JP4931181B2

JP4931181B2 - １８ｆ標識フルオロベンゼン環を有する放射性リガンドの合成法

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Publication number: JP4931181B2
Application number: JP2006021967A
Authority: JP
Inventors: 和年鈴木; 明栄張; 勝志熊田
Original assignee: National Institute of Radiological Sciences
Current assignee: National Institute of Radiological Sciences
Priority date: 2006-01-31
Filing date: 2006-01-31
Publication date: 2012-05-16
Anticipated expiration: 2026-01-31
Also published as: JP2007204383A; US20090069592A1; WO2007088670A1; US8067648B2

Description

本発明は、^１８Ｆ標識フルオロベンゼン環を有する放射性リガンドの実用的な合成法に関する。

現在まで^１８Ｆ標識フルオロベンゼン環を有する放射性リガンドを製造するにあたり、求電子性置換反応と求核性置換反応とが利用されている。
求電子性置換反応については、フェニルスズ誘導体が標識原料として使われている。また、フッ素試薬として、^１８Ｆフッ素ガスが利用されている。しかしながら、求電子性置換反応では標識効率及び反応収率が低いという欠点がある。また、放射性医薬品において重要なファクターとされる比放射能について、この反応によって得られる化合物の比放射能は低く、わずか数mCi/μmolである。
そのため、これらの欠点を補うため、^１８Ｆによるベンゼン環に対する求核性置換反応がしばしば利用されている。また、求電子置換反応に比べ、求核性の反応では、反応収率が高く得られた化合物の比放射能も高いレベルが期待できる。
しかし、本反応の最も大きい特徴として、ベンゼン環に置換基の有無あるいは位置と種類によって、反応の収率のみならず、進行の有無まで影響される。すなわち、ベンゼン環のパラ、あるいはオルトの位置に電子吸引性置換基(NO₂、CN、CHO、COOMe、COOH)の存在が必要となる。また、脱離基として、NO₂、Cl、Br、I、+NMe₃などが必要となる。そのため、本反応を利用し、フルオロベンゼン環を有する放射性リガンドを製造することは、基質に対する要求が大きく、一般性が欠けるといえよう。
我々は^１８Ｆ標識フルオロベンゼン環を有する放射性リガンドを合成するため、ジフェニルヨードニウム塩と[^１８Ｆ]Ｆ^-との反応を利用することを考えた。
従来、標識前駆体であるジフェニルヨードニウム塩の合成に種々な方法が報告されている。しかしながら、どの方法も酸化剤を使用するなどの過酷な条件で合成を行わなければならない。そのため、様々な複雑の構造を有する放射性リガンドを想定したジフェニルヨードニウム塩の合成は、従来法では困難である。実際、現在までジフェニルヨードニウム塩と[^１８Ｆ]Ｆ^-との反応を利用した放射性リガンドの報告例はなく、簡単な（置換基：Ｈ、Ｍｅ、Ｃｌ、ＯＭｅ等）[^１８Ｆ]フルオロベンゼン誘導体の合成に止まっている。

非特許文献１には、ヒドロキシ（トシルオキシ）ヨードベンゼンの製造法が記載されている。非特許文献２には、ジアリールヨードニウムトリフレート類の製造法が記載されている。非特許文献３には、ジアリールヨードニウムトリフレートと［^１８Ｆ］Ｆ⁻との反応が記載されている。

G. F. Koser et al., J. Org. Chem., 42, 1476 (1977) T. Kitamura et al., Synthesis, 147 (1994) V. W. Pike et al., J. Chem. Soc. Chem. Commun., 2215 (1995)

本発明の目的は、ジフェニルヨードニウム塩に対する[^１８Ｆ]Ｆ^-の求核性置換反応を利用した、異なる位置に種々の置換基を有する^１８Ｆ標識フルオロベンゼン環を有する放射性リガンド及び放射性薬剤の実用的な合成法を提供することにある。

