JP4953658B2 - フタロシアニン誘導体及びその製造方法 - Google Patents
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Description
本実施形態のフタロシアニン誘導体は、上述の一般式(1)に示す構造を有する化合物である。一般式(1)について好ましい構造を以下に説明する。
本実施形態のフタロシアニン誘導体の製造方法は本実施形態のフタロシアニン誘導体を製造する方法である。そして、前記一般式(2)及び(3)に記載のフタロニトリル誘導体を反応させる方法である。一般式(2)及び(3)におけるX5及びX6は製造するフタロシアニン誘導体がもつX1〜4に対応する。すなわち、フタロニトリル誘導体が有する置換基X5及びX6がそのままフタロシアニン誘導体の置換基X1〜4に導入される。なお、原理的には、置換基X5及びX6がフタロシアニン誘導体のX1〜4として導入される場所は制御できず、確率により決定される場合が多い。
X1〜3がt−ブチル基、X4がCH(COOH)CH2COOHである一般式(1)に記載のフタロシアニン誘導体(PCH001)の合成を行った。合成は下記反応式1に従い行った。
IR(KBr):ν=3423、2957、2923、2857、1713、1612、1396、920、525cm-1。MALDI-TOF:(C48H46N8O4Zn)+=863(5%)、689(30%)。
X1〜4がすべて−COOHであるフタロシアニン誘導体(PCH002:非特許文献3に記載の化合物)を上述したPCH001と同様の方法にて合成した。上述の方法とは化合物1及び化合物2に代えて、フタロニトリルカルボン酸エチルエステルを用い、且つ、反応ii)を行わなかった以外は同様の方法である。
酸化チタン電極(約0.5cm×0.9cm)をスクリーン印刷により製造した。具体的には、酸化チタンのナノ粒子を有機物にてペースト化してスクリーン印刷する方法は”Gratzel”らの方法に準拠して行った。酸化チタンペーストを印刷するガラス基板には透明な酸化物膜(フッ素をドープした酸化スズ)がコートされているものを用いた。
X1〜3がt−ブチル基、X4がカルボキシ基でX4におけるnが2であるフタロシアニン誘導体(化合物9)を下記反応式2に従い合成した。化合物6(t−ブチルイソインドリン:603mg、3mmol)と化合物7(ジシアノイソインドリン:195mg、1mmol)とをジメチルアミノエタノール20mL中に溶解した後、4時間還流した。溶媒を減圧留去し、得られた固形物を溶媒としてクロロホルム/メタノール(90/10)を用いたシリカゲルカラムにて精製した。
Claims (4)
- 半導体材料と共に用いられ、
下記一般式(1)で示される非対称構造をもつ光エネルギー変換用のフタロシアニン誘導体。
- 前記一般式(1)中、前記第1置換基群は水素、t−ブチル基、OCH3、OC2H5、OC3H7、OC5H11、OC6H13、OC7H15、OC8H17、OC9H19、OC10H21、N(CH3)2、N(C6H5)2及びt−C4H9−ph−O−(phはフェニレン)であり、
前記第2置換基群は−CH(CH2Y)Y及び−CH(CH2Y)2である請求項1に記載のフタロシアニン誘導体。 - 前記X2及びX3は前記電子供与基から選択される置換基である請求項1又は2に記載のフタロシアニン誘導体。
- 請求項1〜3のいずれかに記載のフタロシアニン誘導体を製造する方法であって、
下記一般式(2)及び(3)に記載のフタロニトリル誘導体を反応させる工程を有することを特徴とするフタロシアニン誘導体の製造方法。
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