JP4968460B2 - Resin composition, metal foil with resin composition and printed wiring board - Google Patents

Resin composition, metal foil with resin composition and printed wiring board Download PDF

Info

Publication number
JP4968460B2
JP4968460B2 JP2007104690A JP2007104690A JP4968460B2 JP 4968460 B2 JP4968460 B2 JP 4968460B2 JP 2007104690 A JP2007104690 A JP 2007104690A JP 2007104690 A JP2007104690 A JP 2007104690A JP 4968460 B2 JP4968460 B2 JP 4968460B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
resin
resin composition
printed wiring
wiring board
metal foil
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Active
Application number
JP2007104690A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JP2008260849A (en
Inventor
豊昭 岸
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Sumitomo Bakelite Co Ltd
Original Assignee
Sumitomo Bakelite Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Sumitomo Bakelite Co Ltd filed Critical Sumitomo Bakelite Co Ltd
Priority to JP2007104690A priority Critical patent/JP4968460B2/en
Publication of JP2008260849A publication Critical patent/JP2008260849A/en
Application granted granted Critical
Publication of JP4968460B2 publication Critical patent/JP4968460B2/en
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Description

本発明は、発光ダイオード等の発光素子の実装に適する光反射率が高く、高耐熱性のプリント配線板、これに用いる樹脂組成物及び樹脂組成物付き金属箔に関するものである。   The present invention relates to a highly heat-resistant printed wiring board suitable for mounting a light-emitting element such as a light-emitting diode and a high heat resistance, a resin composition used therefor, and a metal foil with a resin composition.

発光ダイオード等の発光素子を実装したプリント配線板あるいは発光素子周りで使用される発光素子非実装のプリント配線板では、明るさを確保するため、発光素子の反射光量を低減しないことが要求されている。   In a printed wiring board on which a light emitting element such as a light emitting diode is mounted or a printed wiring board not mounted on a light emitting element used around the light emitting element, it is required not to reduce the amount of reflected light of the light emitting element in order to ensure brightness. Yes.

従来、発光素子を実装するプリント配線板の製造方法としては、白色充填剤を含む樹脂を塗布した金属箔とプリプレグとを加熱加圧成形により一体化する積層板の製造方法が開示されている(特開平7−241952号公報)。具体的には、回路が形成された内層プリント配線板上にシート状ガラス繊維基材にエポキシ樹脂を含浸して半硬化させたプリプレグシートを1枚以上重ね、更にその上に白色充填剤を含む樹脂を塗布した銅箔を重ね熱板プレスにて加圧一体成形する方法である。   Conventionally, as a method for producing a printed wiring board on which a light emitting element is mounted, a method for producing a laminated board in which a metal foil coated with a resin containing a white filler and a prepreg are integrated by heating and pressing is disclosed ( JP-A-7-241952). Specifically, one or more prepreg sheets obtained by impregnating a sheet-like glass fiber base material with an epoxy resin and semi-cured thereon are stacked on an inner layer printed wiring board on which a circuit is formed, and a white filler is further included thereon. This is a method in which a copper foil coated with a resin is pressure-integrated and molded by a hot plate press.

LEDチップは、図6に示すように、上記方法で得られたプリント配線板101の一方の表面102にLED素子103を搭載してなるものである。LED素子103は、プリント配線板101の導体回路とワイヤー104で接続されると共に、樹脂105で封止されている。   As shown in FIG. 6, the LED chip is obtained by mounting an LED element 103 on one surface 102 of a printed wiring board 101 obtained by the above method. The LED element 103 is connected to the conductor circuit of the printed wiring board 101 by a wire 104 and sealed with a resin 105.

LEDチップ100に使用されるプリント配線板101の表面層は、白色充填剤が配合されているものの、エポキシ樹脂は400〜600nmの光を吸収する傾向にあるため反射が弱くなり、明るさを確保するには不十分であった。また、プリント配線板101に配合されるシート状ガラス繊維基材は光を透過させてしまい、同様に明るさを確保するには不十分であった。可視光線の中でも特に、400〜600nmの波長領域のものについては600nm以上の波長領域の光に比べて、反射光量が低減する傾向にあり、400〜600nmの波長を有する光に対する明るさの確保が望まれていた。   Although the surface layer of the printed wiring board 101 used for the LED chip 100 is blended with a white filler, the epoxy resin tends to absorb light of 400 to 600 nm, so the reflection becomes weak and the brightness is ensured. It was not enough to do. Moreover, the sheet-like glass fiber base material mix | blended with the printed wiring board 101 permeate | transmits light, and it was inadequate to ensure brightness similarly. In particular, visible light having a wavelength region of 400 to 600 nm tends to reduce the amount of reflected light compared to light having a wavelength region of 600 nm or more, and ensuring brightness for light having a wavelength of 400 to 600 nm. It was desired.

また、プリプレグで使用される樹脂組成物が、通常のエポキシ樹脂のみの場合、素子の発光に伴い発生する熱に耐えることができず、熱による機械特性の低下が問題となっていた。これを解決するため、高耐熱性の芳香族エポキシ樹脂を配合したものが提案されているが、発光素子を直接搭載する場合には200℃近くの温度に晒されることがあり、耐熱性の問題は以前、未解決のままであった。また、プリント配線板と発光素子を接続する時にワイヤーボンディングによる接続を行なう場合が多いが、ガラス織布が存在しないと十分な強度を確保できず、接続において不具合が発生するという問題があった。
特開平7−241952号公報(請求項3)
Further, when the resin composition used in the prepreg is only a normal epoxy resin, it cannot withstand the heat generated due to the light emission of the device, and the deterioration of mechanical properties due to heat has been a problem. In order to solve this, what has been blended with a highly heat-resistant aromatic epoxy resin has been proposed, but when the light-emitting element is directly mounted, it may be exposed to a temperature close to 200 ° C. Previously remained unresolved. Further, in many cases, connection by wire bonding is performed when connecting the printed wiring board and the light emitting element. However, there is a problem that a sufficient strength cannot be ensured if a glass woven fabric is not present, resulting in problems in connection.
Japanese Patent Laid-Open No. 7-241952 (Claim 3)

従って、本発明の目的は、発光素子を搭載したときに素子の可視光、特に400〜600nmの波長領域の可視光を効率よく反射することができ、また発光素子の発光熱に耐える高耐熱性と高剛性を有するプリント配線板、これに用いる樹脂組成物及び樹脂組成物付き金属箔を提供することにある。   Therefore, an object of the present invention is to efficiently reflect visible light of a device, particularly visible light in a wavelength region of 400 to 600 nm when a light-emitting device is mounted, and to have high heat resistance that can withstand the light emitted from the light-emitting device. Another object of the present invention is to provide a printed wiring board having high rigidity, a resin composition used therefor, and a metal foil with a resin composition.

かかる実情において、本発明者は鋭意検討を行った結果、(1)従来、プリント配線板用樹脂組成物のプリプレグに使用されていたシート状ガラス繊維基材とエポキシ樹脂が、反射光量を著しく低減させていたこと、(2)シート状ガラス繊維基材の替わりに、配合量を多くした無機フィラーを使用し、且つ該無機フィラーを平均粒子径が0.5μm近傍の第1粉体無機フィラーと平均粒子径が1.0μm近傍の第2粉体無機フィラーの混合フィラーとすれば、400〜600nmの波長で共鳴することなく、発光素子を搭載したときに素子の可視光、特に400〜600nmの波長領域の可視光を効率よく反射することができること、(3)シアネート樹脂またはそのプレポリマーとエポキシ樹脂の混合樹脂を使用すれば、発光素子の発光熱に耐え得る高耐熱性を付与でき、更にシート状ガラス繊維基材を使用しなくとも、ワイヤーボンディング接続を可能とする高剛性を付与できることなどを見出し、本発明を完成するに至った。   In this situation, as a result of intensive studies, the present inventor has (1) a sheet-like glass fiber base material and an epoxy resin, which have been conventionally used for prepregs of resin compositions for printed wiring boards, to significantly reduce the amount of reflected light. (2) Instead of the sheet-like glass fiber base material, an inorganic filler with an increased amount is used, and the inorganic filler is a first powder inorganic filler having an average particle diameter of about 0.5 μm and If the mixed filler of the second powder inorganic filler having an average particle diameter of about 1.0 μm is used, the visible light of the element, particularly 400 to 600 nm, is obtained when the light emitting element is mounted without resonating at a wavelength of 400 to 600 nm. The ability to efficiently reflect visible light in the wavelength region, and (3) the light emission heat of the light emitting device by using a cyanate resin or a mixed resin of its prepolymer and epoxy resin. It has been found that high heat resistance that can withstand heat resistance can be imparted, and that high rigidity that enables wire bonding connection can be imparted without using a sheet-like glass fiber substrate, and the present invention has been completed.

すなわち、本発明は、金属箔又は樹脂製フィルムの一方の側面に積層されるプリント配線板用の樹脂組成物であって、(A)シアネート樹脂またはそのプレポリマー、(B)エポキシ樹脂、(C)硬化剤、(D)平均粒子径が0.45〜0.55μmの第1粉末無機フィラーと平均粒子径が0.8〜1.2μmの第2粉末無機フィラーの混合フィラー及び(E)白色顔料を含有し、前記混合フィラー(D)の含有量は、樹脂組成物中、30〜60重量%であることを特徴とする樹脂組成物を提供するものである。   That is, this invention is a resin composition for printed wiring boards laminated | stacked on one side surface of metal foil or a resin film, Comprising: (A) Cyanate resin or its prepolymer, (B) Epoxy resin, (C ) A curing agent, (D) a mixed filler of a first powder inorganic filler having an average particle size of 0.45 to 0.55 μm and a second powder inorganic filler having an average particle size of 0.8 to 1.2 μm, and (E) white It contains a pigment, and the content of the mixed filler (D) is 30 to 60% by weight in the resin composition.

また、本発明は、前記樹脂組成物を金属箔の一方の側に積層して得られる樹脂組成物付き金属箔を提供するものである。   Moreover, this invention provides the metal foil with a resin composition obtained by laminating | stacking the said resin composition on one side of metal foil.

