JP4932244B2 - Heat seal film - Google Patents

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本発明は包装容器に用いられるヒートシールフィルムに関する。 The present invention relates to a heat seal film used for a packaging container.

プラスチック、紙などの容器を密封するヒートシールフィルムは、例えばキャリアテープに代表される電子部品の包装をはじめ多様な分野で用いられている。ヒートシールフィルムをキャリアテープのカバーテープに用いる場合、蓋材となるヒートシールフィルムに求められる重要な性能として、輸送、保管中に容易に剥がれないこと、実装時に内容物を取り出す際に容易に剥がれ、且つカバーテープが切れないことが挙げられる。
カバーテープは通常数百ミリ以上の幅を有するフィルム原反1本から、スリッターにより要求に応じた幅にスリットして使用されるが、この時原反の幅方向で剥離強度にバラツキがあると、例えば最も剥離強度が低いスリット品を使用してシール条件を調整した場合、同条件にて最も剥離強度が高いスリット品をシールすると剥離強度が高くなりすぎるため、実装時カバーテープを剥がした際にカバーテープが切れて内容物が取り出せなくなる場合がある。逆の場合、剥離強度が低すぎるため、保管や輸送中にカバーテープが剥がれて内容物が容器からこぼれてしまう場合がある。カバーテープ用の原反フィルムにはどの位置で使用しても剥離強度が安定していることが望まれている。特許文献1〜3には、ヒートシールフィルムをカバーテープに用いた場合の易開封性や透明性に関して記載されているが、この剥離強度の安定化に関しては記載されていない。
特表2003−508253号公報 特開2002−179183号公報 特開2004−244115号公報
Heat seal films for sealing containers such as plastic and paper are used in various fields such as packaging of electronic parts typified by carrier tape. When using a heat seal film as a cover tape for a carrier tape, the important performance required for a heat seal film as a lid material is that it cannot be easily peeled off during transportation and storage, and it is easily peeled off when the contents are taken out during mounting. And the cover tape cannot be cut.
The cover tape is usually used by slitting a film raw material having a width of several hundred millimeters or more into a width as required by a slitter. At this time, if the peel strength varies in the width direction of the raw material For example, when adjusting the sealing conditions using the slit product with the lowest peel strength, the peel strength becomes too high if the slit product with the highest peel strength is sealed under the same conditions. In some cases, the cover tape is cut and the contents cannot be taken out. In the opposite case, since the peel strength is too low, the cover tape may be peeled off during storage or transportation, and the contents may spill out of the container. It is desired that the peel strength of the raw film for the cover tape is stable regardless of the position at which it is used. Patent Documents 1 to 3 describe easy-openability and transparency when a heat seal film is used as a cover tape, but do not describe stabilization of the peel strength.
Special table 2003-508253 gazette JP 2002-179183 A JP 2004-244115 A

本発明は、剥離強度のバラツキが小さいヒートシールフィルムを提供するものである。 The present invention provides a heat seal film with small variations in peel strength.

