JP4945407B2 - バックスキャッタセンサ - Google Patents
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Description
このようなMEMSは、圧力や加速度等のセンサ、あるいはインクジェットプリンタのノズルヘッド等のアクチュエータとして実用化されている。
MEMSのなかでも、データ通信にバックスキャッタ(Backscatter;後方散乱)を利用するバックスキャッタセンサが注目されている。
このようなバックスキャッタセンサは、LC共振器、弾性表面波(SAW)技術、バルク弾性波(BAW)技術などを用いて具現化されている。バックスキャッタセンサに利用される電波帯域としては、コストおよび有効性等の要素を考慮して、産業・科学・医療用の無線帯域(ISM帯域)が望ましく、中でも極超短波帯(UHF)を使用するシステムが有望視されている。
例えば、既知のバックスキャッタセンサシステムでは、固有振動のQファクタが低い(減衰が大きい)ことにより損失が大きい。バックスキャッタセンサに利用されるLC共振器は、非常に低い周波数(通常<1MHz)の場合にのみ有用であり、それは、このようなデバイスのQファクタがそれより高い周波数で低下するためである。
遅延素子を利用する場合、要求信号(電波の放射)には通常パルスが用いられる。共振回路を利用する場合、要求信号にはAM変調またはFM変調による連続波が用いられる。実際には、SAW構成は直接摂動と間接摂動との何れにも使用することができる。しかし、BAW構成は一般に間接摂動での使用にしか適していない。直接摂動の場合、感度は通常、摂動が起こされる伝播(音波)経路におけるエネルギーの量に比例する。そのため、エネルギーはバルク材料を通じて分散され、そのためにBAWセンサはSAWセンサより感度が低くなり、検知が行われる表面においてエネルギー密度が最小になる。
この文献において、バックスキャッタセンサは車両のタイヤに設置され、ホイールアーチのアンテナによって2.45GHzの搬送波周波数(最大出力10mW)を照射される。照射される電波は、要求信号として、まず制御ユニットによって5MHz〜10MHzの範囲で振幅変調される。センサは、要求信号を受信し、それを検出器ダイオードによって復調する。変調波は、水晶共振器における振動を誘発するために使用される。変調がオフにされると、搬送波信号の放射出力が低減される。水晶共振器において、水晶はその自然な共振周波数で振動するが、その振動は温度の変化あるいは関連づけられた容量式圧力センサによって変調される。これらの振動は、残存している搬送波信号と混合されて応用信号としてアンテナへと反射される。応答信号には変調された側波帯が含まれる。制御ユニットはアンテナからの信号を受信し、デジタル受信機回路によって変調の度合いを分析する。
このバックスキャッタセンサシステムは、可変容量型のダイオード1、水晶共振器2および容量センサ3を含む。このシステムは、回路を不要に複雑にする可変容量ダイオード、水晶および容量圧力センサの各々に対する要件があることが不都合といえる。また、基板上への機械要素と回路要素とのハイブリッド集積化が必要である。更に、このようなセンサは比較的大型で、重量が大きくなるとともに、製造に費用がかかる。このようなデバイスのQファクタは、容量圧力センサ(またはインピーダンスセンサ)の直列抵抗によって制限される。さらに、このようなデバイスは、限られた周波数の範囲内でしか動作することができない。
これらの文献に開示されたバックスキャッタセンサは、カスタマイズされた技術に依存するとともに、機械的に複雑であるという点で不都合である。それらは、他のタイプのバックスキャッタセンサと比較して、相対的にサイズが非常に大きいとともに、重量が重く、製造に費用がかかり、この場合もまたQファクタが制限されている。
本発明の主な目的は、現在のデバイスに比較して小型かつ軽量であり、機械的構造が簡素かつ製造コストを安く、Qファクタが高くかつ広い周波数範囲にわたって良好な検出が可能なバックスキャッタセンサを提供することである。
変調された電磁波信号を受信して受信信号として出力する受信部と、
前記受信部に接続されかつ電気的な容量要素を有し、前記受信部が出力した前記受信信号の周波数に応じた電圧を前記容量要素の両端子間に生成させる容量部と、
前記容量部に接続され、前記容量部で生成された前記電圧によって励振され、かつ外力によって共振周波数が変化するとともに、前記共振周波数の変調信号を出力する共振部と、
前記受信信号を復調して搬送波信号を出力する復調部と、
前記復調部が出力した前記搬送波信号と前記共振部が出力した前記変調信号と混合して変調された送信信号を生成する変調部と、
前記変調部に接続され、前記変調部で生成された前記送信信号を電磁波信号として送信する送信部と
を備えたことを特徴とする。
これにより、本発明のバックスキャッタセンサは、既知のデバイスに比較して小型で軽量にすることができる。また、製造コストを低減でき、半導体/MEMS製造技術と完全に互換性があるため実施も容易である。更に、共振部が測定対象の状態量(例えば圧力または加速度)に応じた適切な影響を受けるようにするために複雑な機械的構成または追加の構成要素、例えば追加のインピーダンスセンサ(コンデンサ等)は不要である。
(第1実施形態)
