JP2005105062A - Resin composition, conductive foil with resin, prepreg, sheet, sheet with conductive foil, laminated plate and printed wiring board - Google Patents

Resin composition, conductive foil with resin, prepreg, sheet, sheet with conductive foil, laminated plate and printed wiring board Download PDF

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賢一 川畑
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a resin composition having a low transmission loss (a low dielectric constant, a low dielectric loss) serviceable under high frequency conditions, good handling properties, high heat resistance, low water absorption and high flame retardancy, a conductive foil with a resin, a prepreg, a sheet, a sheet with the conductive foil, a laminated plate and a printed wiring board. <P>SOLUTION: The resin composition comprises a thermosetting polyphenylene ether oligomer (A), a flexibility-imparting agent (B) comprising at least one of polybutadiene and styrene-butadiene copolymers, a flame-retardant (C) and a dielectric material powder (D). <P>COPYRIGHT: (C)2005,JPO&NCIPI

Description

本発明は、電子・電気部品、プリント配線基板等の電子材料分野に用いられる樹脂組成物およびその用途に関し、より詳細には、樹脂組成物ならびにこれを用いた樹脂付導体箔、プリプレグ、シート、導体箔付シート、積層板およびプリント配線基板に関する。   The present invention relates to a resin composition used in the field of electronic materials such as electronic / electrical parts and printed wiring boards and uses thereof, and more specifically, a resin composition and a resin-coated conductor foil, a prepreg, a sheet, The present invention relates to a sheet with conductive foil, a laminated board, and a printed wiring board.

近年、電子、情報通信機器の発展に伴い、例えば携帯端末等の集積回路装置を構成するプリント配線基板およびこれに用いる材料には、種々の特性が一層厳しく要求されるようになっている。   In recent years, with the development of electronic and information communication equipment, for example, printed circuit boards constituting materials for integrated circuits such as portable terminals and materials used therefor are required to have various characteristics more severely.

まず、特に携帯端末等においては、上記基板構成材料が高周波(1GHz以上の準マイクロ波)を用いる使用条件に対応可能であることが要求されている。具体的には、高周波の伝送損失を抑制可能であることが求められるが、そのためには、樹脂組成物等の誘電率および誘電正接を低く抑える必要がある。   First, particularly in portable terminals and the like, it is required that the substrate constituent material be able to cope with usage conditions using a high frequency (a quasi-microwave of 1 GHz or more). Specifically, it is required to be able to suppress high-frequency transmission loss. To that end, it is necessary to keep the dielectric constant and dielectric loss tangent of the resin composition or the like low.

素子回路内では誘電損失といわれる伝送過程におけるエネルギー損失が生じる。しかし、エネルギー損失は熱エネルギーとして素子回路内に消費されて熱として放出されるために好ましくない。下記数式1に示すように、プリント配線基板が形成する伝送路の伝送損失の大きさは、プリント配線基板を構成する誘電体の誘電率の平方根、及びこの誘電体の誘電正接に比例することが知られている。したがって、伝送損失を少なくするためには誘電率、誘電正接を少なくすることが必要であることがわかる。   In the element circuit, energy loss in the transmission process called dielectric loss occurs. However, energy loss is not preferable because it is consumed in the element circuit as heat energy and released as heat. As shown in Equation 1 below, the magnitude of the transmission loss of the transmission line formed by the printed wiring board may be proportional to the square root of the dielectric constant of the dielectric constituting the printed wiring board and the dielectric loss tangent of this dielectric. Are known. Therefore, it can be seen that it is necessary to reduce the dielectric constant and the dielectric loss tangent in order to reduce the transmission loss.

(数式1)
(伝送損失)=(係数)×(周波数)×(誘電率)1/2×(誘電正接)
(Formula 1)
(Transmission loss) = (Coefficient) x (Frequency) x (Dielectric constant) 1/2 x (Dielectric loss tangent)

また、チップ部品実装はSMT(サーフェイスマウントテクノロジー)技術を用い、クリームはんだを印刷し、リフローによりはんだを溶融させて接合させる。しかし、近年の鉛フリー化に伴う半田材料の変更に伴い、リフロー温度が上昇し、基板構成材料にはMAXで260〜280℃の条件で複数回の耐性があることが要求されている。   Further, chip component mounting uses SMT (surface mount technology) technology, printing cream solder, and melting and bonding the solder by reflow. However, with the recent change in solder material associated with lead-free soldering, the reflow temperature has risen, and the substrate constituent material is required to have multiple resistances at a MAX of 260 to 280 ° C.

さらに、回路のインピーダンス制御や小型化要求に伴いインダクタ、キャパシタを内蔵する新しい技術動向も出てきており、低吸水率化による誘電特性のドリフトを抑える必要があると同時に基板材料の薄型化も要求されている。   In addition, along with the demands for circuit impedance control and downsizing, new technology trends that include inductors and capacitors are also emerging, and it is necessary to reduce the drift of dielectric characteristics due to low water absorption, while at the same time requiring thinner substrate materials. Has been.

上記要求に答えるべく、市場ではさまざまな有機材料およびこれを用いた基板が上市されている。具体的には、ポリイミド、ビスマレイミドトリアジン、シアネートエステル、ポリビニルベンジルエーテル、架橋性ポリフェニレンオキサイド(エーテル)、フッ素、(エポキシまたはフェノール樹脂+芳香族エステル系硬化樹脂)、低吸水率エポキシ樹脂、シンジオタクティックポリスチレンの有機材料およびこれらを用いたプリント基板が挙げられる。しかし、これらも、上記要求、特に、耐熱性と低吸水性を十分に満足するものはない。   In order to meet the above requirements, various organic materials and substrates using the same are marketed on the market. Specifically, polyimide, bismaleimide triazine, cyanate ester, polyvinyl benzyl ether, crosslinkable polyphenylene oxide (ether), fluorine, (epoxy or phenol resin + aromatic ester-based cured resin), low water absorption epoxy resin, syndiotactic Examples thereof include organic materials of tick polystyrene and printed circuit boards using these materials. However, none of them satisfy the above requirements, particularly heat resistance and low water absorption.

また、伝送損失低減のためには、誘電損失低減の他に導体損失も低減する必要があり、もっとも効果的なのが密着強度確保のために必要な導体粗化の低減である。高周波信号には導体の表面にしか電流が流れない、いわゆる表皮効果という現象があり、銅の場合、その表皮深さは下記数式2で表される。下記式よりGHz帯における表皮深さを算出すると1GHzでは2.09μm、5GHzでは0.93μmとなる。これを低減しようとすると、導体箔に絶縁層を塗工、乾燥後の樹脂付導体箔作成時に絶縁層のクラック、脱落が起こりやすいという欠点がある。   In order to reduce the transmission loss, it is necessary to reduce the conductor loss in addition to the dielectric loss reduction, and the most effective is the reduction of the conductor roughening necessary for securing the adhesion strength. A high-frequency signal has a phenomenon called a skin effect in which current flows only on the surface of a conductor. In the case of copper, the skin depth is expressed by the following formula 2. When the skin depth in the GHz band is calculated from the following formula, it becomes 2.09 μm at 1 GHz and 0.93 μm at 5 GHz. If it is going to reduce this, there exists a fault that an insulating layer is applied to conductor foil, and the insulating layer is easy to crack and drop off at the time of making a conductor foil with resin after drying.

(数式2)
(表皮深さ)=2.09/((周波数)×(比導電率))1/2
(Formula 2)
(Skin depth) = 2.09 / ((frequency) × (specific conductivity)) 1/2

一方、先の小型化要求により、材料の高誘電率化も求められる。小型化のためには信号の波長を短くして配線長を下げる、およびキャパシタ形成の対抗電極面積を小さくする必要があり、これらは材料の高誘電率化によって達成される。波長および静電容量値は一般的に下記数式3および4で表される。しかし、単なる高誘電率化はロスを増大させることになるため、これと同時に誘電正接を低く維持する必要がある。   On the other hand, higher dielectric constants of materials are also required due to previous miniaturization requirements. In order to reduce the size, it is necessary to shorten the signal wavelength to reduce the wiring length, and to reduce the counter electrode area for capacitor formation, which is achieved by increasing the dielectric constant of the material. The wavelength and the capacitance value are generally expressed by the following formulas 3 and 4. However, simply increasing the dielectric constant increases the loss, and at the same time, it is necessary to keep the dielectric loss tangent low.

(数式3)
(波長)=(光速)/(周波数)/(誘電率)1/2
(Formula 3)
(Wavelength) = (speed of light) / (frequency) / (dielectric constant) 1/2

(数式4)
(静電容量値)=(真空の誘電率)×(材料の比誘電率)×(電極面積)/(絶縁層厚み)
(Formula 4)
(Capacitance value) = (Dielectric constant of vacuum) × (Relative permittivity of material) × (electrode area) / (insulating layer thickness)

これらの要求に応えうる材料として、高周波特性、誘電特性、耐熱性、低吸水率の優れた物性を持つ有機材料に、高周波特性に優れた誘電体セラミック粉末を混合した複合誘電材料を作成することが考えられる。このような材料として、強靭性を有し、PPE(PolyPhenyleneEther)の優れた特性(低誘電率、低誘電正接、高ガラス転移温度、低吸水率等)を損なわない熱硬化性PPEのオリゴマーを用いたものが提案されている(特許文献1参照)。
特開2003−212990号公報
As a material that can meet these requirements, create a composite dielectric material in which a dielectric ceramic powder with excellent high-frequency characteristics is mixed with an organic material with excellent physical properties such as high-frequency characteristics, dielectric characteristics, heat resistance, and low water absorption. Can be considered. As such a material, a thermosetting PPE oligomer that has toughness and does not impair the excellent properties of PPE (PolyPhenyleneEther) (low dielectric constant, low dielectric loss tangent, high glass transition temperature, low water absorption, etc.) is used. Have been proposed (see Patent Document 1).
JP 2003-221990 A

しかし、このような複合誘電材料を用いた場合には、先に挙げた導体箔への絶縁層塗工、乾燥後の樹脂付導体箔の絶縁層のクラックや脱落が顕著になってしまう、硬化物の導体ピール強度が低下する、といった欠点がある。   However, when such a composite dielectric material is used, the coating of the insulating layer on the conductive foil mentioned above, the cracking or dropping off of the insulating layer of the conductive foil with resin after drying becomes hard, There is a drawback that the conductor peel strength of the object is lowered.

PPEオリゴマーを用いる場合にも、残念ながら、上記化合物と誘電体粉末とのみで低粗化導体箔上に絶縁層を塗工した樹脂付導電箔を作成すると、容易にクラックや絶縁層の脱落が発生してしまい、切断やハンドリングにおいて問題が発生してしまう、曲げ弾性率の増加により破断までのたわみ量が低下してしまう、難燃性が低いと言った問題がある。   Even when using PPE oligomers, unfortunately, creating a resin-coated conductive foil with an insulating layer coated on a low-roughened conductor foil using only the above-mentioned compound and dielectric powder can easily cause cracks and falling off of the insulating layer. There are problems such as cutting and handling, problems of cutting and handling, an increase in flexural modulus, a decrease in the amount of deflection until breakage, and low flame retardancy.

このように、従来より、PPEの有する優れた特性を維持しつつ、良好なハンドリング性および高い難燃性を実現可能な樹脂組成物等の基板構成材料およびこれから構成されたプリント配線基板が求められていた。   Thus, conventionally, there has been a demand for a substrate constituent material such as a resin composition capable of realizing good handling properties and high flame retardance while maintaining the excellent characteristics of PPE, and a printed wiring board composed thereof. It was.

上記事情を鑑みて、本発明は、種々の電子機器に好適に使用可能な樹脂組成物、樹脂付導体箔、プリプレグ、シート、導体箔付シート、積層板およびプリント配線基板を提供することを目的とする。
また、本発明は、PPEの優れた特性と誘電体粉末の優れた特性とを良好に維持しつつ、かつ、良好なハンドリング性と高い難燃性とが実現された樹脂組成物、樹脂付導体箔、プリプレグ、シート、導体箔付シート、積層板およびプリント配線基板を提供することを目的とする。
さらに、本発明は、高周波条件で使用可能な低伝送損失(低誘電率、低誘電損失)と、良好なハンドリング性と、高耐熱性と、低吸水性と、高難燃性と、を有し、さらに、高誘電率化による波長短縮効果に寄与し、配線基板の軽薄短小化が達成できる樹脂組成物、樹脂付導体箔、プリプレグ、シート、導体箔付シート、積層板およびプリント配線基板を提供することを目的とする。
In view of the above circumstances, an object of the present invention is to provide a resin composition, a conductor foil with resin, a prepreg, a sheet, a sheet with conductor foil, a laminate, and a printed wiring board that can be suitably used for various electronic devices. And
In addition, the present invention provides a resin composition and a conductor with a resin, in which the excellent characteristics of PPE and the excellent characteristics of dielectric powder are maintained well, and excellent handling and high flame retardancy are realized. An object is to provide a foil, a prepreg, a sheet, a sheet with a conductive foil, a laminate, and a printed wiring board.
Furthermore, the present invention has low transmission loss (low dielectric constant, low dielectric loss) that can be used under high frequency conditions, good handling properties, high heat resistance, low water absorption, and high flame resistance. Furthermore, a resin composition, a resin foil with a resin, a prepreg, a sheet, a sheet with a conductor foil, a laminate, and a printed wiring board that contribute to the wavelength shortening effect by increasing the dielectric constant and can achieve a reduction in the thickness and thickness of the wiring board. The purpose is to provide.

上記目的を達成するため、本発明の第1の観点にかかる樹脂組成物は、
下記一般式(1)で表される熱硬化性ポリフェニレンエーテルオリゴマー体(A)と、ポリブタジエンもしくはスチレン−ポリブタジエン共重合体のいずれか1種以上から選択される可とう性付与剤(B)と、難燃剤(C)と、誘電体粉末(D)と、を含んで構成される。

Figure 2005105062
Figure 2005105062
Figure 2005105062
(式中、−(O−X−O)−は一般式(2)で示され、R1、R2、R7、R8は同一または異なっていてもよく、ハロゲン原子または炭素数6以下のアルキル基もしくはフェニル基である。R3、R4、R5、R6は同一または異なっていてもよく、水素原子、ハロゲン原子または炭素数6以下のアルキル基もしくはフェニル基である。Aは炭素数20以下の直鎖状もしくは分岐状もしくは環状の炭化水素である。−(Y−O)−は一般式(3)で示され、R9、R10は同一または異なっていてもよく、ハロゲン原子または炭素数6以下のアルキル基もしくはフェニル基である。R11、R12は同一または異なっていてもよく、水素原子、ハロゲン原子または炭素数6以下のアルキル基もしくはフェニル基である。−(Y−O)−は一般式(3)で定義される1種類の構造、または一般式(3)で定義される2種類以上の構造がランダムに配列したものである。Zは炭素数1以上の有機基であり、酸素原子を含むこともある。a、bは少なくともいずれか一方が0でない、0〜300の整数を示す。iはそれぞれ独立に0または1の整数を示す。) In order to achieve the above object, the resin composition according to the first aspect of the present invention comprises:
A thermosetting polyphenylene ether oligomer (A) represented by the following general formula (1), and a flexibility-imparting agent (B) selected from any one or more of polybutadiene or styrene-polybutadiene copolymer; A flame retardant (C) and a dielectric powder (D) are included.
Figure 2005105062
Figure 2005105062
Figure 2005105062
(In the formula, — (O—X—O) — is represented by the general formula (2), and R 1, R 2, R 7 and R 8 may be the same or different, and are a halogen atom or an alkyl group having 6 or less carbon atoms, or R3, R4, R5 and R6 may be the same or different and are a hydrogen atom, a halogen atom, an alkyl group having 6 or less carbon atoms, or a phenyl group, and A is a straight chain having 20 or less carbon atoms. Or a branched or cyclic hydrocarbon,-(YO)-is represented by the general formula (3), R9 and R10 may be the same or different and are a halogen atom or an alkyl group having 6 or less carbon atoms; R11 and R12 may be the same or different and are a hydrogen atom, a halogen atom, an alkyl group having 6 or less carbon atoms, or a phenyl group. One type of structure defined by the formula (3) or two or more types of structures defined by the general formula (3) are randomly arranged, Z is an organic group having 1 or more carbon atoms, oxygen (A and b each represents an integer of 0 to 300, at least one of which is not 0. Each i independently represents an integer of 0 or 1.)