本発明は、以下のような解決手段により、前記課題を解決する。
(1)(a)数平均分子量Mnが14〜18万g/molであり、且つスチレン系炭化水素ブロックの数平均分子量が1万g/mol以上5万g/mol未満であることを特徴とする、スチレン系炭化水素50〜95質量%と共役ジエン系炭化水素5〜50質量%とのブロック共重合体5〜50質量%、
(b)エチレン-αオレフィン共重合体5〜50質量%、
(c)スチレン系炭化水素10〜50質量%と共役ジエン系炭化水素90〜50質量%とのブロック共重合体5〜70質量%
からなる樹脂組成物をシーラント層とするヒートシールフィルム。
(2)(a)数平均分子量Mnが14〜18万g/molであり、且つスチレン系炭化水素ブロックの数平均分子量が1万g/mol以上5万g/mol未満であることを特徴とする、スチレン系炭化水素50〜95質量%と共役ジエン系炭化水素5〜50質量%とのブロック共重合体5〜50質量%、
(b)エチレン-αオレフィン共重合体5〜50質量%、
(c)スチレン系炭化水素10〜50質量%と共役ジエン系炭化水素90〜50質量%とのブロック共重合体5〜70質量%
からなる樹脂組成物をシーラント層として用いたヒートシールフィルムの製造方法。
(3)上記(1)の(a)〜(c)の樹脂組成物50〜99質量%と耐衝撃性ポリスチレン1〜50質量%をシーラント層とするヒートシールフィルム。
(4)上記(1)の(a)〜(c)の樹脂組成物50〜99質量%と耐衝撃性ポリスチレン1〜50質量%をシーラント層として用いたヒートシールフィルムの製造方法。
(5)層構成が少なくとも4層で最外層/二軸延伸ポリエチレンテレフタレート層、第2層/ポリエチレン樹脂層、第3層/ポリオレフィン系樹脂層、第4層/シーラント層であることを特徴とする上記(1)又は(3)記載のヒートシールフィルム。
(6)上記(5)記載のヒートシールフィルムの製造方法。
(7)上記(5)記載のヒートシールフィルムにおいて、第3層のポリオレフィン系樹脂層と第4層のシーラント層を共押出法により製造することを特徴とするヒートシールフィルムの製造方法。
(8)上記(1)、(3)、(5)の何れか一項記載のヒートシールフィルムにおいて、少なくとも片側に帯電防止処理がなされていることを特徴とするヒートシールフィルム。
(9)上記(1)、(3)、(5)、(8)の何れか一項記載のヒートシールフィルムからなる半導体・電子部品キャリアテープ用カバーテープ。
(10)上記(1)、(3)、(5)、(8)の何れか一項記載のヒートシールフィルムを用いた半導体・電子部品容器。
The present invention solves the above problems by the following means.
(1) (a) The number average molecular weight Mn is 140 to 180,000 g / mol, and the number average molecular weight of the styrenic hydrocarbon block is 10,000 g / mol or more and less than 50,000 g / mol, 5 to 50% by mass of a block copolymer of 50 to 95% by mass of a styrenic hydrocarbon and 5 to 50% by mass of a conjugated diene hydrocarbon,
(B) 5 to 50% by mass of an ethylene-α olefin copolymer,
(C) 5 to 70% by mass of a block copolymer of 10 to 50% by mass of styrene hydrocarbon and 90 to 50% by mass of conjugated diene hydrocarbon
A heat seal film comprising a resin composition comprising: a sealant layer.
(2) (a) The number average molecular weight Mn is 140 to 180,000 g / mol, and the number average molecular weight of the styrenic hydrocarbon block is 10,000 g / mol or more and less than 50,000 g / mol, 5 to 50% by mass of a block copolymer of 50 to 95% by mass of a styrenic hydrocarbon and 5 to 50% by mass of a conjugated diene hydrocarbon,
(B) 5 to 50% by mass of an ethylene-α olefin copolymer,
(C) 5 to 70% by mass of a block copolymer of 10 to 50% by mass of styrene hydrocarbon and 90 to 50% by mass of conjugated diene hydrocarbon
The manufacturing method of the heat seal film which used the resin composition which consists of as a sealant layer.
(3) A heat seal film comprising 50 to 99% by mass of the resin composition (a) to (c) of (1) and 1 to 50% by mass of impact-resistant polystyrene as a sealant layer.
(4) A method for producing a heat seal film using 50 to 99% by mass of the resin composition (a) to (c) of (1) and 1 to 50% by mass of impact-resistant polystyrene as a sealant layer.
(5) The layer structure is at least 4 layers, and is outermost layer / biaxially stretched polyethylene terephthalate layer, second layer / polyethylene resin layer, third layer / polyolefin resin layer, fourth layer / sealant layer The heat seal film according to the above (1) or (3).
(6) The manufacturing method of the heat seal film as described in said (5).
(7) The method for producing a heat seal film according to (5), wherein the third polyolefin resin layer and the fourth sealant layer are produced by a co-extrusion method.
(8) The heat seal film according to any one of the above (1), (3), and (5), wherein an antistatic treatment is performed on at least one side.
(9) A cover tape for a semiconductor / electronic component carrier tape comprising the heat seal film according to any one of (1), (3), (5), and (8).
(10) A semiconductor / electronic component container using the heat seal film according to any one of (1), (3), (5), and (8).