また、本発明は、前記樹脂組成物付き金属箔を内層プリント配線板の片面又は両面に、該樹脂組成物が内側となるように、重ね合わせて加熱、加圧して得られることを特徴とするプリント配線板を提供するものである。   Further, the present invention is obtained by heating and pressurizing the metal foil with the resin composition on one side or both sides of the inner printed wiring board so that the resin composition is inside. A printed wiring board is provided.

本発明のプリント配線板をLEDチップに用いれば、発光素子を搭載したときに素子の可視光、特に400〜600nmの短波長領域の可視光を反射率80%で反射することができる。従来のプリプレグを用いたプリント配線板の反射率がせいぜい40%であり、従来得られなかった明るさを確保することができる。また、シアネート樹脂またはそのプレポリマーとエポキシ樹脂の混合樹脂を使用したため、発光素子の発光熱に耐え得る高耐熱性を付与することができると共に、更にワイヤーボンディング接続を可能とする高剛性を付与できる。   When the printed wiring board of the present invention is used for an LED chip, visible light of the element, particularly visible light in a short wavelength region of 400 to 600 nm can be reflected with a reflectance of 80% when a light emitting element is mounted. The reflectance of a printed wiring board using a conventional prepreg is at most 40%, and it is possible to ensure brightness that has not been obtained conventionally. In addition, since a mixed resin of cyanate resin or a prepolymer thereof and an epoxy resin is used, high heat resistance capable of withstanding the light emission heat of the light emitting element can be imparted, and further, high rigidity capable of wire bonding connection can be imparted. .

(樹脂組成物の説明)
本発明の樹脂組成物は、金属箔又は樹脂製フィルムの一方の側面に積層されるプリント配線板用の樹脂組成物である。樹脂組成物の一成分であるシアネート樹脂またはそのプレポリマーは、エポキシ樹脂と併用することにより、プリント配線板に耐熱性を付与することができる。また、シアネート樹脂またはそのプレポリマーは、混合フィラーと併用することにより、貯蔵弾性率を高めることができる。
(Description of resin composition)
The resin composition of the present invention is a resin composition for printed wiring boards that is laminated on one side of a metal foil or resin film. The cyanate resin or its prepolymer, which is one component of the resin composition, can impart heat resistance to the printed wiring board when used in combination with an epoxy resin. In addition, the cyanate resin or its prepolymer can increase the storage elastic modulus when used in combination with a mixed filler.

シアネート樹脂としては、例えばハロゲン化シアン化合物とフェノール類とを反応させて得られるものが挙げられる。また、シアネート樹脂のプレポリマーは、当該方法で得られたシアネート樹脂を加熱等の方法でプレポリマー化することにより得ることができる。シアネート樹脂の具体的としては、ノボラック型シアネート樹脂、ビスフェノールA型シアネート樹脂、ビスフェノールE型シアネート樹脂、テトラメチルビスフェノールF型シアネート樹脂等のビスフェノール型シアネート樹脂等が挙げられる。これらの中でもノボラック型シアネート樹脂が好ましい。シアネート樹脂またはそのプレポリマーを使用すれば、架橋密度が増加するため耐熱性が向上する。また同時に難燃性を向上することができる。シアネート樹脂とそのプレポリマーは併用することもできる。   Examples of the cyanate resin include those obtained by reacting a cyanogen halide compound with phenols. Moreover, the cyanate resin prepolymer can be obtained by prepolymerizing the cyanate resin obtained by the method by a method such as heating. Specific examples of the cyanate resin include bisphenol type cyanate resins such as novolak type cyanate resin, bisphenol A type cyanate resin, bisphenol E type cyanate resin, and tetramethylbisphenol F type cyanate resin. Among these, novolac type cyanate resin is preferable. If a cyanate resin or a prepolymer thereof is used, the heat resistance is improved because the crosslink density is increased. At the same time, flame retardancy can be improved. Cyanate resin and its prepolymer can also be used together.

ノボラック型シアネート樹脂としては、例えば下記一般式(I)で表されるものが使用できる。   As the novolac type cyanate resin, for example, those represented by the following general formula (I) can be used.

Figure 0004968460
Figure 0004968460

前記一般式(I)で示されるノボラック型シアネート樹脂の重量平均分子量は、特に限定されないが、500〜4,500が好ましく、特に600〜3,000が好ましい。ノボラック型シアネート樹脂の重量平均分子量が前記下限値未満であると機械的強度が低下する場合があり、前記上限値を超えると樹脂組成物の硬化速度が速いため保存性が低下する場合がある。前記ノボラック型シアネート樹脂は、例えば任意のノボラック樹脂と塩化シアン、臭化シアン等の化合物とを反応させることで得ることができる。これらのシアネート樹脂又はそのプレポリマーは、1種もしくは2種以上を組み合わせて用いることができる。   The weight average molecular weight of the novolak cyanate resin represented by the general formula (I) is not particularly limited, but is preferably 500 to 4,500, and particularly preferably 600 to 3,000. When the weight average molecular weight of the novolak-type cyanate resin is less than the lower limit value, the mechanical strength may be lowered, and when the upper limit value is exceeded, the resin composition may be cured at a high rate, so that the storage stability may be lowered. The novolak-type cyanate resin can be obtained, for example, by reacting an arbitrary novolak resin with a compound such as cyanogen chloride or cyanogen bromide. These cyanate resins or prepolymers thereof can be used alone or in combination of two or more.

本発明の樹脂組成物においては、エポキシ樹脂(B)を更に使用する。エポキシ樹脂は、シアネート樹脂又はそのプレポリマーと併用することにより、吸湿特性を向上させることができ、耐熱性と耐吸湿特性を有する高剛性の基板とすることができる。   In the resin composition of the present invention, an epoxy resin (B) is further used. The epoxy resin can improve moisture absorption characteristics when used in combination with a cyanate resin or a prepolymer thereof, and can provide a highly rigid substrate having heat resistance and moisture absorption resistance.

エポキシ樹脂としては特に限定されないが、ビスフェノールAエポキシ樹脂、ビスフェノールFエポキシ樹脂、フェノールノボラックエポキシ樹脂、クレゾールノボラックエポキシ樹脂、ビスフェノールAノボラックエポキシ樹脂、ナフタレン変性エポキシ樹脂、ジシクロペンタジエン変性エポキシ樹脂、アラルキル変性エポキシ樹脂、ジアミノジフェニルメタン変性エポキシ樹脂などが挙げられる。これらの中、クレゾールノボラックエポキシ樹脂が、高耐熱性を発現するために好ましく、また、ジシクロペンタジエン変性エポキシ樹脂は、誘電正接を低減できる点で好ましい。   The epoxy resin is not particularly limited, but bisphenol A epoxy resin, bisphenol F epoxy resin, phenol novolac epoxy resin, cresol novolac epoxy resin, bisphenol A novolac epoxy resin, naphthalene modified epoxy resin, dicyclopentadiene modified epoxy resin, aralkyl modified epoxy. Resin, diaminodiphenylmethane-modified epoxy resin, and the like. Among these, a cresol novolac epoxy resin is preferable in order to develop high heat resistance, and a dicyclopentadiene-modified epoxy resin is preferable in that the dielectric loss tangent can be reduced.

また難燃性を発現させるためにこれらのエポキシ樹脂をハロゲン化したものを使用することもできる。ハロゲン化されたエポキシ樹脂としては、臭素化率20%以上、重量平均分子量10000〜30000の臭素化エポキシ樹脂を用いることが好ましい。臭素化エポキシ樹脂としては、臭素化ビスフェノールA型エポキシ樹脂、臭素化ビスフェノールF型エポキシ樹脂等が挙げられ、この中、臭素化ビスフェノールA型エポキシ樹脂が好ましい。これらのエポキシ樹脂は、1種もしくは2種以上を組み合わせて用いることができる。   Moreover, in order to express flame retardancy, those obtained by halogenating these epoxy resins can also be used. As the halogenated epoxy resin, it is preferable to use a brominated epoxy resin having a bromination rate of 20% or more and a weight average molecular weight of 10,000 to 30,000. Examples of brominated epoxy resins include brominated bisphenol A type epoxy resins and brominated bisphenol F type epoxy resins, among which brominated bisphenol A type epoxy resins are preferred. These epoxy resins can be used alone or in combination of two or more.

シアネート樹脂とそのプレポリマー(A)とエポキシ樹脂(B)の配合比率((A):(B))は、重量部基準で60:40〜30:70、好ましくは50:50〜35:65、特に好ましくは45:55〜40:60である。併用樹脂中、シアネート樹脂とそのプレポリマー(A)の配合量が多過ぎると、硬脆くなると共に、吸湿耐熱性が悪くなる。また、エポキシ樹脂(B)の配合量が多過ぎると、ガラス転移温度が低くなり耐熱性が悪くなる。   The compounding ratio ((A) :( B)) of the cyanate resin, its prepolymer (A) and the epoxy resin (B) is 60:40 to 30:70, preferably 50:50 to 35:65, based on parts by weight. Especially preferably, it is 45: 55-40: 60. When there are too many compounding quantities of cyanate resin and its prepolymer (A) in combined use resin, while becoming hard and brittle, moisture absorption heat resistance will worsen. Moreover, when there are too many compounding quantities of an epoxy resin (B), a glass transition temperature will become low and heat resistance will worsen.

シアネート樹脂とそのプレポリマー(A)とエポキシ樹脂(B)の混合樹脂の配合割合は、樹脂組成物全体に対して35〜65重量%、好ましくは40〜60重量%である。35重量%未満であると、フィラーの量が多くなり脆くなる点で好ましくなく、一方、65重量%を越えると、硬さが保てなくなる点で好ましくない。   The compounding ratio of the mixed resin of cyanate resin and its prepolymer (A) and epoxy resin (B) is 35 to 65% by weight, preferably 40 to 60% by weight, based on the entire resin composition. If it is less than 35% by weight, it is not preferable in that the amount of filler increases and becomes brittle, whereas if it exceeds 65% by weight, it is not preferable in that the hardness cannot be maintained.

