JP4960851B2 - 磁石装置、マグネトロンスパッタ装置 - Google Patents
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Description
その結果、ターゲットは、外側磁石105と内側磁石106の間の領域だけが深く掘れ、その部分で寿命が決まってしまうため、ターゲットの使用効率は低い。
この磁石装置111も、リング状の外側磁石115の内側に内側磁石116が配置されているが、ターゲット112よりも小径であり、ターゲット112に対して平行な状態を維持しながら、ターゲット112の裏面位置で回転移動するように構成されており、強くスパッタリングされる領域がターゲット112の表面上を移動するため、上記磁石装置111よりも、ターゲット112の表面が均一に掘れる。
また、本発明は、上記磁石装置と、前記ターゲットが配置される真空槽と、少なくとも前記内側磁石を移動させる内側磁石移動装置を有するマグネトロンスパッタ装置である。
このマグネトロンスパッタ装置10は真空槽11を有しており、その内部には、薄膜材料の全部又は一部で構成されたターゲット12が配置されている。
ターゲット12は板状であり、ターゲット表面30と向かい合う位置には基板ホルダ13が配置されており、基板ホルダ13には、ターゲット12と面するように、ガラス基板等の成膜対象物14が配置されている。
この磁石装置15は、リング状の外側磁石31と、外側磁石31よりも小さい内側磁石35と、透磁性を有し、板状の固定ヨーク板23と移動ヨーク板26とを有している。
外側磁石31と内側磁石35は、ターゲット12に面する面とは反対側の面が、固定ヨーク板23と移動ヨーク板26にそれぞれ固定されている。
移動ヨーク板26は、ターゲット12に対して移動可能に構成されており、従って、移動ヨーク板26を移動させると、内側磁石35はターゲット12に対して移動する。
この磁石装置15では、外側磁石31と内側磁石35は円形リング状であり、内側磁石35の外径(外周直径)dは、外側磁石31の内周半径Rよりも小さく形成されている(d<R)。
固定ヨーク板23には、外側磁石31の中心軸線37を中心とする円形の軌道28が設けられており、内側磁石35は、この軌道28に沿って移動するように構成されている。
外側磁石31と内側磁石35を結ぶ磁力線は、中央部分がターゲット表面30上に漏洩し、外側磁石31と内側磁石35とが近い部分で幅狭で、遠い部分で幅広のドーム状のトンネルを形成する。
スパッタリング粒子が成膜対象物14の表面に到達すると、その表面に薄膜が成長する。スパッタガスに反応性ガスを添加して反応性スパッタリングを行なってもよい。
図5の磁石装置101ではターゲットの外周ばかりが掘れてしまい、図6の磁石装置111では、二重円周状に掘れて、中央位置での掘れ量が少ない。
また、上記磁石装置15では外側磁石31が円形リング状であったが、本発明はそれに限定されるものではない。
外側磁石32が固定された固定ヨーク24には、正方形又は長方形の四角リング状の軌道29が設けられている。
また、上記磁石装置15、16では、外側磁石31、32がターゲット12に対して静止していたが、本発明はそれに限定されるものではない。
この磁石装置17は、リング状の外側磁石33と、外側磁石33よりも小さい内側磁石37と、板状の移動ヨーク板25とを有している。
内側磁石37は外側磁石33の内側に配置され、外側磁石33と内側磁石37は移動ヨーク板25の片面に固定されている。
移動ヨーク板25は、外側磁石33と内側磁石37のターゲット12側の面とは反対側の面に位置している。
12……ターゲット
15〜17……磁石装置
31〜33……外側磁石
35〜37……内側磁石
Claims (2)
- ターゲットの裏面に配置され、前記ターゲットの表面に磁力線を漏洩させる磁石装置であって、
前記ターゲットと平行に配置され、前記ターゲットに一の磁極が向けられるリング状の外側磁石と、
前記外側磁石の内側に配置され、前記外側磁石とは逆極性の磁極が前記ターゲットに向けられる内側磁石とを有し、
前記外側磁石と前記内側磁石はそれぞれ円形リング状であり、前記内側磁石の外周直径は、前記外側磁石の内周半径よりも小さくされ、
前記外側磁石は前記ターゲットに対して静止され、
前記内側磁石は、前記ターゲットに対して移動可能に構成され、
前記内側磁石が前記外側磁石に対して移動すると、前記ターゲット表面の磁界分布が変化するように構成された磁石装置。 - 請求項1記載の磁石装置と、
前記ターゲットが配置される真空槽と、
少なくとも前記内側磁石を移動させる内側磁石移動装置を有するマグネトロンスパッタ装置。
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