本発明によれば、剥離強度のバラツキが小さいヒートシールフィルムを提供することができる。 ADVANTAGE OF THE INVENTION According to this invention, the heat seal film with small variation in peeling strength can be provided.

以下、本発明を詳細に説明する。
本発明で用いるスチレン系炭化水素とは例えばスチレン、α-メチルスチレン、各種アルキル置換スチレンなどがある。なかでもスチレンを好適に用いることができる。共役ジエン系炭化水素とは例えばイソプレン、ブタジエンなどがある。なかでもブタジエンを好適に用いることができる。ブロック共重合体には、スチレン系炭化水素と共役ジエン系炭化水素のブロック共重合体の共役ジエン系炭化水素に由来する不飽和結合部に水素が添加したものも含まれる。これらのブロック共重合体のうち、(a)及び(c)としてそれぞれ1種用いることができるが、2種類以上を併用することもできる。
Hereinafter, the present invention will be described in detail.
Examples of the styrenic hydrocarbon used in the present invention include styrene, α-methylstyrene, and various alkyl-substituted styrenes. Of these, styrene can be preferably used. Examples of the conjugated diene hydrocarbon include isoprene and butadiene. Of these, butadiene can be preferably used. The block copolymer includes those in which hydrogen is added to an unsaturated bond part derived from a conjugated diene hydrocarbon of a block copolymer of a styrene hydrocarbon and a conjugated diene hydrocarbon. Among these block copolymers, one type can be used as each of (a) and (c), but two or more types can be used in combination.

エチレン-αオレフィン共重合体におけるαオレフィンとは、プロピレン、ブテン、ペンテン、ヘキセンなどが挙げられる。好ましくはエチレン成分とαオレフィン成分が無秩序に配列した構造であるランダム共重合体である。   Examples of the α-olefin in the ethylene-α-olefin copolymer include propylene, butene, pentene, hexene and the like. A random copolymer having a structure in which an ethylene component and an α-olefin component are randomly arranged is preferable.

耐衝撃性ポリスチレンとしては、スチレン系炭化水素重合体のマトリックス中に共役ジエン系炭化水素重合体からなる軟質成分粒子が分散して存在しているものを好適に用いる事が出来る。   As impact-resistant polystyrene, those in which soft component particles made of a conjugated diene hydrocarbon polymer are dispersed in a matrix of a styrene hydrocarbon polymer can be suitably used.

(a)のスチレン系炭化水素と共役ジエン系炭化水素とのブロック共重合体は、クロロホルム可溶分の数平均分子量が14〜18万g/molであり、且つスチレン系炭化水素ブロック成分の数平均分子量が1万g/mol以上5万g/mol未満である。好ましくは前者が14〜16万g/molであり、後者が2〜4万g/molである。 The block copolymer of the styrene-based hydrocarbon and the conjugated diene-based hydrocarbon in (a) has a number average molecular weight of 140 to 180,000 g / mol of the chloroform-soluble component, and the number of styrene-based hydrocarbon block components. The average molecular weight is 10,000 g / mol or more and less than 50,000 g / mol. Preferably, the former is 140 to 160,000 g / mol, and the latter is 2 to 40,000 g / mol.

エチレン−αオレフィン共重合体及び耐衝撃性ポリスチレンとしては市販のものを用いることができる。 A commercially available thing can be used as an ethylene-alpha olefin copolymer and an impact-resistant polystyrene.