硬化剤(C)は、エポキシ樹脂を硬化させ、シアネート樹脂の反応を促進するために使用される。硬化剤としては、アミン系化合物、イミダゾール化合物、酸無水物、フェノール樹脂化合物などが挙げられる。アミン系化合物は少量でエポキシ樹脂を十分に硬化させることができ、樹脂の難燃性を発揮できるので好ましい。アミン系化合物は、融点150℃以上の常温で固形であり、有機溶剤に可溶で、エポキシ樹脂への溶解性が小さく、150℃以上の高温になって、エポキシ樹脂と速やかに反応するものが特に好ましい。具体的にはジシアンジアミド、ジアミノジフェニルメタン、ジアミノジフェニルスルフォン等がある。これらのアミン系化合物は溶剤に溶解させ、樹脂組成物ワニス中に均一に分散される。エポキシ樹脂との相溶性が小さいので、溶剤を揮発、除去した場合、ミクロに樹脂中に分散され、常温〜100℃では反応が進行せず、従って保存安定性を良好に保ちつつ均一なエポキシ樹脂硬化物を得ることができる。   The curing agent (C) is used for curing the epoxy resin and promoting the reaction of the cyanate resin. Examples of the curing agent include amine compounds, imidazole compounds, acid anhydrides, phenol resin compounds, and the like. An amine compound is preferable because it can sufficiently cure the epoxy resin in a small amount and can exhibit the flame retardancy of the resin. Amine-based compounds are solid at room temperature with a melting point of 150 ° C. or higher, soluble in organic solvents, have low solubility in epoxy resins, reach high temperatures of 150 ° C. or higher, and react quickly with epoxy resins. Particularly preferred. Specific examples include dicyandiamide, diaminodiphenylmethane, and diaminodiphenylsulfone. These amine compounds are dissolved in a solvent and uniformly dispersed in the resin composition varnish. Since the compatibility with epoxy resin is small, when the solvent is volatilized and removed, it is dispersed microscopically in the resin and the reaction does not proceed at room temperature to 100 ° C. Therefore, a uniform epoxy resin while maintaining good storage stability A cured product can be obtained.

イミダゾール化合物は、樹脂組成物の絶縁性を低下することなく、シアネート樹脂またはそのプレポリマーの反応を促進することができる。イミダゾール化合物としては、例えば、2−フェニル−4−メチルイミダゾール、2−フェニル−4−メチル−5−ヒドルキシメチルイミダゾール、2−フェニル−4,5−ジヒドロキシメチルイミダゾールおよび2,4−ジアミノ−6−〔2’−メチルイミダゾリル−(1’)〕−エチル−s−トリアジン、2,4−ジアミノ−6−(2’−ウンデシルイミダゾリル)−エチル−s−トリアジン、2,4−ジアミノ−6−〔2’−エチル−4−メチルイミダゾリル−(1’)〕−エチル−s−トリアジンが挙げられる。これらの中でも脂肪族炭化水素基、芳香族炭化水素基、ヒドロキシアルキル基およびシアノアルキル基の中から選ばれる官能基を2個以上有しているイミダゾール化合物が好ましく、特に2−フェニル−4,5−ジヒドロキシメチルイミダゾールが好ましい。これにより、樹脂組成物の耐熱性を向上させ、得られる絶縁層の熱膨張を抑制し、吸水率を低下させることができる。   The imidazole compound can accelerate the reaction of the cyanate resin or its prepolymer without reducing the insulating properties of the resin composition. Examples of the imidazole compound include 2-phenyl-4-methylimidazole, 2-phenyl-4-methyl-5-hydroxymethylimidazole, 2-phenyl-4,5-dihydroxymethylimidazole, and 2,4-diamino- 6- [2′-Methylimidazolyl- (1 ′)]-ethyl-s-triazine, 2,4-diamino-6- (2′-undecylimidazolyl) -ethyl-s-triazine, 2,4-diamino- 6- [2'-Ethyl-4-methylimidazolyl- (1 ')]-ethyl-s-triazine. Among these, imidazole compounds having two or more functional groups selected from an aliphatic hydrocarbon group, an aromatic hydrocarbon group, a hydroxyalkyl group, and a cyanoalkyl group are preferable, and 2-phenyl-4,5 is particularly preferable. -Dihydroxymethylimidazole is preferred. Thereby, the heat resistance of a resin composition can be improved, the thermal expansion of the insulating layer obtained can be suppressed, and a water absorption can be reduced.

硬化剤(C)の配合量は、樹脂組成物中、0.05〜5重量%が好ましく、特に0.2〜2重量%が好ましい。また、硬化剤(C)としてイミダゾール化合物を使用する場合、イミダゾール化合物の好適な配合量は、樹脂組成物中、0.05〜5重量%、特に0.2〜2重量%である。イミダゾール化合物の含有量が前記範囲内であると、特に耐熱性を向上させることができる。   The compounding amount of the curing agent (C) is preferably 0.05 to 5% by weight, particularly preferably 0.2 to 2% by weight in the resin composition. Moreover, when using an imidazole compound as a hardening | curing agent (C), the suitable compounding quantity of an imidazole compound is 0.05 to 5 weight% in a resin composition, Especially 0.2 to 2 weight%. When the content of the imidazole compound is within the above range, the heat resistance can be particularly improved.

本発明の樹脂組成物は、混合無機フィラー(D)を含有する。混合無機フィラー(D)の添加により、可視光、特に400〜500nmの可視短波長領域にある光の光反射率を向上させると共に、低熱膨張化および難燃性の向上が図れる。また、前記シアネート樹脂またはそのプレポリマー、特にノボラック型シアネート樹脂と混合無機フィラーの組合せにより、貯蔵弾性率を向上させることができる。   The resin composition of the present invention contains a mixed inorganic filler (D). Addition of the mixed inorganic filler (D) can improve the light reflectance of visible light, particularly light in the visible short wavelength region of 400 to 500 nm, and can achieve low thermal expansion and flame retardancy. Further, the storage elastic modulus can be improved by the combination of the cyanate resin or a prepolymer thereof, particularly a novolac type cyanate resin and a mixed inorganic filler.

混合無機フィラー(D)は、平均粒子径が0.45〜0.55μm、好ましくは0.47〜0.53μmの第1粉末無機フィラーと、平均粒子径が0.8〜1.2μm、好ましくは0.85〜1.15μmの第2粉末無機フィラーの混合物である。第1粉末無機フィラー及び第2粉末無機フィラーは共に、単一の粒度分布を呈する粒径の揃ったものであり、第1粉末無機フィラーは、粒径0.25〜0.75μmの間に存在する粉体が第1粉末無機フィラー全体の90%以上、好ましくは95%以上であり、第2粉末無機フィラーは、粒径0.75〜1.50μmの間に存在する粉体が第2粉末無機フィラー全体の90%以上、好ましくは95%以上である。第1粉末無機フィラー及び第2粉末無機フィラー共に、粒径及び粒度分布はレーザー散乱法によって測定することができる。   The mixed inorganic filler (D) has an average particle size of 0.45 to 0.55 μm, preferably 0.47 to 0.53 μm, and an average particle size of 0.8 to 1.2 μm, preferably Is a mixture of the second powder inorganic filler of 0.85 to 1.15 μm. Both the first powder inorganic filler and the second powder inorganic filler have a uniform particle size distribution, and the first powder inorganic filler is present between 0.25 and 0.75 μm in particle size. The powder to be used is 90% or more, preferably 95% or more of the entire first powder inorganic filler, and the second powder inorganic filler is a powder having a particle size of 0.75 to 1.50 μm. It is 90% or more of the whole inorganic filler, preferably 95% or more. For both the first powder inorganic filler and the second powder inorganic filler, the particle size and particle size distribution can be measured by a laser scattering method.

また、混合フィラーにおいて、前記第2粉末無機フィラー100重量部に対して、第1粉末無機フィラーの配合量が、200〜500重量部、好ましくは350〜450重量部である。また、混合フィラーの配合量は、樹脂組成物全体中、30〜60重量%、好ましくは45〜55重量%である。   In the mixed filler, the blending amount of the first powder inorganic filler is 200 to 500 parts by weight, preferably 350 to 450 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the second powder inorganic filler. Moreover, the compounding quantity of a mixed filler is 30 to 60 weight% in the whole resin composition, Preferably it is 45 to 55 weight%.

第1粉末無機フィラー及び第2粉末無機フィラーは、それぞれ上記平均粒径と上記粒度分布を有するため、特に400〜600nmの短波長領域の光の反射率が向上する。フィラーとして、平均粒子径が0.5μm近傍の第1粉末無機フィラーのみを使用した場合、500nmの波長の光は透過してしまい反射率が低下する。これに更に平均粒子径が0.8〜1.2μmの第2粉末無機フィラーを併用することで、0.5μmの隙間を塞ぎかかる透過光を遮ることができる。一方、フィラーとして、平均粒子径が0.8〜1.2μmの第2粉末無機フィラーのみを使用した場合、0.5μm程度の隙間が生じて、400〜600nmの短波長領域の光は透過してしまい、反射率は低下する。   Since the 1st powder inorganic filler and the 2nd powder inorganic filler have the above-mentioned average particle size and the above-mentioned particle size distribution, respectively, the reflectance of light in a short wavelength region of 400-600 nm improves especially. When only the first powder inorganic filler having an average particle diameter of about 0.5 μm is used as the filler, light having a wavelength of 500 nm is transmitted and the reflectance is lowered. By further using a second powdered inorganic filler having an average particle diameter of 0.8 to 1.2 μm in addition to this, it is possible to block transmitted light that closes a gap of 0.5 μm. On the other hand, when only the second powder inorganic filler having an average particle diameter of 0.8 to 1.2 μm is used as the filler, a gap of about 0.5 μm is generated and light in a short wavelength region of 400 to 600 nm is transmitted. As a result, the reflectance decreases.

また、混合フィラーの配合量が、樹脂組成物全体中、30重量%未満であると、低熱膨脹化、低吸水化する効果が低下する場合があり、また貯蔵弾性率の向上が望めなくなる。従来の樹脂組成物の無機フィラーの配合量は、10〜30重量%であったが、本発明の場合、それよりも多い配合となっている。一方、樹脂組成物全体中、60重量%を越えると、樹脂組成物中において導体の道を形成する恐れがあり好ましくない。 On the other hand, if the blending amount of the mixed filler is less than 30 % by weight in the entire resin composition, the effect of low thermal expansion and low water absorption may be reduced, and improvement in storage modulus cannot be expected. The blending amount of the inorganic filler in the conventional resin composition was 10 to 30% by weight, but in the present invention, the blending amount is larger than that. On the other hand, if it exceeds 60% by weight in the whole resin composition, there is a risk of forming a conductor path in the resin composition, which is not preferable.

