JP4919583B2 - Hydrogen peroxide barrier film and laminate using the same. - Google Patents

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本発明は、過酸化水素バリア性フィルムおよびそれを使用した積層材に関するものである。   The present invention relates to a hydrogen peroxide barrier film and a laminate using the same.

従来、各種のたれ、ソ−ス、醤油、その他等の調味料、あるいは、めんつゆ、ス−プ、その他等の飲食品を充填包装した包装製品としては、通常、プラスチックフィルム等からなる包装用材料を走行させつつこれを略半分に折り合わせ、次いで、その対向面の周辺端部をヒ−トシ−ルして袋体を形成し、しかる後、その袋体の開口部から上記のような内容物を充填しながらその開口部の端部をヒ−トシ−ルして密封して、種々の形態からなる包装製品を製造している。
上記のような充填包装方式は、生産性の向上を図るため、高速作業化が図られており、その充填包装速度は、包装用材料の走行速度にして、10m/min〜20m/min位、あるいは、それ以上にまで達しているものである。
一方、充填包装される内容物は、約80℃以上に加熱し、高温短時間で殺菌処理された後、その高温の状態で袋体内に充填され、而して、その充填される内容物の熱により、袋体自身も殺菌される、いわゆる、ホットパック充填方式が実現されているものである。
しかしながら、上記のホットパック充填方式は、高度の設備を必要としないという利点を有するが、上記のように内容物を高温に加熱すると、内容物の味、臭い等が変化するばかりではなく、充填包装後の包装製品の冷却のために、大規模な冷却装置等を必要とする等の種々の不都合を来すものである。
例えば、塩分の少ない低酸性、低塩分の内容物については、高温充填包装しても、包装製品が日持ちしないという問題点がある。
また、上記のホットパック充填方式は、当然ながら、80℃の殺菌温度と時間に耐える菌に対しては、有効な方法ではなく、包装製品の長期保存には不向きであるという問題点がある。
Conventionally, as packaging products filled with various seasonings such as sauces, sauces, soy sauce, etc., or foods and drinks such as noodle soups, soups, etc., packaging materials usually made of plastic films, etc. The bag is formed by folding the periphery of the opposite surface in half, and then forming a bag body. After that, the above-described contents are opened from the opening of the bag body. While filling the product, the end of the opening is heat sealed and sealed to produce packaged products of various forms.
In order to improve productivity, the filling and packaging method as described above is designed to work at high speed, and the filling and packaging speed is about 10 m / min to 20 m / min as the running speed of the packaging material. Or even more than that.
On the other hand, the contents to be filled and packaged are heated to about 80 ° C. or higher, sterilized at a high temperature for a short time, and then filled into the bag at the high temperature. A so-called hot pack filling method in which the bag itself is sterilized by heat is realized.
However, the above hot pack filling method has the advantage that it does not require advanced equipment, but when the contents are heated to a high temperature as described above, not only the taste and smell of the contents change, but also the filling. In order to cool the packaged product after packaging, various inconveniences such as requiring a large-scale cooling device are brought about.
For example, the low acidity and low salt content of low salt content has a problem that the packaged product does not last even if it is packed at high temperature.
In addition, the above hot pack filling method is naturally an effective method for bacteria that can withstand sterilization temperature and time of 80 ° C., and is not suitable for long-term storage of packaged products.

ところで、包装製品の長期保存が可能な滅菌方式として、高圧下、120℃前後で殺菌処理を行うレトルト殺菌処理方式が、提案されているが、この方式の場合には、包装用材料として、耐熱性を有する包装用材料を必要とする、また、高速充填包装を行うことができない、レトルト殺菌処理の包装製品の取り扱い勝手が悪い、最終的には、コストアップになる等の種々の問題点があるものである。
そこで上記のようなホットパック充填方式、レトルト殺菌処理方式等に代えて、殺菌された環境下で、殺菌処理された包装用材料を使用し、かつ、内容物を常温で充填包装する無菌充填包装方式が提案されている。
上記の無菌充填包装方式は、無菌環境下で充填包装することにより、低温充填包装が可能であり、その結果、内容物の味、臭い等の変化を最低限に抑えながら、長期保存が可能な包装製品を製造することができるという利点を有するものである。
上記の無菌充填包装方式の基本的な考え方は、まず、無菌の環境下で充填包装すること、無菌の内容物を充填包装すること、無菌の包装用材料を使用して充填包装すること等を厳守することである。
而して、上記の無菌の環境は、充填包装機内部を加熱、殺菌剤等で滅菌処理し、更に、クリ−ンエア−を導入し、外気と遮断することにより充足されるものである。
また、無菌の内容物は、クリ−ンル−ム等でス−プ、めんつゆ等の内容物を作成することにより充足されるものである。
更に、無菌の包装用材料は、無菌処理した包装用材料を無菌の環境下にある無菌充填包装機内にどのように導入するかということであり、而して、その包装用材料の導入方式としては、予め無菌状態にした包装用材料を無菌充填包装機内にセットし、これを供給する方式と、無菌充填包装機内で包装用材料を殺菌処理し、次いで、これを供給して充填包装を行うインライン方式等があり、また、包装用材料の殺菌方式としては、ガンマ線照射といった電磁波を使用して殺菌処理する方式、あるいは、過酸化水素等の殺菌効果のある薬剤を使用して殺菌処理する方式等がある。
By the way, as a sterilization method capable of long-term storage of a packaged product, a retort sterilization method in which sterilization is performed at around 120 ° C. under a high pressure has been proposed. There are various problems such as needing packaging materials having the characteristics, inability to perform high-speed filling packaging, poor handling of retort sterilized packaging products, and ultimately cost increase. There is something.
Therefore, in place of the above hot pack filling method, retort sterilization method, etc., aseptic filling packaging that uses sterilized packaging materials in a sterilized environment and fills and packs the contents at room temperature A scheme has been proposed.
The above aseptic filling packaging method enables low-temperature filling packaging by filling and packaging in an aseptic environment, and as a result, long-term storage is possible while minimizing changes in the taste and smell of the contents. It has the advantage that a packaged product can be produced.
The basic concept of the above aseptic filling and packaging method is to first fill and wrap in an aseptic environment, fill and wrap aseptic contents, fill and wrap using aseptic packaging materials, etc. It is to adhere strictly.
Thus, the aseptic environment described above is satisfied by heating the inside of the filling and packaging machine, sterilizing with a sterilizing agent, etc., and introducing clean air to shut off the outside air.
In addition, aseptic contents can be satisfied by creating contents such as soup and noodle soup with a clean room or the like.
Furthermore, aseptic packaging material is how to introduce aseptic packaging material into an aseptic filling and packaging machine in an aseptic environment, and as an introduction method of the packaging material. Sets the packaging material sterilized in advance in the aseptic filling and packaging machine and supplies it, and sterilizes the packaging material in the aseptic filling and packaging machine, then supplies it and performs filling and packaging. There are in-line methods, etc., and as a sterilization method for packaging materials, a method of sterilization using electromagnetic waves such as gamma irradiation, or a method of sterilization using chemicals having a sterilizing effect such as hydrogen peroxide Etc.

上記のガンマ線照射といった電磁波を使用して殺菌処理する方式は、通常、バッグ内に包装用材料を入れて密封し、これにガンマ−線照射処理を行い、次いで、無菌化された充填包装機内のグロ−ブボックスでバッグを開封し、しかる後、包装用材料を充填包装機に配設して供給するというものであり、ハンドリングの手間が非常にかかるというものである。
また、上記のガンマ線照射といった電磁波を使用して殺菌処理する方式は、放射線を使用するため、充填包装機とは別の設備で作業を行う必要があり、インラインで殺菌、充填包装するということは難しく、また、ガンマ線照射により包装用材料の変色や異臭が生じるという問題もあり、更に、ガンマ線照射後、バッグに穴が空いていてバッグ内に外気が入った場合、あるいは、取り扱い作業中にバック内に外気が入った場合には、殺菌処理した包装用材料は、もはや、殺菌処理の効果が喪失し、包装用材料としては使用することができないという問題があり、手間がかかると共にその取り扱い作業に慎重性を必要とし、極めてリスクの大きな方式である。
The above-mentioned method of sterilizing using electromagnetic waves such as gamma ray irradiation is usually performed by putting a packaging material in a bag and sealing it, performing gamma ray irradiation treatment on this, and then in a sterilized filling and packaging machine. The bag is opened with the glove box, and then the packaging material is disposed and supplied to the filling and packaging machine, which requires much handling.
In addition, the method of sterilization using electromagnetic waves such as the above-mentioned gamma ray irradiation uses radiation, so it is necessary to work in equipment different from the filling and packaging machine. In addition, there is a problem that the gamma ray irradiation causes discoloration and a strange odor of the packaging material.Furthermore, after gamma ray irradiation, if the bag is perforated and the outside air enters the bag, or the bag is handled during handling. If the outside air enters, the sterilized packaging material is no longer effective as a sterilizing treatment and cannot be used as a packaging material. This method is extremely risky and requires carefulness.