(a)〜(c)の樹脂組成物の配合は、(a)5〜50質量%、(b)5〜50質量%、(c)5〜70質量%である。好ましくは、(a)30〜45質量%、(b)20〜40質量%、(c)10〜25質量%である。また、(a)〜(c)の樹脂組成物と樹脂(d)の配合は、(a)〜(c)の樹脂組成物50〜99質量%と(d)1〜50質量%である。好ましくは、前者が70〜90質量%であり、後者が10〜30質量%である。(a)は5質量%未満であるとフィルム化が困難となる場合があり、50質量%を超えると剥離強度の温度依存性が顕著となり易開封性が損なわれる傾向にある。(b)は5質量%未満であると十分な剥離強度が得られない場合があり、50質量%を超えると成膜時のロールへの粘着性が大きくフィルム化が困難となる場合がある。(c)が5質量%未満であると易開封性を付与するために必要なシール条件が得にくくなり、70質量%を超えるとフィルム化が困難になることがある。(d)においては50質量%を超えるとフィルムの透明性が低下していく傾向にある。   The compounding of the resin composition of (a)-(c) is (a) 5-50 mass%, (b) 5-50 mass%, (c) 5-70 mass%. Preferably, (a) 30 to 45% by mass, (b) 20 to 40% by mass, and (c) 10 to 25% by mass. Moreover, the compounding of the resin composition (a) to (c) and the resin (d) is 50 to 99 mass% of the resin composition (a) to (c) and 1 to 50 mass% of (d). Preferably, the former is 70 to 90% by mass and the latter is 10 to 30% by mass. If (a) is less than 5% by mass, it may be difficult to form a film. If it exceeds 50% by mass, the temperature dependency of the peel strength tends to be remarkable, and the easy-openability tends to be impaired. If (b) is less than 5% by mass, sufficient peel strength may not be obtained, and if it exceeds 50% by mass, the adhesiveness to the roll during film formation may be large and it may be difficult to form a film. When (c) is less than 5% by mass, it becomes difficult to obtain the sealing conditions necessary for imparting easy-openability, and when it exceeds 70% by mass, it may be difficult to form a film. In (d), when it exceeds 50 mass%, the transparency of the film tends to decrease.

ヒートシールフィルムは層構成が少なくとも4層で二軸延伸ポリエチレンテレフタレート層を最外層とし、これに接する第2層としてポリエチレン樹脂層、第2層に接する第3層としてポリオレフィン系樹脂層、第3層に接する第4層として上述したシーラント層という構成において好適に用いることができる。   The heat seal film has a layer structure of at least 4 layers, and a biaxially stretched polyethylene terephthalate layer is an outermost layer, a polyethylene resin layer as a second layer in contact therewith, a polyolefin resin layer as a third layer in contact with the second layer, a third layer The fourth layer in contact with can be suitably used in the configuration of the sealant layer described above.

二軸延伸ポリエチレンテレフタレート層に用いられる二軸延伸ポリエチレンテレフタレートとしては、通常用いられているものの他に帯電防止剤が塗布または練り込まれたもの、制電防止処理およびコロナ処理等を施したものも用いることができる。   The biaxially stretched polyethylene terephthalate used for the biaxially stretched polyethylene terephthalate layer is not only those that are usually used, but also those that have been coated or kneaded with antistatic agents, those that have been subjected to antistatic treatment and corona treatment, etc. Can be used.

ポリエチレン樹脂層には低密度ポリエチレン、直鎖状低密度ポリエチレン、超低密度ポリエチレン等を用いることができ、これらを単独或いは複数を併用することもできる。またエチレン−1−ブテンやエチレンとカルボン酸基を有するビニル基の共重合体、例えばエチレン−アクリル酸エステルやエチレン−酢酸ビニル共重合体等やさらに酸無水物との3元共重合体等とブレンドし用いることもできる。その中でも、低密度ポリエチレン、直鎖状低密度ポリエチレンを好適に用いることができる。 For the polyethylene resin layer, low-density polyethylene, linear low-density polyethylene, ultra-low-density polyethylene, or the like can be used, and these can be used alone or in combination. Also, ethylene-1-butene, a copolymer of ethylene and a vinyl group having a carboxylic acid group, such as an ethylene-acrylic acid ester, an ethylene-vinyl acetate copolymer, and a terpolymer with an acid anhydride It can be blended and used. Among these, low density polyethylene and linear low density polyethylene can be preferably used.

最外層と第2層の接着力をより強くするために一般的に用いられている各種アンカーコート剤や表面処理技術を用いることができる。アンカーコート剤としては、特に二軸延伸ポリエチレンテレフタレートとポリエチレン樹脂との接着を強固にするために2液硬化型イソシアネート系のアンカーコート剤を用いることができる。また、アンカーコート剤と二軸延伸ポリエチレンテレフタレートフィルムとの接着をより強固なものとするために二軸延伸ポリエチレンテレフタレートフィルム側にコロナ処理、ポリエチレン樹脂側にオゾン処理を施すこともできる。   Various anchor coating agents and surface treatment techniques that are generally used for further strengthening the adhesion between the outermost layer and the second layer can be used. As the anchor coating agent, a two-component curable isocyanate-based anchor coating agent can be used particularly for strengthening the adhesion between the biaxially stretched polyethylene terephthalate and the polyethylene resin. Further, in order to further strengthen the adhesion between the anchor coating agent and the biaxially stretched polyethylene terephthalate film, corona treatment can be performed on the biaxially stretched polyethylene terephthalate film side and ozone treatment can be performed on the polyethylene resin side.