上に述べたように、一般的に^１８Ｆ標識リガンドとして利用されている化合物は、激しい反応条件下では化学的に不安定で、生理あるいは薬理活性を失ってしまう場合が多い。旧来法では、標識リガンドとなる方のベンゼン環に過激な過酢酸などとの反応を行い、それにもう片方のベンゼン化合物（脱離基となる方）を反応させる方式であった。本発明の方法は、その逆で、脱離される側のベンゼン環の方にそのような過激な反応を行い、標識リガンドとなる方のベンゼン環とは穏和な条件で反応を遂行することが可能なため、比較的不安定なリガンドなどに対しても応用可能となっている。
本発明は、（Ａ）一般式（１）

（式中、Ｘは、Ｂｒ又はＩであり；Ｒ^１、Ｒ^２、Ｒ^３、Ｒ^４及びＲ^５は、それぞれ同一でも異なってもよく、水素、アルキル基又はヘテロ原子を含有する官能基を表すが、但し、Ｒ^１、Ｒ^２、Ｒ^３、Ｒ^４及びＲ^５がすべて水素又はアルキル基である場合を除く）
のフェニルハライド化合物を、金属マグネシウムと反応させ、グリニャール試薬とし、このグリニャール試薬を塩化スズで処理するか、又は、上記フェニルハライド化合物を、パラジウム触媒存在下、一般式（２）

（式中、Ｒ^１０はアルキル基を表す）
のトリアルキルスズと反応させて、
一般式（３）

（式中、Ｘ、Ｒ^１、Ｒ^２、Ｒ^３、Ｒ^４、Ｒ ^５及びＲ^１０は上記と同じ意味を表す）
のフェニルスズ化合物を得る工程、
（Ｂ）一般式（４）

（式中、Ｅはπ−電子系に対して電子を供与する官能基を表し、ｎは１、２、３、４又は５である）
のヨードベンゼン化合物を酸化し、次いでトルエンスルホン酸の一水和物と反応させることにより、一般式（５）

（式中、Ｔｓはトルエンスルホニル基を表し；Ｅ及びｎは上記と同じ意味を表す）
のヒドロキシトシルヨードベンゼン化合物を得る工程、
（Ｃ）一般式（５）のヒドロキシトシルヨードベンゼン化合物を一般式（３）のフェニルスズ化合物と反応させることにより、一般式（６）

（式中、Ｒ^１、Ｒ^２、Ｒ^３、Ｒ^４、Ｒ^５、Ｅ、ｎ、Ｔｓは上記と同じ意味を表す）
のジフェニルヨードニウム塩を得る工程、及び
（Ｄ）一般式（６）のジフェニルヨードニウム塩を［^１８Ｆ］Ｆ⁻と反応させることにより、一般式（７）

（式中、Ｒ^１、Ｒ^２、Ｒ^３、Ｒ^４、Ｒ^５は上記と同じ意味を表す）
の^１８Ｆ標識フルオロベンゼン環を有する放射性リガンドを得る工程
を含む、一般式（７）の^１８Ｆ標識フルオロベンゼン環を有する放射性リガンドの合成法を提供する。

また、本発明は、一般式（４）

（式中、Ｔｓはトルエンスルホニル基を表し；Ｅ及びｎは上記と同じ意味を表す）
のヒドロキシトシルヨードベンゼン化合物を得る方法を提供する。

また、本発明は、一般式（５）のヒドロキシトシルヨードベンゼン化合物。

（式中、Ｔｓはトルエンスルホニル基を表し；Ｅはπ−電子系に対して電子を供与する官能基を表し、ｎは１、２、３、４又は５である）を提供する。

以下、本発明を詳細に説明する。

工程Ａ
本工程は、（Ａ）一般式（１）

（式中、Ｘ、Ｒ^１、Ｒ^２、Ｒ^３、Ｒ^４、Ｒ ^５及びＲ^１０は上記と同じ意味を表す）
のフェニルスズ化合物を得る工程である。

ＸはＢｒ又はＩであり、好ましくはＢｒである。
Ｒ^１、Ｒ^２、Ｒ^３、Ｒ^４及びＲ^５は、それぞれ同一でも異なってもよく、水素、アルキル基又はヘテロ原子を含有する官能基を表すが、但し、Ｒ^１、Ｒ^２、Ｒ^３、Ｒ^４及びＲ^５がすべて水素又はアルキル基である場合を除く。