他方、上記の過酸化水素等の殺菌効果のある薬剤を使用して殺菌処理する方式は、例えば、包装用材料を過酸化水素槽に浸漬し、その後、包装用材料から過酸化水素液滴を除去すると共にこの包装用材料を乾燥ドラムに巻き付けて乾燥させて殺菌処理する方法が知られている(例えば、特許文献1、特許文献2等。)。
また、例えば、包装用材料の表面に、過酸化水素ガスを導入し、包装用材料の表面に、過酸化水素を凝結させ、その後、過酸化水素を乾燥させて殺菌処理する方法が知られている(例えば、特許文献3、特許文献4等参照。)。
特開平6−99949号公報。 特開平6−99950号公報。 特公昭61−9163号公報。 特開2003−118709号公報。
On the other hand, the method of sterilizing using the above-mentioned sterilizing agent such as hydrogen peroxide is, for example, immersing the packaging material in a hydrogen peroxide tank, and then dropping hydrogen peroxide droplets from the packaging material. A method of removing and sterilizing the packaging material by winding it around a drying drum is known (for example, Patent Document 1, Patent Document 2, etc.).
In addition, for example, a method is known in which hydrogen peroxide gas is introduced into the surface of the packaging material, hydrogen peroxide is condensed on the surface of the packaging material, and then the hydrogen peroxide is dried and sterilized. (For example, refer to Patent Document 3 and Patent Document 4).
JP-A-6-99949. Japanese Patent Laid-Open No. 6-99950. Japanese Patent Publication No. 61-9163. JP2003-118709A.

しかしながら、上記の特許文献1、2に係る殺菌処理方法においては、包装用材料を浸漬後、高温乾燥するために、使用に耐え得る包装用材料が限定されるという問題点があることから好ましくないものである。
例えば、包装用材料を過酸化水素槽に浸漬すると、過酸化水素により包装用材料が層間剥離(デラミ)を起こすという問題点があり、また、包装用材料を高温で乾燥することから、包装用材料が変形を起こすという問題点もあり、このようなことから、使用し得る包装用材料が、著しく制限されるという問題点がある。
また、上記の特許文献3、4に係る殺菌処理方法においては、包装用材料を過酸化水素槽に直接浸すものではなく、過酸化水素を加熱蒸気化した過酸化水素のミストを使用ことから、殺菌力が高く、かつ、必要な面にのみ必要量だけ吹き付ければ良いので、乾燥工程も低温化を可能とし、また、これにより、耐熱性等に劣る包装用材料でも使用することができ、包装用材料を設計する際に、その設計選択の自由度が向上するという利点を有するものではあるが、しかしながら、特に吸湿性を有する包装用材料や耐酸性に劣る包装用材料の場合、殺菌処理および乾燥後に、包装用材料の表面層の劣化やその表面層に過酸化水素が残留するという問題点があり、包装用材料として、充填包装適性、内容物の保護適性等に優れた包装用材料であっても、包装用材料として使用することができないという問題点がある。
However, in the sterilization treatment methods according to Patent Documents 1 and 2, since the packaging material is dipped and then dried at a high temperature, there is a problem that the packaging material that can withstand use is limited, which is not preferable. Is.
For example, if a packaging material is immersed in a hydrogen peroxide bath, there is a problem that the packaging material causes delamination due to hydrogen peroxide, and the packaging material is dried at a high temperature. There is also a problem that the material is deformed, and for this reason, there is a problem that the packaging material that can be used is significantly limited.
In the sterilization method according to Patent Documents 3 and 4, the packaging material is not directly immersed in a hydrogen peroxide tank, but hydrogen peroxide mist obtained by heating and vaporizing hydrogen peroxide is used. Since the sterilizing power is high and only the required amount needs to be sprayed only on the necessary surface, the drying process can also be performed at a low temperature, and by this, it can be used even for packaging materials with poor heat resistance, etc. When designing packaging materials, it has the advantage that the degree of freedom of design choice is improved. However, particularly in the case of packaging materials having hygroscopicity or packaging materials with poor acid resistance, sterilization treatment is performed. In addition, after drying, there is a problem that the surface layer of the packaging material is deteriorated and hydrogen peroxide remains on the surface layer. As a packaging material, the packaging material is excellent in filling and packaging suitability, content protection suitability, etc. Because , There is a problem that can not be used as a packaging material.

例えば、従来、液体小袋としては、耐突き刺し強度性、耐圧性等の観点から、基材フィルムとして、ポリアミド系樹脂フィルムが、良材として使用されるものであるが、上記のポリアミド系樹脂フィルムは、吸湿性があり、かつ、酸に弱く、簡単に加水分解するという性質があり、このため、ポリアミド系樹脂フィルムに対し、最小量の過酸化水素ミストを適用して殺菌処理しても、ポリアミド系樹脂フィルムは、表面から加水分解を起こし、外観として白化現象(白っぽくなること)を生じ、また、ポリアミド系樹脂フィルムに過酸化水素が浸透し、ポリアミド系樹脂フィルムの表面は、乾燥工程等で過酸化水素を除去できても、内部まで浸透した過酸化水素までは除去することが困難であり、過酸化水素等の殺菌剤が残留するという問題点がある。
更に、基材フィルムとして、ポリエチレンテレフタレ−トフィルム等のポリエステル系樹脂フィルムを使用する場合には、該ポリエチレンテレフタレ−トフィルム等のポリエステル系樹脂フィルムは、上記のポリアミド系樹脂フィルムとは逆に、吸湿性が小さく、かつ、アルカリには弱いが酸には強く、上記の過酸化水素等の殺菌効果のある薬剤を使用して殺菌処理する方式から見れば、上記のポリエチレンテレフタレ−トフィルム等のポリエステル系樹脂フィルムは、良材であると言えるが、しかしながら、耐突き刺し強度性は、上記のポリアミド系樹脂フィルムより弱く、上記の過酸化水素等の殺菌効果のある薬剤を使用して殺菌処理する方式においては、現状、過酸化水素ミストを吹き付ける側は、ポリエチレンテレフタレ−トフィルム等のポリエステル系樹脂フィルムを配設し、該ポリエチレンテレフタレ−トフィルム等のポリエステル系樹脂フィルムとポリアミド系樹脂フィルムとヒ−トシ−ル性樹脂層との3層を積層した3層積層構成からなる積層材を使用し、これを製袋して、無菌充填包装用小袋を製造しなければならないというものであり、従って、かなり高コストになるという問題点がある。
そこで本発明は、上記の過酸化水素等の殺菌効果のある薬剤を使用して殺菌処理する方式において、過酸化水素による殺菌処理に十分に耐え、かつ、ガスバリア性能にも優れた包装用材料を提供することである。
For example, conventionally, as a liquid pouch, from the viewpoint of puncture strength, pressure resistance, etc., a polyamide resin film is used as a good material as a base film, but the above polyamide resin film is It has hygroscopic properties, is weak against acid, and easily hydrolyzes. For this reason, even if it is sterilized by applying a minimum amount of hydrogen peroxide mist to polyamide resin film, polyamide The resin film is hydrolyzed from the surface, causing a whitening phenomenon (being whitish) as an appearance, and hydrogen peroxide permeates the polyamide resin film, and the surface of the polyamide resin film is excessively dried during a drying process or the like. Even if hydrogen oxide can be removed, it is difficult to remove hydrogen peroxide that has penetrated into the interior, and a disinfectant such as hydrogen peroxide remains. There is.
Further, when a polyester resin film such as a polyethylene terephthalate film is used as the base film, the polyester resin film such as the polyethylene terephthalate film is opposite to the above polyamide resin film, From the viewpoint of sterilization treatment using a sterilizing agent such as hydrogen peroxide, which has a low hygroscopic property and is weak against alkalis but strong against acids, the above-mentioned polyethylene terephthalate film, etc. The polyester resin film can be said to be a good material. However, the puncture strength is weaker than the polyamide resin film, and the sterilization treatment is performed using a sterilizing agent such as hydrogen peroxide. Currently, the side to which hydrogen peroxide mist is sprayed is polyethylene terephthalate fill A polyester resin film such as a polyethylene terephthalate film, a polyester resin film such as a polyethylene terephthalate film, a polyamide resin film, and a heat-sealable resin layer are laminated. There is a problem in that a laminate material must be used and a bag must be produced to produce a sterile filling and packaging sachet.
Accordingly, the present invention provides a packaging material that is sufficiently resistant to sterilization treatment with hydrogen peroxide and excellent in gas barrier performance in the method of sterilization treatment using the sterilizing agent such as hydrogen peroxide. Is to provide.

