JP4923867B2 - フィルタ露光装置 - Google Patents
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Description
ここで、図1は、本発明の一実施の形態を示す正面図であり、図2は、ロボットハンドがチャックの切欠内に挿入された状態を示す平面図である。また、図3(a)(b)(c)は、チャック上に基板を載置するステップを示す概略図であり、図4は、チャックにおけるバックハレーションを示す概略図である。
図1に示すように、フィルタ露光装置10は、予め表面に感光材12aが塗布された基板12に対して光を照射し、感光材12aを露光するものである。このようなフィルタ露光装置10は、基板12に対して光を照射する光源20aを含む光源機構20と、光源機構20下方に配置された露光マスク16と、露光マスク16の下方に設けられ、基板12を載置するステージ機構17とを備えている。このうちステージ機構17は、フレーム11に設けられた水平レール11a上に移動可能に支持されている。
まず、チャック13上に基板12を載置する際のステップについて図3(a)(b)(c)により説明する。
このように、チャック13がアルミニウム等の金属からなる場合において生じる現象について、図4を用いて更に詳細に説明する。
以下、このような反射現象をバックハレーションともいう。
11 フレーム
12 基板
13 チャック
13A チャック上面
13a 切欠
13b 切欠以外の面
14 昇降機構
15 ベース
16 露光マスク
17 ステージ機構
18 ロボットハンド
18a 爪
19 ロボット
20 光源機構
20a 光源
21 パラボラミラー
22 コールドミラー
23 球面鏡
24 シャッタ
26 インテグレータレンズ
30、32、33 光
31 パターン
52 基板
53 チャック
54 昇降機構
55 ベース
57 ステージ機構
58 ロボットハンド
60 ピン
Claims (4)
- 基板に対して光を照射する光源を含む光源機構と、
光源機構下方に配置された露光マスクと、
露光マスクの下方に設けられ、予め感光材が塗布された基板を載置するステージ機構とを備え、
ステージ機構は、ベースと、ベース上方に設けられ、基板を載置するチャック上面を含むチャックとを有し、
チャック上面に、基板をチャック上に載置するロボットハンドが挿入される切欠が形成され、少なくともチャック上面のうち切欠以外の面は多孔質面からなることにより、チャック上面のうち切欠以外の面におけるバックハレーションを低減し、チャックの切欠に対応する箇所の感光材パターンの線幅と、チャックの切欠以外の面に対応する箇所の感光材パターンの線幅とが不均一となり感光材パターンに露光ムラが生じることを防止することを特徴とするフィルタ露光装置。 - ステージ機構のチャックは、ベースに対して上下方向移動自在に設けられていることを特徴とする請求項1に記載のフィルタ露光装置。
- チャック上面の切欠は、細長い溝からなっていることを特徴とする請求項1または2に記載のフィルタ露光装置。
- チャック上面の多孔質面の色は、黒色であることを特徴とする請求項1乃至3のいずれかに記載のフィルタ露光装置。
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