上記構成の樹脂組成物において、前記誘電体粉末は、例えば、Mg2SiO4、Al23、MgTiO3、ZnTiO3、Zn2TiO4、TiO2、CaTiO3、SrTiO3、SrZrO3、BaTi25、BaTi49、Ba2Ti920、Ba2(Ti,Sn)920、ZrTiO4、(Zr,Sn)TiO4、BaNd2Ti514、BaSm2TiO14、BaO−CaO−Nd23−TiO2系、BaO−SrO−Nd23−TiO2系、Bi23−BaO−Nd23−TiO2系、PbO−BaO−Nd23−TiO2系、(Bi23、PbO)−BaO−Nd23−TiO2系、La2Ti27、Nd2Ti27、(Li,Sm)TiO3、Ba(Mg1/3Ta2/3)O3、Ba(Zn1/3Ta2/3)O3、Ba(Zn1/3,Nb2/3)O3、Sr(Zn1/3Nb2/3)O3、BaTiO3、(Ba,Pb)TiO3、Ba(Ti,Zr)O3、(Ba,Sr)TiO3のいずれか1種あるいはこれらの組み合わせから選択される。 In the resin composition of the above-described configuration, the dielectric powder, for example, Mg 2 SiO 4, Al 2 O 3, MgTiO 3, ZnTiO 3, Zn 2 TiO 4, TiO 2, CaTiO 3, SrTiO 3, SrZrO 3, BaTi 2 O 5 , BaTi 4 O 9 , Ba 2 Ti 9 O 20 , Ba 2 (Ti, Sn) 9 O 20 , ZrTiO 4 , (Zr, Sn) TiO 4 , BaNd 2 Ti 5 O 14 , BaSm 2 TiO 14 , BaO—CaO—Nd 2 O 3 —TiO 2 system, BaO—SrO—Nd 2 O 3 —TiO 2 system, Bi 2 O 3 —BaO—Nd 2 O 3 —TiO 2 system, PbO—BaO—Nd 2 O 3 -TiO 2 system, (Bi 2 O 3, PbO ) -BaO-Nd 2 O 3 -TiO 2 based, La 2 Ti 2 O 7, Nd 2 Ti 2 O 7, (Li, Sm) TiO 3, Ba (Mg 1/3 Ta 2/3 ) O 3 , Ba (Zn 1/3 Ta 2/3 ) O 3 , Ba (Zn 1/3 , Nb 2/3 ) O 3 , Sr (Zn 1/3 Nb 2/3 ) O 3 , BaTiO 3 , (Ba, Pb) TiO 3 , Ba (Ti, Zr) Any one of O 3 , (Ba, Sr) TiO 3 , or a combination thereof is selected.

上記構成の樹脂組成物において、前記誘電体粉末の配合比率は、重量比で前記熱硬化性ポリフェニレンエーテルオリゴマー体(A)と前記可とう性付与剤(B)との合計100重量部に対し、10〜900重量部であることが好ましい。   In the resin composition having the above structure, the dielectric powder is mixed in a weight ratio of 100 parts by weight in total of the thermosetting polyphenylene ether oligomer (A) and the flexibility-imparting agent (B). It is preferable that it is 10-900 weight part.

上記構成の樹脂組成物において、前記可とう性付与剤(B)の配合比率は、重量比で前記熱硬化性ポリフェニレンエーテルオリゴマー体(A)100重量部に対し、5〜66重量部であることが好ましい。   In the resin composition having the above configuration, the blending ratio of the flexibility-imparting agent (B) is 5 to 66 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the thermosetting polyphenylene ether oligomer (A). Is preferred.

上記構成の樹脂組成物において、前記可とう性付与剤(B)は、例えば、下記一般式(4)で表され、1,2−ビニル結合が80%以上のオリゴマー骨格を有するポリブタジエンを含んで構成される。

Figure 2005105062
(式中、nは0以上の整数である。) In the resin composition having the above structure, the flexibility imparting agent (B) includes, for example, polybutadiene represented by the following general formula (4) and having an oligomer skeleton in which 1,2-vinyl bond is 80% or more. Composed.
Figure 2005105062
(In the formula, n is an integer of 0 or more.)

上記構成の樹脂組成物において、前記可とう性付与剤(B)は、例えば、下記一般式(5)で表されるスチレン−ブタジエン共重合体を含んで構成される。

Figure 2005105062
(式中、nは0〜840、mは0〜1400の整数を表す。) In the resin composition having the above-described configuration, the flexibility imparting agent (B) includes, for example, a styrene-butadiene copolymer represented by the following general formula (5).
Figure 2005105062
(In the formula, n represents an integer of 0 to 840 and m represents an integer of 0 to 1400.)

上記構成の樹脂組成物において、前記難燃剤(C)は、例えば、ハロゲン系芳香族系添加型難燃剤もしくはハロゲン化フェノールの水酸基のうち少なくとも1つ以上がビニルベンジル基に置換された化合物を含んで構成される。   In the resin composition having the above structure, the flame retardant (C) includes, for example, a halogenated aromatic flame retardant or a compound in which at least one of hydroxyl groups of a halogenated phenol is substituted with a vinylbenzyl group. Consists of.

上記構成の樹脂組成物において、前記難燃剤(C)の配合比率は、前記熱硬化性ポリフェニレンエーテルオリゴマー体(A)と前記可とう性付与剤(B)との合計100重量部に対し、5〜100重量部であることが好ましい。   In the resin composition having the above-described configuration, the blending ratio of the flame retardant (C) is 5 with respect to 100 parts by weight in total of the thermosetting polyphenylene ether oligomer (A) and the flexibility-imparting agent (B). It is preferably ~ 100 parts by weight.

上記目的を達成するため、本発明の第2の観点にかかる樹脂付導体箔は、
導体箔上に、上記第1の観点にかかる樹脂組成物が塗工、乾燥されて形成される。
In order to achieve the above object, the resin-coated conductor foil according to the second aspect of the present invention is:
On the conductor foil, the resin composition according to the first aspect is formed by coating and drying.

上記構成の樹脂付導体箔において、前記導体箔は、例えば、銅、銀、金、アルミ、ニッケル−クロム、ニッケルのいずれか1種から構成され、例えば、前記導体箔の厚みが3〜70μmの範囲にある。   In the conductor foil with resin having the above-described configuration, the conductor foil is made of, for example, any one of copper, silver, gold, aluminum, nickel-chromium, and nickel. For example, the conductor foil has a thickness of 3 to 70 μm. Is in range.

上記構成の樹脂付導体箔において、例えば、前記導体箔の表面粗化が0.2〜3.5μmの範囲にある。   In the conductor foil with resin having the above configuration, for example, the surface roughness of the conductor foil is in the range of 0.2 to 3.5 μm.

上記構成の樹脂付導体箔において、例えば、前記導体箔上に形成された樹脂層の厚みが5〜200μmである。   In the resin-coated conductor foil having the above configuration, for example, the thickness of the resin layer formed on the conductor foil is 5 to 200 μm.

上記目的を達成するため、本発明の第3の観点にかかるプリント配線基板は、
上記第2の観点にかかる樹脂付導体箔を、片面もしくは両面重ね合わせて加熱、加圧して形成される。
In order to achieve the above object, a printed wiring board according to a third aspect of the present invention includes:
The resin-coated conductor foil according to the second aspect is formed by heating and pressurizing one side or both sides.

上記目的を達成するため、本発明の第4の観点にかかる樹脂付導体箔は、
上記第1の観点にかかる樹脂組成物を支持体上に塗布、乾燥させ、あらかじめ所定形状にパターニングされた導体箔上に載せて加熱、加圧後、前記支持体から剥離することにより形成される。
In order to achieve the above object, the resin-coated conductor foil according to the fourth aspect of the present invention is:
The resin composition according to the first aspect is applied on a support, dried, placed on a conductor foil previously patterned in a predetermined shape, heated and pressurized, and then peeled off from the support. .

上記目的を達成するため、本発明の第5の観点にかかるプリント配線基板は、上記第4の観点にかかる樹脂付導体箔を積層して形成される。   In order to achieve the above object, a printed wiring board according to a fifth aspect of the present invention is formed by laminating resin-coated conductor foils according to the fourth aspect.

上記目的を達成するためp、本発明の第6の観点にかかるプリプレグは、
上記第1の観点にかかる樹脂組成物に基材を含浸させて構成される。
In order to achieve the above object, p, a prepreg according to the sixth aspect of the present invention,
The resin composition according to the first aspect is impregnated with a substrate.

上記目的を達成するため、本発明の第7の観点にかかるシートは、
上記第6の観点にかかるプリプレグを1枚以上重ねて硬化させて構成される。
In order to achieve the above object, the sheet according to the seventh aspect of the present invention is:
One or more prepregs according to the sixth aspect are stacked and cured.

上記目的を達成するため、本発明の第8の観点にかかる導体箔付シートは、
上記第6の観点にかかるプリプレグの片面または両面に導体箔を重ねて硬化させて構成される。
In order to achieve the above object, the sheet with conductor foil according to the eighth aspect of the present invention is:
The prepreg according to the sixth aspect is configured by overlapping and curing a conductor foil on one or both sides of the prepreg.

上記目的を達成するため、本発明の第9の観点にかかる積層板は、
上記第7の観点にかかるシートまたは上記第8の観点にかかる導体箔付シートの間に基材を挟んで硬化させて構成される。
In order to achieve the above object, a laminated board according to the ninth aspect of the present invention,
It is configured by sandwiching and curing a base material between the sheet according to the seventh aspect or the sheet with conductive foil according to the eighth aspect.

上記目的を達成するため、本発明の第10の観点にかかるプリント配線基板は、
上記第7の観点にかかるシート、上記第8の観点にかかる導体箔付シートまたは上記第9の観点にかかる積層板を複数枚用いて構成される。
In order to achieve the above object, a printed wiring board according to a tenth aspect of the present invention is:
The sheet according to the seventh aspect, the sheet with conductive foil according to the eighth aspect, or the laminated board according to the ninth aspect is used.

本発明によれば、種々の電子機器の好適に使用可能な樹脂組成物、樹脂付導体箔、プリプレグ、シート、導体箔付シート、積層板およびプリント配線基板が提供される。
また、本発明によれば、PPEの優れた特性と誘電体粉末の優れた特性とを良好に維持しつつ、かつ、良好なハンドリング性と高い難燃性とが実現された樹脂組成物、樹脂付導体箔、プリプレグ、シート、導体箔付シート、積層板およびプリント配線基板が提供される。
さらに、本発明によれば、高周波条件で使用可能な低伝送損失(低誘電率、低誘電損失)と、良好なハンドリング性と、高耐熱性と、低吸水性と、高難燃性と、を有し、さらに、高誘電率化による波長短縮効果に寄与し、配線基板の軽薄短小化が達成できる樹脂組成物、樹脂付導体箔、プリプレグ、シート、導体箔付シート、積層板およびプリント配線基板が提供される。
ADVANTAGE OF THE INVENTION According to this invention, the resin composition which can be used conveniently for various electronic devices, resin foil with a resin, a prepreg, a sheet | seat, a sheet | seat with conductor foil, a laminated board, and a printed wiring board are provided.
In addition, according to the present invention, a resin composition and a resin in which excellent handling characteristics and high flame retardancy are realized while maintaining excellent characteristics of PPE and excellent characteristics of dielectric powder. Provided are a conductive foil, a prepreg, a sheet, a sheet with a conductive foil, a laminate, and a printed wiring board.
Furthermore, according to the present invention, low transmission loss (low dielectric constant, low dielectric loss) that can be used under high frequency conditions, good handling properties, high heat resistance, low water absorption, high flame retardancy, Furthermore, it contributes to the effect of shortening the wavelength by increasing the dielectric constant, and the resin composition, the conductor foil with resin, the prepreg, the sheet, the sheet with conductor foil, the laminated board, and the printed wiring that can achieve the reduction of the thickness and thickness of the wiring board A substrate is provided.

本発明者らは、鋭意検討した結果、本発明の実施の形態にかかる樹脂組成物、樹脂付導体箔およびプリント配線基板を完成し、以下これらについて詳細に説明する。   As a result of intensive studies, the present inventors have completed the resin composition, the resin-coated conductor foil, and the printed wiring board according to the embodiments of the present invention, and will be described in detail below.

1.樹脂組成物
本実施の形態にかかる樹脂組成物は、熱硬化性ポリフェニレンエーテル(PolyPhenyleneEther;PPE)オリゴマー(A)と、ポリブタジエンもしくはスチレン−ポリブタジエン共重合体のいずれか1種以上から選択される可とう性付与剤(B)と、難燃剤(C)と、誘電体粉末(D)と、を含んで構成される。
1. Resin Composition The resin composition according to the present embodiment is a flexible resin selected from one or more of thermosetting polyphenylene ether (PolyPhenyleneEther; PPE) oligomer (A) and polybutadiene or styrene-polybutadiene copolymer. It includes a property imparting agent (B), a flame retardant (C), and a dielectric powder (D).

(A)熱硬化性PPEオリゴマー
本実施の形態にかかる熱硬化性PPEオリゴマー(A)は、2価フェノールと1価フェノールとを酸化重合して得られる2官能型PPEを、アリルブロミド等のハロゲン化アリルと、相間移動触媒存在下、塩基性条件で脱ハロゲン化水素反応させて得られるアリル樹脂から構成される。
(A) Thermosetting PPE oligomer The thermosetting PPE oligomer (A) according to this embodiment is a bifunctional PPE obtained by oxidative polymerization of dihydric phenol and monohydric phenol, and halogen such as allyl bromide. And allyl resin obtained by dehydrohalogenation reaction under basic conditions in the presence of a phase transfer catalyst.