本発明者は、上記の過酸化水素等の殺菌効果のある薬剤を使用して殺菌処理する方式における上記のような問題点を改良すべく種々研究の結果、基材フィルムの片面または両面に、化学気相成長法による無機酸化物の蒸着膜、具体的には、化学気相成長法による有機酸化珪素の蒸着膜、更に具体的には、低温プラズマ化学気相成長法による有機酸化珪素の蒸着膜を設け、次いで、その蒸着膜の面に、過酸化水素ガスを導入し、その表面に、過酸化水素ミストを吹き付け、凝結させ、その後、過酸化水素を乾燥させて殺菌処理したところ、過酸化水素が、基材フィルムへの接触、吸着、浸透を阻止すると共にその表面を極めて良好に殺菌処理することができることを見出して本発明を完成したものである。   As a result of various studies to improve the above-described problems in the method of sterilization using a sterilizing agent such as hydrogen peroxide as described above, the present inventor, on one side or both sides of the base film, Inorganic oxide vapor deposition film by chemical vapor deposition, specifically, organic silicon oxide vapor deposition film by chemical vapor deposition, more specifically, organic silicon oxide vapor deposition by low temperature plasma chemical vapor deposition Next, hydrogen peroxide gas was introduced into the surface of the deposited film, and hydrogen peroxide mist was sprayed and condensed on the surface, followed by drying and sterilizing the hydrogen peroxide. The present invention has been completed by finding that hydrogen oxide can prevent contact, adsorption and permeation to the base film and can sterilize its surface very well.

すなわち、本発明は、基材フィルムの片面または両面に、過酸化水素の吸着、浸透を阻止する耐過酸化水素保護膜を設けたことを特徴とする過酸化水素バリア性フィルム、更には、本発明は、基材フィルムの片面または両面に、過酸化水素の吸着、浸透を阻する、化学気相成長法による無機酸化物の蒸着膜、具体的には、化学気相成長法による有機酸化珪素の蒸着膜、更に具体的には、低温プラズマ化学気相成長法による有機酸化珪素の蒸着膜からなる耐過酸化水素保護膜を設けたことを特徴とする過酸化水素バリア性フィルム、および、それを使用した積層材に関するものである。   That is, the present invention provides a hydrogen peroxide barrier film characterized in that a hydrogen peroxide-resistant protective film that prevents adsorption and permeation of hydrogen peroxide is provided on one side or both sides of a base film. The invention relates to an inorganic oxide vapor-deposited film formed by chemical vapor deposition that inhibits the adsorption and permeation of hydrogen peroxide on one or both sides of a base film, specifically, organic silicon oxide formed by chemical vapor deposition. A hydrogen peroxide barrier film characterized by providing a hydrogen peroxide-resistant protective film comprising a vapor-deposited film of organic silicon oxide by a low-temperature plasma chemical vapor deposition method, and more specifically, It is related with the laminated material which uses.

本発明は、過酸化水素等の殺菌効果のある薬剤を使用して殺菌処理する方式において、過酸化水素ミストを吹き付ける面に、耐過酸化水素保護膜として、化学気相成長法による無機酸化物の蒸着膜、具体的には、化学気相成長法による有機酸化珪素の蒸着膜、更に具体的には、低温プラズマ化学気相成長法による有機酸化珪素の蒸着膜を設けることにより、過酸化水素の基材フィルムへの接触、吸着、浸透等を阻害し、これによって、包装用材料の性能を損ねることなく、その表面を極めて良好に殺菌処理し得ることができるというものである。
これにより、従来、ポリアミド系樹脂フィルムのように、過酸化水素等の殺菌効果のある薬剤を使用して殺菌処理する方式は不向きであっものを、その適用を可能とするものである。
また、本発明において、包装用材料等の層間剥離(デラミ)等の現象も認められず、更に、その変形等の現象も認められず、しかも、耐過酸化水素保護膜としての、化学気相成長法による無機酸化物の蒸着膜、具体的には、化学気相成長法による有機酸化珪素の蒸着膜、更に具体的には、低温プラズマ化学気相成長法による有機酸化珪素の蒸着膜は、それ自身が、酸素ガス、水蒸気等の透過を阻止するガスバリア性を有するものであることから、そのガスバリア性と共に耐過酸化水素保護膜による保護性能により、内容物の変質等も防止し、長期間の保存性等に優れた包装製品を製造し得るものである。
The present invention relates to an inorganic oxide obtained by chemical vapor deposition as a hydrogen peroxide-resistant protective film on a surface to which hydrogen peroxide mist is sprayed in a method of sterilizing using a sterilizing agent such as hydrogen peroxide. By depositing an organic silicon oxide vapor-deposited film by chemical vapor deposition, more specifically, by depositing an organic silicon oxide vapor-deposited film by low-temperature plasma chemical vapor deposition. This prevents the contact, adsorption, permeation, etc. of the substrate film, thereby enabling the surface to be sterilized very well without impairing the performance of the packaging material.
As a result, conventionally, a method of sterilizing using a chemical having a sterilizing effect such as hydrogen peroxide, such as a polyamide-based resin film, is unsuitable, and can be applied.
Further, in the present invention, phenomena such as delamination (delamination) of packaging materials and the like are not recognized, and further, phenomena such as deformation are not recognized, and a chemical vapor phase as a hydrogen peroxide resistant protective film is also observed. An inorganic oxide vapor deposition film by a growth method, specifically, an organic silicon oxide vapor deposition film by a chemical vapor deposition method, more specifically, an organic silicon oxide vapor deposition film by a low temperature plasma chemical vapor deposition method, Since it itself has a gas barrier property that blocks the permeation of oxygen gas, water vapor, etc., the protective properties of the hydrogen peroxide-resistant protective film as well as its gas barrier property prevent the contents from being altered, etc. It is possible to produce a packaged product having excellent storage stability.

上記の本発明について以下に図面等を用いて更に詳しく説明する。
まず、本発明に係る過酸化水素バリア性フィルムの構成についてその一二例を例示して図面を用いて説明すると、図1および図2は、本発明に係る過酸化水素バリア性フィルムの構成についてその一二例の層構成を示す概略的断面図であり、図3および図4は、上記の図1および図2に示す本発明に係る過酸化水素バリア性フィルムを使用して製造した積層材についてその一二例の層構成を示す概略的断面図であり、図5は、図3に示す積層材を使用して製袋した包装用袋についてその一例の構成を示す概略的斜視図であり、図6は、上記の図5に示す本発明に係る包装用袋内に内容物を充填包装してなる包装製品についてその一例の構成を示す概略的斜視図である。
Hereinafter, the present invention will be described in more detail with reference to the drawings.
First, the structure of the hydrogen peroxide barrier film according to the present invention will be described with reference to the drawings by illustrating two examples. FIGS. 1 and 2 show the structure of the hydrogen peroxide barrier film according to the present invention. FIG. 3 and FIG. 4 are schematic cross-sectional views showing the layer structure of 12 examples, and FIG. 3 and FIG. 4 are laminates manufactured using the hydrogen peroxide barrier film according to the present invention shown in FIG. 1 and FIG. FIG. 5 is a schematic perspective view showing the configuration of one example of a packaging bag made using the laminated material shown in FIG. 3. FIG. 6 is a schematic perspective view showing an example of the configuration of a packaged product obtained by filling and packaging the contents in the packaging bag according to the present invention shown in FIG.

まず、本発明に係る過酸化水素バリア性フィルムAは、図1および図2に示すように、基材フィルム1の片面(図1)または両面(図2)に、過酸化水素の吸着、浸透を阻止する耐過酸化水素保護膜2を設けた構成、具体的には、基材フィルム1の片面(図1)または両面(図2)に、過酸化水素の吸着、浸透を阻する、化学気相成長法による無機酸化物の蒸着膜2a、更に具体的には、化学気相成長法による有機酸化珪素の蒸着膜2b、更にまた具体的には、低温プラズマ化学気相成長法による有機酸化珪素の蒸着膜2cからなる耐過酸化水素保護膜2を設けた構成からなることを基本構造とするものである。   First, as shown in FIG. 1 and FIG. 2, the hydrogen peroxide barrier film A according to the present invention adsorbs and penetrates hydrogen peroxide on one side (FIG. 1) or both sides (FIG. 2) of the base film 1. A structure provided with a hydrogen peroxide-resistant protective film 2 that prevents hydrogen peroxide, specifically, a chemical that prevents adsorption and permeation of hydrogen peroxide on one side (FIG. 1) or both sides (FIG. 2) of the base film 1 Inorganic oxide vapor-deposited film 2a by vapor deposition, more specifically, organic silicon oxide vapor-deposited film 2b by chemical vapor deposition, and more specifically, organic oxidation by low-temperature plasma chemical vapor deposition The basic structure consists of a structure provided with a hydrogen peroxide-resistant protective film 2 made of a silicon vapor-deposited film 2c.

次に、本発明に係る過酸化水素バリア性フィルムを使用した積層材について例示すると、上記の図1に示す本発明に係る過酸化水素バリア性フィルムを使用した例で説明すると、図3に示すように、上記の図1に示す本発明に係る過酸化水素バリア性フィルムAを使用する場合には、その基材フィルム1の他方の面に、例えば、アンカ−コ−ト剤によるアンカ−コ−ト剤層、更に、ポリオレフィン系樹脂等を溶融押出した溶融押出樹脂層、あるいは、例えば、ラミネ−ト用接着剤によるラミネ−ト用接着剤層等(図示せず)を介して、例えば、ヒ−トシ−ル性樹脂層3を溶融押出ラミネ−ト法あるいはドライラミネ−ト法等により積層して積層材Bを製造することができる。   Next, an example of a laminated material using the hydrogen peroxide barrier film according to the present invention will be described with reference to the example using the hydrogen peroxide barrier film according to the present invention shown in FIG. Thus, when the hydrogen peroxide barrier film A according to the present invention shown in FIG. 1 is used, on the other surface of the base film 1, for example, an anchor coat with an anchor coat agent is used. -A melt-extruded resin layer obtained by melt-extruding a polyolefin resin or the like, or a laminating adhesive layer (not shown) by a laminating adhesive, for example, The laminate B can be manufactured by laminating the heat-sealable resin layer 3 by a melt extrusion laminating method or a dry laminating method.