第1粉末無機フィラー及び第2粉末無機フィラーとしては共に、例えばタルク、アルミナ、ガラス、シリカ、マイカ等を挙げることができる。これらの中でもシリカが好ましく、溶融シリカが低膨張性に優れる点で好ましい。その形状は破砕状、球状があるが、球状シリカを使用することが、最密充填ができ、反射率を高めることができると共に、効率よく低膨張化できる点で好ましい。   Examples of the first powder inorganic filler and the second powder inorganic filler include talc, alumina, glass, silica, mica, and the like. Among these, silica is preferable, and fused silica is preferable in that it has excellent low expansibility. The shape is crushed and spherical, but it is preferable to use spherical silica from the viewpoint that close-packing can be performed, the reflectance can be increased, and the expansion can be efficiently reduced.

白色顔料(E)は、公知の白色顔料を使用することができる。具体的には、酸化チタン、カオリン、炭酸カルシウム、酸化亜鉛などが挙げられる。酸化チタンの結晶構造は、ルチル型、アナターゼ型のいずれでもよいが、アナターゼ型のほうが、可視短波長領域での反射率が良好である点で好ましい。白色顔料の配合量は、樹脂組成物中、0.5〜10重量%である。樹脂組成物中、0.5重量%未満では、反射率向上の効果がなく、10重量%を越えると、割れなどの機械的物性の低下が起こる。   A known white pigment can be used for the white pigment (E). Specific examples include titanium oxide, kaolin, calcium carbonate, and zinc oxide. The crystal structure of titanium oxide may be either a rutile type or an anatase type, but the anatase type is preferred in that the reflectance in the visible short wavelength region is good. The compounding quantity of a white pigment is 0.5 to 10 weight% in a resin composition. If the amount of the resin composition is less than 0.5% by weight, the effect of improving the reflectivity is not obtained. If the amount exceeds 10% by weight, mechanical properties such as cracking are deteriorated.

本発明の樹脂組成物では、特に限定されないが、更にカップリング剤を含有することが好ましい。前記カップリング剤は、樹脂と混合無機フィラーの界面の濡れ性を向上させることにより、基材に対して樹脂および無機フィラーを均一に定着させ、耐熱性、特に吸湿後の半田耐熱性を改良するために配合する。   Although it does not specifically limit in the resin composition of this invention, It is preferable to contain a coupling agent further. The coupling agent improves the wettability at the interface between the resin and the mixed inorganic filler, thereby uniformly fixing the resin and the inorganic filler to the substrate, and improving the heat resistance, particularly the solder heat resistance after moisture absorption. For blending.

前記カップリング剤としては、通常用いられるものなら何でも使用できるが、これらの中でもエポキシシランカップリング剤、チタネート系カップリング剤、アミノシランカップリング剤及びシリコーンオイル型カップリング剤の中から選ばれる1種以上のカップリング剤を使用すること好ましい。これにより、無機充填材の界面との濡れ性が高くでき、耐熱性をより向上することができる。   As the coupling agent, any of those usually used can be used, and among these, one selected from an epoxy silane coupling agent, a titanate coupling agent, an aminosilane coupling agent, and a silicone oil type coupling agent. It is preferable to use the above coupling agent. Thereby, wettability with the interface of an inorganic filler can be made high, and heat resistance can be improved more.

前記カップリング剤の含有量は、特に限定されないが、混合無機フィラー100重量部に対して0.05〜3重量部好ましい。含有量が前記下限値未満であると混合無機フィラーを十分に被覆できず耐熱性を向上する効果が低下する場合があり、前記上限値を超えると樹脂付き金属箔の曲げ強度が低下する場合がある。   Although content of the said coupling agent is not specifically limited, 0.05-3 weight part is preferable with respect to 100 weight part of mixed inorganic fillers. If the content is less than the lower limit, the mixed inorganic filler cannot be sufficiently coated and the effect of improving heat resistance may be reduced, and if the content exceeds the upper limit, the bending strength of the resin-coated metal foil may be reduced. is there.

本発明の樹脂組成物は、必要に応じて、上記成分以外の添加剤を、特性を損なわない範囲で添加することができる。添加剤としては、例えば消泡材、レベリング材等が挙げられる。また、本発明の樹脂組成物中には、ガラス繊維基材などのシート状繊維基材を含まない。使用しないシート状基材としては、例えばガラス繊布、ガラス不繊布等のガラス繊維基材、あるいはガラス以外の無機化合物を成分とする繊布又は不繊布等の無機繊維基材、芳香族ポリアミド樹脂、ポリアミド樹脂、芳香族ポリエステル樹脂、ポリエステル樹脂、ポリイミド樹脂、フッ素樹脂等の有機繊維で構成される有機繊維基材等が挙げられる。樹脂組成物中にシート状繊維基材を使用しないこと、更に最密充填できる混合無機フィラーを所定の配合量で使用することで、得られたプリント配線板の特に400〜600nmの波長領域の光の反射率は80%のものが得られる。   The resin composition of this invention can add additives other than the said component in the range which does not impair a characteristic as needed. Examples of the additive include an antifoaming material and a leveling material. Moreover, in the resin composition of this invention, sheet-like fiber base materials, such as a glass fiber base material, are not included. Examples of the sheet-like base material that is not used include glass fiber base materials such as glass fiber cloth and glass non-woven cloth, or inorganic fiber base materials such as fiber cloth and non-fiber cloth containing inorganic compounds other than glass, aromatic polyamide resins, polyamides. Examples thereof include organic fiber base materials composed of organic fibers such as resins, aromatic polyester resins, polyester resins, polyimide resins, and fluororesins. By not using a sheet-like fiber base material in the resin composition, and further using a mixed inorganic filler that can be closely packed in a predetermined blending amount, light in a wavelength region of 400 to 600 nm of the obtained printed wiring board is obtained. A reflectance of 80% is obtained.

上記樹脂組成物の硬化物の物性、例えば樹脂組成物を200℃、2時間加熱硬化させたときのガラス転移温度(Tg)は、200℃以上、230〜250℃であり、400〜600nmの波長の光の反射率は約80%である。これにより、発光素子を搭載した際の熱履歴に対して、非常に安定的であり、さらには発光素子の光を効率よく反射し、光量の劣化を防ぐことができる。また、180℃、1時間の加熱硬化させたときの200℃での貯蔵弾性率は、2〜20MPaである。200℃での貯蔵弾性率がこの範囲であれば、部品接続時のワイヤーボンディングの凹みが少なく確実な接続ができる。また、本発明の樹脂組成物の硬化物は、200℃での貯蔵弾性率が、室温下における貯蔵弾性率に対して30〜80%の保持率である。保持率がこの範囲内にあれば、LED実装時の200℃以上の熱履歴に対しても、薄型のプリント配線板であっても部品の重量による変形が起こらず、確実な実装を行なうことができる。   The physical properties of the cured product of the resin composition, for example, the glass transition temperature (Tg) when the resin composition is heated and cured at 200 ° C. for 2 hours is 200 ° C. or higher and 230 to 250 ° C., and has a wavelength of 400 to 600 nm. The light reflectivity is about 80%. Thereby, it is very stable with respect to the thermal history at the time of mounting a light emitting element, Furthermore, the light of a light emitting element can be reflected efficiently, and deterioration of light quantity can be prevented. Further, the storage elastic modulus at 200 ° C. when heated and cured at 180 ° C. for 1 hour is 2 to 20 MPa. If the storage elastic modulus at 200 ° C. is in this range, there is little dent in wire bonding at the time of component connection, and a reliable connection can be made. Further, the cured product of the resin composition of the present invention has a storage elastic modulus at 200 ° C. of 30 to 80% with respect to the storage elastic modulus at room temperature. If the retention rate is within this range, even a thin printed wiring board will not be deformed by the weight of the component even with a heat history of 200 ° C. or higher during LED mounting, and reliable mounting can be performed. it can.

(樹脂付き金属箔の説明)
次に、本発明の樹脂付き金属箔を図1を参照して説明する。図1(B)は、樹脂付き金属箔の縦断面図であり、図1(A)は樹脂組成物部分と金属箔部分を判りやすく、離間して示した図である。樹脂付き金属箔20は、上述の樹脂組成物21を金属箔22に積層して得られる。前記樹脂組成物21を金属箔22に積層する方法としては、例えば樹脂組成物を溶剤に溶解して樹脂ワニスとして、金属箔に塗工、乾燥する方法、樹脂組成物から得られたフィルムを張り合わせる方法等が挙げられる。これらの中でも、樹脂ワニスを金属箔に塗工、乾燥する方法が好ましい。これにより、ボイドの無い均一な絶縁層厚さを有する樹脂付き金属箔を得ることができる。また、樹脂付き金属箔の樹脂面に離型シートを更に積層してもよい。
(Description of metal foil with resin)
Next, the resin-coated metal foil of the present invention will be described with reference to FIG. FIG. 1 (B) is a longitudinal sectional view of a resin-attached metal foil, and FIG. 1 (A) is a view showing the resin composition portion and the metal foil portion apart from each other in an easily understandable manner. The metal foil with resin 20 is obtained by laminating the above-described resin composition 21 on the metal foil 22. Examples of the method of laminating the resin composition 21 on the metal foil 22 include, for example, a method in which the resin composition is dissolved in a solvent to form a resin varnish, which is applied to the metal foil and dried, and a film obtained from the resin composition is laminated. And the like. Among these, a method in which a resin varnish is applied to a metal foil and dried is preferable. Thereby, the metal foil with resin which has the uniform insulating layer thickness without a void can be obtained. Moreover, you may further laminate | stack a release sheet on the resin surface of metal foil with resin.

樹脂組成物を溶解する溶剤としては、樹脂組成物ワニスを金属箔に塗布し、80〜180℃で乾燥した後において、樹脂中に残らないものである。このような溶媒としては、例えばアセトン、メチルエチルケトン、トルエン、キシレン、n−ヘキサン、メタノール、エタノール、メチルセルソルブ、エチルセルソルブ、メトシキプロパノール、シクロヘキサノン、N,Nジメチルフォルムアミドなどが挙げられる。   As a solvent for dissolving the resin composition, a resin composition varnish is applied to a metal foil and dried at 80 to 180 ° C., and thus does not remain in the resin. Examples of such a solvent include acetone, methyl ethyl ketone, toluene, xylene, n-hexane, methanol, ethanol, methyl cellosolve, ethyl cellosolve, methoxypropanol, cyclohexanone, and N, N dimethylformamide.