上記樹脂組成物を構成するPPEオリゴマー(A)は、PPEの優れた誘電特性や強靭性を受け継ぐ熱硬化性材料である。この樹脂組成物は、Bステージ状態の後述する樹脂付導体箔におけるクラックや絶縁層脱落がなく、ハンドリング性に優れ、硬化物においても強靭性が付与でき、誘電特性、材料強度、吸水率の悪化を伴わず、伝送損失を損なうことなく、誘電率の範囲が広げられ、難燃性を付与した樹脂付導体箔およびプリント配線基板の提供が達成できる。   The PPE oligomer (A) constituting the resin composition is a thermosetting material that inherits the excellent dielectric properties and toughness of PPE. This resin composition is free from cracks and insulation layer dropping in the resin-coated conductor foil described later in the B-stage state, has excellent handling properties, can impart toughness even in a cured product, and deteriorates dielectric properties, material strength, and water absorption Thus, without impairing transmission loss, it is possible to provide a conductor foil with a resin and a printed wiring board having a wide range of dielectric constant and imparting flame resistance.

樹脂組成物に含まれる熱硬化性PPEオリゴマー(A)は、下記一般式(1)で表される。

Figure 2005105062
Figure 2005105062
Figure 2005105062
(式中、−(O−X−O)−は一般式(2)で示され、R1、R2、R7、R8は同一または異なっていてもよく、ハロゲン原子または炭素数6以下のアルキル基もしくはフェニル基である。R3、R4、R5、R6は同一または異なっていてもよく、水素原子、ハロゲン原子または炭素数6以下のアルキル基もしくはフェニル基である。Aは炭素数20以下の直鎖状もしくは分岐状もしくは環状の炭化水素である。−(Y−O)−は一般式(3)で示され、R9、R10は同一または異なっていてもよく、ハロゲン原子または炭素数6以下のアルキル基もしくはフェニル基である。R11、R12は同一または異なっていてもよく、水素原子、ハロゲン原子または炭素数6以下のアルキル基もしくはフェニル基である。−(Y−O)−は一般式(3)で定義される1種類の構造、または一般式(3)で定義される2種類以上の構造がランダムに配列したものである。Zは炭素数1以上の有機基であり、酸素原子を含むこともある。a、bは少なくともいずれか一方が0でない、0〜300の整数を示す。iはそれぞれ独立に0または1の整数を示す。) The thermosetting PPE oligomer (A) contained in the resin composition is represented by the following general formula (1).
Figure 2005105062
Figure 2005105062
Figure 2005105062
(In the formula, — (O—X—O) — is represented by the general formula (2), and R 1, R 2, R 7 and R 8 may be the same or different, and are a halogen atom or an alkyl group having 6 or less carbon atoms, or R3, R4, R5 and R6 may be the same or different and are a hydrogen atom, a halogen atom, an alkyl group having 6 or less carbon atoms, or a phenyl group, and A is a straight chain having 20 or less carbon atoms. Or a branched or cyclic hydrocarbon,-(YO)-is represented by the general formula (3), R9 and R10 may be the same or different and are a halogen atom or an alkyl group having 6 or less carbon atoms; R11 and R12 may be the same or different and are a hydrogen atom, a halogen atom, an alkyl group having 6 or less carbon atoms, or a phenyl group. One type of structure defined by the formula (3) or two or more types of structures defined by the general formula (3) are randomly arranged, Z is an organic group having 1 or more carbon atoms, oxygen (A and b each represents an integer of 0 to 300, at least one of which is not 0. Each i independently represents an integer of 0 or 1.)

このPPEオリゴマー(A)は、PPEの特徴を実質的に損なうことなく2官能化したアリル末端変性の材料であり、低誘電率、低誘電正接、高ガラス転移温度(Tg)、低吸水率の優れた特性を示す。また、このPPEオリゴマー(A)は、硬化反応によって水酸基などの極性基が生じないため、誘電特性が非常に優れており、低吸水率である。また、PPE樹脂の優れた耐熱性も兼ね備えている。 This PPE oligomer (A) is an allyl terminal-modified material that is bifunctionalized without substantially impairing the characteristics of PPE, and has a low dielectric constant, low dielectric loss tangent, high glass transition temperature (T g ), and low water absorption. Excellent characteristics. Moreover, since this PPE oligomer (A) does not produce polar groups such as hydroxyl groups by the curing reaction, it has excellent dielectric properties and a low water absorption rate. It also has the excellent heat resistance of PPE resin.

(B)可とう性付与剤
可とう性付与剤(B)は、ポリブタジエンもしくはスチレン−ポリブタジエン共重合体の少なくとも1種以上から選択される。
ポリブタジエン樹脂としては下記一般式(4)に示す構造を有するもので、1,2−ビニル結合が80%以上のオリゴマー骨格であることが好ましい。

Figure 2005105062
(式中、nは0以上の整数であり、5〜200が好ましく、特に、10〜100が好ましい。) (B) Flexibility imparting agent The flexibility imparting agent (B) is selected from at least one of polybutadiene and styrene-polybutadiene copolymer.
The polybutadiene resin has a structure represented by the following general formula (4) and is preferably an oligomer skeleton having 1,2-vinyl bond of 80% or more.
Figure 2005105062
(In the formula, n is an integer of 0 or more, preferably 5 to 200, and particularly preferably 10 to 100.)

ポリブタジエン樹脂は熱硬化性PPEオリゴマー(A)との相溶性、分散性に優れ、なおかつ樹脂付導体箔形成時に可塑成分としての役割を果たし、Bステージ状態の可とう性付与に寄与する。さらに、骨格中に極性基が少ない化学構造のため、双極子モーメントが少なく、誘電特性を低下させない。   The polybutadiene resin is excellent in compatibility and dispersibility with the thermosetting PPE oligomer (A), and also plays a role as a plastic component when forming the resin-coated conductor foil, and contributes to imparting flexibility in the B-stage state. Furthermore, since the chemical structure has few polar groups in the skeleton, the dipole moment is small and the dielectric properties are not deteriorated.

可とう性付与剤(B)の粘度は、45℃の温度において、0.1〜500Pa・s(1〜5000poise)が好ましく、さらには0.5〜50Pa・s(5〜500poise)が特に好ましい。   The viscosity of the flexibility imparting agent (B) is preferably 0.1 to 500 Pa · s (1 to 5000 poise), more preferably 0.5 to 50 Pa · s (5 to 500 poise) at a temperature of 45 ° C. .

スチレン−ポリブタジエン共重合体は、ソフトセグメントのジエン部位を含むためにゴム弾性に優れ、熱硬化性PPEオリゴマー(A)との相溶性、分散性にも優れるため好適に使用可能である。その中でも下記一般式(5)で表される構造を有するスチレン−ポリブタジエン共重合体が好ましい。

Figure 2005105062
(式中、nは0〜840、mは0〜1400の整数を表す。) Since the styrene-polybutadiene copolymer includes a diene portion of a soft segment, it has excellent rubber elasticity, and is excellent in compatibility with the thermosetting PPE oligomer (A) and dispersibility, and therefore can be suitably used. Among them, a styrene-polybutadiene copolymer having a structure represented by the following general formula (5) is preferable.
Figure 2005105062
(In the formula, n represents an integer of 0 to 840 and m represents an integer of 0 to 1400.)

上記構造のスチレン−ポリブタジエン共重合体は、熱硬化性PPEオリゴマー(A)との相溶性、分散性にも優れるため、後述する樹脂付導体箔形成時のクラック、絶縁層脱落にも効果があり、さらに誘電特性、曲げ強度の低下なく、強靭性を付与することを可能とする。また、導体箔との密着性を向上することもできる。これは、スチレン−ポリブタジエン共重合体はソフトセグメントのジエン部位を含むためにゴム弾性に優れ、エポキシ基を含むために導体箔との密着性を高くできるためである。さらに骨格中に極性基が少ない化学構造のため、双極子モーメントが少なく、誘電特性を低下させない。   Since the styrene-polybutadiene copolymer having the above structure is excellent in compatibility and dispersibility with the thermosetting PPE oligomer (A), it is also effective in cracking and insulating layer removal when forming a resin-coated conductor foil, which will be described later. Furthermore, it is possible to impart toughness without lowering dielectric properties and bending strength. Moreover, adhesiveness with conductor foil can also be improved. This is because the styrene-polybutadiene copolymer is excellent in rubber elasticity because it contains a diene portion of a soft segment, and because it contains an epoxy group, it can have high adhesion to a conductor foil. Furthermore, because of the chemical structure with few polar groups in the skeleton, there is little dipole moment and the dielectric properties are not degraded.

スチレン−ポリブタジエン共重合体のスチレン比は、特に限定されないが、20〜80%、特に30〜70%の範囲が好ましい。スチレン比が上記下限未満だと相溶性が低下する傾向にあり、上記上限より大きいとBステージ状態で、充分な耐クラック性、絶縁層脱落防止効果が得られない場合がある。   The styrene ratio of the styrene-polybutadiene copolymer is not particularly limited, but is preferably in the range of 20 to 80%, particularly 30 to 70%. If the styrene ratio is less than the above lower limit, the compatibility tends to decrease. If it is greater than the above upper limit, sufficient crack resistance and insulating layer falling-off preventing effects may not be obtained in the B stage state.

スチレン−ポリブタジエン共重合体の数平均分子量は、特に限定されないが、10000〜150000が好ましく、特に50000〜100000が好ましい。上記下限未満だと充分な耐クラック性、絶縁層脱落防止効果が得られない場合があり、上記上限より大きいと相溶性が低下する場合がある。なお、数平均分子量はGPC等の分析手段により測定することができる。   The number average molecular weight of the styrene-polybutadiene copolymer is not particularly limited, but is preferably 10,000 to 150,000, particularly preferably 50,000 to 100,000. If the amount is less than the above lower limit, sufficient crack resistance and the effect of preventing the insulating layer from falling off may not be obtained. The number average molecular weight can be measured by an analytical means such as GPC.

熱硬化性PPEオリゴマー(A)と可とう性付与剤(B)の配合比率は、重量比で100重量部に対し、5〜66重量部が好ましく、特に5〜25重量部が好ましい。重量比が上記下限未満だと充分な耐クラック性、絶縁層脱落防止効果が得られない場合があり、上記上限より大きいと相溶性が低下する場合がある。
また、ポリブタジエンとスチレン−ポリブタジエン共重合体の比率は単独でもよく2種類を併用してもよい。使用する導体箔の厚み、粗化量、絶縁層の厚み、配合する誘電体粉末の添加量によって使い分ければよい。
The blending ratio of the thermosetting PPE oligomer (A) and the flexibility-imparting agent (B) is preferably 5 to 66 parts by weight, particularly preferably 5 to 25 parts by weight with respect to 100 parts by weight. If the weight ratio is less than the above lower limit, sufficient crack resistance and insulating layer falling-off preventing effects may not be obtained, and if the weight ratio is larger than the above upper limit, the compatibility may decrease.
Moreover, the ratio of polybutadiene and a styrene-polybutadiene copolymer may be individual, and may use 2 types together. What is necessary is just to use properly by the thickness of the conductor foil to be used, the roughening amount, the thickness of an insulating layer, and the addition amount of the dielectric powder to mix | blend.

また、熱硬化性PPEオリゴマー(A)とポリブタジエンおよび/またはスチレン−ポリブタジエン共重合体の2重結合のラジカル重合を促進させるため、過酸化物、例えば、ケトンパーオキサイド、ジアシルパーオキサイド、パーオキシケタール、パーオキシエステル、ハイドロパーオキサイド、パーオキシカーボネート、ジアルキルパーオキサイド等を添加してもよい。   In addition, peroxides such as ketone peroxides, diacyl peroxides, peroxyketals are used to promote radical polymerization of double bonds between the thermosetting PPE oligomer (A) and polybutadiene and / or styrene-polybutadiene copolymer. Peroxyesters, hydroperoxides, peroxycarbonates, dialkyl peroxides and the like may be added.

(C)難燃剤
使用する難燃剤(C)は、ハロゲン系芳香族系添加型難燃剤もしくはハロゲン化フェノールの水酸基のうち少なくとも1つ以上がビニルベンジル基に置換された化合物であることが好ましい。
(C) Flame retardant The flame retardant (C) used is preferably a halogenated aromatic addition type flame retardant or a compound in which at least one of the hydroxyl groups of the halogenated phenol is substituted with a vinylbenzyl group.

ハロゲン系芳香族系添加型難燃剤は耐熱性、誘電特性等への特性劣化の影響が少なく、少ない添加量にて難燃効果が得られるために流動性低下の影響も少ない。使用可能なハロゲン系芳香族系添加型難燃剤の具体例としては特に限定されないが、オクタブロモジフェニルオキサイド、テトラブロモビスフェノールA、ビス(トリブロモフェノキシ)エタン、テトラブロモビスフェノールAエポキシオリゴマー、エチレンビステトラブロモフタルイミド、エチレンビスペンタブロモジフェニル、トリス(トリブロモフェノキシ)トリアジン、トリブロモネオペンチルアルコール、テトラブロモビスフェノールA−ビス(2,3−ジブロモプロピルエーテル)、ポリジブロモフェニレンエーテル、臭素化ポリスチレン、ヘキサブロモベンゼン、テトラブロモビスフェノールS、トリス(トリブロモネオペンチル)フォスフェート、オクタブロモトリメチルフェニルインダン、臭素化ポリフェニレンオキサイドが挙げられる。   Halogen-based aromatic flame retardants are less affected by deterioration in properties such as heat resistance and dielectric properties, and are less affected by lowering of fluidity because a flame retardant effect can be obtained with a small amount of addition. Specific examples of usable halogenated aromatic flame retardants are not particularly limited, but octabromodiphenyl oxide, tetrabromobisphenol A, bis (tribromophenoxy) ethane, tetrabromobisphenol A epoxy oligomer, ethylenebistetra Bromophthalimide, ethylenebispentabromodiphenyl, tris (tribromophenoxy) triazine, tribromoneopentyl alcohol, tetrabromobisphenol A-bis (2,3-dibromopropyl ether), polydibromophenylene ether, brominated polystyrene, hexabromo Benzene, tetrabromobisphenol S, tris (tribromoneopentyl) phosphate, octabromotrimethylphenylindane, brominated polyphenylene oxide And the like.

さらに、難燃剤(C)は、要求される各種特性から使い分けることができ、特に耐熱性に関しては電子部品、回路基板に関しては鉛フリー半田による接合の問題からMAX260℃/10秒×数回レベルの耐リフロー性、260〜350℃/数秒レベルの半田DIP試験が要求されており、この温度領域において分解しない難燃剤が必要である。このような要求を満たしている材料としては、例えば、デカブロモジフェニルオキサイド、エチレンビステトラブロモフタルイミド、エチレンビスペンタブロモジフェニル、トリス(トリブロモフェノキシ)トリアジン、トリブロモネオペンチルアルコール、臭素化ポリスチレン、オクタブロモトリメチルフェニルインダン、臭素化ポリフェニレンオキサイドが挙げられる。   Furthermore, the flame retardant (C) can be properly used according to various required characteristics. Especially, regarding heat resistance, it is an electronic component, and a circuit board has a level of MAX 260 ° C./10 seconds × several times due to the problem of joining with lead-free solder. A reflow resistance and a solder DIP test at a level of 260 to 350 ° C./several seconds is required, and a flame retardant that does not decompose in this temperature range is required. Examples of materials satisfying such requirements include decabromodiphenyl oxide, ethylene bistetrabromophthalimide, ethylene bispentabromodiphenyl, tris (tribromophenoxy) triazine, tribromoneopentyl alcohol, brominated polystyrene, octane Examples include bromotrimethylphenylindane and brominated polyphenylene oxide.