図1Bには、本発明に基づくバックスキャッタセンサ10の基本回路が示されている。バックスキャッタセンサ10は、圧力感応型(stress-sensitive)の振動微小電気機械システムとして構成されており、ダイオード11と、共振部12と、アンテナ回路13とを備えている。
本実施形態においては、単一のダイオード11を復調部および変調部として兼用するとともに、単一のアンテナを含むアンテナ回路13を受信部および送信部として兼用する。
共振部12は、圧力感応型(stress-sensitive)のセンサとしての目的を達成するために、圧力に応じた共振状態の変化を生じる構成とされる。
アンテナ回路13は、単一のアンテナおよびLC共振回路を含み、本発明における受信部および送信部として兼用される。
これらの全ての要素は、MEMS技術により半導体材料から一体的に形成される。
従って、本実施形態のバックスキャッタセンサ10は、前述した図1Aの従来技術に対してより小型でより構造簡略なセンサを提供できる。
図2には、応力感応型ねじり微小機械による共振部21を備えたバックスキャッタセンサ20の構造が示されている。
バックスキャッタセンサ20は、受信部および送信部を兼ねるアンテナ28、第1の容量部であるコンデンサ22、第2の容量部であるコンデンサ23、共振部21、復調部および変調部を兼ねるダイオード27を備える。
このうち、共振部21はトーションビーム26を中心に揺動可能とされ、両端にそれぞれ質量部24,25、を備えている。
第1のコンデンサ22の電極プレートの一方はアンテナ28(ダイポールの前半分)に接続され、他方は共振部21(質量部24部分)に接続されている。
第2のコンデンサ23の電極プレートの一方は共振部21(質量部25部分)に接続され、他方はアンテナ28(ダイポールの後半分)に接続される。
これらの全ての要素は、MEMS技術により半導体材料から一体的に形成される。
一般に、質量部24,25を有する共振部21は、質量M、ねじり剛性kおよび極慣性モーメントIとしてレゾナンスω0=(k/I)1/2(静電気力がない場合)となる共振周波数を有する。例えば、バックスキャッタセンサ20に作用する圧力または加速度(測定すべき状態量)は、共振部21のトーションビーム26(図2に示す平面に対して垂直な軸線を中心とする)に対して応力として影響し、共振部21の剛性kに影響を与える。理論的には、測定すべき状態量は、バックスキャッタセンサ20の質量部24,25に選択的に影響を与える可能性がある。
このような測定すべき状態量に応じて変化が加えられた共振部21の自由発振により、コンデンサ22,23の静電容量が変化する。
これにより、バックスキャッタセンサ20は、受信信号に対して、測定すべき状態量に応じた変化を伴う送信信号を送信(受信信号の反射としての後方散乱)される。
この周波数シフト機能は、従来「ミキシング」として知られている。非線形挙動を呈する任意のデバイス(例えば、ダイオード、バラクタまたはトランジスタ)は、ミキサとしての役割を果たすことができ、それは、非線形歪みにより、元の周波数の倍数である新たな周波数と共に、元の情報における周波数成分間の全乗算および減算である新たな周波数の信号が(デバイスの入力に存在する信号から)生成されるためである。
静電駆動デバイスが発振をもたらす追加の非線形デバイス(例えばダイオード27)を含むことは必須ではない。それは、デバイスにおける非線形性が、復調中のダイオード27の提供を補償できるためである。本実施形態では、ダイオード27と電圧・力変換とが共に搬送波信号(例えば想定される(公称)共振周波数によって変調される)のミキシング(復調)に関与する。
従って、ダイオード27はミキサとして作用し、発振周波数(共振周波数または自由発振周波数で生成される)を搬送波周波数(この時点では出力が低減されている)と合成する。そして、混合された(または変調された)信号は、送信信号としてアンテナ28によって送信される。つまり、受信信号に対して送信信号が後方散乱される。
なお、図2の実施形態においては、共振部21の両端にコンデンサ22,23を設けて差動的に動作するものとしたが、単一コンデンサを有するデバイスとしてもよい。
図3には、MEMSによる微小な共振部を有するバックスキャッタセンサ30の他の実施形態が示されている。
本実施形態においても、単一のダイオード31を復調部および変調部として兼用するとともに、単一のアンテナ32を受信部および送信部として兼用する。ただし、各実施形態において、各部を兼用ではなく、個別の構成としてもよい。
ダイオード31は、共振部30を構成する半導体材料と一体的に形成される。この製造プロセスは、MEMSとして共振部30を微細機械加工するために使用される半導体材料に対して、例えばその表面にp−n接合を作成することで簡単に作成される。
ダイオード31は、アンテナ32で受信される受信信号の搬送波信号をクリッピングして整流し、共振部30の前後に直流成分を生成する。
アンテナ32は、共振部30およびダイオード31に接続される信号送受信デバイスである。アンテナ32は、搬送波信号(直流バイアスを提供するために整流される)の元になる受信信号を受信するとともに、変調した送信信号を送信することができる。
共振部31における所定の共振周波数での発振により、コンデンサ33の静電容量が同じ周波数で変化し、前述したダイオード31で整流された搬送波電圧と共に、同じ周波数の電圧信号を生成することができる。
これらの全ての要素は、MEMS技術により半導体材料から一体的に形成される。