ヘテロ原子とは、有機化学において炭素、水素以外の原子をいい、一般にＯ、Ｎ、Ｓ及びハロゲン原子をいう。
ハロゲン原子とは、Ｆ、Ｃｌ、Ｂｒ及びＩ原子をいう。好ましくはＦ及びＣｌ原子である。
アルキル基とは、たとえば、メチル、エチル、n-プロピル、イソプロピル、n-ブチル、イソブチル、tert-ブチル、ペンチルおよびヘキシル基などのＣ_1-6アルキル基をいう。
ヘテロ原子を含有する官能基とは、アミノ基、アミノアルキル基、カルボニルアルキル基、アシル基、アシルオキシ基、カルボニル基、アルキルカルボニル基、アルキルカルボニルアルキル基、アリールアミノ基、アルケニルオキシ基、アルコキシ基、アルキルチオ基、ハロアルキル基、アリールオキシ基、アルアルコキシ基、アルアルキルチオ基、アルキレンジオキシ基、アシル基、アロイル基、アルキルスルホニル基、アルアルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、アリールスルホニルアミノ基、アルキルスルホニルアミノ基、ジアルキルアミノ基、アンモニオ基、複素環式基、複素環式カルボニル基などをいう。
アミノアルキル基の例は、アミノ−Ｃ_1-6アルキル基である。アルキルアミノアルキル基の例は、Ｃ_1-6アルキルアミノ−Ｃ_1-6アルキル基である。カルボニルアルキル基の例は、カルボニルＣ_1-6アルキル基である。アシル基の例は、ホルミル、アセチルなどのＣ_１−４アシル基である。アルキルカルボニル基の例は、メチルカルボニル、エチルカルボニルなどのＣ_１−６アルキルカルボニル基である。アルキルカルボニルアルキル基の例は、Ｃ_1-6アルキルカルボニルＣ_1-6アルキル基である。アリールアミノ基の例は、フェニルアミノ、ナフチルアミノ、ベンジルアミノ、インダニルアミノおよびインデニルアミノ基である。アルケニルオキシ基の例は、Ｃ_2-6アルケニル−Ｏ−基である。アルコキシ基の例は、Ｃ_1-6アルキル−Ｏ−基である。アルキルチオ基の例は、Ｃ_1-6アルキル−Ｓ−基である。ハロアルキル基の例は、ハロゲン−Ｃ_1-6アルキル基である。アリールオキシ基の例は、フェノキシ、ナフチルオキシ、ベンジルオキシ、インダニルオキシおよびインデニルオキシ基である。アルアルコキシ基の例は、フェニル−Ｃ_1-4アルキル−Ｏ−基、ナフチル−Ｃ_1-4アルキル−Ｏ−基、ベンジル−Ｃ_1-4アルキル−Ｏ−基、インダニル−Ｃ_1-4アルキル−Ｏ−基、インデニル−Ｃ_1-4アルキル−Ｏ−基である。アルアルキルチオ基の例は、フェニル−Ｃ_1-4アルキル−Ｓ−基、ナフチル−Ｃ_1-4アルキル−Ｓ−基、ベンジル−Ｃ_1-4アルキル−Ｓ−基、インダニル−Ｃ_1-4アルキル−Ｓ−基、インデニル−Ｃ_1-4アルキル−Ｓ−基である。アルキレンジオキシ基の例は、メチレンジオキシおよびエチレンジオキシ基などのＣ_1-4アルキレンジオキシ基である。アシル基の例は、ホルミル、アセチルおよびブチリル基などのＣ_1-6アシル基である。アロイル基の例は、フェニル−ＣＯ−基、ナフチル−ＣＯ−基、ベンジル−ＣＯ−基、インダニル−ＣＯ−基、インデニル−ＣＯ−基である。アルキルスルホニル基の例は、Ｃ_1-6アルキル−ＳＯ₂−基である。アルアルキルスルホニル基の例は、フェニルＣ_1-6アルキル−ＳＯ₂−基、ナフチルＣ_1-6アルキル−ＳＯ₂−基、ベンジル−Ｃ_1-4アルキル−ＳＯ₂−基、インダニルＣ_1-6アルキル−ＳＯ₂−基、インデニルＣ_1-6アルキル−ＳＯ₂−基である。アリールスルホニル基の例は、フェニル−ＳＯ₂−基、ナフチル−ＳＯ₂−基、ベンジル−ＳＯ₂−基、インダニル−ＳＯ₂−基、インデニル−ＳＯ₂−基である。アリールスルホニルアミノ基の例は、フェニル−ＳＯ₂ＮＨ−基、ナフチル−ＳＯ₂ＮＨ−基、ベンジル−ＳＯ₂ＮＨ−基、インダニル−ＳＯ₂ＮＨ−基、インデニル−ＳＯ₂ＮＨ−基である。アルキルスルホニルアミノ基の例は、Ｃ_1-6アルキル−ＳＯ₂ＮＨ−基である。ジアルキルアミノ基の例は、ジメチルアミノ、ジエチルアミノ基などの(Ｃ_1-6アルキル)₂Ｎ−基である。アンモニオ基の例は、トリメチルアンモニオおよびトリエチルアンモニオ基などのトリアルキルアンモニオ基である。