また、ハロゲン化フェノールの水酸基のうち少なくとも1つ以上がビニルベンジル基に置換された化合物は、特開2001−253992号公報に教示された製造方法を使用することができる。本実施の形態で使用されるハロゲン化フェノール化合物としては、市販のハロゲン化フェノール化合物を用いることができ、例えばジクロロフェノール、トリクロロフェノール、ペンタクロロフェノール、テトラクロロビスフェノールAなどの塩素化物、ジブロモフェノール、トルブロモフェノール、ペンタブロモフェノール、テトラブロモカテコール、テトラブロモビスフェノールA、臭素化ノボラック等の臭素化物が挙げられる。   A compound in which at least one of the hydroxyl groups of the halogenated phenol is substituted with a vinylbenzyl group can use the production method taught in Japanese Patent Application Laid-Open No. 2001-253992. As the halogenated phenol compound used in the present embodiment, a commercially available halogenated phenol compound can be used. For example, chlorinated products such as dichlorophenol, trichlorophenol, pentachlorophenol, tetrachlorobisphenol A, dibromophenol, Brominated compounds such as tolubromophenol, pentabromophenol, tetrabromocatechol, tetrabromobisphenol A, brominated novolak and the like can be mentioned.

本実施の形態で使用されるハロゲン化フェノール化合物は、ハロゲン含有率が高いものほど、得られるハロゲン含有ビニルベンジルエーテル化合物の難燃剤としての効果も高くなる。ハロゲン化フェノール化合物のハロゲン含有率は好ましくは20重量%以上、さらに好ましくは40重量%以上である。ハロゲン含有率が20重量%未満では、得られるハロゲン含有ビニルベンジルエーテル化合物の難燃効果が低くなり、期待する性能が得られない。   As the halogenated phenol compound used in the present embodiment has a higher halogen content, the effect of the resulting halogen-containing vinyl benzyl ether compound as a flame retardant increases. The halogen content of the halogenated phenol compound is preferably 20% by weight or more, more preferably 40% by weight or more. When the halogen content is less than 20% by weight, the flame-retardant effect of the obtained halogen-containing vinyl benzyl ether compound is lowered, and the expected performance cannot be obtained.

本実施の形態で使用可能なビニルベンジルハライドとしては、p−ビニルベンジルクロライド、m−ビニルベンジルクロライド、p−ビニルベンジルブロマイド、m−ビニルベンジルブロマイド及びこれらの混合物が挙げられる。ビニルベンジルハライドの使用量は、使用するハロゲン化フェノール化合物の種類により異なるため、一概には規定できないが、ハロゲン化フェノール化合物のフェノール性水酸基1当量に対して0.1から1.5当量、好ましくは0.5から1.2当量である。   Examples of the vinyl benzyl halide that can be used in the present embodiment include p-vinyl benzyl chloride, m-vinyl benzyl chloride, p-vinyl benzyl bromide, m-vinyl benzyl bromide, and mixtures thereof. The amount of vinylbenzyl halide used varies depending on the type of halogenated phenol compound to be used, and thus cannot be specified unconditionally, but is preferably 0.1 to 1.5 equivalents, preferably 1 to 1.5 equivalents relative to 1 equivalent of the phenolic hydroxyl group of the halogenated phenol compound. Is 0.5 to 1.2 equivalents.

ハロゲン化フェノールの水酸基のうち少なくとも1つ以上がビニルベンジル基に置換された化合物を使用すると、熱硬化性PPEオリゴマー(A)との相溶性に優れることや、2重結合のラジカル重合により、硬化物中に完全に取り込まれるために強度低下や樹脂付導体箔形成時のクラック、絶縁層脱落の影響が少ないことが利点である。その中でも、TBBA−VB(テトラブロモビスフェノールA変成ポリビニルベンジルエーテル化合物)が、相溶性、接着性確保という観点からも好ましい。   When a compound in which at least one of the hydroxyl groups of the halogenated phenol is substituted with a vinylbenzyl group is used, the compound is excellent in compatibility with the thermosetting PPE oligomer (A) and cured by radical polymerization of double bonds. Since it is completely taken into the product, it is advantageous that there is little influence of strength reduction, cracks when forming the resin-coated conductor foil, and falling off of the insulating layer. Among them, TBBA-VB (tetrabromobisphenol A modified polyvinyl benzyl ether compound) is preferable from the viewpoint of ensuring compatibility and adhesion.

難燃剤(C)の配合比率は、PPEオリゴマー(A)および可とう性付与剤(B)の合計100重量部に対し、難燃剤(C)が5〜100重量部であることが好ましく、必要とされる難燃性のランク、難燃剤(C)の種類によって適時選択すればよい。具体的にはブロムコンテントが10重量%以上であれば、UL94のV−0を1/16インチで取得することができる燃焼試験結果が得られている。なお、UL94規格とは、一般的に用いられている難燃性の規格であり、垂直燃焼試験でV−1、好ましくはV−0の条件に合格することが求められる。
ただし、可とう性付与剤(B)の添加量や誘電体粉末の添加量によって最適添加量は異なる。また、ハロゲン系芳香族系添加型難燃剤もしくはハロゲン化フェノールの水酸基のうち少なくとも1つ以上がビニルベンジル基に置換された化合物を併用してもよい。
The blending ratio of the flame retardant (C) is preferably 5 to 100 parts by weight of the flame retardant (C) with respect to a total of 100 parts by weight of the PPE oligomer (A) and the flexibility imparting agent (B). What is necessary is just to select suitably according to the flame retardance rank made and the kind of flame retardant (C). Specifically, when the bromo content is 10% by weight or more, a combustion test result that can obtain UL94 V-0 at 1/16 inch is obtained. The UL94 standard is a flame retardance standard that is generally used, and is required to pass the conditions of V-1, preferably V-0, in a vertical combustion test.
However, the optimum addition amount differs depending on the addition amount of the flexibility imparting agent (B) and the addition amount of the dielectric powder. Moreover, you may use together the compound by which at least 1 or more was substituted by the vinyl benzyl group among the hydroxyl groups of halogenated aromatic addition type flame retardant or halogenated phenol.

難燃剤(C)には、上記材料に限らず、一般的に難燃剤として使用される他の材料を用いることができる。具体的には、水酸化アルミニウム、水酸化マグネシウム、シリカ、酸化アルミニウム、酸化鉄、酸化チタン、酸化マンガン、酸化マグネシウム、酸化ジルコニウム、酸化亜鉛、酸化モリブデン、酸化コバルト、酸化ビスマス、酸化クロム、酸化スズ、酸化アンチモン、酸化ニッケル、酸化銅、酸化タングステン等の金属酸化物、アルミニウム、鉄、チタン、マンガン、亜鉛、モリブデン、コバルト、ビスマス、クロム、ニッケル、銅、タングステン、コバルト、スズ、アンチモン等の金属粉、ホウ酸亜鉛、メタホウ酸亜鉛、メタホウ酸バリウム、炭酸亜鉛、炭酸マグネシウム、炭酸カルシウム、炭酸バリウム、などが挙げられる。   The flame retardant (C) is not limited to the above materials, and other materials generally used as flame retardants can be used. Specifically, aluminum hydroxide, magnesium hydroxide, silica, aluminum oxide, iron oxide, titanium oxide, manganese oxide, magnesium oxide, zirconium oxide, zinc oxide, molybdenum oxide, cobalt oxide, bismuth oxide, chromium oxide, tin oxide Metal oxides such as antimony oxide, nickel oxide, copper oxide, tungsten oxide, metals such as aluminum, iron, titanium, manganese, zinc, molybdenum, cobalt, bismuth, chromium, nickel, copper, tungsten, cobalt, tin, antimony Examples thereof include powder, zinc borate, zinc metaborate, barium metaborate, zinc carbonate, magnesium carbonate, calcium carbonate, and barium carbonate.

また、上記した材料については、分散性向上、界面状態向上のため、表面処理を行ってもよい。具体的には、シラン化合物(クロロシラン、アルコキシシラン、有機官能性シラン、シラザン)、チタネート系、アルミニウム系カップリング剤等による表面処理が挙げられる。表面処理の方法は、乾式法、湿式法、インテグラルブレンド法などがあるが、必要とされる特性、工程、設備によって随時選択可能である。   Moreover, about the above-mentioned material, you may surface-treat for dispersibility improvement and an interface state improvement. Specific examples include surface treatment with a silane compound (chlorosilane, alkoxysilane, organofunctional silane, silazane), titanate-based, aluminum-based coupling agent, and the like. The surface treatment method includes a dry method, a wet method, an integral blend method, and the like, but can be selected at any time according to required properties, processes, and facilities.

また、以下に挙げるスチレンーポリブタジエン共重合体を用いる場合には、分子構造中のエポキシ基と反応する硬化剤と組み合わせることもできる。本実施の形態で使用される硬化剤としては、ジシアンジアミド、テトラメチルグアニジン、芳香族アミン、フェノールノボラック樹脂、クレゾ−ルノボラック樹脂、酸無水物、その他脂肪族、脂環族の各種アミン、活性エステルの1種または2種以上が使用可能である。   Moreover, when using the styrene-polybutadiene copolymer mentioned below, it can also combine with the hardening | curing agent which reacts with the epoxy group in molecular structure. Curing agents used in the present embodiment include dicyandiamide, tetramethylguanidine, aromatic amine, phenol novolac resin, cresol novolac resin, acid anhydride, other aliphatic and alicyclic amines, and active esters. 1 type (s) or 2 or more types can be used.

さらに、上記硬化剤と組み合わせる硬化促進剤としては、一般的なエポキシ樹脂硬化促進剤を用いることができる。好ましい硬化促進剤の例としては、2−メチルイミダゾール、2−エチル−4−メチルイミダゾール、1−ベンジル−2−メチルイミダゾール、2−ヘプタデシルイミダゾール、2−ウンデシルイミダゾールなどのイミダゾール化合物、トリフェニルホスフィン、トリブチルホスフィンなどの有機ホスフィン化合物、トリメチルホスファイト、トリエチルホスファイトなどの有機ホスファイト化合物、エチルトリフェニルホスホニウムブロミド、テトラフェニルホスホニウムテトラフェニルボレートなどのホスホニウム塩、トリエチルアミン、トリブチルアミンなどのトリアルキルアミン、4−ジメチルアミノピリジン、ベンジルジメチルアミン、2,4,6−トリス(ジメチルアミノメチル)フェノール、1,8−ジアザビシクロ(5,4,0)−ウンデセン−7(以下、DBUと略記する。)などのアミン化合物およびDBUとテレフタル酸や2,6−ナフタレンジカルボン酸との塩、テトラエチルアンモニウムクロリド、テトラプロピルアンモニウムクロリド、テトラブチルアンモニウムクロリド、テトラブチルアンモニウムブロミド、テトラヘキシルアンモニウムブロミド、ベンジルトリメチルアンモニウムクロリドなどの第4級アンモニウム塩、3−フェニル−1,1−ジメチル尿素、3−(4−メチルフェニル)−1,1−ジメチル尿素、クロロフェニル尿素、3−(4−クロロフェニル)−1,1−ジメチル尿素、3−(3,4−ジクロルフェニル)−1,1−ジメチル尿素などの尿素化合物、水酸化ナトリウム、水酸化カリウムなどのアルカリ、カリウムフェノキシドやカリウムアセテートなどのクラウンエーテルの塩などが挙げられ、イミダゾール類、トリフェニルホスフィン、4−ジメチルアミノピリジンなどが挙げられる。   Furthermore, a general epoxy resin curing accelerator can be used as the curing accelerator combined with the curing agent. Examples of preferable curing accelerators include imidazole compounds such as 2-methylimidazole, 2-ethyl-4-methylimidazole, 1-benzyl-2-methylimidazole, 2-heptadecylimidazole, 2-undecylimidazole, and triphenyl. Organic phosphine compounds such as phosphine and tributylphosphine, organic phosphite compounds such as trimethyl phosphite and triethyl phosphite, phosphonium salts such as ethyltriphenylphosphonium bromide and tetraphenylphosphonium tetraphenylborate, and trialkylamines such as triethylamine and tributylamine 4-dimethylaminopyridine, benzyldimethylamine, 2,4,6-tris (dimethylaminomethyl) phenol, 1,8-diazabicyclo (5,4 0) -undecene-7 (hereinafter abbreviated as DBU) and salts of DBU with terephthalic acid or 2,6-naphthalenedicarboxylic acid, tetraethylammonium chloride, tetrapropylammonium chloride, tetrabutylammonium chloride, Quaternary ammonium salts such as tetrabutylammonium bromide, tetrahexylammonium bromide, benzyltrimethylammonium chloride, 3-phenyl-1,1-dimethylurea, 3- (4-methylphenyl) -1,1-dimethylurea, chlorophenyl Urea, urea compounds such as 3- (4-chlorophenyl) -1,1-dimethylurea, 3- (3,4-dichlorophenyl) -1,1-dimethylurea, alkalis such as sodium hydroxide and potassium hydroxide , Potassium phenoki And salts of crown ethers, such as de, potassium acetate and the like, imidazoles, triphenylphosphine, 4-dimethylaminopyridine, and the like.

上記樹脂組成物を後述するように導体箔等に適用する場合には、上記熱硬化性PPEオリゴマー(A)と可とう性付与剤(B)とを溶剤に溶解して均一な溶液(樹脂ワニス)を得る必要がある。樹脂ワニスの調整に使用される溶剤は、PPEオリゴマー(A)と可とう性付与剤(B)の溶解性が高い溶剤であれば、特に限定されないが、トルエン、キシレン、メシチレン、シクロヘキサノン等が上げられ、この中でもトルエン、キシレンといった無極性溶剤が相溶性が高く、絶縁層中に残留することによる誘電特性への影響がほとんどないので、特に好ましい。   When the resin composition is applied to a conductor foil or the like as will be described later, the thermosetting PPE oligomer (A) and the flexibility-imparting agent (B) are dissolved in a solvent to obtain a uniform solution (resin varnish ) Need to get. The solvent used for adjusting the resin varnish is not particularly limited as long as it is a solvent having high solubility of the PPE oligomer (A) and the flexibility-imparting agent (B), but toluene, xylene, mesitylene, cyclohexanone, etc. can be raised. Among these, nonpolar solvents such as toluene and xylene are particularly preferable because they are highly compatible and hardly affect the dielectric properties due to remaining in the insulating layer.