あるいは、本発明に係る過酸化水素バリア性フィルムを使用した積層材について例示すると、上記の図2に示す本発明に係る過酸化水素バリア性フィルムを使用した例で説明すると、図4に示すように、上記の図2に示す本発明に係る過酸化水素バリア性フィルムAを使用する場合には、その耐過酸化水素保護膜2の一方の面に、例えば、アンカ−コ−ト剤によるアンカ−コ−ト剤層、更に、ポリオレフィン系樹脂等を溶融押出した溶融押出樹脂層、あるいは、例えば、ラミネ−ト用接着剤によるラミネ−ト用接着剤層等(図示せず)を介して、例えば、ヒ−トシ−ル性樹脂層3を溶融押出ラミネ−ト法あるいはドライラミネ−ト法等により積層して積層材B1を製造することができる。
上記に挙げた例は、本発明に係る過酸化水素バリア性フィルム、および、それを使用した積層材についてその一二例の例示であり、本発明は、これによって限定されるものではなく、例えば、本発明においては、図示しないが、更に、その使用目的、充填包装する内容物、流通経路、販売形態、用途等によって、他の基材を任意に積層して、種々の形態の積層材を設計して製造することができるものである。
Alternatively, the laminate using the hydrogen peroxide barrier film according to the present invention will be illustrated as an example using the hydrogen peroxide barrier film according to the present invention shown in FIG. 2 as shown in FIG. In addition, when the hydrogen peroxide barrier film A according to the present invention shown in FIG. 2 is used, on one surface of the hydrogen peroxide resistant protective film 2, for example, an anchor by an anchor coating agent is used. -A coating agent layer, a melt-extruded resin layer obtained by melt-extruding a polyolefin-based resin, or a laminating adhesive layer (not shown) with a laminating adhesive, for example, for example, heat - tosyl - Le resin layer 3 to melt extrusion lamination - DOO method or Dorairamine - to provide a laminated material B 1 was laminated by preparative method.
The above-mentioned examples are examples of the hydrogen peroxide barrier film according to the present invention and a laminate using the film, and the present invention is not limited thereto, for example, In the present invention, although not shown in the drawing, other base materials are arbitrarily laminated depending on the purpose of use, contents to be packed and packed, distribution channel, sales form, application, etc. It can be designed and manufactured.

次に、本発明において、上記のような本発明に係る過酸化水素バリア性フィルムを使用した積層材を使用して製袋してなる本発明に係る包装用袋の構成について説明すると、かかる包装用袋としては、例えば、上記の図3に示す積層材Bを使用して製袋した包装用袋を例示して説明すると、図5に示すように、上記の積層材B、Bを2枚用意し、その最内層に位置するヒ−トシ−ル性樹脂層3、3の面を対向させて重ね合わせ、しかる後、その外周周辺の端部の三方をヒ−トシ−ルしてヒ−トシ−ル部11、11、11を形成すると共に開口部12を形成して、本発明に係る三方シ−ル型の液体充填包装用袋Cを製造することができる。   Next, in the present invention, the configuration of the packaging bag according to the present invention formed by using the laminated material using the hydrogen peroxide barrier film according to the present invention as described above will be described. As a bag, for example, a packaging bag made using the laminated material B shown in FIG. 3 will be described as an example. As shown in FIG. 5, two laminated materials B and B are used. Prepare and heat-seal resin layers 3 and 3 positioned in the innermost layer facing each other and overlap each other, and then heat-seal the three ends of the outer periphery and heat The three-side seal type liquid-filled packaging bag C according to the present invention can be manufactured by forming the toseal portions 11, 11, and 11 and forming the opening portion 12.

而して、本発明においては、図6に示すように、上記で製造した液体充填包装用袋Cを使用し、その開口部12から、例えば、醤油、ソ−ス、その他等の液状ないし粘体状の調味料等の内容物13を充填し、次いで、その開口部12をヒ−トシ−ルして上部ヒ−トシ−ル部14を形成して、本発明にかかる液体小袋包装体Dを製造することができる。
なお、上記の図6において、15は、例えば、IノッチあるいはVノッチ等の開封用切れ目を表すものである。
上記の例示は、本発明にかかる液体充填包装用袋、あるいは、液体小袋包装体についてその一例を例示したものであり、本発明は、これによって限定されるものではなく、例えば、液体充填包装用袋の形態としては、図示しないが、例えば、ピロ−包装形態、ガセット包装形態、スタンディング(自立性)パウチ包装形態、その他等の内容物に合った包装用袋形態を取り得るものである。
また、本発明においては、図示しないが、上記の図4に示す積層材を使用し、上記と同様にして、上記と同様に、種々の形態からなる包装用袋を製造し得るものである。
Thus, in the present invention, as shown in FIG. 6, the liquid-filled packaging bag C produced as described above is used, and from the opening 12, for example, soy sauce, sauce, etc. A liquid sachet package D according to the present invention is formed by filling a content 13 such as a seasoning and then heat-sealing the opening 12 to form an upper heat-seal portion 14. Can be manufactured.
In FIG. 6, reference numeral 15 denotes an opening notch such as an I notch or a V notch.
The above exemplification is an example of the liquid-filled packaging bag or the liquid sachet package according to the present invention, and the present invention is not limited thereto, for example, for liquid-filled packaging. Although not illustrated, the form of the bag may be, for example, a packaging bag form suitable for the contents such as a pillow packaging form, a gusset packaging form, a standing (self-supporting) pouch packaging form, and the like.
Further, in the present invention, although not shown in the drawings, the packaging material shown in FIG. 4 is used, and packaging bags having various forms can be manufactured in the same manner as described above.

次に、本発明において、上記のような本発明に係る過酸化水素バリア性フィルム、それを使用した積層材、包装用袋等を構成する材料、製造法等について説明すると、かかる材料、製造法等としては、種々の材料、製造法等を使用することができる。
まず、本発明において、本発明に係る過酸化水素バリア性フィルム、積層材、包装用袋等を形成する基材フィルムについて説明すると、かかる基材フィルムとしては、これが、本発明に係る過酸化水素バリア性フィルム等を構成する基本素材となると共にこれに耐過酸化水素保護膜を設けることから、機械的、物理的、化学的、その他等において優れた性質を有し、特に、強度を有して強靱であり、かつ、耐熱性を有し、耐過酸化水素保護膜を形成する条件等に耐え、耐過酸化水素保護膜の特性を損なうことなく良好に保持し得る樹脂のフィルムないしシ−トを使用することができる。
具体的には、本発明において、基材フィルムとしては、例えば、ポリエチレン系樹脂、ポリプロピレン系樹脂、環状ポリオレフィン系樹脂、フッ素系樹脂、ポリスチレン系樹脂、アクリロニトリル−スチレン共重合体(AS樹脂)、アクリロニトリルル−ブタジエン−スチレン共重合体(ABS樹脂)、ポリ塩化ビニル系樹脂、フッ素系樹脂、ポリ(メタ)アクリル系樹脂、ポリカ−ボネ−ト系樹脂、ポリエチレンテレフタレ−ト、ポリエチレンナフタレ−ト等のポリエステル系樹脂、各種のナイロン等のポリアミド系樹脂、ポリイミド系樹脂、ポリアミドイミド系樹脂、ポリアリ−ルフタレ−ト系樹脂、シリコ−ン系樹脂、ポリスルホン系樹脂、ポリフェニレンスルフィド系樹脂、ポリエ−テルスルホン系樹脂、ポリウレタン系樹脂、アセタ−ル系樹脂、セルロ−ス系樹脂、その他等の各種の樹脂のフィルムないしシ−トを使用することができる。
なお、本発明においては、特に、ポリプロピレン系樹脂、ポリエステル系樹脂、または、ポリアミド系樹脂のフィルムないしシ−トを使用することが好ましいものである。
Next, in the present invention, the hydrogen peroxide barrier film according to the present invention as described above, a laminated material using the film, a material constituting a packaging bag, a manufacturing method, and the like will be described. For example, various materials and manufacturing methods can be used.
First, in the present invention, the base film forming the hydrogen peroxide barrier film, laminated material, packaging bag and the like according to the present invention will be described. As the base film, this is the hydrogen peroxide according to the present invention. Since it is a basic material that constitutes a barrier film, etc. and is provided with a hydrogen peroxide-resistant protective film, it has excellent properties in mechanical, physical, chemical, etc., especially with strength Resin film or sheet that is strong and tough, withstands the conditions for forming a hydrogen peroxide-resistant protective film, etc., and can be maintained well without impairing the properties of the hydrogen peroxide-resistant protective film. Can be used.
Specifically, in the present invention, as the base film, for example, polyethylene resin, polypropylene resin, cyclic polyolefin resin, fluorine resin, polystyrene resin, acrylonitrile-styrene copolymer (AS resin), acrylonitrile Ru-butadiene-styrene copolymer (ABS resin), polyvinyl chloride resin, fluorine resin, poly (meth) acrylic resin, polycarbonate resin, polyethylene terephthalate, polyethylene naphthalate Polyester resins such as nylon, various polyamide resins such as nylon, polyimide resins, polyamideimide resins, polyaryl phthalate resins, silicone resins, polysulfone resins, polyphenylene sulfide resins, polyethersulfones Resin, polyurethane resin, AS - Le resins, cellulose - scan resin, various resins other such film or sheet - may be used and.
In the present invention, it is particularly preferable to use a film or sheet of polypropylene resin, polyester resin, or polyamide resin.