図4Aには、MEMS構成によるバックスキャッタセンサの共振部構造についての他の実施形態が示されている。
図4Aのバックスキャッタセンサ40は、内在的に結合されている応力感応型振動MEMSによる共振部41を有する層状半導体デバイスである。
第1層43は、ガラス基板42に対してシリコン等の半導体材料をウェハボンディングにより接合して形成される。
第2層47は、第1層43に対してシリコン等の半導体材料をウェハボンディングにより接合して形成される。
第1層43には、キャビティ44に面してダイアフラム45が形成されている。
第2層47には、ダイアフラム45に接合される領域が薄く形成され、この部分には質量部46が一体的に形成されている。
本実施形態においては、質量部46とダイアフラム45により共振部41が形成され、ダイアフラム45、46により容量部であるコンデンサ451が形成されている。
本実施形態において、アンテナ49からの受信信号の復調を行う復調部および送信信号の変調を行う変調部は、前述した各実施形態におけるダイオード11,27,31に準じて第1層43ないし第2層47の一部に構成される。
このような構成のバックスキャッタセンサ40は、測定すべき状態量として、質量部46に作用する加速度等のパラメータを検知するのに適している。
図4Bにおいて、バックスキャッタセンサ40の基本構成は図4Aと同様であるが、第2層47の一部として構成されていた質量部46が省略され、残されたダイアフラム46Aが外部からの圧力等に応じて変形し、共振部41の共振周波数に影響するように構成されている。
このような構成のバックスキャッタセンサ40は、測定すべき状態量として、ダイアフラム46Aに作用する圧力等のパラメータを検知するのに適している。
図5Aないし図5Cには、MEMS構成によるバックスキャッタセンサ50の他の実施形態が示されている。
図5Aにおいて、バックスキャッタセンサ50は、MEMSによる共振部51を有する。共振部51はダイアフラム52を主要構成とし、このダイアフラム52には容量部としてのコンデンサ511、第2の容量部としてのコンデンサ512、受信部および送信部を兼ねるアンテナ58、変調部および復調部を兼ねるダイオード57が形成されている。
第1層54の図中下面には酸化膜分離層53が形成され、この面と第2層55とは接合層56を介して接合されている。
第1層54の表面にはダイオード57が形成されているとともに、その周囲にはダイポールアンテナまたはループアンテナ等のアンテナ58が形成されている。
第2層55の中央にはMEMSによって切り込みが形成され、トーションビーム59Aのみで周囲の第2層55に連続する振動片59が形成されている。
共振部51は振動片59を振動の主体とするものであり、振動片59は自身の共振周波数で振動し、外部から付与される圧力により第2層55に曲げ応力σ(図5B参照)が発生することで、トーションビーム59Aにおける剛性kが変化し、共振部51としての共振周波数が変化する。このため、共振周波数の変化によって影響される変調信号の後続する送信を、元の要求信号と比較することができ、測定すべき状態量として、所望のパラメータ(すなわち、圧力、加速度等)を計測することができる。
図5Cにおいて、本実施形態のバックスキャッタセンサ50の回路は、送信部および受信部を兼ねるアンテナ58、変調部および復調部を兼ねるダイオード57、容量部であるコンデンサ511を含む共振部51、第2の容量部である固定のコンデンサ512を示す。
11…容量部、復調部および変調部を兼ねるダイオード
12、21、30、41、51…共振部
13…受信部および送信部を兼ねるアンテナ回路
22、34、451、511…容量部であるコンデンサ
23、33、512…第2の容量部であるコンデンサ
24、25、46…質量部
27、31、57…復調部および変調部を兼ねるダイオード
28、32、49、58…受信部および送信部を兼ねるアンテナ
44…キャビティ
Claims (9)
- 微小電気機械システムとして構成されるバックスキャッタセンサであって、
変調された電磁波信号を受信して受信信号として出力する受信部と、
前記受信部に接続されかつ電気的な容量要素を有し、前記受信部が出力した前記受信信号の周波数に応じた電圧を前記容量要素の両端子間に生成させる容量部と、
前記容量部に接続され、前記容量部で生成された前記電圧によって励振され、かつ外力によって共振周波数が変化するとともに、前記共振周波数の変調信号を出力する共振部と、
前記受信信号を復調して搬送波信号を出力する復調部と、
前記復調部が出力した前記搬送波信号と前記共振部が出力した前記変調信号と混合して変調された送信信号を生成する変調部と、
前記変調部に接続され、前記変調部で生成された前記送信信号を電磁波信号として送信する送信部と
を備えたことを特徴とするバックスキャッタセンサ。 - 請求項1に記載されたバックスキャッタセンサにおいて、
前記受信部、前記送信部および前記共振部の各々に接続された第2の容量部を備えたことを特徴とするバックスキャッタセンサ。 - 請求項1または請求項2に記載されたバックスキャッタセンサにおいて、
前記受信部および前記送信部は、電磁波信号を送受信に兼用される単一のアンテナを備えていることを特徴とするバックスキャッタセンサ。 - 請求項1〜請求項3の何れかに記載されたバックスキャッタセンサにおいて、