(D)誘電体粉末
使用する誘電体粉末(D)の種類は、Mg2SiO4{ε=7、Q=20000}、Al23{ε=9.8、Q=40000}、MgTiO3{ε=17、Q=22000}、ZnTiO3{ε=26、Q=800}、Zn2TiO4{ε=15、Q=700}、TiO2{ε=104、Q=15000}、CaTiO3{ε=170、Q=1800}、SrTiO3{ε=255、Q=700}、SrZrO3{ε=30、Q=1200}、BaTi25{ε=42、Q=5700}、BaTi49{ε=38、Q=9000}、Ba2Ti920{ε=39、Q=9000}、Ba2(Ti,Sn)920{ε=37、Q=5000}、ZrTiO4{ε=39、Q=7000}、(Zr,Sn)TiO4{ε=38、Q=7000}、BaNd2Ti514{ε=83、Q=2100}、BaSm2TiO14{ε=74、Q=2400}、BaO−CaO−Nd23−TiO2系{ε=90}、BaO−SrO−Nd23−TiO2系{ε=90}、Bi23−BaO−Nd23−TiO2系{ε=88、Q=2000}、PbO−BaO−Nd23−TiO2系{ε=90、Q=5200}、(Bi23、PbO)−BaO−Nd23−TiO2系{ε=105、Q=2500}、La2Ti27{ε=44、Q=4000}、Nd2Ti27{ε=37、Q=1100}、(Li,Sm)TiO3{ε=81、Q=2050}、Ba(Mg1/3Ta2/3)O3{ε=25、Q=35000}、Ba(Zn1/3Ta2/3)O3{ε=30、Q=14000}、Ba(Zn1/3,Nb2/3)O3{ε=41、Q=9200}、Sr(Zn1/3Nb2/3)O3{ε=40、Q=4000}、BaTiO3{ε=1500}、(Ba,Pb)TiO3{ε=6000}、Ba(Ti,Zr)O3{ε=9000}、(Ba,Sr)TiO3{ε=7000}の組成を主成分とするセラミックスの粉末の中から必要とされる誘電特性から選択すればよい。
(D) Dielectric powder The types of dielectric powder (D) used are Mg 2 SiO 4 {ε = 7, Q = 20000}, Al 2 O 3 {ε = 9.8, Q = 40000}, MgTiO 3. {Ε = 17, Q = 22000}, ZnTiO 3 {ε = 26, Q = 800}, Zn 2 TiO 4 {ε = 15, Q = 700}, TiO 2 {ε = 104, Q = 15000}, CaTiO 3 {Ε = 170, Q = 1800}, SrTiO 3 {ε = 255, Q = 700}, SrZrO 3 {ε = 30, Q = 1200}, BaTi 2 O 5 {ε = 42, Q = 5700}, BaTi 4 O 9 {ε = 38, Q = 9000}, Ba 2 Ti 9 O 20 {ε = 39, Q = 9000}, Ba 2 (Ti, Sn) 9 O 20 {ε = 37, Q = 5000}, ZrTiO 4 {ε = 39, Q = 7000 }, (Zr, Sn) TiO 4 {ε = 38, Q 7000}, BaNd 2 Ti 5 O 14 {ε = 83, Q = 2100}, BaSm 2 TiO 14 {ε = 74, Q = 2400}, BaO-CaO-Nd 2 O 3 -TiO 2 system {epsilon = 90} BaO—SrO—Nd 2 O 3 —TiO 2 system {ε = 90}, Bi 2 O 3 —BaO—Nd 2 O 3 —TiO 2 system {ε = 88, Q = 2000}, PbO—BaO—Nd 2 O 3 —TiO 2 system {ε = 90, Q = 5200}, (Bi 2 O 3 , PbO) —BaO—Nd 2 O 3 —TiO 2 system {ε = 105, Q = 2500}, La 2 Ti 2 O 7 {ε = 44, Q = 4000}, Nd 2 Ti 2 O 7 {ε = 37, Q = 1100}, (Li, Sm) TiO 3 {ε = 81, Q = 2050}, Ba (Mg 1/3 Ta 2/3 ) O 3 {ε = 25, Q = 35000}, Ba (Zn 1/3 Ta 2/3 ) O 3 {ε = 30, Q = 1400 0}, Ba (Zn 1/3 , Nb 2/3 ) O 3 {ε = 41, Q = 9200}, Sr (Zn 1/3 Nb 2/3 ) O 3 {ε = 40, Q = 4000}, The composition of BaTiO 3 {ε = 1500}, (Ba, Pb) TiO 3 {ε = 6000}, Ba (Ti, Zr) O 3 {ε = 9000}, (Ba, Sr) TiO 3 {ε = 7000}. What is necessary is just to select from the dielectric property required from the ceramic powder which is a main component.

例えば、誘電率εとQ値を誘電体粉末(D)を添加しない材料よりも高くしたい場合には、TiO2、CaTiO3、SrTiO3、BaO−Nd23−TiO2系、BaO−CaO−Nd23−TiO2系、BaO−SrO−Nd23−TiO2系、BaO−Sm23−TiO2、BaTi49、Ba2Ti920、Ba2(Ti,Sn)920系、MgO−TiO2系、ZnO−TiO2系、MgO−SiO2系、Al23といった組成を主成分とするセラミックスの粉末を使用するのが好ましく、さらに高い誘電率を得たい場合はセラミックス粉末の種類は、例えば、BaTiO3{ε=1500}、(Ba,Pb)TiO3{ε=6000}、Ba(Ti,Zr)O3{ε=9000}(Ba,Sr)TiO3{ε=7000}といった組成を主成分とする高い比誘電率を持つ誘電体の粉末を使用するのが好ましく、より好ましくはBaTiO3系、Ba(TiZr)O3系である。 For example, when it is desired to make the dielectric constant ε and Q value higher than that of the material not added with the dielectric powder (D), TiO 2 , CaTiO 3 , SrTiO 3 , BaO—Nd 2 O 3 —TiO 2 system, BaO—CaO —Nd 2 O 3 —TiO 2 system, BaO—SrO—Nd 2 O 3 —TiO 2 system, BaO—Sm 2 O 3 —TiO 2 , BaTi 4 O 9 , Ba 2 Ti 9 O 20 , Ba 2 (Ti, Sn) It is preferable to use ceramic powder whose main component is a composition such as 9 O 20 series, MgO—TiO 2 series, ZnO—TiO 2 series, MgO—SiO 2 series, Al 2 O 3 , and higher dielectric constant. For example, BaTiO 3 {ε = 1500}, (Ba, Pb) TiO 3 {ε = 6000}, Ba (Ti, Zr) O 3 {ε = 9000} (Ba, Sr) TiO 3 {ε = 7000} It is preferable to use a dielectric powder having a high relative dielectric constant having the above composition as a main component, and more preferably a BaTiO 3 type or Ba (TiZr) O 3 type.

樹脂組成物に用いる誘電体粉末(D)は重量比で、PPEオリゴマー(A)と可とう性付与剤(B)の合計100重量部に対し、10〜900重量部配合するのが好ましく、必要とする誘電特性や線膨張係数、吸水率、強度、弾性率によって適時選択すればよい。上記下限未満だと、誘電率もしくは誘電正接向上や他物性向上の効果が少なくなり、上記上限より大きいと、後述する樹脂ワニスの流動性の低下や樹脂付導体箔に適用時のクラック、絶縁層の脱落の問題が生じる可能性がある。   It is preferable that the dielectric powder (D) used in the resin composition is blended in an amount of 10 to 900 parts by weight with respect to a total of 100 parts by weight of the PPE oligomer (A) and the flexibility-imparting agent (B). The dielectric properties, the linear expansion coefficient, the water absorption, the strength, and the elastic modulus may be selected as appropriate. If it is less than the above lower limit, the effect of improving the dielectric constant or dielectric loss tangent and other physical properties is reduced. There may be a problem of falling off.

(E)その他の成分
本実施の形態にかかる樹脂組成物は、電子機器、電子部品、回路基板用の材料として使用可能であり、成形用材料、粉体塗料としてはペレット(粉末)状で、接着材料、注型材料、レジスト等の絶縁材料としては、ワニスまたはペースト状で使用されるなど、種々の形態で使用可能である。したがって、使用の形態に応じて、上記成分の他に、充填剤や添加剤等を適宜配合して用いることができる。
(E) Other components The resin composition according to the present embodiment can be used as a material for electronic devices, electronic components, and circuit boards, and is formed into pellets (powder) as a molding material and powder coating. As an insulating material such as an adhesive material, a casting material, or a resist, it can be used in various forms such as varnish or paste. Therefore, depending on the form of use, in addition to the above components, fillers, additives and the like can be appropriately blended and used.

例えば、上記樹脂組成物を後述するように導体箔に適用する場合には、上記熱硬化性PPEオリゴマー(A)とポリブタジエンおよび/またはスチレン−ポリブタジエン共重合体から構成される可とう性付与剤(B)とを溶剤に溶解して均一な溶液(樹脂ワニス)を調製する。樹脂ワニスの調製に使用される溶剤は、PPEオリゴマー(A)とポリブタジエンおよび/またはスチレン−ポリブタジエン共重合体から構成される可とう性付与剤(B)の溶解性が高い溶剤であれば、特に限定されないが、トルエン、キシレン、メシチレン、シクロヘキサノン等が上げられ、この中でもトルエン、キシレンといった無極性溶剤が相溶性が高く、絶縁層中に残留することによる誘電特性への影響がほとんどないので、特に好ましい。   For example, when the resin composition is applied to a conductor foil as described later, a flexibility-imparting agent composed of the thermosetting PPE oligomer (A) and a polybutadiene and / or styrene-polybutadiene copolymer ( B) is dissolved in a solvent to prepare a uniform solution (resin varnish). If the solvent used for the preparation of the resin varnish is a solvent having a high solubility of the flexibility-imparting agent (B) composed of the PPE oligomer (A) and the polybutadiene and / or styrene-polybutadiene copolymer, Although not limited, toluene, xylene, mesitylene, cyclohexanone, etc. are raised, and among them, nonpolar solvents such as toluene and xylene are highly compatible, and there is almost no influence on the dielectric properties due to remaining in the insulating layer. preferable.

このような樹脂ワニスの調製には、均一な溶液を得るよう、混練機、ニーダ、ボールミル、撹拌機、ロール等を用いることができる。   In preparing such a resin varnish, a kneader, a kneader, a ball mill, a stirrer, a roll or the like can be used so as to obtain a uniform solution.

さらに、電気的特性の向上や機械的、物理物性の改良、材料形態の必要性に応じ、各種充填剤、各種添加剤を配合することができる。
充填剤として、具体的には、カーボンブラック、シリカ、アルミナ、ジルコニア、チタン酸カリウムウイスカ、チタン酸バリウムウイスカ、酸化亜鉛ウイスカ、ガラス繊維、ガラスビーズ、ガラス中空球、カーボン繊維、酸化マグネシウム(タルク)等が挙げられ、必要とされる特性に応じて使い分けることができる。
また、添加剤としては、酸化防止剤、熱安定剤、帯電防止剤、顔料、染料、着色剤等が挙げられる。
Furthermore, various fillers and various additives can be blended according to the improvement of electrical characteristics, mechanical and physical properties, and the necessity of material form.
Specifically, as filler, carbon black, silica, alumina, zirconia, potassium titanate whisker, barium titanate whisker, zinc oxide whisker, glass fiber, glass beads, glass hollow sphere, carbon fiber, magnesium oxide (talc) Can be used properly according to the required characteristics.
Examples of the additive include an antioxidant, a heat stabilizer, an antistatic agent, a pigment, a dye, and a colorant.

2.樹脂付導体箔(RCC)
本実施の形態にかかる樹脂付導体箔は、上記樹脂ワニスを導体箔に塗工、乾燥させることにより得られる。
2. Conductor foil with resin (RCC)
The conductor foil with resin according to the present embodiment can be obtained by applying the resin varnish to the conductor foil and drying it.

使用する導体箔は、例えば、銅、銀、金、アルミ、ニッケル−クロム、ニッケルのいずれかより選択される。特に限定されないが、そのなかでも入手性、導電率、コストの関係から銅がもっとも好ましく使用される。銅箔は電解銅箔と圧延銅箔があるが、どちらを使ってもよい。   The conductive foil to be used is selected from, for example, copper, silver, gold, aluminum, nickel-chrome, or nickel. Although not particularly limited, copper is most preferably used from the viewpoint of availability, conductivity, and cost. Copper foil includes electrolytic copper foil and rolled copper foil, either of which may be used.

使用する導体箔の厚みは、3〜70μmの範囲が入手性からみても好ましく、必要とされる特性により使い分ければよい。例えば、導体抵抗を極力下げたい場合や電流が多く流れる配線には、比較的厚い18〜70μmの銅箔を用いればよいし、細線や高周波信号にてパターン精度が求められる場合やセミアディティブ法にてパターン形成する場合などは、比較的薄い3〜18μmの銅箔を用いればよい。   The thickness of the conductor foil to be used is preferably in the range of 3 to 70 μm from the viewpoint of availability, and may be properly used depending on the required characteristics. For example, when it is desired to reduce the conductor resistance as much as possible, or for a wiring through which a large amount of current flows, a relatively thick 18 to 70 μm copper foil may be used. When pattern accuracy is required with a thin line or a high-frequency signal, a semi-additive method is used. For example, a relatively thin 3 to 18 μm copper foil may be used.

使用する導体箔(銅箔)の表面粗化(Rz)は、通常4〜8μmであるが、高周波での導体ロス低減のためには0.2μm〜3.5μmの範囲であることが好ましい。0.2μm未満は導体箔の製造そのものが困難で入手性、コストの面で問題があり、3.5μmより大きいと先の導体損失の低減効果が少なくなる。   The surface roughness (Rz) of the conductive foil (copper foil) to be used is usually 4 to 8 μm, but is preferably in the range of 0.2 μm to 3.5 μm in order to reduce the conductor loss at high frequencies. If the thickness is less than 0.2 μm, the production of the conductor foil itself is difficult and there are problems in terms of availability and cost. If the thickness is more than 3.5 μm, the effect of reducing the previous conductor loss is reduced.

なお、樹脂との密着性を向上させるため、例えば、導体箔の粗化表面に亜鉛−ニッケル等の耐熱メッキ皮膜とオレフィン系カップリング剤等のカップリング処理を施しても良い。   In order to improve the adhesion to the resin, for example, the roughened surface of the conductor foil may be subjected to a coupling treatment such as a heat-resistant plating film such as zinc-nickel and an olefin coupling agent.

樹脂付導体箔は、上記樹脂組成物を溶解させた樹脂ワニスを、導体箔にドクターブレード法などの一般的な手法で塗工し、例えば80℃〜150℃で乾燥させ、必要に応じてステップ乾燥を行なうことにより得られる。   The conductor foil with resin is obtained by applying a resin varnish in which the resin composition is dissolved to the conductor foil by a general method such as a doctor blade method, and drying at 80 ° C. to 150 ° C., for example. It can be obtained by drying.