本発明において、上記の各種の樹脂のフィルムないしシ−トとしては、例えば、上記の各種の樹脂の1種ないしそれ以上を使用し、押し出し法、キャスト成形法、Tダイ法、切削法、インフレ−ション法、その他等の製膜化法を用いて、上記の各種の樹脂を単独で製膜化する方法、あるいは、2種以上の各種の樹脂を使用して多層共押し出し製膜化する方法、更には、2種以上の樹脂を使用し、製膜化する前に混合して製膜化する方法等により、各種の樹脂のフィルムないしシ−トを製造し、更に、要すれば、例えば、テンタ−方式、あるいは、チュ−ブラ−方式等を利用して1軸ないし2軸方向に延伸してなる各種の樹脂のフィルムないしシ−トを使用することができる。
本発明において、各種の樹脂のフィルムないしシ−トの膜厚としては、6〜100μm位、より好ましくは、9〜50μm位が望ましい。
In the present invention, as the above-mentioned various resin films or sheets, for example, one or more of the above-mentioned various resins are used, and an extrusion method, a cast molding method, a T-die method, a cutting method, an inflation method are used. -A method of forming the above-mentioned various resins independently using a film-forming method such as an ionization method or the like, or a method of forming a multilayer co-extrusion film using two or more types of various resins In addition, by using two or more kinds of resins, a film or sheet of various resins is manufactured by a method of mixing and forming before forming a film, and if necessary, for example, Various resin films or sheets formed by stretching in a uniaxial or biaxial direction using a tenter system, a tubular system, or the like can be used.
In the present invention, the film thickness of various resin films or sheets is preferably about 6 to 100 μm, more preferably about 9 to 50 μm.

なお、上記の各種の樹脂の1種ないしそれ以上を使用し、その製膜化に際して、例えば、フィルムの加工性、耐熱性、耐候性、機械的性質、寸法安定性、抗酸化性、滑り性、離形性、難燃性、抗カビ性、電気的特性、強度、その他等を改良、改質する目的で、種々のプラスチック配合剤や添加剤等を添加することができ、その添加量としては、極く微量から数十%まで、その目的に応じて、任意に添加することができる。
上記において、一般的な添加剤としては、例えば、滑剤、架橋剤、酸化防止剤、紫外線吸収剤、光安定剤、充填剤、帯電防止剤、滑剤、アンチブロッキング剤、染料、顔料等の着色剤、その他等を任意に使用することができ、更には、改質用樹脂等も使用することがてきる。
It should be noted that one or more of the above-mentioned various resins are used, and in forming the film, for example, film processability, heat resistance, weather resistance, mechanical properties, dimensional stability, antioxidant properties, slipperiness Various plastic compounding agents and additives can be added for the purpose of improving and modifying mold release properties, flame retardancy, antifungal properties, electrical properties, strength, etc. Can be optionally added from a very small amount to several tens of percent depending on the purpose.
In the above, general additives include, for example, colorants such as lubricants, crosslinking agents, antioxidants, ultraviolet absorbers, light stabilizers, fillers, antistatic agents, lubricants, antiblocking agents, dyes, pigments and the like. Others can be arbitrarily used, and further, a modifying resin or the like can be used.

また、本発明において、上記の各種の樹脂のフィルムないしシ−トの表面には、後述する耐過酸化水素保護膜との密接着性等を向上させるために、必要に応じて、予め、所望の表面処理層を設けることができるものである。
本発明において、上記の表面処理層としては、例えば、コロナ放電処理、オゾン処理、酸素ガス若しくは窒素ガス等を用いた低温プラズマ処理、グロ−放電処理、化学薬品等を用いて処理する酸化処理、その他等の前処理を任意に施し、例えば、コロナ処理層、オゾン処理層、プラズマ処理層、酸化処理層、その他等を形成して設けることができる。
上記の表面前処理は、各種の樹脂のフィルムないしシ−トと後述する過酸化水素保護膜との密接着性等を改善するための方法として実施するものであるが、上記の密接着性を改善する方法として、その他、例えば、各種の樹脂のフィルムないしシ−トの表面に、予め、プライマ−コ−ト剤層、アンダ−コ−ト剤層、アンカ−コ−ト剤層、接着剤層、あるいは、蒸着アンカ−コ−ト剤層等を任意に形成して、表面処理層とすることもできる。
上記の前処理のコ−ト剤層としては、例えば、ポリエステル系樹脂、ポリアミド系樹脂、ポリウレタン系樹脂、エポキシ系樹脂、フェノ−ル系樹脂、(メタ)アクリル系樹脂、ポリ酢酸ビニル系樹脂、ポリエチレンあるいはポリプロピレン等のポリオレフィン系樹脂あるいはその共重合体ないし変性樹脂、セルロ−ス系樹脂、その他等をビヒクルの主成分とする樹脂組成物を使用することができる。
In the present invention, the surface of each of the above-mentioned various resin films or sheets may be preliminarily desired as necessary in order to improve close adhesion with a hydrogen peroxide resistant protective film described later. The surface treatment layer can be provided.
In the present invention, as the surface treatment layer, for example, corona discharge treatment, ozone treatment, low temperature plasma treatment using oxygen gas or nitrogen gas, glow discharge treatment, oxidation treatment using chemicals, etc., For example, a corona treatment layer, an ozone treatment layer, a plasma treatment layer, an oxidation treatment layer, or the like can be formed and provided by optionally performing other pretreatments.
The surface pretreatment is carried out as a method for improving the close adhesion between various resin films or sheets and a hydrogen peroxide protective film described later. As other methods for improvement, for example, on the surface of various resin films or sheets, a primer coat agent layer, an undercoat agent layer, an anchor coat agent layer, an adhesive, in advance. A surface treatment layer can also be formed by arbitrarily forming a layer or a deposition anchor coating agent layer.
Examples of the pretreatment coating agent layer include polyester resins, polyamide resins, polyurethane resins, epoxy resins, phenol resins, (meth) acrylic resins, polyvinyl acetate resins, A resin composition containing a polyolefin resin such as polyethylene or polypropylene, or a copolymer or modified resin thereof, a cellulose resin, or the like as a main component of the vehicle can be used.

次に、本発明において、本発明に係る過酸化水素バリア性フィルム、積層材、包装用袋等を形成する耐過酸化水素保護膜について説明すると、かかる耐過酸化水素保護膜としては、例えば、化学気相成長法を用いて、無機酸化物の蒸着膜の1層からなる単層膜あるいは2層以上からなる多層膜または複合膜を形成して製造することができるものである。   Next, in the present invention, the hydrogen peroxide barrier protective film for forming the hydrogen peroxide barrier film, laminated material, packaging bag and the like according to the present invention will be described. A chemical vapor deposition method can be used to form a single-layer film composed of one layer of an inorganic oxide vapor-deposited film, or a multilayer film or a composite film composed of two or more layers.

本発明において、上記の化学気相成長法による無機酸化物の蒸着膜について更に説明すると、かかる化学気相成長法による無機酸化物の蒸着膜としては、例えば、プラズマ化学気相成長法、熱化学気相成長法、光化学気相成長法等の化学気相成長法(Chemical Vapor Deposition法、CVD法)等を用いて無機酸化物の蒸着膜を形成することができる。
本発明においては、具体的には、基材フィルムの一方の面に、有機珪素化合物等の蒸着用モノマ−ガスを原料とし、キャリヤ−ガスとして、アルゴンガス、ヘリウムガス等の不活性ガスを使用し、更に、酸素供給ガスとして、酸素ガス等を使用し、低温プラズマ発生装置等を利用する低温プラズマ化学気相成長法を用いて有機酸化珪素等の無機酸化物の蒸着膜を形成することができる。
上記において、低温プラズマ発生装置としては、例えば、高周波プラズマ、パルス波プラズマ、マイクロ波プラズマ等の発生装置を使用することがてき、而して、本発明においては、高活性の安定したプラズマを得るためには、高周波プラズマ方式による発生装置を使用することが望ましい。
In the present invention, the inorganic oxide vapor-deposited film by the chemical vapor deposition method will be further described. Examples of the inorganic oxide vapor-deposited film by the chemical vapor deposition method include, for example, plasma chemical vapor deposition and thermochemistry. An inorganic oxide vapor-deposited film can be formed by using a chemical vapor deposition method (chemical vapor deposition method, CVD method) such as a vapor deposition method or a photochemical vapor deposition method.
In the present invention, specifically, a vapor deposition monomer gas such as an organosilicon compound is used as a raw material on one surface of a base film, and an inert gas such as argon gas or helium gas is used as a carrier gas. Furthermore, it is possible to form a vapor-deposited film of an inorganic oxide such as organic silicon oxide using a low temperature plasma chemical vapor deposition method using an oxygen gas or the like as an oxygen supply gas and using a low temperature plasma generator or the like. it can.
In the above, for example, a high-frequency plasma, a pulse wave plasma, a microwave plasma, or the like can be used as the low-temperature plasma generator. Thus, in the present invention, a highly active and stable plasma is obtained. For this purpose, it is desirable to use a high-frequency plasma generator.