また、前記樹脂組成物の厚さ(h)は、特に限定されないが、10〜100μmが好ましく、特に20〜80μmが好ましい。これにより、樹脂層の割れ発生が無く裁断時の粉落ちも少なくすることができる。前記金属箔22を構成する金属としては、例えば銅および/または銅系合金、アルミおよび/またはアルミ系合金、鉄および/または鉄系合金等が挙げられる。このような樹脂付き金属箔は、通常、プリント配線板の製造の際、外層プリント配線板として使用される。   The thickness (h) of the resin composition is not particularly limited, but is preferably 10 to 100 μm, and particularly preferably 20 to 80 μm. Thereby, there is no generation | occurrence | production of the crack of a resin layer and powder fall at the time of cutting can also be decreased. Examples of the metal constituting the metal foil 22 include copper and / or a copper-based alloy, aluminum and / or an aluminum-based alloy, iron and / or an iron-based alloy, and the like. Such a metal foil with resin is usually used as an outer printed wiring board in the production of a printed wiring board.

また、前記樹脂組成物は、図2に示すように、金属箔を積層せず、金属箔に替えて、PETなどの樹脂製フィルムを積層してもよい。樹脂付きフィルム30は、上述の樹脂組成物21をフィルム23に積層して得られる。前記樹脂組成物21をフィルム23に積層する方法としては、例えば樹脂組成物を溶剤に溶解して樹脂ワニスとして、フィルムに塗工、乾燥する方法、樹脂組成物から得られたフィルムを張り合わせる方法等が挙げられる。また、樹脂付きフィルム30の樹脂面に離型シートを更に積層してもよい。樹脂付きフィルム30は、フィルム23を剥がして多層プリント基板の中間絶縁材料として使用できる。また、多層プリント基板の外層プリント基板として使用する場合、フィルム23を剥がした後、樹脂面にメッキ金属箔を形成して使用される。フィルムの厚さは通常5μm以上、50μm以下である。   Moreover, as shown in FIG. 2, the resin composition may be laminated with a resin film such as PET instead of laminating the metal foil instead of laminating the metal foil. The film with resin 30 is obtained by laminating the above resin composition 21 on the film 23. As a method of laminating the resin composition 21 on the film 23, for example, a method in which the resin composition is dissolved in a solvent to form a resin varnish, which is applied to the film and dried, or a method in which a film obtained from the resin composition is laminated Etc. Moreover, you may further laminate | stack a release sheet on the resin surface of the film 30 with resin. The film with resin 30 can be used as an intermediate insulating material for a multilayer printed board by peeling off the film 23. Moreover, when using as an outer layer printed circuit board of a multilayer printed circuit board, after peeling the film 23, it forms and uses a plating metal foil on the resin surface. The thickness of the film is usually 5 μm or more and 50 μm or less.

(プリント配線板)
次に、本発明のプリント配線板を図3〜図5を参照して説明する。図3は2層構造のプリント配線板の模式図、図4は3層構造のプリント配線板の模式図、図5は5層構造のプリント配線板の模式図である。なお、図3〜図5は構成部材を判りやすくするために離間して示したが、実際には構成部材は密着していて空間は存在しない。図3において、図1と同一構成要素には、同一符号を付してその説明を省略し、異なる点について主に説明する。図3のプリント配線板50は、上記樹脂付き金属箔20を内層プリント配線板51の片面に、樹脂が内側となるように重ね合わせて加熱、加圧してなるプリント配線板である。内層プリント配線板51は、例えば銅張積層板53の片面に回路52を形成し、黒化処理したものである。銅張積層板53はシート状ガラス繊維基材54にエポキシ樹脂などのマトリックス樹脂を含浸させて得られるプリプレグの硬化物53である。図3のプリント配線板50は、金属箔22をエッチング処理して導体パターンを形成する工程、スルーホールメッキを形成する工程、実装表面にLED素子を搭載する工程などを経て、図6に示すようなチップLEDとなる。従来、樹脂付き金属箔と内層プリント配線板間にプリプレグを介在させることで、積層板を形成していたが、本発明の樹脂付き金属箔を使用すれば、プリプレグの使用を省略することができる。これは、樹脂付き金属箔の樹脂の粘度が、プレス、積層時の加温時に3000〜10000ポイズ程度であるため、内層プリント配線板の導体パターンの凹凸を隙間なく埋め込むことができるためである。
(Printed wiring board)
Next, the printed wiring board of this invention is demonstrated with reference to FIGS. 3 is a schematic diagram of a printed wiring board having a two-layer structure, FIG. 4 is a schematic diagram of a printed wiring board having a three-layer structure, and FIG. 5 is a schematic diagram of a printed wiring board having a five-layer structure. Although FIGS. 3 to 5 are shown separated for easy understanding of the constituent members, the constituent members are actually in close contact and there is no space. In FIG. 3, the same components as those in FIG. 1 are denoted by the same reference numerals, description thereof is omitted, and different points are mainly described. The printed wiring board 50 of FIG. 3 is a printed wiring board in which the resin-coated metal foil 20 is superposed on one side of the inner printed wiring board 51 so that the resin is on the inside and heated and pressurized. The inner layer printed wiring board 51 is obtained by forming a circuit 52 on one side of a copper clad laminate 53 and blackening it, for example. The copper clad laminate 53 is a cured prepreg 53 obtained by impregnating a sheet-like glass fiber substrate 54 with a matrix resin such as an epoxy resin. As shown in FIG. 6, the printed wiring board 50 of FIG. 3 undergoes a process of etching the metal foil 22 to form a conductor pattern, a process of forming through-hole plating, a process of mounting LED elements on the mounting surface, and the like. Chip LED. Conventionally, a laminate was formed by interposing a prepreg between a resin-coated metal foil and an inner printed wiring board. However, if the resin-coated metal foil of the present invention is used, the use of a prepreg can be omitted. . This is because the resin viscosity of the metal foil with resin is about 3000 to 10000 poise when heated during pressing and laminating, so that the conductor pattern irregularities of the inner printed wiring board can be embedded without any gaps.

なお、LED素子をプリント配線板50に搭載することなく、実装されていない他の基板に搭載し、該他の基板の近傍に配置されるLED素子非実装のプリント配線板50とLED素子をワイヤー接続する使用方法もある。この場合、LED素子非実装のプリント配線板が本発明のプリント配線板である。この場合においても、LED素子から漏れる光に対する非実装プリント配線板における反射率を高め、明るくすることができる。また、図3のプリント配線板50において、内層プリント配線板51を省略した片面プリント配線板として使用することもできる。   The LED element is not mounted on the printed wiring board 50, but is mounted on another board that is not mounted, and the LED element non-mounted printed wiring board 50 disposed near the other board is wired to the LED element. There is also a usage method to connect. In this case, the printed wiring board with no LED element mounted is the printed wiring board of the present invention. Even in this case, the reflectance of the non-mounted printed wiring board with respect to light leaking from the LED element can be increased and brightened. Moreover, in the printed wiring board 50 of FIG. 3, it can also be used as a single-sided printed wiring board which abbreviate | omitted the inner layer printed wiring board 51. FIG.

本発明のLED素子実装又は非実装のプリント配線板表面は、導体パターン処理されたものであり、樹脂表面は必ず露出するため、本発明のような光の反射率を高める対策を施す意義がある。   Since the surface of the printed circuit board on which the LED element is mounted or not mounted according to the present invention is subjected to conductor pattern processing and the resin surface is always exposed, it is meaningful to take measures to increase the light reflectance as in the present invention. .

図4において、図3と同一構成要素には、同一符号を付してその説明を省略し、異なる点について主に説明する。図4のプリント配線板60は、上記樹脂付き金属箔20を内層プリント配線板51aの両面に、樹脂が内側となるように重ね合わせて加熱、加圧してなるプリント配線板である。内層プリント配線板51aは、例えば銅張積層板53の両面に回路52を形成し、黒化処理したものが挙げられる。銅張積層板53はシート状ガラス繊維基材にエポキシ樹脂などのマトリックス樹脂を含浸させて得られるプリプレグの硬化物53である。   4, the same components as those in FIG. 3 are denoted by the same reference numerals, description thereof is omitted, and different points are mainly described. The printed wiring board 60 of FIG. 4 is a printed wiring board in which the resin-coated metal foil 20 is superposed on both surfaces of the inner printed wiring board 51a so that the resin is on the inside and heated and pressurized. As the inner layer printed wiring board 51a, for example, a circuit 52 is formed on both surfaces of a copper clad laminate 53 and blackened. The copper clad laminate 53 is a cured prepreg 53 obtained by impregnating a sheet-like glass fiber base material with a matrix resin such as an epoxy resin.

図5において、図3と同一構成要素には、同一符号を付してその説明を省略し、異なる点について主に説明する。図5のプリント配線板70は、2つの樹脂付き金属箔20のそれぞれの樹脂組成物が内側となるように上下にそれぞれ配置し、該2つの樹脂付き金属箔20間に、上から下へ順に第1内層プリント配線板51a、樹脂組成物21a、第2内層プリント配線板51aの3層体を配置して重ね合わせて加熱、加圧してなるプリント配線板である。内層の樹脂組成物21aは本発明に係る樹脂組成物付きフィルムのフィルムを剥がして使用してもよいが、光の反射は外層の絶縁樹脂層で生じるため、光の反射への影響は少なく、本願発明の樹脂組成物を用いることなく、従来の公知の樹脂組成物を使用してもよい。   In FIG. 5, the same components as those in FIG. 3 are denoted by the same reference numerals, description thereof is omitted, and different points are mainly described. The printed wiring board 70 in FIG. 5 is arranged vertically so that the respective resin compositions of the two resin-attached metal foils 20 are inside, and between the two resin-attached metal foils 20 in order from top to bottom. This is a printed wiring board in which a three-layer body of a first inner layer printed wiring board 51a, a resin composition 21a, and a second inner layer printed wiring board 51a is arranged, heated, and pressed. The resin composition 21a of the inner layer may be used by peeling off the film of the film with the resin composition according to the present invention, but since light reflection occurs in the insulating resin layer of the outer layer, there is little influence on the light reflection, You may use the conventional well-known resin composition, without using the resin composition of this invention.