また、複素環式基の例は、含窒素複素環式基、たとえば、ピロリル、ピロリジニル、ピペリジル、ピペラジニル、イミダゾリル、ピラゾリル、ピリジル、テトラヒドロピリジル、ピリミジニル、モルホリニル、チオモルホリニル、キノリル、キノリジニル、テトラヒドロキノリニル、テトラヒドロイソキノリニル、キヌクリジニル、チアゾリル、テトラゾリル、チアジアゾリル、ピロリニル、イミダゾリニル、イミダゾリジニル、ピラゾリニル、ピラゾリジニル、プリニルおよびインダゾリル基などの該環を形成する異項原子として１つ以上の窒素原子を含み、さらに１つ以上の酸素原子または硫黄原子を含んでいてもよい５員もしくは６員環、縮合環または架橋環の複素環式基；並びにたとえば、フリル、チエニル、ベンゾチエニル、ピラニル、イソベンゾフラニル、オキサゾリル、ベンゾフラニル、インドリル、ベンズイミダゾリル、ベンゾオキサゾリル、ベンゾチアゾリル、キノキサリル、ジヒドロキノキサリニル、２,３−ジヒドロベンゾチエニル、２,３−ジヒドロベンゾピロリル、２,３−ジヒドロ−４Ｈ−１−チアナフチル、２,３−ジヒドロベンゾフラニル、ベンゾ［ｂ］ジオキサニル、イミダゾ[２,３−ａ]ピリジル、ベンゾ［ｂ］ピペラジニル、クロメニル、イソチアゾリル、イソオキサゾリル、チアジアゾリル、オキサジアゾリル、ピリダジニル、イソインドリルおよびイソキノリル基などの該環を形成する異項原子として１つ以上の酸素原子もしくは硫黄原子を含んでいてもよい、窒素、酸素もしくは硫黄原子から選ばれる少なくとも１つ以上の異項原子を含有する５員もしくは６員環、縮合環または架橋環の複素環式基である。
そして複素環式カルボニル基とは、複素環式−ＣＯ−基を意味する。
以上の基は、アミノ基、Ｃ_1-6アルキルアミノ基、カルボニル基、Ｃ_1-6アルコキシ基、Ｃ_1-6アルキルカルボニル基などの置換基を有してもよい。

一般式（１）の化合物として最も好ましいのは、Ｒ^２が−ＮＲ^６（Ｃ＝Ｏ）Ｒ^７であり、Ｒ^６が２，５−ジメトキシベンジル基であり、Ｒ^７がメチル基であり、Ｒ^３がフェノキシ基であり、Ｒ^１、Ｒ^４及びＲ^５が水素である化合物、及び、Ｒ^１が−ＣＨ_２ＣＨ（ＮＨＲ）ＣＯＯＲであり、Ｒ^３及びＲ^４が−ＯＲ又は−ＯＣＯＲであり、Ｒがたとえば、メチル、エチル、n-プロピル、イソプロピル、n-ブチル、イソブチル、tert-ブチル、ペンチルおよびヘキシル基などのＣ_1-6アルキル基であり、Ｒ^２及びＲ^５が水素である化合物である。