ポリオレフィン系樹脂層に用いられるポリオレフィン樹脂としては、例えばエチレン−1−ブテン共重合体、エチレン−酢酸ビニル共重合体、エチレン−アクリル酸エステル共重合体、エチレン−マレイン酸共重合体、スチレン−エチレングラフト共重合体、スチレン−プロピレングラフト共重合体、スチレン−エチレン−ブタジエンのブロック共重合体、プロピレン重合体、エチレン重合体等およびこれらのブレンド物があげられる。
その中でも、エチレン−1−ブテン共重合体とエチレン重合体のブレンド物を好適に用いることができる。
Examples of the polyolefin resin used in the polyolefin resin layer include ethylene-1-butene copolymer, ethylene-vinyl acetate copolymer, ethylene-acrylic acid ester copolymer, ethylene-maleic acid copolymer, and styrene-ethylene. Examples thereof include graft copolymers, styrene-propylene graft copolymers, styrene-ethylene-butadiene block copolymers, propylene polymers, ethylene polymers, and blends thereof.
Among these, a blend of an ethylene-1-butene copolymer and an ethylene polymer can be suitably used.

本発明の積層フィルムの製造方法としては、押出コーティング法、押出ラミネート法等の一般的な手法を用いる事ができ、中でも押出ラミネート法が好ましい。 第3層のポリオレフィン系樹脂層と第4層のシーラント層を共押出法により2層フィルムとして製膜して得ることができ、中でもT−ダイ法により2層フィルムを得る方法が好ましい。なお、得られた2層フィルムは溶融した第2層であるポリエチレン樹脂層を介して二軸延伸ポリエチレンテレフタレート層と積層して、ヒートシールフィルムとすることができる。   As a method for producing the laminated film of the present invention, general techniques such as an extrusion coating method and an extrusion lamination method can be used, and among these, the extrusion lamination method is preferable. The third polyolefin resin layer and the fourth sealant layer can be obtained as a two-layer film by co-extrusion, and a method of obtaining a two-layer film by the T-die method is particularly preferable. In addition, the obtained two-layer film can be laminated with a biaxially stretched polyethylene terephthalate layer through a polyethylene resin layer that is a melted second layer to form a heat seal film.

本発明で得られたヒートシールフィルムはその基材面及びシーラントフィルム面の少なくとも片側に帯電防止処理を行うことができる。帯電防止処理は帯電防止剤としては界面活性剤系帯電防止剤、高分子型帯電防止剤や導電剤などを、グラビアロール等を用いたロールコーターやスプレー等で塗布することができる。   The heat seal film obtained in the present invention can be subjected to antistatic treatment on at least one side of the base material surface and the sealant film surface. In the antistatic treatment, as the antistatic agent, a surfactant type antistatic agent, a polymer type antistatic agent, a conductive agent or the like can be applied by a roll coater or a spray using a gravure roll or the like.

本発明で得られたヒートシールフィルムは、電子部品の保管、輸送、装着に用いられる電子部品キャリアテープ用カバーテープや電子部品搬送容器に使用することができる。   The heat seal film obtained in the present invention can be used for a cover tape for an electronic component carrier tape or an electronic component transport container used for storage, transportation and mounting of electronic components.