前記共振部が半導体材料から形成されることを特徴とするバックスキャッタセンサ。 - 請求項1〜請求項4の何れかに記載されたバックスキャッタセンサにおいて、
前記復調部および前記変調部のうちの少なくとも何れかがダイオードであることを特徴とするバックスキャッタセンサ。 - 請求項5に記載されたバックスキャッタセンサにおいて、
前記ダイオードはp−n接合を備えていることを特徴とするバックスキャッタセンサ。 - 請求項1〜請求項6の何れかに記載されたバックスキャッタセンサにおいて、
前記共振部は、前記共振部と共に振動する1つまたは複数の質量部を備えたことを特徴とするバックスキャッタセンサ。 - 請求項1〜請求項7の何れかに記載されたバックスキャッタセンサにおいて、
基板とその表面に接合された半導体層とを備え、前記基板と前記半導体層との間にはキャビティが画定され、前記共振部は前記キャビティに面して配置されることを特徴とするバックスキャッタセンサ。 - 請求項8に記載されたバックスキャッタセンサにおいて、
前記キャビティ内が真空とされたことを特徴とするバックスキャッタセンサ。
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US8513864B2 (en) * | 2009-10-14 | 2013-08-20 | Gavin Ho | Micromechanical resonator with enlarged portion |
US8941191B2 (en) | 2010-07-30 | 2015-01-27 | Cornell University | Method of actuating an internally transduced pn-diode-based ultra high frequency micromechanical resonator |
CN203644936U (zh) * | 2010-12-30 | 2014-06-11 | 硅实验室公司 | 共享的am/fm天线电路以及am/fm无线电接收机系统 |
WO2012140846A1 (ja) * | 2011-04-12 | 2012-10-18 | パナソニック株式会社 | Mems圧力センサ |
US10145729B2 (en) | 2012-05-22 | 2018-12-04 | Teknologian Tutkimuskeskus Vtt Oy | Intermodulation sensor platform based on mechanical resonator |
JP6232642B2 (ja) * | 2014-02-03 | 2017-11-22 | 国立大学法人静岡大学 | 物理量検出センサモジュールおよび物理量検出システム |
US11145982B2 (en) | 2016-06-30 | 2021-10-12 | Hrl Laboratories, Llc | Antenna loaded with electromechanical resonators |
US11211711B2 (en) | 2016-06-30 | 2021-12-28 | Hrl Laboratories, Llc | Antenna dynamically matched with electromechanical resonators |
US10122475B1 (en) * | 2017-11-14 | 2018-11-06 | Honeywell International Inc. | Systems and methods for generating and transmitting ULF/VLF signals |
CN109921851A (zh) * | 2019-04-12 | 2019-06-21 | 安徽安努奇科技有限公司 | 多载波信号探测器、接收设备和探测方法 |
Family Cites Families (6)
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---|---|---|---|---|
JPS60203828A (ja) * | 1984-03-28 | 1985-10-15 | Toshiba Corp | 遠隔測定温度計 |
ATE196012T1 (de) * | 1995-04-12 | 2000-09-15 | Sensonor Asa | Kraftmessaufnehmer |
KR100307995B1 (ko) * | 1996-05-29 | 2002-03-21 | 만골드 안톤 | 이동물체로부터의무선전송장치 |
AUPO358996A0 (en) * | 1996-11-13 | 1996-12-05 | Lonsdale, Anthony | Apparatus for measuring impedance of a resonant structure |
JP2004024551A (ja) * | 2002-06-26 | 2004-01-29 | Renesas Technology Corp | センサシステム用半導体装置 |
JP4724488B2 (ja) * | 2005-02-25 | 2011-07-13 | 日立オートモティブシステムズ株式会社 | 集積化マイクロエレクトロメカニカルシステム |
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