なお、5層以上の例えば7層プリント配線板を形成するには、図5において、2つの樹脂付き金属箔20間に、上から下へ順に第1内層プリント配線板51a、樹脂組成物21a、第2内層プリント配線板51a、樹脂組成物21a、第3内層プリント配線板51aの5層体を配置して重ね合わせて加熱、加圧すればよい。すなわち、多層プリント配線板は、2つの樹脂付き金属箔20間において、内層プリント配線板51aと樹脂組成物21aの繰り返し積層体を形成してやればよい。   In order to form, for example, a seven-layer printed wiring board having five or more layers, in FIG. 5, a first inner printed wiring board 51a, a resin composition 21a, What is necessary is just to arrange | position the 5 layer body of the 2nd inner layer printed wiring board 51a, the resin composition 21a, and the 3rd inner layer printed wiring board 51a, and to heat and pressurize them. That is, the multilayer printed wiring board may be formed by repeatedly forming a laminated body of the inner printed wiring board 51a and the resin composition 21a between the two metal foils 20 with resin.

プリント配線板の作製工程において、加熱する温度は、特に限定されないが、140〜240℃が好ましい。加圧する圧力は、特に限定されないが、1〜4MPaが好ましい。   In the production process of the printed wiring board, the heating temperature is not particularly limited, but is preferably 140 to 240 ° C. Although the pressure to pressurize is not specifically limited, 1-4 MPa is preferable.

実施例
次ぎに、実施例を挙げて本発明を更に具体的に説明するが、これは単に例示であって、本発明を制限するものではない。
EXAMPLES Next, the present invention will be described more specifically with reference to examples. However, this is merely an example and does not limit the present invention.

・ 樹脂ワニスの調製
ノボラック型シアネート樹脂「PT−60」(ロンザ株式会社製、重量平均分子量2300)9.9重量%、ノボラック型シアネート樹脂「PT−30」(ロンザ株式会社製、重量平均分子量1300)9.9重量%、ビスフェノールA型、F型混合エポキシ樹脂「エピコート4275」(JER製、重量平均分子量57000)14重量%、オルソクレゾールノボラック型エポキシ樹脂「エピクロンN−690」(大日本インキ化学株式会社製、エポキシ当量220)15.7重量%、イミダゾール化合物(四国化成工業株式会社製、2−フェニル−4,5−ジヒドロキシメチルイミダゾール)0.5重量%、第1粉末無機フィラーとして球状溶融シリカ「SO−25H」(アドマテックス株式会社製)36.0重量%、第2粉末無機フィラーとして球状溶融シリカ「SO−31H」(アドマテックス株式会社製)9.0重量%、アナターゼ型二酸化チタン「R−11P」、堺化学社製)5重量%をメチルエチルケトンに溶解、分散させた。更に、カップリング剤としてエポキシシランカップリング剤A−187(日本ユニカー株式会社製)を混合フィラー100重量部に対して0.5重量部添加して、高速攪拌機を用いて10分間攪拌して樹脂ワニスを得た。
-Preparation of resin varnish Novolak-type cyanate resin “PT-60” (Lonza, Inc., weight average molecular weight 2300) 9.9 wt%, novolac-type cyanate resin “PT-30” (Lonza, Inc., weight average molecular weight 1300) 9.9% by weight, bisphenol A type, F type mixed epoxy resin “Epicoat 4275” (manufactured by JER, weight average molecular weight 57000) 14% by weight, orthocresol novolac type epoxy resin “Epicron N-690” (Dainippon Ink and Chemicals) Co., Ltd., epoxy equivalent 220) 15.7% by weight, imidazole compound (manufactured by Shikoku Kasei Kogyo Co., Ltd., 2-phenyl-4,5-dihydroxymethylimidazole) 0.5% by weight, spherical melting as the first powder inorganic filler Silica "SO-25H" (manufactured by Admatechs) 36.0 weight As a second powder inorganic filler, spherical fused silica “SO-31H” (manufactured by Admatechs Co., Ltd.) 9.0% by weight, anatase type titanium dioxide “R-11P”, manufactured by Sakai Chemical Co., Ltd.) 5% by weight is dissolved in methyl ethyl ketone. , Dispersed. Furthermore, 0.5 parts by weight of epoxy silane coupling agent A-187 (manufactured by Nihon Unicar Co., Ltd.) is added as a coupling agent to 100 parts by weight of the mixed filler, and the resin is stirred for 10 minutes using a high speed stirrer A varnish was obtained.

なお、第1粉末無機フィラーは、平均粒子径が0.5μmであり、0.25〜0.75μmの間に存在する粉体が、第1粉末無機フィラー中、99%であり、第2粉末無機フィラーは、平均粒子径が1.0μmであり、0.75〜1.50μmの間に存在する粉体が、第2粉末無機フィラー中、99%であった。   The first powder inorganic filler has an average particle diameter of 0.5 μm, and the powder existing between 0.25 and 0.75 μm is 99% in the first powder inorganic filler, and the second powder The average particle diameter of the inorganic filler was 1.0 μm, and the powder existing between 0.75 and 1.50 μm was 99% in the second powder inorganic filler.

・ 樹脂付き金属箔の製造
上記の樹脂ワニスを厚さ18μmの銅箔のアンカー面に、乾燥後の樹脂厚さが60μmとなるようコンマコーターにて塗工し、乾燥してフィルム状樹脂付き銅箔を得た。
-Manufacture of resin-coated metal foil The above resin varnish is applied to the anchor surface of a copper foil having a thickness of 18 μm with a comma coater so that the resin thickness after drying is 60 μm, and dried to form a copper with a film-like resin. A foil was obtained.

(3)3層プリント配線板の製造
図6に示すように、銅箔を全面エッチングした内層プリント配線板(ハロゲンフリーFR−4(住友ベークライト株式会社製 厚さ0.2mm))の表裏に、上記銅箔付き絶縁樹脂シートの樹脂面を内側に張り合わせ、真空プレスにて圧力2MPa、温度200℃で2時間加熱加圧成形を行い、3層プリント配線板を得た。得られた3層プリント配線板などについて、次の評価項目に従って評価した。得られた結果を表1及び図7に示す。
(3) Production of three-layer printed wiring board As shown in FIG. 6, on the front and back of the inner layer printed wiring board (halogen-free FR-4 (thickness 0.2 mm, manufactured by Sumitomo Bakelite Co., Ltd.)) obtained by etching the entire copper foil, The resin surface of the insulating resin sheet with copper foil was laminated on the inside, and heat pressing was performed at a pressure of 2 MPa and a temperature of 200 ° C. for 2 hours by a vacuum press to obtain a three-layer printed wiring board. The obtained three-layer printed wiring board was evaluated according to the following evaluation items. The obtained results are shown in Table 1 and FIG.

(評価項目)
・ LED光反射率
上記方法で得られた3層プリント配線板(試料)の銅箔を全面エッチングし絶縁樹脂硬化物を露出させた。この3層プリント配線板から100mm×100mmのテストピースを切り出し、常温、常圧下、所定波長のLED光を樹脂硬化物面にあて、光の反射率を変角分光測定システム「GeMS−4型」(村上色彩技術研究所社製)により測定した。なお、表1及び2には500nmの反射率を記載し、図7には400〜759nmの波長範囲の10nm毎におけるそれぞれの反射率を示した。
(Evaluation item)
LED light reflectance The copper foil of the three-layer printed wiring board (sample) obtained by the above method was etched on the entire surface to expose the cured insulating resin. A test piece of 100 mm × 100 mm is cut out from this three-layer printed wiring board, LED light of a predetermined wavelength is applied to the cured resin surface under normal temperature and normal pressure, and the reflectivity of the light is measured by a variable angle spectroscopic measurement system “GeMS-4 type”. (Murakami Color Research Laboratory Co., Ltd.) Tables 1 and 2 show the reflectivity of 500 nm, and FIG. 7 shows the reflectivity for each 10 nm in the wavelength range of 400 to 759 nm.

・ ガラス転移温度
フィルム状樹脂付き銅箔2枚の樹脂面を内側にはり合わせ、真空プレスにて圧力2MPa、温度200℃で2時間加熱加圧成形を行い、銅箔を全面エッチングし絶縁樹脂硬化物を得た。得られた絶縁樹脂硬化物から10mm×30mmのテストピースを切り出し、DMA(TAインスツルメント(株)製)を用いて5℃/分で昇温し、tanδのピーク位置をガラス転移温度とした。
・ Glass transition temperature Two copper foils with film-like resin are laminated inside, heat-pressed for 2 hours at a pressure of 2MPa and a temperature of 200 ° C by vacuum press, and the copper foil is etched to cure the insulating resin. I got a thing. A 10 mm × 30 mm test piece was cut out from the obtained cured cured insulating resin, heated at 5 ° C./min using DMA (TA Instruments Co., Ltd.), and the peak position of tan δ was defined as the glass transition temperature. .

・ 線膨張係数
フィルム状樹脂付き銅箔2枚の樹脂面を内側にはり合わせ、真空プレスにて圧力2MPa、温度220℃で1時間加熱加圧成形を行い、銅箔を全面エッチングし絶縁樹脂硬化物を得た。得られた絶縁樹脂硬化物から4mm×20mmのテストピースを切り出し、TMA(TAインスツルメント(株)製)を用いて線膨張係数を10℃/分で測定した。
-Linear expansion coefficient Two copper foils with film-like resin are laminated inside, and heat pressing is performed at a pressure of 2MPa and a temperature of 220 ° C for 1 hour with a vacuum press, and the copper foil is entirely etched to cure the insulating resin. I got a thing. A 4 mm × 20 mm test piece was cut out from the obtained cured insulating resin, and the linear expansion coefficient was measured at 10 ° C./min using TMA (TA Instruments Co., Ltd.).

・ 成形性
銅箔厚みが35μmであって、導体パターンの形状がL/S=120/180μm、クリアランスホール1mmφ、3mmφ、2mmスリットである内層回路板試験片の表裏にフィルム状樹脂付き銅箔を上述の条件で加熱加圧成形を行い、銅箔を全面エッチング後、目視にて樹脂面における成形ボイドの有無を観察した。
・ Formability Copper foil with film-like resin is applied to the front and back of the inner layer circuit board test piece having a copper foil thickness of 35 μm and a conductor pattern shape of L / S = 120/180 μm, clearance holes 1 mmφ, 3 mmφ, 2 mm slit. Heat-press molding was performed under the above-mentioned conditions, and the presence or absence of molding voids on the resin surface was visually observed after etching the entire surface of the copper foil.