以下、本発明を実施例によって詳細に説明するが、本発明はこれらによって限定されるものではない。
(実施例〜5、実験例1、2
シーラント層の樹脂組成物として、表1に示す(a)1〜(a)5のスチレン−ブタジエンブロック共重合体樹脂(スチレン含量80質量%、ブタジエン含量20質量%)42.5質量部と、(b)エチレン−ブテン−1ランダム共重合体(商品名タフマーA−4085、三井化学社製)25質量部と、(c)スチレン−ブタジエンブロック共重合体(スチレン含量40質量%、ブタジエン含量60質量%、商品名STR1602、JSR社製)22.5質量部と、(d)耐衝撃性ポリスチレン樹脂(商品名トーヨースチロールH870、東洋スチレン社製)10質量部を各々ハンドブレンドし、40mm押出機にてコンパウンド化し樹脂組成物を得た。この樹脂組成物とポリオレフィン系樹脂として低密度ポリエチレンをT−ダイ法による共押出法により2層フィルム(総厚33μm)を得た。この2層フィルムを押出ラミネート法によりポリエチレン樹脂(厚み13μm)を介して、二軸延伸ポリエチレンテレフタレートフィルム(厚み16μm)と積層させてそれぞれ880mm幅のヒートシールフィルムを得た。
EXAMPLES Hereinafter, although an Example demonstrates this invention in detail, this invention is not limited by these.
(Examples 3 to 5 and Experimental Examples 1 and 2 )
As a resin composition of the sealant layer, 42.5 parts by mass of (a) 1 to (a) 5 styrene-butadiene block copolymer resin (styrene content 80% by mass, butadiene content 20% by mass) shown in Table 1, (B) 25 parts by mass of an ethylene-butene-1 random copolymer (trade name Toughmer A-4085, manufactured by Mitsui Chemicals) and (c) a styrene-butadiene block copolymer (styrene content 40% by mass, butadiene content 60) 40% Extruder To obtain a resin composition. A two-layer film (total thickness 33 μm) was obtained by co-extrusion of low-density polyethylene as the resin composition and polyolefin resin using a T-die method. This two-layer film was laminated with a biaxially stretched polyethylene terephthalate film (thickness: 16 μm) via a polyethylene resin (thickness: 13 μm) by an extrusion laminating method to obtain heat seal films each having an width of 880 mm.

スチレン系炭化水素と共役ジエン系炭化水素のブロック共重合体(a)の分子量の測定方法にはゲルパーミエーションクロマトグラフィー(GPC)を用いた。測定条件を下記に示す。
測定条件
溶媒(移動相):THF
流速:0.2ml/min
設定温度:40℃
カラム構成:昭和電工製KF−G 4.6mmID×10cm 1本、及び昭和電工製KF−404HQ 4.6mmID×25cm(理論段数25000段)4本、計5本(全体として理論段数100000段
サンプル注入量:10μl(試料液濃度3mg/ml)
送液圧力:127kg/cm
検出器:RI検出器
スチレン系炭化水素と共役ジエン系炭化水素のブロック共重合体(a)中にブロック状ホモ重合セグメントとして存在しているスチレン系炭化水素の分子量の測定方法は下記の方法で行った。
スチレン系炭化水素と共役ジエン系炭化水素のブロック共重合体(a)のサンプルを0.1g取り、クロロホルム20ccに溶解した後、t−BuOOH70%水溶液、OsO1%クロロホルム溶液、蒸留水を加え、90℃で30分反応(分解反応)させた。この溶液を冷却後、メタノール中に注ぎ、スチレン系炭化水素のブロック状ホモ重合体を得た。スチレン系炭化水素と共役ジエン系炭化水素のブロック共重合体(a)の分子量測定と同様にこの重合体の分子量を測定した。
Gel permeation chromatography (GPC) was used as a method for measuring the molecular weight of the block copolymer (a) of styrene hydrocarbon and conjugated diene hydrocarbon. The measurement conditions are shown below.
Measurement conditions Solvent (mobile phase): THF
Flow rate: 0.2 ml / min
Set temperature: 40 ° C
Column configuration: Showa Denko KF-G 4.6 mm ID × 10 cm 1 and Showa Denko KF-404HQ 4.6 mm ID × 25 cm (theoretical plate number 25,000 plates), 5 in total (100,000 theoretical plate samples as a whole Sample injection Amount: 10 μl (sample solution concentration 3 mg / ml)
Liquid feeding pressure: 127 kg / cm 2
Detector: RI detector The method for measuring the molecular weight of a styrene hydrocarbon present as a block homopolymer segment in the block copolymer (a) of a styrene hydrocarbon and a conjugated diene hydrocarbon is as follows. went.
0.1 g of a sample of block copolymer (a) of styrene hydrocarbon and conjugated diene hydrocarbon is taken and dissolved in 20 cc of chloroform, and then added with 70% aqueous solution of t-BuOOH, 1% chloroform solution of OsO 4 and distilled water. , Reacted at 90 ° C. for 30 minutes (decomposition reaction). After cooling this solution, it was poured into methanol to obtain a block homopolymer of styrenic hydrocarbon. The molecular weight of this polymer was measured in the same manner as the molecular weight of the block copolymer (a) of styrene hydrocarbon and conjugated diene hydrocarbon.