一般式（２）において、Ｒ^１０はアルキル基を表す。
アルキル基の例は、たとえば、メチル、エチル、n-プロピル、イソプロピル、n-ブチル、イソブチル、tert-ブチル、ペンチルおよびヘキシル基などである。好ましくはＣ_1-6アルキル基、より好ましくはn-ブチル基である。
本工程は、有機化学合成反応において一般に用いられている方法により行うことができる。

工程Ｂ
本工程は、（Ｂ）一般式（４）

（式中、Ｔｓはトルエンスルホニル基を表し；Ｅ及びｎは上記と同じ意味を表す）
のヒドロキシトシルヨードベンゼン化合物を得るという工程である。

π−電子系に対して電子を供与する官能基の例は、−ＮＲ_２、−ＯＲ、−ＮＨＣＯＲ、−ＮＨＳＯ_２Ｒ、−ＯＣＯＲ、−ＳＲ、−Ｒ（ここでＲは水素又は炭素数１−６のアルキル基である）である。ｎは１、２、３、４又は５であり、２以上であることが好ましい。ｎが２以上の場合、ｎ個のＥは各々同一であってもよく、異なっていてもよい。好ましいヒドロキシトシルヨードベンゼン化合物の例は、ｎ＝１であり、１個のＥがメトキシ基であり、Ｉに対してベンゼン環のパラ位に置換しているもの、及び、ｎ＝２であり、２個のＥがいずれもメトキシ基であり、Ｉに対してベンゼン環のメタ位とパラ位に置換しているものである。
本工程は、文献（G. F. Koser et al., J. Org. Chem., 42, 1476 (1977)）などに記載された、一般に用いられている方法により行うことができる。例えば、一般式（４）のヨードベンゼン化合物を過酢酸あるいはホウ酸ナトリウム(酢酸中)にて過ヨウ素化合物とし、室温下アセトニトリル、エーテル中トシル酸の１水和物で処理する。電子供与性基を有するヒドロキシルヨードベンゼンが、空気中で分解するなど、不安定な場合には、１）すべての反応を窒素雰囲気中で行う、２）化合物を単離することなく次の反応に使用する、などの手段を用いることができる。

工程Ｃ
本工程は、（Ｃ）一般式（５）のヒドロキシトシルヨードベンゼン化合物を一般式（３）のフェニルスズ化合物と反応させることにより、一般式（６）

（式中、Ｒ^１、Ｒ^２、Ｒ^３、Ｒ^４、Ｒ^５、Ｅ、ｎ、Ｔｓは上記と同じ意味を表す）
のジフェニルヨードニウム塩を得るという工程である。

本工程は、ヒドロキシトシルヨードベンゼン化合物とフェニルスズ化合物との反応に一般に採用されている方法及び条件により行うことができる。

工程Ｄ
本工程は、（Ｄ）一般式（６）のジフェニルヨードニウム塩を［^１８Ｆ］Ｆ⁻と反応させることにより、一般式（７）

（式中、Ｒ^１、Ｒ^２、Ｒ^３、Ｒ^４、Ｒ^５は上記と同じ意味を表す）
の^１８Ｆ標識フルオロベンゼン環を有する放射性リガンドを得るという工程である。

本工程は、文献（V. W. Pike et al., J. Chem. Soc. Chem. Commun., 2215 (1995)）などに記載された、一般に用いられている方法により行うことができる。
例えば、一般式（６）のジフェニルヨードニウム塩を[^１８Ｆ]Ｆ⁻と適当な溶媒（例、THF、DMF、DMSO、HMPA、Sulfone）中０〜３０分間加熱すると、[^１８Ｆ]ＰｈＦが５０％程度の収率で得られる。また、マイクロウェーブ照射下ＤＭＳＯを反応溶媒とすると、反応時間がわずか5 分でも[^１８Ｆ]ＰｈＦの収率が８０％以上に達する（ｎ＞５）。
このようにして得られる^１８Ｆ標識フルオロベンゼン環を有する放射性リガンドは、有用な生理あるいは薬理活性を有し、生体機能の解明に使用できることが期待されるところである。