・ 吸湿半田耐熱性
3層プリント配線板より50mm×50mmのサンプルピースを切り出し、片面およびもう片面の1/2の銅箔をエッチングし除去した。125℃のプレッシャークッカーで2時間処理した後、260℃の半田槽に銅箔面を下にして180秒浮かべ、ふくれ・はがれの有無を確認した。
-Hygroscopic solder heat resistance A 50 mm x 50 mm sample piece was cut out from the three-layer printed wiring board, and ½ copper foil on one side and the other side was etched and removed. After processing for 2 hours in a 125 ° C. pressure cooker, the copper foil surface was floated for 180 seconds in a 260 ° C. solder bath, and the presence or absence of blistering or peeling was confirmed.

(6)絶縁樹脂材料の弾性率
動的熱分析装置(TAインスツルメント社製、DMA、5℃/min)で測定した200℃での弾性率(MPa)。
(6) Elastic modulus of insulating resin material Elastic modulus (MPa) at 200 ° C. measured with a dynamic thermal analyzer (TA Instruments, DMA, 5 ° C./min).

・ 貯蔵弾性率の保持率
動的熱分析装置(TAインスツルメント社製、DMA、5℃/min)で測定した200℃での弾性率(a)と室温(25℃)の弾性率(b)の比((a)×100/(b))%。
Retention rate of storage elastic modulus Elastic modulus at 200 ° C. and elastic modulus at room temperature (25 ° C.) (b) measured by dynamic thermal analyzer (manufactured by TA Instruments, DMA, 5 ° C./min) (b ) Ratio ((a) × 100 / (b))%.

3層プリント配線板の製造工程において前記3層プリント配線板に代えて、3層プリント配線板の銅箔を全面エッチングし絶縁樹脂硬化物を露出させ、更に空気雰囲気下、170℃、3時間の加熱処理した以外は、実施例1と同様の方法で行い、熱履歴を付与した3層プリント配線板を得ると共に、同様の評価を行なった。その結果を表1及び図7に示す。   In the manufacturing process of the three-layer printed wiring board, instead of the three-layer printed wiring board, the entire copper foil of the three-layer printed wiring board is etched to expose the cured insulating resin, and further in an air atmosphere at 170 ° C. for 3 hours. Except for the heat treatment, the same method as in Example 1 was performed to obtain a three-layer printed wiring board having a thermal history, and the same evaluation was performed. The results are shown in Table 1 and FIG.

第1粉末無機フィラーと第2粉末無機フィラーの重量比400:100に代えて、230:100とした以外は、実施例1と同様の方法で樹脂ワニスの調製工程、樹脂付き金属箔の製造工程及び3層プリント配線板の製造工程を行い、3層プリント配線板について同様の評価を行なった。その結果を表1に示す。   A resin varnish preparation process and a resin-coated metal foil manufacturing process in the same manner as in Example 1 except that the weight ratio of the first powder inorganic filler and the second powder inorganic filler is 230: 100 instead of 400: 100. And the manufacturing process of the 3 layer printed wiring board was performed, and the same evaluation was performed about the 3 layer printed wiring board. The results are shown in Table 1.

第1粉末無機フィラーと第2粉末無機フィラーの重量比400:100に代えて、480:100とした以外は、実施例1と同様の方法で樹脂ワニスの調製工程、樹脂付き金属箔の製造工程及び3層プリント配線板の製造工程を行い、3層プリント配線板について同様の評価を行なった。その結果を表1に示す。   Resin varnish preparation process and resin-coated metal foil manufacturing process in the same manner as in Example 1 except that the weight ratio of the first powder inorganic filler and the second powder inorganic filler was changed to 480: 100 instead of 400: 100. And the manufacturing process of the 3 layer printed wiring board was performed, and the same evaluation was performed about the 3 layer printed wiring board. The results are shown in Table 1.

シアネート樹脂とエポキシ樹脂の重量比40:60に代えて、50:50とした以外は、実施例1と同様の方法で樹脂ワニスの調製工程、樹脂付き金属箔の製造工程及び3層プリント配線板の製造工程を行い、3層プリント配線板について同様の評価を行なった。その結果を表1に示す。   A resin varnish preparation process, a resin-coated metal foil manufacturing process, and a three-layer printed wiring board in the same manner as in Example 1 except that the weight ratio of cyanate resin to epoxy resin was changed to 50:50 instead of 40:60 The same evaluation was performed on the three-layer printed wiring board. The results are shown in Table 1.

比較例1
混合フィラー45重量%に代えて、第2粉末無機フィラー45重量%とした以外は、実施例1と同様の方法で樹脂ワニスの調製工程、樹脂付き金属箔の製造工程及び3層プリント配線板の製造工程を行い、3層プリント配線板について同様の評価を行なった。すなわち、比較例1は、無機フィラーとして粒径が大きい第2粉末無機フィラーのみを使用したものである。その結果を表2に示す。
Comparative Example 1
A resin varnish preparation process, a resin-coated metal foil manufacturing process, and a three-layer printed wiring board were prepared in the same manner as in Example 1 except that the second powder inorganic filler 45 wt% was used instead of the mixed filler 45 wt%. The manufacturing process was performed and the same evaluation was performed on the three-layer printed wiring board. That is, Comparative Example 1 uses only the second powder inorganic filler having a large particle size as the inorganic filler. The results are shown in Table 2.

比較例2
混合フィラー45重量%に代えて、第1粉末無機フィラー45重量%とした以外は、実施例1と同様の方法で樹脂ワニスの調製工程、樹脂付き金属箔の製造工程及び3層プリント配線板の製造工程を行い、3層プリント配線板について同様の評価を行なった。すなわち、比較例2は、無機フィラーとして粒径が小さい第1粉末無機フィラーのみを使用したものである。その結果を表2に示す。
Comparative Example 2
A resin varnish preparation step, a resin-coated metal foil manufacturing step, and a three-layer printed wiring board were prepared in the same manner as in Example 1 except that the first powder inorganic filler was 45 wt% instead of the mixed filler 45 wt%. The manufacturing process was performed and the same evaluation was performed on the three-layer printed wiring board. That is, the comparative example 2 uses only the 1st powder inorganic filler with a small particle size as an inorganic filler. The results are shown in Table 2.

比較例3
白色顔料である二酸化チタンの使用を省略した以外は、実施例1と同様の方法で樹脂ワニスの調製工程、樹脂付き金属箔の製造工程及び3層プリント配線板の製造工程を行い、3層プリント配線板について同様の評価を行なった。なお、樹脂組成物中、二酸化チタンの減少分は、混合フィラーを増量することで全体を100重量%とした。その結果を表2及び図7に示す。
Comparative Example 3
Except for omitting the use of titanium dioxide, which is a white pigment, a resin varnish preparation step, a resin-coated metal foil manufacturing step, and a three-layer printed wiring board manufacturing step are performed in the same manner as in Example 1. The same evaluation was performed on the wiring board. In the resin composition, the decrease in titanium dioxide was 100% by weight as a whole by increasing the amount of the mixed filler. The results are shown in Table 2 and FIG.

比較例4
3層プリント配線板の製造工程において前記3層プリント配線板に代えて、3層プリント配線板の銅箔を全面エッチングし絶縁樹脂硬化物を露出させ、更に空気雰囲気下、170℃、3時間の加熱処理した以外は、比較例3と同様の方法で行い、熱履歴を受けた3層プリント配線板を得た。なお、比較例3は光反射率の測定のみを行なった。その結果を表2及び図7に示す。
Comparative Example 4
In the manufacturing process of the three-layer printed wiring board, instead of the three-layer printed wiring board, the entire copper foil of the three-layer printed wiring board is etched to expose the cured insulating resin, and further in an air atmosphere at 170 ° C. for 3 hours. Except for the heat treatment, the same method as in Comparative Example 3 was performed to obtain a three-layer printed wiring board having received a thermal history. In Comparative Example 3, only the light reflectance was measured. The results are shown in Table 2 and FIG.

比較例5
銅箔を全面エッチングした内層プリント配線板(ハロゲンフリーFR−4(住友ベークライト株式会社製 厚さ0.2mm))の表裏に、シート状ガラス繊維基材にエポキシ樹脂を含浸して半硬化させたプリプレグ1枚(合計2枚)を重ね、真空プレスにて圧力2MPa、温度200℃で2時間加熱加圧成形を行いプリント配線板を得た。得られたプリント配線板は、所定の寸法に切断して反射率の測定に使用した。その結果を表2及び図7に示す。
Comparative Example 5
The sheet-like glass fiber base material was impregnated with an epoxy resin and semi-cured on the front and back of an inner layer printed wiring board (halogen-free FR-4 (Sumitomo Bakelite Co., Ltd., thickness 0.2 mm)) obtained by etching the entire copper foil. One prepreg (two in total) was stacked, and heat-press molding was performed at a pressure of 2 MPa and a temperature of 200 ° C. for 2 hours by a vacuum press to obtain a printed wiring board. The obtained printed wiring board was cut into a predetermined size and used for measurement of reflectance. The results are shown in Table 2 and FIG.

Figure 0004968460
Figure 0004968460

Figure 0004968460
Figure 0004968460

表1及び表2から、実施例1〜5はいずれも、400〜600nmの短波長領域の可視光の反射率が約80%であった。また、実施例1〜5と比較例1、2の対比から、混合フィラーの反射効果は単一の粒度分布のフィラーと比較して極めて大きいことが判る。また、シアネート樹脂とエポキシ樹脂の混合樹脂を使用した実施例1〜5は、発光素子の発光熱に耐える高耐熱性と高剛性を有することが判る。   From Tables 1 and 2, in all of Examples 1 to 5, the visible light reflectance in the short wavelength region of 400 to 600 nm was about 80%. Moreover, it turns out that the reflective effect of a mixed filler is very large compared with the filler of a single particle size distribution from the comparison of Examples 1-5 and Comparative Examples 1 and 2. Moreover, it turns out that Examples 1-5 which use mixed resin of cyanate resin and an epoxy resin have the high heat resistance and high rigidity which can endure the luminescence heat of a light emitting element.