(実施例6、実験例3〜7
表2に示す樹脂(a)と樹脂の配合で、シーラント層の樹脂組成物を得た以外は、実施例と同様の操作を行った。
(Example 6 , Experimental Examples 3-7 )
The same operation as in Example 3 was performed except that the resin composition of the sealant layer was obtained by blending the resin (a) and the resin shown in Table 2.

表1に示す(a)6〜(a)8のスチレン−ブタジエンブロック共重合体樹脂(スチレン含量80質量%、ブタジエン含量20質量%)をシーラント層の樹脂組成物に用いた以外は、実施例と同様の操作を行った。 Except that (a) 6 to (a) 8 styrene-butadiene block copolymer resins (styrene content 80% by mass, butadiene content 20% by mass) shown in Table 1 were used for the resin composition of the sealant layer, Examples The same operation as 3 was performed.

実施例、実験例及び比較例で得られたフィルムに対して、以下に示す評価を行った。
(1)剥離強度バラツキ評価
得られたフィルムから幅方向等間隔に20本の試験片(幅21mm、長さ20cm)を切り出し、シールヘッド幅0.5mm×2、シール圧力0.34MPa、シール時間0.5秒、シール回数2回の条件にて155℃でヒートシールフィルムを電子包装材用のポリスチレン系キャリアテープ(24mm幅)にシール後、剥離強度を測定した。剥離強度は一般的に低くとも30gfで管理されており、10gfより低いと剥がれる可能性が高い。表2の範囲は、剥離強度の最大値から最小値を引いた値であり、範囲が10gf以下のものを優、範囲が20gf以下のものを良、それ以上のものを不良と判定した。
The following evaluations were performed on the films obtained in Examples , Experimental Examples, and Comparative Examples.
(1) Peel strength variation evaluation Twenty test pieces (width 21 mm, length 20 cm) were cut out at equal intervals in the width direction from the obtained film, the seal head width 0.5 mm × 2, the seal pressure 0.34 MPa, and the seal time The peel strength was measured after sealing the heat-sealed film to a polystyrene carrier tape (24 mm width) for electronic packaging material at 155 ° C. under conditions of 0.5 seconds and the number of times of sealing twice. The peel strength is generally controlled at 30 gf at the lowest, and if it is lower than 10 gf, the peel strength is high. The range shown in Table 2 is a value obtained by subtracting the minimum value from the maximum value of the peel strength. A range of 10 gf or less was determined to be excellent, a range of 20 gf or less was determined to be good, and a range higher than that was determined to be poor.

Figure 0004932244
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Figure 0004932244
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本発明によれば、フィルム原反内幅方向の剥離強度バラツキが低減されるため、そこから得られるカバーテープの剥離強度が安定し、剥離強度が高くなりすぎることによる実装時のカバーテープの切れトラブルや、剥離強度が低くなりすぎることによる保管や輸送中のカバーテープの剥がれトラブルが無いヒートシールフィルムを得ることができる。
According to the present invention, since the peel strength variation in the width direction of the original film is reduced, the peel strength of the cover tape obtained therefrom is stable, and the cover tape breaks during mounting due to the peel strength becoming too high. It is possible to obtain a heat seal film free from troubles and troubles caused by peeling of the cover tape during storage or transportation due to excessively low peel strength.