具体的に、上記の低温プラズマ化学気相成長法による有機酸化珪素等の無機酸化物の蒸着膜の形成法についてその一例を例示して説明すると、図7は、上記のプラズマ化学気相成長法による有機酸化珪素等の無機酸化物の蒸着膜の形成法についてその概要を示す低温プラズマ化学気相成長装置の概略的構成図である。
本発明においては、図7に示すように、プラズマ化学気相成長装置21の真空チャンバ−22内に配置された巻き出しロ−ル23から基材フィルム1を繰り出し、更に、該基材フィルム1を、補助ロ−ル24を介して所定の速度で冷却・電極ドラム25周面上に搬送する。
而して、本発明においては、ガス供給装置26、27および、原料揮発供給装置28等から酸素ガス、不活性ガス、有機珪素化合物等の蒸着用モノマ−ガス、その他等を供給し、それらからなる蒸着用混合ガス組成物を調整しなから原料供給ノズル29を通して真空チャンバ−22内に該蒸着用混合ガス組成物を導入し、そして、上記の冷却・電極ドラム25周面上に搬送された基材フィルム1の上に、グロ−放電プラズマ30によってプラズマを発生させ、これを照射して、有機酸化珪素等の無機酸化物の蒸着膜を製膜化する。
本発明においては、その際に、冷却・電極ドラム25は、真空チャンバ−22の外に配置されている電源31から所定の電力が印加されており、また、冷却・電極ドラム25の近傍には、マグネット32を配置してプラズマの発生が促進されている。
次いで、上記で有機酸化珪素等の無機酸化物の蒸着膜を形成した基材フィルム1は、補助ロ−ル33を介して巻き取りロ−ル34に巻き取って、本発明にかかるプラズマ化学気相成長法による有機酸化珪素等の無機酸化物の蒸着膜を形成することができる。
なお、図中、35は、真空ポンプを表す。
上記の例示は、その一例を例示するものであり、これによって本発明は限定されるものではないことは言うまでもないことである。
図示しないが、本発明においては、有機酸化珪素等の無機酸化物の蒸着膜としては、有機酸化珪素等の無機酸化物の蒸着膜の1層だけではなく、2層あるいはそれ以上を積層した多層膜の状態でもよく、また、使用する材料も1種または2種以上の混合物で使用し、また、異種の材質で混合した無機酸化物の蒸着膜を構成することもでき、また、上記と同様にして、基材フィルムの片面のみならずその両面にも、有機酸化珪素等の無機酸化物の蒸着膜を形成し得るものである。
Specifically, an example of a method for forming a deposited film of an inorganic oxide such as organic silicon oxide by the low temperature plasma chemical vapor deposition method will be described as an example. FIG. 7 shows the plasma chemical vapor deposition method described above. It is a schematic block diagram of the low temperature plasma chemical vapor deposition apparatus which shows the outline | summary about the formation method of the vapor-deposited film | membrane of inorganic oxides, such as organic silicon oxide, by the.
In the present invention, as shown in FIG. 7, the base film 1 is fed out from the unwinding roll 23 arranged in the vacuum chamber 22 of the plasma chemical vapor deposition apparatus 21, and further, the base film 1 Is conveyed onto the circumferential surface of the cooling / electrode drum 25 through the auxiliary roll 24 at a predetermined speed.
Thus, in the present invention, oxygen gas, inert gas, a monomer gas for vapor deposition such as an organosilicon compound, and the like are supplied from the gas supply devices 26 and 27 and the raw material volatilization supply device 28, and the like. The vapor deposition mixed gas composition was introduced into the vacuum chamber 22 through the raw material supply nozzle 29 without adjusting the vapor deposition mixed gas composition, and was conveyed onto the cooling / electrode drum 25 peripheral surface. Plasma is generated by the glow discharge plasma 30 on the base film 1 and irradiated to form an inorganic oxide vapor deposition film such as organic silicon oxide.
In the present invention, at that time, the cooling / electrode drum 25 is applied with a predetermined power from the power source 31 disposed outside the vacuum chamber 22, and the cooling / electrode drum 25 is disposed in the vicinity of the cooling / electrode drum 25. The generation of plasma is promoted by arranging the magnet 32.
Next, the base film 1 on which the vapor-deposited film of inorganic oxide such as organic silicon oxide is formed is wound on the take-up roll 34 via the auxiliary roll 33, and the plasma chemical vapor according to the present invention. A vapor deposition film of an inorganic oxide such as organic silicon oxide can be formed by a phase growth method.
In the figure, 35 represents a vacuum pump.
The above exemplification is an example, and it is needless to say that the present invention is not limited thereby.
Although not shown in the drawings, in the present invention, the deposited film of inorganic oxide such as organic silicon oxide is not limited to one layer of deposited inorganic oxide such as organic silicon oxide, but a multilayer in which two or more layers are laminated. It may be in the form of a film, and the material used may be one or a mixture of two or more, and an inorganic oxide vapor-deposited film mixed with different materials may also be configured. Thus, a vapor deposition film of an inorganic oxide such as organic silicon oxide can be formed not only on one side of the substrate film but also on both sides thereof.

上記において、真空チャンバ−内を真空ポンプにより減圧し、真空度1×10-1〜1×10-8Torr位、好ましくは、真空度1×10-3〜1×10-7Torr位に調製することが望ましいものである。
また、原料揮発供給装置においては、原料である有機珪素化合物を揮発させ、ガス供給装置から供給される酸素ガス、不活性ガス等と混合させ、この混合ガスを原料供給ノズルを介して真空チャンバ−内に導入されるものである。
この場合、混合ガス中の有機珪素化合物の含有量は、1〜40%位、酸素ガスの含有量は、10〜70%位、不活性ガスの含有量は、10〜60%位の範囲とすることができ、例えば、有機珪素化合物と酸素ガスと不活性ガスとの混合比を1:6:5〜1:17:14程度とすることができる。
一方、冷却・電極ドラムには、電源から所定の電圧が印加されているため、真空チャンバ−内の原料供給ノズルの開口部と冷却・電極ドラムとの近傍でグロ−放電プラズマが生成され、このグロ−放電プラズマは、混合ガスなかの1つ以上のガス成分から導出されるものであり、この状態において、基材フィルムを一定速度で搬送させ、グロ−放電プラブマによって、冷却・電極ドラム周面上の基材フィルムの上に、有機酸化珪素等の無機酸化物の蒸着膜を形成することができるものである。
なお、このときの真空チャンバ−内の真空度は、1×10-1〜1×10-4Torr位、好ましくは、真空度1×10-1〜1×10-2Torr位に調製することが望ましく、また、基材フィルムの搬送速度は、10〜300m/分位、好ましくは、50〜150m/分位に調製することが望ましいものである。
In the above, the inside of the vacuum chamber is depressurized by a vacuum pump and adjusted to a vacuum degree of 1 × 10 −1 to 1 × 10 −8 Torr, preferably a vacuum degree of 1 × 10 −3 to 1 × 10 −7 Torr. It is desirable to do.
In the raw material volatilization supply device, the organic silicon compound as the raw material is volatilized and mixed with oxygen gas, inert gas, etc. supplied from the gas supply device, and this mixed gas is supplied to the vacuum chamber through the raw material supply nozzle. It is introduced in the inside.
In this case, the content of the organosilicon compound in the mixed gas is about 1 to 40%, the content of oxygen gas is about 10 to 70%, and the content of inert gas is about 10 to 60%. For example, the mixing ratio of the organosilicon compound, oxygen gas, and inert gas can be about 1: 6: 5 to 1:17:14.
On the other hand, since a predetermined voltage is applied to the cooling / electrode drum from the power source, glow discharge plasma is generated in the vicinity of the opening of the raw material supply nozzle in the vacuum chamber and the cooling / electrode drum. The glow discharge plasma is derived from one or more gas components in the mixed gas. In this state, the substrate film is conveyed at a constant speed, and the glow discharge plasma is used to cool the electrode drum peripheral surface. A vapor-deposited film of an inorganic oxide such as organic silicon oxide can be formed on the upper substrate film.
At this time, the degree of vacuum in the vacuum chamber should be adjusted to 1 × 10 −1 to 1 × 10 −4 Torr, preferably to 1 × 10 −1 to 1 × 10 −2 Torr. In addition, it is desirable that the conveying speed of the base film is adjusted to about 10 to 300 m / min, preferably about 50 to 150 m / min.