樹脂付導体箔の樹脂層厚みは5〜200μmが好ましく、特に10〜100μmが好ましい。上記下限未満だと塗工が困難になると同時に絶縁抵抗が問題になる場合があり、上記上限より大きいとクラック発生や絶縁層の脱落が顕著になる可能性がある。   The resin layer thickness of the conductor foil with resin is preferably 5 to 200 μm, particularly preferably 10 to 100 μm. If it is less than the above lower limit, coating may be difficult and insulation resistance may be a problem. If it is greater than the above upper limit, cracks may occur or the insulating layer may drop off.

3.プリント配線基板
本実施の形態にかかるプリント配線基板は、上記樹脂付導体箔を内層回路板の片面もしくは両面に重ね合わせて加熱、加圧して作成することができる。加熱する温度、時間は、特に限定されないが、150℃〜240で、0.5〜10時間が好ましい。また必要に応じ、ステップキュアを行なっても良い。加圧する圧力についても特に限定されないが、1〜6MPaが好ましい。さらに真空プレスにするとプレス後の絶縁層ボイド発生を抑制することができる。真空度は特に限定されないが、5.3kPa(40torr)以下で行なうのが好ましい。
3. Printed Wiring Board The printed wiring board according to the present embodiment can be produced by superposing the resin-coated conductor foil on one or both surfaces of the inner circuit board and heating and pressing. Although the temperature and time to heat are not specifically limited, 150 to 240 degreeC and 0.5 to 10 hours are preferable. Further, step cure may be performed as necessary. Although it does not specifically limit about the pressure to pressurize, 1-6 Mpa is preferable. Further, when vacuum pressing is performed, generation of insulating layer voids after pressing can be suppressed. The degree of vacuum is not particularly limited, but is preferably 5.3 kPa (40 torr) or less.

また、内層回路パターンは、例えば銅張り積層板、多層積層板上に形成し、導体表面処理としては黒化処理、ギ酸や過酸化水素系溶液での粒界腐食によるマイクロエッチングによる粗化処理、針状スズメッキ形成による方法などが挙げられる。   In addition, the inner layer circuit pattern is formed on, for example, a copper-clad laminate and a multilayer laminate, and as a conductor surface treatment, blackening treatment, roughening treatment by microetching due to intergranular corrosion with formic acid or hydrogen peroxide solution, The method by acicular tin plating formation etc. are mentioned.

さらに、PETフィルム等の支持体上に樹脂ワニスを塗工、乾燥し、あらかじめパターニングしておいた導体箔上に載せて加熱、加圧後支持体から剥離することにより得られる配線基板転写樹脂を積層してプリント配線基板を作成することもできる。   Further, a resin varnish is coated on a support such as a PET film, dried, placed on a conductor foil that has been patterned in advance, heated and pressed, and then separated from the support after the wiring substrate transfer resin is obtained. A printed wiring board can also be produced by laminating.

本発明は、上記実施の形態に限られず、種々の変更、変形等が可能である。
上記実施の形態では、樹脂組成物を用いて樹脂付導体箔およびプリント配線基板を製造するものとした。しかし、本実施の形態にかかる樹脂組成物を用いてプリプレグ、シート、導体箔付シートおよび積層板を製造することができる。
The present invention is not limited to the above-described embodiment, and various changes and modifications can be made.
In the said embodiment, the conductor foil with resin and the printed wiring board shall be manufactured using a resin composition. However, a prepreg, a sheet, a sheet with conductive foil, and a laminate can be produced using the resin composition according to the present embodiment.

例えば、プリプレグは、基材を樹脂組成物の調製液に含浸させて製造することができる。基材としては、Eガラスのガラスクロス、Dガラスのガラスクロス、NEガラスのガラスクロス、Hガラスのガラスクロス、Tガラスのガラスクロス、ガラス不織布、アラミドの多孔質膜、ポリアミドの多孔質膜、及びポリ4弗化エチレンの多孔質膜、炭素繊維布、紙などが挙げられる。   For example, the prepreg can be produced by impregnating a base material into a preparation solution of a resin composition. As a substrate, glass cloth of E glass, glass cloth of D glass, glass cloth of NE glass, glass cloth of H glass, glass cloth of T glass, glass nonwoven fabric, porous film of aramid, porous film of polyamide, And a porous film of polytetrafluoroethylene, carbon fiber cloth, paper and the like.

このようにして得られたプリプレグを1枚以上重ねて加熱硬化させてシートを製造し、また、このプリプレグを1枚以上重ねて、その上下両面または片面導体箔を重ねて加熱硬化させて導体箔付シートを製造することができる。さらに、上記のように製造したシートや導体箔付シートの間に上記基材を挟んで加熱硬化させて積層板を製造してもよい。これらはいずれも、複数枚用いることにより、多層プリント配線基板を構成可能である。   One or more prepregs thus obtained are stacked and heat-cured to produce a sheet, and one or more prepregs are stacked and the upper and lower surfaces or one-sided conductive foil is stacked and heat-cured to form a conductive foil. An attached sheet can be manufactured. Further, the laminate may be manufactured by sandwiching the base material between the sheet manufactured as described above and the sheet with conductor foil and curing by heating. By using a plurality of these, a multilayer printed wiring board can be configured.

さらに、他にも、実施の形態にかかる樹脂組成物を、金型中にて加熱硬化することにより任意の形の成形品を作成することが可能であり、電子機器、電子部品、回路基板用材料として広範囲に使用することができる。   Furthermore, it is possible to create a molded product of any shape by heat-curing the resin composition according to the embodiment in a mold. For electronic devices, electronic components, circuit boards It can be used widely as a material.

(実施例1)
エポキシ化ポリブタジエン エポフレンドCT310(R)(ダイセル化学工業(株)製)20gおよびトルエン80gを500mlポリ瓶に入れ、ポット架台に4時間かけ、完全に溶解した透明な溶液を得た。さらにPPEオリゴマーとクロロメチルスチレンとの反応生成物であるOPE−2St(R)(三菱ガス化学(株)製)70gと、ブタジエンホモポリマーであるNISSO−PB B−1000(R)((株)ニッソー製)10gと、テトラブロモビスフェノールA変性ビニルベンジル樹脂ショウノールARS−069(R)(39%トルエン溶液、昭和高分子(株)製)82.8g(固形分32.3g)と、を入れ、ポット架台に4時間かけ、完全に溶解した均一な樹脂ワニスを作成した。その後、誘電体粉末Ba2Ti920(TDK(株)製、平均粒径1.7μm、ε=39/Q=9000)460.4gと、シランカップリング剤KBM573(R)(信越化学(株)製、N−フェニル−3−アミノプロピルトリメトキシシラン)2.3gと、を加えてさらに4時間かけ、誘電体粉末が均一に分散したスラリーを得た。このスラリーを電解銅箔(例えば、JTM−1/2oz(R)((株)日鉱マテリアルズ製、Rz8μm)に塗工し、120℃/6分の乾燥を行なった。得られたサンプルの厚みは銅箔込みで68μmであった。
(Example 1)
20 g of epoxidized polybutadiene Epofriend CT310 (R) (manufactured by Daicel Chemical Industries, Ltd.) and 80 g of toluene were placed in a 500 ml plastic bottle and placed on a pot stand for 4 hours to obtain a completely dissolved transparent solution. Furthermore, 70 g of OPE-2St (R) (Mitsubishi Gas Chemical Co., Ltd.), which is a reaction product of a PPE oligomer and chloromethylstyrene, and NISSO-PB B-1000 (R) (Co), a butadiene homopolymer. 10 g of Nisso) and 82.8 g of tetrabromobisphenol A-modified vinylbenzyl resin Shounol ARS-069 (R) (39% toluene solution, Showa High Polymer Co., Ltd.) (solid content 32.3 g) Then, a uniform resin varnish completely dissolved was produced on a pot base for 4 hours. Thereafter, dielectric powder Ba 2 Ti 9 O 20 (manufactured by TDK Corporation, average particle size 1.7 μm, ε = 39 / Q = 9000) 460.4 g, silane coupling agent KBM573 (R) (Shin-Etsu Chemical ( Co., Ltd., N-phenyl-3-aminopropyltrimethoxysilane) 2.3 g was added, and a further 4 hours was taken to obtain a slurry in which the dielectric powder was uniformly dispersed. This slurry was applied to an electrolytic copper foil (for example, JTM-1 / 2 oz (R) (manufactured by Nikko Materials Co., Ltd., Rz 8 μm)) and dried at 120 ° C. for 6 minutes. Was 68 μm including copper foil.

誘電特性、曲げ強度、曲げ弾性率、ガラス転移温度、難燃性試験用サンプルの作成:
上記配合のスラリーを、厚み50μmのPETフィルム上に塗工し、120℃/6分の乾燥を行なった。得られたサンプルの厚みはPETフィルム込みで100μmであった。これを複数枚樹脂面を合わせて120℃に暖めたホットプレート上で順次圧着していき、厚みが820μmのBステージ板を得た。このBステージ板を同一形状にくりぬいた厚み800μmのクラフト紙に入れ、リリースフィルム、治具板、クッション材を順次上下に重ねて真空熱プレス(KVHC型、北川精機(株)製)にて4℃/分、150℃/60分、4℃/分、200℃/3時間で段階的に、3MPa、3.9kPa(30torr)以下の条件で真空加熱加圧プレスを行った。得られたサンプルの厚みは800μmであった。
Preparation of dielectric properties, bending strength, flexural modulus, glass transition temperature, flame retardant test sample:
The slurry having the above composition was coated on a 50 μm thick PET film and dried at 120 ° C./6 minutes. The thickness of the obtained sample was 100 μm including the PET film. This was sequentially pressure-bonded on a hot plate heated to 120 ° C. by combining a plurality of resin surfaces, and a B stage plate having a thickness of 820 μm was obtained. Place this B stage plate in a kraft paper with a thickness of 800μm that is hollowed in the same shape, and stack the release film, jig plate, and cushioning material one after the other in a vacuum heat press (KVHC type, Kitagawa Seiki Co., Ltd.) 4 A vacuum heating and pressing press was performed stepwise at 3 ° C./min, 3.9 kPa (30 torr) at 150 ° C./min, 150 ° C./60 min, 4 ° C./min, and 200 ° C./3 hr. The thickness of the obtained sample was 800 μm.

(実施例2)
誘電体粉末をBaNd2Ti412(TDK(株)製、平均粒径1.6μm、ε=92/Q=1700)460.4gにした以外は実施例1と同様にして、サンプルを作成した。
(Example 2)
A sample was prepared in the same manner as in Example 1 except that the dielectric powder was 460.4 g of BaNd 2 Ti 4 O 12 (manufactured by TDK Corporation, average particle size 1.6 μm, ε = 92 / Q = 1700). did.

(実施例3)
テトラブロモビスフェノールA変性ビニルベンジル樹脂ショウノールARS−069(R)を、エタン−1,2−ビス(ペンタブロモフェニル)SAYTEX8010(R)(アルベマール浅野(株)製)を13.9gに変え、誘電体粉末の種類をBaNd2Ti412(TDK(株)製、平均粒径1.6μm、ε=92/Q=1700)399.1gに変え、KBM573(R)の量を2.0gに変え、トルエンを33g配合した以外は実施例1と同様にして、サンプルを作成した。
(Example 3)
Tetrabromobisphenol A modified vinyl benzyl resin Shounol ARS-069 (R) was changed to ethane-1,2-bis (pentabromophenyl) SAYTEX 8010 (R) (Albemarle Asano Co., Ltd.) by 13.9 g, and dielectric The body powder type was changed to 399.1 g of BaNd 2 Ti 4 O 12 (manufactured by TDK Corporation, average particle size 1.6 μm, ε = 92 / Q = 1700), and the amount of KBM573 (R) was changed to 2.0 g A sample was prepared in the same manner as in Example 1 except that 33 g of toluene was mixed.

(実施例4)
誘電体粉末をBaNd2Ti412(TDK(株)製、平均粒径1.6μm、ε=92/Q=1700)172.5gに変え、KBM573(R)の量を0.9gにした以外は実施例1と同様にしてサンプルを作成した。
Example 4
The dielectric powder was changed to 172.5 g of BaNd 2 Ti 4 O 12 (manufactured by TDK Corporation, average particle size 1.6 μm, ε = 92 / Q = 1700), and the amount of KBM573 (R) was adjusted to 0.9 g. A sample was prepared in the same manner as in Example 1 except for the above.

(実施例5)
誘電体粉末をBaNd2Ti4O12(TDK(株)製、平均粒径1.6μm、ε=92/Q=1700)295.7gに変え、KBM573(R)の量を1.5gに変えた以外は、実施例1と同様にしてサンプルを作成した。
(Example 5)
The dielectric powder was changed to 295.7 g of BaNd2Ti4O 12 (manufactured by TDK Corporation, average particle size 1.6 μm, ε = 92 / Q = 1700), and the amount of KBM573 (R) was changed to 1.5 g. Samples were prepared in the same manner as in Example 1.

(実施例6)
誘電体粉末をBaNd2Ti412(TDK(株)製、平均粒径1.6μm、ε=92/Q=1700)690gに変え、KBM573(R)の量を3.5gとし、トルエンを20g添加した以外は実施例1と同様にしてサンプルを作成した。
(Example 6)
Dielectric powder was changed to BaNd 2 Ti 4 O 12 (manufactured by TDK Corporation, average particle size 1.6 μm, ε = 92 / Q = 1700) 690 g, KBM573 (R) amount was 3.5 g, toluene was A sample was prepared in the same manner as in Example 1 except that 20 g was added.

(実施例7)
誘電体粉末をチタン酸バリウム(共立マテリアル(株)製、平均粒径7.0μm、ε=1100/Q=100)460.4gに変え、KBM573(R)の量を2.3gに変えた以外は、実施例1と同様にしてサンプルを作成した。
(Example 7)
The dielectric powder was changed to barium titanate (manufactured by Kyoritsu Material Co., Ltd., average particle size 7.0 μm, ε = 1100 / Q = 100) 460.4 g, and the amount of KBM573 (R) was changed to 2.3 g. Were prepared in the same manner as in Example 1.

(実施例8)
誘電体粉末をチタン酸バリウム(共立マテリアル(株)製、平均粒径7.0μm、ε=1100/Q=100)690gに変え、KBM573(R)の量を3.5gとし、トルエンを20g添加した以外は実施例1と同様にしてサンプルを作成した。
(Example 8)
The dielectric powder was changed to 690 g of barium titanate (manufactured by Kyoritsu Material Co., Ltd., average particle size 7.0 μm, ε = 1100 / Q = 100), the amount of KBM573 (R) was 3.5 g, and 20 g of toluene was added. A sample was prepared in the same manner as in Example 1 except that.

(比較例1)
PPEオリゴマーとクロロメチルスチレンとの反応生成物OPE−2St(R)(三菱ガス化学(株)製)100gと、トルエン66.7gとを500mlポリ瓶に入れ、ポット架台に4時間かけ、完全に溶解した均一な樹脂ワニスを作成した。この樹脂ワニスを用いて、実施例1と同様にサンプルを作成した。
(Comparative Example 1)
100 g of a reaction product of PPE oligomer and chloromethylstyrene OPE-2St (R) (Mitsubishi Gas Chemical Co., Ltd.) and 66.7 g of toluene are placed in a 500 ml plastic bottle and placed on a pot stand for 4 hours. A dissolved uniform resin varnish was prepared. A sample was prepared in the same manner as in Example 1 using this resin varnish.