(B)は、樹脂付き金属箔の縦断面図であり、(A)は樹脂組成物部分と金属箔部分を判りやすく、離間して示した図である。(B) is a longitudinal cross-sectional view of a resin-attached metal foil, and (A) is a diagram showing the resin composition part and the metal foil part in an easily understandable manner and separated from each other. (B)は、樹脂付きフィルムの縦断面図であり、(A)は樹脂組成物部分とフィルム部分を判りやすく、離間して示した図である。(B) is a longitudinal cross-sectional view of a film with resin, and (A) is a diagram showing the resin composition portion and the film portion in an easily understandable manner and separated from each other. 本発明の2層構造のプリント配線板の模式図である。It is a schematic diagram of the printed wiring board of the 2 layer structure of this invention. 本発明の3層構造のプリント配線板の模式図である。It is a schematic diagram of the printed wiring board of the three-layer structure of the present invention. 本発明の5層構造のプリント配線板の模式図である。It is a schematic diagram of the printed wiring board of the 5 layer structure of this invention. LEDチップの簡略図である。It is a simplified diagram of an LED chip. 400〜750nmの波長の光に対する反射率を示すグラフである。It is a graph which shows the reflectance with respect to the light of a wavelength of 400-750 nm.

符号の説明Explanation of symbols

20 樹脂付き金属箔
21、21a 樹脂組成物
22 金属箔
30 樹脂付きフィルム
23 フィルム
50 2層プリント配線板
51、51a 内層プリント配線板
52 導体パターン(金属箔)
53 プリプレグの硬化物
54 シート状ガラス繊維基材
60 3層プリント配線板
70 5層プリント配線板
20 Metal foil with resin 21, 21a Resin composition 22 Metal foil 30 Film with resin 23 Film 50 Two-layer printed wiring board 51, 51a Inner-layer printed wiring board 52 Conductor pattern (metal foil)
53 Cured prepreg 54 Sheet-like glass fiber substrate 60 Three-layer printed wiring board 70 Five-layer printed wiring board

Claims (7)

金属箔又は樹脂製フィルムの一方の側面に積層されるプリント配線板用の樹脂組成物であって、(A)シアネート樹脂またはそのプレポリマー、(B)エポキシ樹脂、(C)硬化剤、(D)平均粒子径が0.45〜0.55μmの第1粉末無機フィラーと平均粒子径が0.8〜1.2μmの第2粉末無機フィラーの混合フィラー及び(E)白色顔料を含有し、前記混合フィラー(D)の含有量は、樹脂組成物中、30〜60重量%であることを特徴とする樹脂組成物。   A resin composition for a printed wiring board laminated on one side of a metal foil or resin film, wherein (A) a cyanate resin or a prepolymer thereof, (B) an epoxy resin, (C) a curing agent, (D ) Containing a mixed filler of a first powder inorganic filler having an average particle diameter of 0.45 to 0.55 μm and a second powder inorganic filler having an average particle diameter of 0.8 to 1.2 μm, and (E) a white pigment, Content of mixed filler (D) is 30 to 60 weight% in a resin composition, The resin composition characterized by the above-mentioned. 前記第2粉末無機フィラー100重量部に対して、第1粉末無機フィラーの配合量が、200〜500重量部であることを特徴とする請求項1記載の樹脂組成物。   2. The resin composition according to claim 1, wherein the blending amount of the first powder inorganic filler is 200 to 500 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the second powder inorganic filler. 前記シアネート樹脂またはそのプレポリマー(A)と前記エポキシ樹脂(B)との配合比率((A):(B))が、重量部基準で60:40〜30:70であることを特徴とする請求項1又は2に記載の樹脂組成物。   The blending ratio ((A) :( B)) of the cyanate resin or its prepolymer (A) and the epoxy resin (B) is 60:40 to 30:70 on a weight part basis. The resin composition according to claim 1 or 2. 請求項1〜3のいずれか1項に記載の樹脂組成物を金属箔の一方の側に積層して得られる樹脂組成物付き金属箔。   Metal foil with a resin composition obtained by laminating | stacking the resin composition of any one of Claims 1-3 on the one side of metal foil. 請求項4記載の樹脂組成物付き金属箔を内層プリント配線板の片面又は両面に、該樹脂組成物が内側となるように、重ね合わせて加熱、加圧して2層構造体又は3層構造体を得ることを特徴とするプリント配線板。   A metal foil with a resin composition according to claim 4 is superimposed on one side or both sides of an inner printed wiring board so that the resin composition is on the inside, heated and pressed to form a two-layer structure or a three-layer structure. A printed wiring board characterized in that 請求項4記載の樹脂組成物付き金属箔の2つを樹脂組成物が内側となるように上下にそれぞれ配置し、該2つの樹脂組成物付き金属箔間に、上から下へ順に第1内層プリント配線板、樹脂組成物、第2内層プリント配線板の3層体を少なくとも含むものを重ね合わせて加熱、加圧して多層プリント配線板を得ることを特徴とするプリント配線板。   Two metal foils with a resin composition according to claim 4 are arranged one above the other so that the resin composition is on the inside, and the first inner layer is arranged in order from top to bottom between the two metal foils with the resin composition What is claimed is: 1. A printed wiring board, comprising: a printed wiring board, a resin composition, and a second inner layer printed wiring board including at least a three-layered body; 発光素子が搭載されることを特徴とする請求項5又は6記載のプリント配線板。   The printed wiring board according to claim 5, wherein a light emitting element is mounted.
JP2007104690A 2007-04-12 2007-04-12 Resin composition, metal foil with resin composition and printed wiring board Active JP4968460B2 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2007104690A JP4968460B2 (en) 2007-04-12 2007-04-12 Resin composition, metal foil with resin composition and printed wiring board

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2007104690A JP4968460B2 (en) 2007-04-12 2007-04-12 Resin composition, metal foil with resin composition and printed wiring board

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2008260849A JP2008260849A (en) 2008-10-30
JP4968460B2 true JP4968460B2 (en) 2012-07-04

Family

ID=39983572

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2007104690A Active JP4968460B2 (en) 2007-04-12 2007-04-12 Resin composition, metal foil with resin composition and printed wiring board

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP4968460B2 (en)

Families Citing this family (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
TWI488740B (en) * 2012-01-06 2015-06-21 Lg Chemical Ltd Film for encapsulating
JP5941847B2 (en) * 2013-01-17 2016-06-29 信越化学工業株式会社 Silicone / organic resin composite laminate, method for producing the same, and light-emitting semiconductor device using the same
EP4029896A4 (en) * 2019-09-09 2023-07-05 Adeka Corporation Curable resin composition
CN112258948B (en) * 2020-11-03 2022-07-12 重庆广播电视大学重庆工商职业学院 PCB circuit board circuit simulation analysis demonstration teaching device

Family Cites Families (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP3721285B2 (en) * 1999-07-16 2005-11-30 電気化学工業株式会社 Spherical inorganic powder and its use
JP4999241B2 (en) * 2001-08-10 2012-08-15 利昌工業株式会社 White laminated board for printed circuit boards
JP2003277479A (en) * 2002-03-22 2003-10-02 Sanyu Rec Co Ltd Method for producing substrate for carrying led bare chip and resin composition
JP2006253328A (en) * 2005-03-09 2006-09-21 Fujikura Ltd Manufacturing method of multilayer wiring board
JP2006286852A (en) * 2005-03-31 2006-10-19 Sumitomo Bakelite Co Ltd Resin composition, resin layer, carrier material with resin layer and circuit board
JP5303826B2 (en) * 2006-08-11 2013-10-02 住友ベークライト株式会社 Resin composition, prepreg and printed wiring board using the same

Also Published As

Publication number Publication date
JP2008260849A (en) 2008-10-30

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP5493853B2 (en) Epoxy resin composition, prepreg, laminate, multilayer printed wiring board, semiconductor device, insulating resin sheet, and method for producing multilayer printed wiring board
KR101355777B1 (en) Prepreg, laminate, printed wiring board, and semiconductor device
US9206308B2 (en) Epoxy resin composition for prepreg, prepreg, and multilayer printed circuit board
JP5293598B2 (en) Resin composition, prepreg, laminate, multilayer printed wiring board, and semiconductor device
US8044505B2 (en) Prepreg, method for manufacturing prepreg, substrate, and semiconductor device
JP4697144B2 (en) Epoxy resin composition for prepreg, prepreg, multilayer printed wiring board
JP3946626B2 (en) Resin composition, prepreg and printed wiring board using the same
JP5206600B2 (en) Epoxy resin composition, prepreg, laminate, resin sheet, multilayer printed wiring board, and semiconductor device
KR20110059784A (en) Laminate, circuit board and semiconductor device
JP5157103B2 (en) Prepreg, substrate and semiconductor device
JP4968460B2 (en) Resin composition, metal foil with resin composition and printed wiring board
JP2013239701A (en) Interlayer dielectric film with carrier material, and multilayer printed circuit board using the same
JP2006348187A (en) Resin composition, and prepreg and copper-clad laminate using the same
JP2003253018A (en) Prepreg and printed wiring board using the same
JP4400191B2 (en) Resin composition and substrate using the same
JP2005105061A (en) Resin composition, conductive foil with resin, prepreg, sheet, sheet with conductive foil, laminated plate and printed wiring board
JP2003213019A (en) Prepreg and printed wiring board using the same
JP2005105062A (en) Resin composition, conductive foil with resin, prepreg, sheet, sheet with conductive foil, laminated plate and printed wiring board
JP2004277671A (en) Prepreg and printed circuit board using the same
JP2003073543A (en) Resin composition, prepreg and printed circuit board using the same
JP2004315705A (en) Modified polyimide resin composition and prepreg and laminate using the same
JP2008127530A (en) Epoxy resin composition, prepreg, metal-clad laminate, printed wiring board and multilayer printed wiring board
JP5448414B2 (en) Resin composition, prepreg, laminate, multilayer printed wiring board, and semiconductor device
JP2022100320A (en) Resin composition for prepreg, prepreg, metal-clad laminate, printed wiring board and semiconductor device
JP4517699B2 (en) Resin composition, prepreg and laminate

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20100305

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20120125

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20120201

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20120213

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20120307

A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20120320

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20150413

Year of fee payment: 3

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150