また、上記のプラズマ化学気相成長装置において、有機酸化珪素等の無機酸化物の蒸着膜の形成は、基材フィルムの上に、プラズマ化した原料ガスを酸素ガスで酸化しながらSiOX の形で薄膜状に形成されるので、当該形成される有機酸化珪素等の無機酸化物の蒸着膜は、緻密で、隙間の少ない、可撓性に富む連続層となるものであり、従って、有機酸化珪素等の無機酸化物の蒸着膜は、過酸化水素等の殺菌効果のある薬剤を使用して殺菌処理する方式において、過酸化水素ミストを吹き付ける面に、耐過酸化水素保護膜として作用じ、過酸化水素の基材フィルムへの接触、吸着、浸透等を阻害し、これによって、包装用材料の性能を損ねることなく、その表面を極めて良好に殺菌処理し得ることができるというものである。
また、上記の有機酸化珪素等の無機酸化物の蒸着膜は、酸素ガス、水蒸気等の透過を阻止するバリア性に優れ、従来の真空蒸着法等によって形成される無機系の酸化珪素等の無機酸化物の蒸着膜と比較して、耐過酸化水素保護膜として作用すると共にガスバリア性としても作用し、その性能は、はるかに高いものとなり、薄い膜厚でも十分にその機能を奏するとができるものである。
また、本発明においては、蒸着と同時に酸素プラズマにより基材フィルムの表面が、清浄化され、基材フィルムの表面に、極性基やフリ−ラジカル等が発生するので、形成される有機酸化珪素等の無機酸化物の蒸着膜と基材フィルムとの密接着性が高いものとなるという利点を有するものである。
更に、上記のように有機酸化珪素等の無機酸化物の連続膜の形成時の真空度は、1×10-1〜1×10-4Torr位、好ましくは、1×10-1〜1×10-2Torr位に調製することから、従来の真空蒸着法により酸化珪素等の無機酸化物の蒸着膜を形成する時の真空度、1×10-4〜1×10-5Torr位に比較して低真空度であることから、基材フィルムを原反交換時の真空状態設定時間を短くすることができ、真空度を安定しやすく、製膜プロセスが安定するものである。
In the plasma chemical vapor deposition apparatus described above, the formation of an inorganic oxide vapor-deposited film such as organic silicon oxide is performed on the base film in the form of SiO x while oxidizing the plasma source gas with oxygen gas. Therefore, the formed deposited film of inorganic oxide such as organic silicon oxide is a dense, flexible, continuous layer with few gaps. The vapor deposition film of inorganic oxide such as silicon acts as a hydrogen peroxide-resistant protective film on the surface on which the hydrogen peroxide mist is sprayed in the method of sterilizing using a sterilizing agent such as hydrogen peroxide. This prevents the hydrogen peroxide from contacting, adsorbing, and penetrating the base film, thereby enabling the surface to be sterilized very well without impairing the performance of the packaging material.
In addition, the above-mentioned vapor-deposited film of inorganic oxide such as organic silicon oxide has an excellent barrier property to prevent permeation of oxygen gas, water vapor and the like, and is inorganic such as inorganic silicon oxide formed by a conventional vacuum vapor deposition method or the like. Compared with oxide vapor-deposited film, it works as a hydrogen peroxide-resistant protective film and also acts as a gas barrier, its performance is much higher, and it can fully function even with a thin film thickness Is.
In the present invention, the surface of the base film is cleaned by oxygen plasma simultaneously with vapor deposition, and polar groups, free radicals, etc. are generated on the surface of the base film. This has the advantage that the tight adhesion between the deposited film of inorganic oxide and the substrate film is high.
Furthermore, as described above, the degree of vacuum when forming a continuous film of an inorganic oxide such as organic silicon oxide is about 1 × 10 −1 to 1 × 10 −4 Torr, preferably 1 × 10 −1 to 1 ×. Compared with the degree of vacuum when forming a deposited film of an inorganic oxide such as silicon oxide by the conventional vacuum deposition method, from 1 × 10 −4 to 1 × 10 −5 Torr position, since it is prepared at 10 −2 Torr position. And since it is a low vacuum degree, the vacuum state setting time at the time of raw material replacement | exchange of a base film can be shortened, a vacuum degree is easy to be stabilized, and the film forming process is stabilized.

本発明において、有機珪素化合物等の蒸着モノマ−ガスを使用して形成される有機硅素酸化物等の酸化珪素の蒸着膜は、有機珪素化合物等の蒸着モノマ−ガスと酸素ガス等とが化学反応し、その反応生成物が、基材フィルムの一方の面に密接着し、緻密な、柔軟性等に富む薄膜を形成するものであり、通常、一般式SiOX (ただし、Xは、0〜2の数を表す)で表される酸化珪素を主体とする連続状の薄膜である。
而して、上記の酸化珪素の蒸着膜としては、耐過酸化水素保護膜と共に透明性、バリア性等の点から、一般式SiOX (ただし、Xは、1.3〜1.9の数を表す。)で表される酸化珪素の蒸着膜を主体とする薄膜であることが好ましいものである。
上記において、Xの値は、蒸着モノマ−ガスと酸素ガスのモル比、プラズマのエネルギ−等により変化するが、一般的に、Xの値が小さくなればガス透過度は小さくなるが、膜自身が黄色性を帯び、透明性が悪くなる。
In the present invention, a vapor deposition film of silicon oxide such as an organic silicon oxide formed using a vapor deposition monomer gas such as an organic silicon compound has a chemical reaction between a vapor deposition monomer gas such as an organic silicon compound and oxygen gas or the like. The reaction product is closely adhered to one surface of the base film to form a dense thin film having high flexibility, and is generally represented by the general formula SiO x (where X is 0 to 0). 2 is a continuous thin film mainly composed of silicon oxide.
Thus, the vapor deposition film of silicon oxide has a general formula SiO x (where X is a number of 1.3 to 1.9) from the viewpoint of transparency, barrier properties, etc. together with a hydrogen peroxide resistant protective film. It is preferable that it is a thin film mainly composed of a silicon oxide vapor deposition film represented by:
In the above, the value of X varies depending on the molar ratio of the vapor-deposited monomer gas and oxygen gas, the energy of the plasma, etc. Generally, the gas permeability decreases as the value of X decreases, but the film itself Becomes yellowish and the transparency is poor.

また、上記の酸化珪素の蒸着膜は、酸化珪素を主体とし、これに、更に、炭素、水素、珪素または酸素の1種類、または、その2種類以上の元素からなる化合物を少なくとも1種類を化学結合等により含有する蒸着膜からなることを特徴とするものである。
例えば、C−H結合を有する化合物、Si−H結合を有する化合物、または、炭素単位がグラファイト状、ダイヤモンド状、フラ−レン状等になっている場合、更に、原料の有機珪素化合物やそれらの誘導体を化学結合等によって含有する場合があるものである。
具体例を挙げると、CH3 部位を持つハイドロカ−ボン、SiH3 シリル、SiH2 シリレン等のハイドロシリカ、SiH2 OHシラノ−ル等の水酸基誘導体等を挙げることができる。
上記以外でも、蒸着過程の条件等を変化させることにより、酸化珪素の蒸着膜中に含有される化合物の種類、量等を変化させることができる。
而して、上記の化合物が、酸化珪素の蒸着膜中に含有する含有量としては、0.1〜50%位、好ましくは、5〜20%位が望ましいものである。
上記において、含有率が、0.1%未満であると、酸化珪素の蒸着膜の耐衝撃性、延展性、柔軟性等が不十分となり、曲げなとにより、擦り傷、クラック等が発生し易く、耐過酸化水素保護膜、高いバリア性膜を安定して維持することが困難になり、また、50%を越えると、酸化水素保護膜、バリア性膜が低下して好ましくないものである。
更に、本発明においては、酸化珪素の蒸着膜において、上記の化合物の含有量が、酸化珪素の蒸着膜の表面から深さ方向に向かって増加させることが好ましく、これにより、酸化珪素の蒸着膜の表面においては、上記の化合物等により耐衝撃性等を高められ、他方、基材フィルムとの界面においては、上記の化合物の含有量が少ないために、基材フィルムと酸化珪素の蒸着膜との密接着性が強固なものとなるという利点を有するものである。
In addition, the silicon oxide vapor-deposited film is mainly composed of silicon oxide, and further, at least one kind of compound composed of one kind of carbon, hydrogen, silicon, or oxygen, or two or more kinds thereof is chemically used. It consists of a vapor deposition film contained by bonding or the like.
For example, when a compound having a C—H bond, a compound having a Si—H bond, or a carbon unit is in the form of graphite, diamond, fullerene, etc. A derivative may be contained by a chemical bond or the like.
Specific examples include hydrocarbons having a CH 3 site, hydrosilica such as SiH 3 silyl, SiH 2 silylene, and hydroxyl derivatives such as SiH 2 OH silanol.
In addition to the above, the type, amount, etc., of the compound contained in the deposited film of silicon oxide can be changed by changing the conditions of the vapor deposition process.
Thus, the content of the above compound in the deposited film of silicon oxide is about 0.1 to 50%, preferably about 5 to 20%.
In the above, if the content is less than 0.1%, the impact resistance, spreadability, flexibility, etc. of the deposited silicon oxide film become insufficient, and scratches, cracks, etc. are likely to occur due to bending. Further, it becomes difficult to stably maintain a hydrogen peroxide-resistant protective film and a high barrier film, and if it exceeds 50%, the hydrogen oxide protective film and the barrier film are undesirably lowered.
Furthermore, in the present invention, in the silicon oxide vapor deposition film, the content of the above-mentioned compound is preferably increased from the surface of the silicon oxide vapor deposition film in the depth direction. On the surface, the impact resistance and the like can be enhanced by the above compound and the like. On the other hand, at the interface with the base film, the content of the above compound is small. This has the advantage that the tight adhesion of the material becomes strong.

