は、前記制御部から前記制御信号が供給された場合に、前記第1入力端子と前記第2入力端子とを電気的に接続する、請求項4に記載の半導体集積回路。
  10. 前記切替部は、
    前記差動アンプの負電圧入力端子に接続された第1抵抗分割点に、ドレインが接続された第1PチャネルDMOSと、
    前記差動アンプの正電圧入力端子に接続された第2抵抗分割点に、ドレインが接続された第2PチャネルDMOSと、を備え、
    前記制御部は、前記第1PチャネルDMOSのオン及びオフ並びに前記第2PチャネルDMOSのオン及びオフを切り換える制御信号を生成する、請求項2に記載の半導体集積回路。
  11. 前記切替部は、さらに、
    前記第1抵抗分割点にソースが接続された第1NチャネルDMOSと、
    前記第2抵抗分割点にソースが接続された第2NチャネルDMOSと、を備え、
    前記制御部は、前記第1NチャネルDMOSのオン及びオフ並びに前記第2NチャネルDMOSのオン及びオフを切り換える制御信号を生成する、請求項10に記載の半導体集積回路。
  12. 前記第1NチャネルDMOSのドレインは、前記第2NチャネルDMOSのドレインと接続され、
    前記第1PチャネルDMOSのドレインは、前記第2PチャネルDMOSのドレインと接続される、請求項11に記載の半導体集積回路。
  13. 前記制御部は、前記切替部に対して前記制御信号を供給する場合に、前記第1入力電圧又は前記第2入力電圧と、閾値電圧と、を比較し、比較結果に基づいて、前記第1PチャネルDMOSのオン及びオフと、前記第2PチャネルDMOSのオン及びオフと、前記第1NチャネルDMOSのオン及びオフと、前記第2NチャネルDMOSのオン及びオフと、を切り換える制御信号を、前記切替部に供給する、請求項11に記載の半導体集積回路。
  14. 前記制御部は、前記第1入力電圧又は前記第2入力電圧が前記閾値電圧より高い場合には、前記第1PチャネルDMOS及び前記第2PチャネルDMOSをオンにし、前記第1入力電圧又は前記第2入力電圧が前記閾値電圧以下である場合には、前記第1NチャネルDMOS及び前記第2NチャネルDMOSをオンにする制御信号を、前記切替部に供給する、請求項13に記載の半導体集積回路。
  15. 前記閾値電圧は、前記第1PチャネルDMOS、前記第2PチャネルDMOS、前記第1NチャネルDMOS、及び前記第2NチャネルDMOSの全てが動作可能な範囲で定められる、請求項13に記載の半導体集積回路。
  16. 前記制御部は、前記切替部に対して前記制御信号を供給する場合に、前記第1PチャネルDMOS及び前記第2PチャネルDMOSの組み合わせと、前記第1NチャネルDMOS及び前記第2NチャネルDMOSの組み合わせと、の少なくとも一方をオンにする制御信号を供給する、請求項11に記載の半導体集積回路。
  17. 前記サンプルホールド部は、
    前記電源に接続され、前記制御部が前記制御信号を前記切替部に供給したときに、前記差動出力電圧と前記基準電圧との差を増幅するGmアンプと、
    前記Gmアンプの出力電圧と電源電圧との差を増幅するサンプルホールドアンプと、
    前記サンプルホールドアンプの出力電圧に対応する電荷を蓄積するキャパシタと、を備える請求項2に記載の半導体集積回路。
  18. 前記キャパシタは、前記オフセット補正電圧に対応する電荷を蓄積する、請求項17に記載の半導体集積回路。
  19. 前記制御部は、周期的に、前記制御信号を前記切替部に供給する、請求項2に記載の半導体集積回路。
  20. 前記差動入力電圧が小さくなるように、入力電圧の大きさに応じて前記切替部を制御する制御部をさらに備える、請求項1乃至19の何れかに記載の半導体集積回路。
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