本発明に係る合成法を用いることにより、様々な置換基をもち、生理あるいは薬理活性を有する放射性リガンドを対応することができる。今後、^１８Ｆ標識フルオロベンゼン環を有する放射性リガンドの製造に本標識法を利用していきたいと考えている。特に、[^１８Ｆ]ＦＤＯＰＡ、[^１８Ｆ]ＤＡＡ１１０６、[^１８Ｆ]Ｓｐｉｐｅｒｏｎｅ、[^１８Ｆ]Kｅｔａｓｅｒｉｎｅ、[^１８Ｆ]Ｆｌｕｍａｚｅｎｉｌ、[^１８Ｆ]Ｒｅｓｐｅｒｉｄｏｎｅなどの合成に使用できる。しかも、これら一連の反応は、条件が温和で、短時間で収率が高い、という利点がある。

以下に、本発明の理解を更に容易にするために、例を挙げて更に詳しく説明するが、本発明はこれに限定されるものでないことは言うまでもない。

例１：[２,５−ジメトキシベンジル）−Ｎ−（５−(^１８Ｆ)フルオロ−２−フェノキシフェニル）アセトアミド（以下[^１８Ｆ]ＤＡＡ１１０６）の製造
１−１）Ｎ−（２,５−ジメトキシベンジル）−Ｎ−（５−ブロモ−２−フェノキシフェニル）アセトアミド(510 mg、 1.12 mmol)をトルエンに溶解し、ヘキサブチル二スズ(IV)とジクロロビス(トリフェニルホスフィン)パラジウム(0)を加え４日間回流させる。トルエン除去後、反応物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン：酢酸エチル＝１：4にて溶出）にて精製し、Ｎ−（２,５−ジメトキシベンジル）−Ｎ−（５−トリブチルスタニル−２−フェノキシフェニル）アセトアミド320 mg (43%)を得た。
ＦABMS C₃₆H₄₈ＦNO₃Sn (m/z) 680.5 (m⁺+1).
４−メトキシヨードベンゼンジアセテート (350 mg、 1 mmol)をCH₃CN (5 mL)中に懸濁させ、氷冷下トシル酸−水和物(172 mg、 1 mmol)を滴下した。
滴下し終わったら、反応液中のジアセテートが溶解し、反応液の色が無色から黄色になったら、上記スズ化合物(681 mg、1 mmol)のCH₃CN溶液(1 mL)を滴下した。反応液を室温で２時間攪拌し、CH₃CNを除去した。残渣をエーテルとヘキサンなどの溶媒で結晶化を行い、ジフェニルヨードニウム塩化合物を得た。ここまでの操作はすべて窒素雰囲気下で行う。
上記ジフェニルヨードニウム塩化合物(5 mg)をDMSO(200 ml)に溶解し、 [^１８Ｆ]KＦ(5 mCi)/クリフトフィクスを入れ、80℃20 分加熱した。反応終了後、反応混合物を逆相セミ分離HPLC (YMC J’sphere ODS-H80カラム、10mmID×250mm)に注入した。移動相がCH₃CN／H₂O（６／４）で、流速が６mL/minで[^１８Ｆ]DAA1106のフラクションを取得した。本フラクションに対し、減圧下で溶媒を除去し、生理食塩水(1mL)に溶解し、0.22・m ミリポアフィルターを通過し、[^１８Ｆ]DAA1106(1.3 mCi、比放射能:4.5 Ci/μmol、放射化学純度:99％) を得ることができた。