Claims (7)

(a)数平均分子量Mnが14〜16万g/molであり、且つスチレン系炭化水素ブロックの数平均分子量が2〜4万g/molであることを特徴とする、スチレン系炭化水素50〜95質量%と共役ジエン系炭化水素5〜50質量%とのブロック共重合体5〜50質量%、
(b)エチレン-αオレフィン共重合体5〜50質量%、
(c)スチレン系炭化水素10〜50質量%と共役ジエン系炭化水素90〜50質量%とのブロック共重合体5〜70質量%
からなる樹脂組成物70〜90質量%と耐衝撃性ポリスチレン10〜30質量%をシーラント層とする、半導体・電子部品キャリアテープ用ヒートシールフィルム。
(A) a number average molecular weight Mn of 14 to 160,000 g / mol, and wherein the number average molecular weight of styrene series hydrocarbon block is from 2 to 40,000 g / mol, a styrene series hydrocarbon 50 A block copolymer of 5 to 50% by mass of 95% by mass and a conjugated diene hydrocarbon of 5 to 50% by mass;
(B) 5 to 50% by mass of an ethylene-α olefin copolymer,
(C) 5 to 70% by mass of a block copolymer of 10 to 50% by mass of styrene hydrocarbon and 90 to 50% by mass of conjugated diene hydrocarbon
A heat seal film for a semiconductor / electronic component carrier tape comprising 70 to 90% by mass of a resin composition and 10 to 30% by mass of impact-resistant polystyrene as a sealant layer.
(a)数平均分子量Mnが14〜16万g/molであり、且つスチレン系炭化水素ブロックの数平均分子量が2〜4万g/molであることを特徴とする、スチレン系炭化水素50〜95質量%と共役ジエン系炭化水素5〜50質量%とのブロック共重合体5〜50質量%、
(b)エチレン-αオレフィン共重合体5〜50質量%、
(c)スチレン系炭化水素10〜50質量%と共役ジエン系炭化水素90〜50質量%とのブロック共重合体5〜70質量%
からなる樹脂組成物70〜90質量%と耐衝撃性ポリスチレン10〜30質量%をシーラント層として用いた、半導体・電子部品キャリアテープ用ヒートシールフィルムの製造方法。
(A) a number average molecular weight Mn of 14 to 160,000 g / mol, and wherein the number average molecular weight of styrene series hydrocarbon block is from 2 to 40,000 g / mol, a styrene series hydrocarbon 50 A block copolymer of 5 to 50% by mass of 95% by mass and a conjugated diene hydrocarbon of 5 to 50% by mass;
(B) 5 to 50% by mass of an ethylene-α olefin copolymer,
(C) 5 to 70% by mass of a block copolymer of 10 to 50% by mass of styrene hydrocarbon and 90 to 50% by mass of conjugated diene hydrocarbon
The manufacturing method of the heat seal film for semiconductor and electronic component carrier tapes using the resin composition 70-90 mass% which consists of, and 10-30 mass% of impact-resistant polystyrene as a sealant layer.
層構成が少なくとも4層で最外層/二軸延伸ポリエチレンテレフタレート層、第2層/ポリエチレン樹脂層、第3層/ポリオレフィン系樹脂層、第4層/シーラント層であることを特徴とする請求項1記載のヒートシールフィルム。 Outermost layer / biaxially oriented polyethylene terephthalate layer having a layer structure of at least four layers, the second layer / polyethylene resin layer, third layer / polyolefin resin layer, claim, characterized in that a fourth layer / sealant layer 1 heat-sealing film of the serial mounting. 請求項記載のヒートシールフィルムの製造方法。 The manufacturing method of the heat seal film of Claim 3 . 請求項記載のヒートシールフィルムにおいて、第3層のポリオレフィン系樹脂層と第4層のシーラント層を共押出法により製造することを特徴とするヒートシールフィルムの製造方法。 4. The heat seal film according to claim 3 , wherein the third polyolefin resin layer and the fourth sealant layer are produced by a co-extrusion method. 請求項1又は3記載のヒートシールフィルムにおいて、少なくとも片側に帯電防止処理がなされていることを特徴とするヒートシールフィルム。 4. The heat seal film according to claim 1, wherein an antistatic treatment is performed on at least one side. 請求項1、3、の何れか一項記載のヒートシールフィルムを用いた半導体・電子部品容器。 Claim 1,3, semiconductors and electronic components container using a heat-sealing film according to one of 6.
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