JP4952108B2 - 地盤改良装置及び地盤改良方法 - Google Patents
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Description
一定の曲率を有する円弧状の曲管と、
前記曲管の先端部に設けられ、地盤改良材が噴射される噴射孔を具備する掘削ビットと、
前記曲管内に設けられ、前記地盤改良材を前記噴射孔へ供給する供給管とを備えることを特徴とする(第1の発明)。
また、地盤改良材が地盤中に噴射されることにより、噴射孔周辺の地盤が切削され、切削された地盤と地盤改良材とが混合攪拌又は置換されるため、掘削孔から広範囲にわたって地盤を改良でき、全体として強度の高い地盤改良体を構築することができる。
また、掘削ビットに噴射孔が備えられていることにより、掘削孔の最も深い位置から地盤改良材を地盤中に噴射することができるため、掘削孔の全長にわたって地盤改良体を構築することができる。
本発明による地盤改良装置によれば、曲管を構成する外管の内周と前記内管の外周との隙間を、曲管内に取り入れられた掘削土砂や地下水等を外部に排出する通路として利用できるので、掘削時に掘削ビットが、掘削された地盤等の詰まりにより動かなくなってしまう現象を回避できる。また、地盤改良材を地盤中に噴射する際にも、この隙間を通じて地盤中に注入される余分な地盤改良材、切削された地盤、或いは地下水等を外部に排出できるので、地盤改良材の注入によって周辺地盤が持ち上がる現象を回避できる。
本発明による地盤改良装置によれば、掘削時に、曲管の地盤への進入方向を示す曲管の管軸周りの回転角度を、内管の断面を目視で参照することで容易に確認できるため、掘進方向の精度を向上させることができる。
本発明による地盤改良装置によれば、例えば、トンネル空間のように作業スペースが限定されるような場合でも、必要な寸法の地盤改良体を構築することができる。
20 掘削ビット、20a 鋼製本体、20b ビット、20c 噴射孔、
22 外管、22a 外管雄端部、22b 外管雌端部、
24 内管、24a 内管雄端部、24b 内管雌端部、
28 排出通路、30 供給管、30a 送油管、
30b 空気供給管、30c 水供給管、30d 地盤改良材供給管、
32 管連結部、42 パッキン、50 地盤改良体
Claims (8)
- 湾曲状の地盤改良体を構築する地盤改良装置であって、
一定の曲率を有する円弧状の曲管と、
前記曲管の先端部に設けられ、地盤改良材が噴射される噴射孔を具備する掘削ビットと、
前記曲管内に設けられ、前記地盤改良材を前記噴射孔へ供給する供給管とを備えることを特徴とする地盤改良装置。 - 前記曲管は、外管と、前記外管の内側に前記外管の内周と隙間を隔てて配置された内管とからなることを特徴とする請求項1に記載の地盤改良装置。
- 前記掘削ビットは、前記内管の先端部に設けられた駆動部により駆動されることを特徴とする請求項2に記載の地盤改良装置。
- 前記外管の先端縁部にパッキンを備え、前記内管は前記外管内を管軸方向へ移動可能であり、前記内管を管軸方向に移動させることにより、前記掘削ビットと前記パッキンとの隙間を開閉可能とされていることを特徴とする請求項2又は3に記載の地盤改良装置。
- 前記内管の断面は、略矩形型であることを特徴とする請求項2〜4のいずれかに記載の地盤改良装置。
- 前記曲管は、複数の管体を連結して構成されることを特徴とする請求項1〜5のいずれかに記載の地盤改良装置。
- 前記地盤改良材は、セメントミルク又はモルタルであることを特徴とする請求項1〜6のいずれかに記載の地盤改良装置。
- 湾曲状の地盤改良体を構築する地盤改良方法であって、
一定の曲率を有する円弧状の曲管と、前記曲管の先端部に設けられ、地盤改良材が噴射される噴射孔を具備する掘削ビットと、前記曲管内に設けられ、前記地盤改良材を前記噴射孔へ供給する供給管を備える地盤改良装置を用いて、
前記掘削ビットを回転させながら前記曲管を管軸方向に推進させることにより、前記地盤を湾曲状に掘削しながら前記曲管を地盤に進入させ、
前記曲管を前記地盤から引き抜きながら、前記噴射孔から地盤改良材を噴射して、前記地盤を切削するとともに、前記切削された地盤と前記地盤改良材とを混合攪拌又は置換することで円弧状に湾曲した円柱状の地盤改良体を形成することを特徴とする地盤改良方法。
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JP2006198130A JP4952108B2 (ja) | 2006-07-20 | 2006-07-20 | 地盤改良装置及び地盤改良方法 |
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