JP4939772B2 - 水素を含むガスが導入されたチャンバを減圧する方法、及び処理装置 - Google Patents
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Claims (11)
- 水素を含むガスが導入されたチャンバを減圧する方法であって、
前記水素を含むガスの導入が完了した前記チャンバの内部を減圧する工程と、
前記減圧する工程の実行時に前記チャンバ内に水蒸気を供給する工程と、
を含む方法。 - ポンプが接続されたチャンバ内に水素を含むガスを供給する工程と、
前記水素を含むガスを供給する工程の完了後に前記ポンプによって前記チャンバの内部を減圧する工程と、
前記減圧する工程の実行時に前記チャンバ内に水蒸気を供給する工程と、
を含む方法。 - 前記チャンバ内に配置された或るウェハについて、前記ガスを供給する前記工程と、前記水蒸気を供給する前記工程と、前記チャンバの内部を減圧する前記工程と、が行なわれた後に、前記チャンバ内から前記或るウェハを取り出して該チャンバ内に別のウェハを配置し、該別のウェハについて、前記水蒸気を供給する前記工程を行なわずに、前記ガスを供給する前記工程と前記チャンバの内部を減圧する前記工程とが行なわれる、請求項2記載の方法。
- 前記水蒸気は、前記水素が前記チャンバ内に供給された後に供給される、請求項1〜3の何れか一項記載の方法。
- 前記チャンバの内部を減圧する工程において、前記ポンプによって前記チャンバ内の圧力を0.13KPa以下に減圧する、請求項1〜4の何れか一項記載の方法。
- 前記ポンプとして、ターボ分子ポンプ又はクライオポンプが用いられる、請求項1〜5の何れか一項記載の方法。
- チャンバと、
前記チャンバ内に水素ガスを供給する水素ガス供給部と、
前記チャンバに接続され、前記水素ガス供給部による水素ガスの供給が完了した前記チャンバ内の圧力を減圧する高真空ポンプと、
該高真空ポンプによる減圧時に前記チャンバ内に水蒸気を供給することが可能な水蒸気供給部と、
を備える処理装置。 - 前記高真空ポンプは、前記チャンバ内の圧力を0.13KPa以下に減圧可能なポンプである、請求項7記載の処理装置。
- 前記高真空ポンプは、ターボ分子ポンプ又はクライオポンプである、請求項7又は8記載の処理装置。
- 前記水素ガス供給部から前記水素を供給するタイミング、及び前記水蒸気供給部から前記水蒸気を供給するタイミングを制御する制御手段を更に備える、請求項7〜9の何れか一項記載の処理装置。
- 前記制御手段は、前記水素ガス供給部から前記チャンバ内に前記水素を供給させた後に、前記水蒸気供給部から前記水蒸気を供給させる、請求項10記載の処理装置。
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