(比較例2)
実施例1の配合において、エポキシ化ポリブタジエン エポフレンドCT310(R)(ダイセル化学工業(株)製)の量を35gに変え、ブタジエンホモポリマーNISSO−PB B−1000(R)(ニッソー(株)製)の量を35gに変え、ARS−069をエタン−1,2−ビス(ペンタブロモフェニル)SAYTEX8010(R)(アルベマール浅野(株)製)23.6gに変え、KBM573(R)を添加しない以外は、実施例1と同様にしてサンプルを作成した。
(Comparative Example 2)
In the formulation of Example 1, the amount of the epoxidized polybutadiene Epofriend CT310 (R) (manufactured by Daicel Chemical Industries, Ltd.) was changed to 35 g, and the butadiene homopolymer NISSO-PB B-1000 (R) (manufactured by Nisso Corporation). ) Is changed to 35 g, ARS-069 is changed to 23.6 g of ethane-1,2-bis (pentabromophenyl) SAYTEX 8010 (R) (manufactured by Albemarle Asano Co., Ltd.), and KBM573 (R) is not added. Were prepared in the same manner as in Example 1.

(比較例3)
PPEオリゴマーとクロロメチルスチレンとの反応生成物OPE−2St(R)(三菱ガス化学(株)製)100gおよびトルエン100gを500mlポリ瓶に入れ、ポット架台に4時間かけ、完全に溶解した均一な樹脂ワニスを作成した。その後、BaNd2Ti412365g、およびKBM573(R)1.8gを入れ、ポット架台にさらに4時間かけ、誘電体粉末が均一に分散したスラリーを得た。このスラリーを電解銅箔(例えば、JTM−1/2oz(R)((株)日鉱マテリアルズ製、Rz8μm))に塗工し、120℃/6分の乾燥を行なった。得られたサンプルの厚みは銅箔込みで68μmであった。以下、実施例1と同様にしてサンプルを作成した。
(Comparative Example 3)
A reaction product of PPE oligomer and chloromethylstyrene, 100 g of OPE-2St (R) (Mitsubishi Gas Chemical Co., Ltd.) and 100 g of toluene were placed in a 500 ml plastic bottle and placed on a pot stand for 4 hours. A resin varnish was created. Thereafter, 365 g of BaNd 2 Ti 4 O 12 and 1.8 g of KBM573 (R) were added, and the mixture was further placed on a pot stand for 4 hours to obtain a slurry in which the dielectric powder was uniformly dispersed. This slurry was applied to an electrolytic copper foil (for example, JTM-1 / 2oz (R) (manufactured by Nikko Materials Co., Ltd., Rz 8 μm)) and dried at 120 ° C./6 minutes. The thickness of the obtained sample was 68 μm including the copper foil. Thereafter, samples were prepared in the same manner as in Example 1.

(比較例4)
誘電体粉末をBaNd2Ti412(TDK(株)製、平均粒径1.6μm、ε=92/Q=1700)1035gに変え、KBM573(R)の量を5.2gに変え、トルエンを50g添加した以外は実施例1と同様にしてサンプルを作成した。
(Comparative Example 4)
Dielectric powder was changed to BaNd 2 Ti 4 O 12 (manufactured by TDK Corporation, average particle size 1.6 μm, ε = 92 / Q = 1700) 1035 g, KBM573 (R) amount was changed to 5.2 g, toluene A sample was prepared in the same manner as in Example 1 except that 50 g was added.

<樹脂ワニス液分散性評価方法>
各々配合、溶解した樹脂ワニスを250mlポリ瓶に200ml入れ、常温で24時間放置し、液の分離、濁りの有無を目視にて評価した。分離、濁りのないものを○、分離はないが、濁りのあるものを△、分離、濁り共にあるものを×とした。
<Method for evaluating resin varnish dispersion>
200 ml of each resin varnish blended and dissolved was placed in a 250 ml plastic bottle and allowed to stand at room temperature for 24 hours, and the presence or absence of turbidity was visually evaluated. The sample with no separation and turbidity was marked with ◯, the sample with no turbidity was marked with Δ, and the sample with both separation and turbidity was marked with ×.

<RCC絶縁層の脱落、クラック>
以下の銅箔に上記樹脂ワニスを塗工、乾燥したサンプルシートを作成した。
(a)18μm電解銅箔、Rz8μm
(b)18μm電解銅箔、Rz3.5μm
(c)18μm電解銅箔、Rz2.1μm
(d)12μm電解銅箔、Rz2.1μm
(e)18μm圧延銅箔、Rz1.1μm
(f)12μm圧延銅箔、Rz1.1μm
上記サンプルシートを90°の角度で数箇所曲げ、クラックを起点としてRCC(樹脂付銅箔)絶縁層の脱落が部分的にあるかどうかを評価し、明確なクラックがなく、絶縁層の脱落の無いものを○、クラックは入るが絶縁層の脱落の無いものを△、クラック、絶縁層の脱落共にあるものを×とした。
<Removal of RCC insulation layer, crack>
The above-mentioned resin varnish was applied to the following copper foil, and a dried sample sheet was prepared.
(A) 18 μm electrolytic copper foil, Rz 8 μm
(B) 18 μm electrolytic copper foil, Rz 3.5 μm
(C) 18 μm electrolytic copper foil, Rz 2.1 μm
(D) 12 μm electrolytic copper foil, Rz 2.1 μm
(E) 18 μm rolled copper foil, Rz 1.1 μm
(F) 12 μm rolled copper foil, Rz 1.1 μm
Bending the sample sheet at a 90 ° angle and evaluating whether or not the RCC (resin-coated copper foil) insulation layer is partially removed starting from the crack. There is no clear crack and the insulation layer is removed. The case where there was no crack was marked as ◯, the case where a crack entered but the insulating layer did not fall off was marked as Δ, and the case where both the crack and the insulating layer were dropped was marked as x.

<誘電率ε、Q値>
本出願人らが用意した、1〜10GHzの周波数領域での誘電特性を測定する装置を用い、試験用サンプルシートを100×1.5×0.8mmのサイズに切断し、2GHzのキャビティーに出し入れした際の共振周波数およびQ値の変化から誘電率εを算出した。
<Dielectric constant ε, Q value>
Using a device for measuring dielectric properties in the frequency range of 1 to 10 GHz prepared by the present applicants, the test sample sheet is cut into a size of 100 × 1.5 × 0.8 mm to form a 2 GHz cavity. The dielectric constant ε was calculated from the change in the resonance frequency and the Q value when taken in and out.

<吸水後△ε>
上記誘電特性計測装置にてサンプルの初期値を測定後、85℃、85%RHの高温高湿槽に168時間入れ、取り出し直後に再測定した値と比べた誘電率の変化率Δεを算出した。
<After water absorption △ ε>
After measuring the initial value of the sample with the above dielectric property measuring apparatus, the sample was placed in a high-temperature and high-humidity tank at 85 ° C. and 85% RH for 168 hours, and the change rate Δε of the dielectric constant compared with the value re-measured immediately after removal was calculated .

<曲げ強度、曲げ弾性率>
JIS C 6481に準じる試験方法にて、試験用サンプルシートを、40mm×25mm×0.8mmのサイズに切断し、AGS1000D((株)島津製作所製)を用い、支点間距離24mm、荷重速度1mm/minにて定速荷重−変位曲線をとり、下記数式5および6より曲げ強度、曲げ弾性率をそれぞれ算出した。
<Bending strength, flexural modulus>
The test sample sheet was cut into a size of 40 mm × 25 mm × 0.8 mm by a test method according to JIS C 6481, and AGS1000D (manufactured by Shimadzu Corporation) was used. A constant speed load-displacement curve was taken at min, and bending strength and bending elastic modulus were calculated from the following mathematical formulas 5 and 6, respectively.

(数式5)
(曲げ強度)=3×(破断点強度)×(支点間距離)/(2×(サンプル幅)×(サンプル厚み)2
(Formula 5)
(Bending strength) = 3 × (strength at break) × (distance between fulcrums) / (2 × (sample width) × (sample thickness) 2 )

(数式6)
(曲げ弾性率)=(支点間距離)3×(破断点強度)/(4×(サンプル幅)×(サンプル厚み)3×(破断点変位))
(Formula 6)
(Flexural modulus) = (distance between fulcrums) 3 × (strength at break) / (4 × (sample width) × (sample thickness) 3 × (displacement at break))

<ガラス転移温度(Tg)>
JIS C 6481に準じる試験方法にて、試験用サンプルシートを40mm×10mm×0.8mmのサイズに切断し、DMS6100(R)(セイコーインスツルメンツ(株)製)を用い、引張正弦波モードにて2℃/分、室温〜340℃、周波数1Hzにて測定し、DMA法を用いて誘電正接tanδのピークより耐熱温度(ガラス転移温度Tg)を求めた。
<Glass transition temperature ( Tg )>
The test sample sheet was cut into a size of 40 mm × 10 mm × 0.8 mm by a test method according to JIS C 6481 and 2 in a tensile sine wave mode using DMS6100 (R Seiko Instruments Inc.). The heat resistance temperature (glass transition temperature T g ) was determined from the peak of the dielectric loss tangent tan δ using the DMA method, measured at ° C./min, room temperature to 340 ° C., and a frequency of 1 Hz.

<銅箔ピール強度>
銅箔ピール強度試験用両面銅張サンプルの作成:上記樹脂付導体箔を樹脂面を向かい合わせて2枚重ね、真空熱プレス(KVHC型、北川精機(株)製)にて4℃/分、150℃/60分、4℃/分、200℃/3時間で段階的に、3MPa、3.9kPa(30torr)以下の条件で真空加熱加圧プレスを行った。得られたサンプルの厚みは銅箔込みで135μmであった。このサンプルをJIS C 6481に順じ、10mm幅でダイシングし、荷重試験機MODEL1605N(R)(アイコーエンジニアリング(株)製)にて50mm/minの速度で90°の方向に銅箔を引き剥がし、ピール強度を求めた。
<Copper foil peel strength>
Preparation of double-sided copper-clad sample for copper foil peel strength test: The above-mentioned conductor foil with resin is overlapped with the resin surface facing each other, and is heated at 4 ° C./min with a vacuum hot press (KVHC type, manufactured by Kitagawa Seiki Co., Ltd.) A vacuum heating and pressing press was performed stepwise at 150 ° C./60 minutes, 4 ° C./minute, and 200 ° C./3 hours under conditions of 3 MPa and 3.9 kPa (30 torr) or less. The thickness of the obtained sample was 135 μm including the copper foil. This sample was diced to a width of 10 mm in accordance with JIS C 6481, and the copper foil was peeled off in the direction of 90 ° at a speed of 50 mm / min with a load tester MODEL 1605N (R) (manufactured by Aiko Engineering Co., Ltd.) The peel strength was determined.

試験は、以下の厚みおよびRzの銅箔に樹脂ワニスを塗工、乾燥したサンプルシートについて行い、銅箔のピール強度を求めた。
(g)18μm電解銅箔、Rz2.1μm
(h)18μm圧延銅箔、Rz1.1μm銅箔を使用。
The test was performed on a sample sheet obtained by coating a resin varnish on a copper foil having the following thickness and Rz, and obtaining the peel strength of the copper foil.
(G) 18 μm electrolytic copper foil, Rz 2.1 μm
(H) 18 μm rolled copper foil, Rz 1.1 μm copper foil was used.

<難燃性試験>
UL94 V−0試験方法に順じ、試験用サンプルシートを127×12.7×0.8mm(1/32インチ)にカットし、70℃、168時間の前処理後、高さ10mmの炎を10秒間×2回接炎し、サンプルの燃焼時間が2回接炎で10秒以下で、5サンプルの燃焼時間が50秒以下をV−0とした。
<Flame retardance test>
In accordance with the UL94 V-0 test method, the test sample sheet was cut into 127 × 12.7 × 0.8 mm (1/32 inch), and after pretreatment at 70 ° C. for 168 hours, a flame with a height of 10 mm was applied. The sample was flame-contacted twice for 10 seconds, and the sample burning time was set to V-0 when the burning time of the sample was double-flamed for 10 seconds or less and the burning time of 5 samples was 50 seconds or less.

(結果)
上記実施例1〜8および比較例1〜4についての試験結果を、表1および2にそれぞれ示す。
(result)
The test results for Examples 1 to 8 and Comparative Examples 1 to 4 are shown in Tables 1 and 2, respectively.

Figure 2005105062
Figure 2005105062

Figure 2005105062
Figure 2005105062

表1に示されるように、熱硬化性PPEオリゴマー(A)と、ポリブタジエンもしくはスチレン−ポリブタジエン共重合体のいずれか1種以上から選択される可とう性付与剤(B)と、難燃剤(C)と、誘電体粉末(D)と、を含む実施例1〜8では、上記試験のいずれにおいても良好な結果を示している。   As shown in Table 1, a thermosetting PPE oligomer (A), a flexibility imparting agent (B) selected from at least one of polybutadiene or styrene-polybutadiene copolymer, and a flame retardant (C ) And dielectric powder (D), Examples 1 to 8 showing good results in any of the above tests.

すなわち、実施例1〜8においては、液分散性、誘電特性(誘電率ε、誘電正接tanδ)、吸水性、耐熱性(ガラス転移温度)、強靱性(曲げ強度、曲げ弾性率)といった特性は良好に実現されている。このことから、実施例1〜8ではPPEの元来有する特性が受け継がれていることがわかる。また、実施例1〜8では、難燃剤により高い難燃性(UL94 V−0)が付与され、可とう性付与剤により良好なピール強度が実現されている。したがって、切断等のハンドリング性が良好であることがわかる。   That is, in Examples 1 to 8, characteristics such as liquid dispersibility, dielectric properties (dielectric constant ε, dielectric loss tangent tan δ), water absorption, heat resistance (glass transition temperature), and toughness (bending strength, flexural modulus) Well realized. From this, it can be seen that in Examples 1 to 8, the inherent characteristics of PPE are inherited. In Examples 1 to 8, high flame retardancy (UL94 V-0) is imparted by the flame retardant, and good peel strength is realized by the flexibility imparting agent. Therefore, it can be seen that handling properties such as cutting are good.

さらに、上記特性の他に、実施例1〜8では、誘電正接tanδを低く維持しつつ広い範囲の誘電率(5.3〜21.5)が実現されている。具体的には、誘電体粉末の添加量が多いほど、その粒径が大きいほど、高い誘電率εが得られる。このように、誘電体粉末の種類や量を変えて用いることにより、伝送損失を損なうことなく所望の誘電率εを実現可能であることがわかる。   Further, in addition to the above characteristics, in Examples 1 to 8, a wide range of dielectric constants (5.3 to 21.5) are realized while keeping the dielectric loss tangent tan δ low. Specifically, a higher dielectric constant ε is obtained as the added amount of the dielectric powder is increased and the particle size thereof is increased. Thus, it can be seen that a desired dielectric constant ε can be realized without impairing transmission loss by using different types and amounts of dielectric powder.