Claims

（Ａ）一般式（１）

（式中、Ｘは、Ｂｒ又はＩであり；Ｒ^１、Ｒ^２、Ｒ^３、Ｒ^４及びＲ^５は、それぞれ同一でも異なってもよく、水素、アルキル基又はヘテロ原子を含有する官能基を表すが、但し、Ｒ^１、Ｒ^２、Ｒ^３、Ｒ^４及びＲ^５がすべて水素又はアルキル基である場合を除く）
のフェニルハライド化合物を、パラジウム触媒存在下、ヘキサブチル二スズと反応させて、
一般式（３）

（式中、Ｘ、Ｒ^１、Ｒ^２、Ｒ^３、Ｒ^４及びＲ^５は上記と同じ意味を表し、Ｒ^１０はｎ−ブチル基を表す）
のフェニルスズ化合物を得る工程、
（Ｂ）一般式（４）

（式中、Ｅはπ−電子系に対して電子を供与する官能基を表し、ｎは１、２、３、４又は５である）
のヨードベンゼン化合物を酸化し、次いでトルエンスルホン酸の一水和物と反応させることにより、一般式（５）

（式中、Ｔｓはトルエンスルホニル基を表し；Ｅ及びｎは上記と同じ意味を表す）
のヒドロキシトシルヨードベンゼン化合物を得る工程、
（Ｃ）一般式（５）のヒドロキシトシルヨードベンゼン化合物を一般式（３）のフェニルスズ化合物と反応させることにより、一般式（６）

（式中、Ｒ^１、Ｒ^２、Ｒ^３、Ｒ^４、Ｒ^５、Ｅ、ｎ、Ｔｓは上記と同じ意味を表す）
のジフェニルヨードニウム塩を得る工程、及び
（Ｄ）一般式（６）のジフェニルヨードニウム塩を［^１８Ｆ］Ｆ⁻と反応させることにより、一般式（７）

（式中、Ｒ^１、Ｒ^２、Ｒ^３、Ｒ^４、Ｒ^５は上記と同じ意味を表す）
の^１８Ｆ標識フルオロベンゼン環を有する放射性リガンドを得る工程
を含む、一般式（７）の^１８Ｆ標識フルオロベンゼン環を有する放射性リガンドの合成法。
Ｒ ^２が−ＮＲ ^６（Ｃ＝Ｏ）Ｒ ^７であり、Ｒ ^６が２，５−ジメトキシベンジル基であり、Ｒ ^７がメチル基であり、Ｒ ^３がフェノキシ基であり、Ｒ ^１、Ｒ ^４及びＲ ^５が水素である、請求項１に記載の放射性リガンドの合成法。
Ｒ ^１が−ＣＨ _２ＣＨ（ＮＨＲ）ＣＯＯＲであり、Ｒ ^３及びＲ ^４が−ＯＲ又は−ＯＣＯＲであり、ＲがＣ _1-6 アルキル基であり、Ｒ ^２及びＲ ^５が水素である、請求項１に記載の放射性リガンドの合成法。
Ｒがメチル、エチル、n-プロピル、イソプロピル、n-ブチル、イソブチル、tert-ブチル、ペンチル又はヘキシル基である、請求項３に記載の放射性リガンドの合成法。
Ｅが−ＮＲ _２、−ＯＲ、−ＮＨＣＯＲ、−ＮＨＳＯ _２Ｒ、−ＯＣＯＲ、−ＳＲ又は−Ｒ（ここでＲは水素又は炭素数１−６のアルキル基である）である、請求項１に記載の放射性リガンドの合成法。
ｎが１、２、３、４又は５である、請求項１に記載の放射性リガンドの合成法。
ｎ＝１であり、１個のＥがメトキシ基であり、Ｉに対してベンゼン環のパラ位に置換している、請求項１に記載の放射性リガンドの合成法。
ｎ＝２であり、２個のＥがいずれもメトキシ基であり、Ｉに対してベンゼン環のメタ位とパラ位に置換している、請求項１に記載の放射性リガンドの合成法。
工程（Ｂ）において、一般式（４）のヨードベンゼン化合物を過酢酸あるいはホウ酸ナトリウム（酢酸中）にて過ヨウ素化合物とする、請求項１に記載の放射性リガンドの合成法。