一方、表2に示されるように、PPEオリゴマー(A)のみをトルエンに溶解させた比較例1では、RCC絶縁層脱落やクラックが低粗化銅箔で顕著であり、また、難燃性もV−0は達成されない。
また、PPEオリゴマー(A)と可とう性材料(B)と難燃剤(C)とを使用したが誘電体粉末(D)を使用しない比較例2では、誘電率εを向上させることはできない。
誘電体粉末(D)を用いない比較例1および2のいずれにおいても、実施例1〜8と比較して一般的に強靱性(曲げ強度および曲げ弾性率)は低く、従って、誘電体粉末(D)を用いることにより、強靱性の向上をはかりうることがわかる。
On the other hand, as shown in Table 2, in Comparative Example 1 in which only the PPE oligomer (A) was dissolved in toluene, the RCC insulating layer dropout and cracks were significant in the low-roughened copper foil, and the flame retardancy was also high. V-0 is not achieved.
Further, in Comparative Example 2 in which the PPE oligomer (A), the flexible material (B), and the flame retardant (C) are used but the dielectric powder (D) is not used, the dielectric constant ε cannot be improved.
In any of Comparative Examples 1 and 2 in which the dielectric powder (D) is not used, the toughness (bending strength and flexural modulus) is generally lower than those in Examples 1 to 8, and accordingly, the dielectric powder ( It can be seen that toughness can be improved by using D).

PPEオリゴマー(A)と誘電体粉末(D)とを含む比較例3では、高い強靱性(曲げ強度および曲げ弾性率)が実現されているものの、可とう性付与剤(B)および難燃剤(D)を用いていないため、RCC絶縁層脱落が低粗化銅箔で多発し、また、難燃性もV−0は達成されない。   In Comparative Example 3 including the PPE oligomer (A) and the dielectric powder (D), high toughness (bending strength and flexural modulus) is realized, but the flexibility imparting agent (B) and the flame retardant ( Since D) is not used, RCC insulation layer dropping frequently occurs in the low-roughened copper foil, and the flame retardancy is not V-0.

PPEオリゴマー(A)と可とう性材料(B)と難燃剤(C)とを含むが誘電体粉末(D)を好ましい範囲(10〜900重量部)を超えて使用した(1035重量部)比較例4では、低粗化銅箔でRCC絶縁層脱落が発生する。したがって、好ましい範囲を超えた誘電体粉末(D)の使用は好ましくないことがわかる。   Comparison including PPE oligomer (A), flexible material (B) and flame retardant (C), but using dielectric powder (D) in excess of the preferred range (10-900 parts by weight) (1035 parts by weight) In Example 4, the RCC insulating layer falls off with the low-roughened copper foil. Therefore, it turns out that the use of the dielectric powder (D) exceeding the preferable range is not preferable.

Claims (20)

下記一般式(1)で表される熱硬化性ポリフェニレンエーテルオリゴマー体(A)と、ポリブタジエンもしくはスチレン−ポリブタジエン共重合体のいずれか1種以上から選択される可とう性付与剤(B)と、難燃剤(C)と、誘電体粉末(D)と、を含んで構成される、ことを特徴とする樹脂組成物。
Figure 2005105062
Figure 2005105062
Figure 2005105062
(式中、−(O−X−O)−は一般式(2)で示され、R1、R2、R7、R8は同一または異なっていてもよく、ハロゲン原子または炭素数6以下のアルキル基もしくはフェニル基である。R3、R4、R5、R6は同一または異なっていてもよく、水素原子、ハロゲン原子または炭素数6以下のアルキル基もしくはフェニル基である。Aは炭素数20以下の直鎖状もしくは分岐状もしくは環状の炭化水素である。−(Y−O)−は一般式(3)で示され、R9、R10は同一または異なっていてもよく、ハロゲン原子または炭素数6以下のアルキル基もしくはフェニル基である。R11、R12は同一または異なっていてもよく、水素原子、ハロゲン原子または炭素数6以下のアルキル基もしくはフェニル基である。−(Y−O)−は一般式(3)で定義される1種類の構造、または一般式(3)で定義される2種類以上の構造がランダムに配列したものである。Zは炭素数1以上の有機基であり、酸素原子を含むこともある。a、bは少なくともいずれか一方が0でない、0〜300の整数を示す。iはそれぞれ独立に0または1の整数を示す。)
A thermosetting polyphenylene ether oligomer (A) represented by the following general formula (1), and a flexibility-imparting agent (B) selected from any one or more of polybutadiene or styrene-polybutadiene copolymer; A resin composition comprising a flame retardant (C) and a dielectric powder (D).
Figure 2005105062
Figure 2005105062
Figure 2005105062
(In the formula, — (O—X—O) — is represented by the general formula (2), and R 1, R 2, R 7 and R 8 may be the same or different, and are a halogen atom or an alkyl group having 6 or less carbon atoms, or R3, R4, R5 and R6 may be the same or different and are a hydrogen atom, a halogen atom, an alkyl group having 6 or less carbon atoms, or a phenyl group, and A is a straight chain having 20 or less carbon atoms. Or a branched or cyclic hydrocarbon,-(YO)-is represented by the general formula (3), R9 and R10 may be the same or different and are a halogen atom or an alkyl group having 6 or less carbon atoms; R11 and R12 may be the same or different and are a hydrogen atom, a halogen atom, an alkyl group having 6 or less carbon atoms, or a phenyl group. One type of structure defined by the formula (3) or two or more types of structures defined by the general formula (3) are randomly arranged, Z is an organic group having 1 or more carbon atoms, oxygen (A and b each represents an integer of 0 to 300, at least one of which is not 0. Each i independently represents an integer of 0 or 1.)
前記誘電体粉末は、Mg2SiO4、Al23、MgTiO3、ZnTiO3、Zn2TiO4、TiO2、CaTiO3、SrTiO3、SrZrO3、BaTi25、BaTi49、Ba2Ti920、Ba2(Ti,Sn)920、ZrTiO4、(Zr,Sn)TiO4、BaNd2Ti514、BaSm2TiO14、BaO−CaO−Nd23−TiO2系、BaO−SrO−Nd23−TiO2系、Bi23−BaO−Nd23−TiO2系、PbO−BaO−Nd23−TiO2系、(Bi23、PbO)−BaO−Nd23−TiO2系、La2Ti27、Nd2Ti27、(Li,Sm)TiO3、Ba(Mg1/3Ta2/3)O3、Ba(Zn1/3Ta2/3)O3、Ba(Zn1/3,Nb2/3)O3、Sr(Zn1/3Nb2/3)O3、BaTiO3、(Ba,Pb)TiO3、Ba(Ti,Zr)O3、(Ba,Sr)TiO3のいずれか1種あるいはこれらの組み合わせから選択される、ことを特徴とする請求項1に記載の樹脂組成物。 The dielectric powder, Mg 2 SiO 4, Al 2 O 3, MgTiO 3, ZnTiO 3, Zn 2 TiO 4, TiO 2, CaTiO 3, SrTiO 3, SrZrO 3, BaTi 2 O 5, BaTi 4 O 9, Ba 2 Ti 9 O 20 , Ba 2 (Ti, Sn) 9 O 20 , ZrTiO 4 , (Zr, Sn) TiO 4 , BaNd 2 Ti 5 O 14 , BaSm 2 TiO 14 , BaO—CaO—Nd 2 O 3 —TiO 2 2 system, BaO—SrO—Nd 2 O 3 —TiO 2 system, Bi 2 O 3 —BaO—Nd 2 O 3 —TiO 2 system, PbO—BaO—Nd 2 O 3 —TiO 2 system, (Bi 2 O 3 , PbO) —BaO—Nd 2 O 3 —TiO 2 system, La 2 Ti 2 O 7 , Nd 2 Ti 2 O 7 , (Li, Sm) TiO 3 , Ba (Mg 1/3 Ta 2/3 ) O 3 , Ba (Zn 1/3 Ta 2/3) O 3, Ba (Zn 1/3, Nb 2/3) O 3 Sr (Zn 1/3 Nb 2/3) O 3, BaTiO 3, (Ba, Pb) TiO 3, Ba (Ti, Zr) O 3, (Ba, Sr) any one or a combination of these TiO 3 It is selected from these, The resin composition of Claim 1 characterized by the above-mentioned. 前記誘電体粉末の配合比率は、重量比で前記熱硬化性ポリフェニレンエーテルオリゴマー体(A)と前記可とう性付与剤(B)との合計100重量部に対し、10〜900重量部である、ことを特徴とする請求項1または2に記載の樹脂組成物。   The blending ratio of the dielectric powder is 10 to 900 parts by weight with respect to a total of 100 parts by weight of the thermosetting polyphenylene ether oligomer (A) and the flexibility-imparting agent (B). The resin composition according to claim 1 or 2, wherein: 前記可とう性付与剤(B)の配合比率は、重量比で前記熱硬化性ポリフェニレンエーテルオリゴマー体(A)100重量部に対し、5〜66重量部である、ことを特徴とする請求項1に記載の樹脂組成物。   The blending ratio of the flexibility-imparting agent (B) is 5 to 66 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the thermosetting polyphenylene ether oligomer (A) as a weight ratio. The resin composition described in 1. 前記可とう性付与剤(B)は、下記一般式(4)で表され、1,2−ビニル結合が80%以上のオリゴマー骨格を有するポリブタジエンを含んで構成される、ことを特徴とする請求項1乃至4のいずれか1項に記載の樹脂組成物。
Figure 2005105062
(式中、nは0以上の整数である。)
The flexibility imparting agent (B) is represented by the following general formula (4), and is configured to include polybutadiene having an oligomer skeleton in which 1,2-vinyl bond is 80% or more. Item 5. The resin composition according to any one of Items 1 to 4.
Figure 2005105062
(In the formula, n is an integer of 0 or more.)
前記可とう性付与剤(B)は、下記一般式(5)で表されるスチレン−ブタジエン共重合体を含んで構成される、ことを特徴とする請求項1乃至4のいずれか1項に記載の樹脂組成物。
Figure 2005105062
(式中、nは0〜840、mは0〜1400の整数を表す。)
The said flexibility imparting agent (B) is comprised including the styrene-butadiene copolymer represented by following General formula (5), Either of Claim 1 thru | or 4 characterized by the above-mentioned. The resin composition as described.
Figure 2005105062
(In the formula, n represents an integer of 0 to 840 and m represents an integer of 0 to 1400.)
前記難燃剤(C)は、ハロゲン系芳香族系添加型難燃剤もしくはハロゲン化フェノールの水酸基のうち少なくとも1つ以上がビニルベンジル基に置換された化合物を含んで構成される、ことを特徴とする請求項1乃至6のいずれか1項に記載の樹脂組成物。   The flame retardant (C) includes a halogenated aromatic additive-type flame retardant or a compound in which at least one of hydroxyl groups of a halogenated phenol is substituted with a vinylbenzyl group. The resin composition according to any one of claims 1 to 6. 前記難燃剤(C)の配合比率は、前記熱硬化性ポリフェニレンエーテルオリゴマー体(A)と前記可とう性付与剤(B)との合計100重量部に対し、5〜100重量部である、ことを特徴とする請求項1乃至7のいずれか1項に記載の樹脂組成物。   The blending ratio of the flame retardant (C) is 5 to 100 parts by weight with respect to a total of 100 parts by weight of the thermosetting polyphenylene ether oligomer (A) and the flexibility-imparting agent (B). The resin composition according to any one of claims 1 to 7, wherein: 導体箔上に、請求項1乃至8のいずれか1項に記載の樹脂組成物が塗工、乾燥されて形成される、ことを特徴とする樹脂付導体箔。   A conductive foil with resin, wherein the resin composition according to any one of claims 1 to 8 is formed by coating and drying on a conductive foil. 前記導体箔は、銅、銀、金、アルミ、ニッケル−クロム、ニッケルのいずれか1種から構成され、前記導体箔の厚みが3〜70μmの範囲にある、ことを特徴とする請求項9に記載の樹脂付導体箔。   The conductive foil is made of any one of copper, silver, gold, aluminum, nickel-chromium, and nickel, and the thickness of the conductive foil is in the range of 3 to 70 μm. The conductor foil with resin as described. 前記導体箔の表面粗化が0.2〜3.5μmの範囲にある、ことを特徴とする請求項9または10に記載の樹脂付導体箔。   11. The resin-coated conductor foil according to claim 9, wherein the surface roughness of the conductor foil is in a range of 0.2 to 3.5 μm. 前記導体箔上に形成された樹脂層の厚みが5〜200μmである、ことを特徴とする請求項9乃至11のいずれか1項に記載の樹脂付導体箔。   The resin-coated conductor foil according to any one of claims 9 to 11, wherein the resin layer formed on the conductor foil has a thickness of 5 to 200 µm. 請求項9乃至12のいずれか1項に記載の樹脂付導体箔を、片面もしくは両面重ね合わせて加熱、加圧して形成される、ことを特徴とするプリント配線基板。   A printed wiring board, wherein the resin-coated conductor foil according to any one of claims 9 to 12 is formed by heating and pressurizing one side or both sides of each other. 請求項1乃至8のいずれか1項に記載の樹脂組成物を支持体上に塗布、乾燥させ、あらかじめ所定形状にパターニングされた導体箔上に載せて加熱、加圧後、前記支持体から剥離することにより形成される、ことを特徴とする樹脂付導体箔。   The resin composition according to any one of claims 1 to 8 is coated on a support, dried, placed on a conductor foil previously patterned in a predetermined shape, heated and pressurized, and then peeled off from the support A conductive foil with resin, characterized in that it is formed. 請求項14に記載の樹脂付導体箔を積層して形成される、ことを特徴とするプリント配線基板。   A printed wiring board, which is formed by laminating the conductor foil with resin according to claim 14. 請求項1乃至8のいずれか1項に記載の樹脂組成物に基材を含浸させて構成される、ことを特徴とするプリプレグ。   A prepreg comprising the resin composition according to any one of claims 1 to 8 impregnated with a base material. 請求項16に記載のプリプレグを1枚以上重ねて硬化させて構成される、ことを特徴とするシート。   A sheet comprising one or more prepregs according to claim 16 which are stacked and cured. 請求項16に記載のプリプレグの片面または両面に導体箔を重ねて硬化させて構成される、ことを特徴とする導体箔付シート。   The sheet | seat with a conductor foil characterized by being comprised by overlapping and hardening a conductor foil on the single side | surface or both surfaces of the prepreg of Claim 16. 請求項17に記載のシートまたは請求項18に記載の導体箔付シートの間に基材を挟んで硬化させて構成される、ことを特徴とする積層板。   A laminate comprising: a sheet according to claim 17 or a sheet with conductor foil according to claim 18; 請求項17に記載のシート、請求項18に記載の導体箔付シートまたは請求項19に記載の積層板を複数枚用いて構成される、ことを特徴とするプリント配線基板。   A printed wiring board comprising a plurality of the sheets according to claim 17, the sheet with conductor foil according to claim 18, or the laminate according to claim 19.
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