而して、本発明において、上記の酸化珪素の蒸着膜について、例えば、X線光電子分光装置(Xray Photoelectron Spectroscopy、XPS)、二次イオン質量分析装置(Secondary Ion Mass Spectroscopy、SIMS)等の表面分析装置を用い、深さ方向にイオンエッチングする等して分析する方法を利用して、酸化珪素の蒸着膜の元素分析を行うことより、上記のような物性を確認することができる。
また、本発明において、上記の酸化珪素の蒸着膜の膜厚としては、膜厚50Å〜4000Å位であることが望ましく、具体的には、その膜厚としては、100〜1000Å位が望ましく、而して、上記において、1000Å、更には、4000Åより厚くなると、その膜にクラック等が発生し易くなるので好ましくなく、また、100Å、更には、50Å未満であると、バリア性の効果を奏することが困難になることから好ましくないものである。
上記のおいて、その膜厚は、例えば、株式会社理学製の蛍光X線分析装置(機種名、RIX2000型)を用いて、ファンダメンタルパラメ−タ−法で測定することができる。 また、上記において、上記の酸化珪素の蒸着膜の膜厚を変更する手段としては、蒸着膜の体積速度を大きくすること、すなわち、モノマ−ガスと酸素ガス量を多くする方法や蒸着する速度を遅くする方法等によって行うことができる。
Thus, in the present invention, the above-described deposited film of silicon oxide is subjected to surface analysis such as, for example, an X-ray photoelectron spectrometer (Xray), secondary ion mass spectrometer (Secondary Ion Mass Spectroscopy, SIMS), or the like. The physical properties as described above can be confirmed by conducting an elemental analysis of the deposited film of silicon oxide using a method of analyzing by ion etching in the depth direction using an apparatus.
In the present invention, the film thickness of the above-described silicon oxide vapor deposition film is preferably about 50 to 4000 mm, and specifically, the film thickness is preferably about 100 to 1000 mm. In the above, if it is thicker than 1000 mm, and more preferably 4000 mm, it is not preferable because cracks and the like are likely to occur in the film, and if it is less than 100 mm, further less than 50 mm, there is an effect of barrier properties. Is not preferable because it becomes difficult.
In the above, the film thickness can be measured by a fundamental parameter method using, for example, a fluorescent X-ray analyzer (model name, RIX2000 type) manufactured by Rigaku Corporation. In the above, as means for changing the film thickness of the silicon oxide vapor deposition film, the volume velocity of the vapor deposition film is increased, that is, the method of increasing the amount of monomer gas and oxygen gas and the vapor deposition rate. This can be done by a method of slowing down.

次に、上記において、酸化珪素等の無機酸化物の蒸着膜を形成する有機珪素化合物等の蒸着用モノマ−ガスとしては、例えば、1.1.3.3−テトラメチルジシロキサン、ヘキサメチルジシロキサン、ビニルトリメチルシラン、メチルトリメチルシラン、ヘキサメチルジシラン、メチルシラン、ジメチルシラン、トリメチルシラン、ジエチルシラン、プロピルシラン、フェニルシラン、ビニルトリエトキシシラン、ビニルトリメトキシシラン、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、フェニルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、オクタメチルシクロテトラシロキサン、その他等を使用することができる。
本発明において、上記のような有機珪素化合物の中でも、1.1.3.3−テトラメチルジシロキサン、または、ヘキサメチルジシロキサンを原料として使用することが、その取り扱い性、形成された連続膜の特性等から、特に、好ましい原料である。
また、上記において、不活性ガスとしては、例えば、アルゴンガス、ヘリウムガス等を使用することができる。
Next, in the above, as a vapor deposition monomer gas such as an organic silicon compound for forming a vapor deposition film of an inorganic oxide such as silicon oxide, for example, 1.1.3.3-tetramethyldisiloxane, hexamethyldisiloxane Siloxane, vinyltrimethylsilane, methyltrimethylsilane, hexamethyldisilane, methylsilane, dimethylsilane, trimethylsilane, diethylsilane, propylsilane, phenylsilane, vinyltriethoxysilane, vinyltrimethoxysilane, tetramethoxysilane, tetraethoxysilane, phenyl Trimethoxysilane, methyltriethoxysilane, octamethylcyclotetrasiloxane, etc. can be used.
In the present invention, among the organic silicon compounds as described above, use of 1.1.3.3-tetramethyldisiloxane or hexamethyldisiloxane as a raw material is easy to handle and formed continuous film. In view of the above characteristics and the like, it is a particularly preferable raw material.
Moreover, in the above, as an inert gas, argon gas, helium gas, etc. can be used, for example.

本発明は、以上において説明したように、基材フィルムの片面または両面に、過酸化水素の吸着、浸透を阻止する耐過酸化水素保護膜を設けたことを特徴とする過酸化水素バリア性フィルム、更には、本発明は、基材フィルムの片面または両面に、過酸化水素の吸着、浸透を阻する、化学気相成長法による無機酸化物の蒸着膜、具体的には、化学気相成長法による有機酸化珪素の蒸着膜、更に具体的には、低温プラズマ化学気相成長法による有機酸化珪素の蒸着膜からなる耐過酸化水素保護膜を設けたことを特徴とする過酸化水素バリア性フィルム、および、それを使用した積層材に関するものである。   As described above, the present invention provides a hydrogen peroxide barrier film characterized in that a hydrogen peroxide-resistant protective film that prevents adsorption and permeation of hydrogen peroxide is provided on one or both surfaces of a base film. Furthermore, the present invention relates to a vapor deposition film of an inorganic oxide by a chemical vapor deposition method, specifically, chemical vapor deposition, which prevents adsorption and permeation of hydrogen peroxide on one side or both sides of a base film. Hydrogen peroxide barrier property, characterized by providing an organic silicon oxide vapor-deposited film by a method, more specifically, a hydrogen peroxide-resistant protective film comprising an organic silicon oxide vapor-deposited film by a low temperature plasma chemical vapor deposition method The present invention relates to a film and a laminated material using the film.

次に、本発明において、上記で製造される本発明に係る過酸化水素バリア性フィルムは、これを耐過酸化水素保護膜基材、バリア性基材等として使用し、これと、他のプラスチックフィルム、紙基材、セロハン、織布ないし不織布、ガラス板、その他等の種々の基材の1種ないし2種以上と任意に積層して、種々の形態からなる積層材を製造し、而して、該積層材を包装用材料、光学部材、太陽電池モジュ−ル用保護シ−ト、有機ELディスプレイ用保護フィルム、フィルム液晶ディスプレイ用保護フィルム、ポリマ−バッテリ−用包材、または、アルミ包装材料、その他等の種々の用途に適用し得るものである。
上記の積層材の製造法について例示すれば、例えば、前述の本発明に係る過酸化水素バリア性フィルムを構成する基材フィルムの他方の面、あるいは、他方の耐過酸化水素保護膜の面に、例えば、ラミネ−ト用接着剤層を形成し、しかる後、該ラミネ−ト用接着剤層等を介して、例えば、ヒ−トシ−ル性樹脂層等を構成するプラスチックチフィルム等の所望の基材をドライラミネ−ト積層法を用いて積層することにより、種々の形態からなる積層材を製造することができる。
あるいは、本発明においては、例えば、本発明係る過酸化水素バリア性フィルムを構成する基材フィルムの他方の面、あるいは、他方の耐過酸化水素保護膜の面に、例えば、アンカ−コ−ト剤層を形成し、しかる後、該アンカ−コ−ト剤層等を介して、各種の樹脂等を溶融押出して、例えば、ヒ−トシ−ル性樹脂層等を構成するプラスチックチフィルム等の所望の基材を積層する押出ラミネ−ト積層法を用いて積層することにより、各種の形態からなる積層材を製造することができる。
なお、本発明においては、本発明に係る過酸化水素バリア性フィルムを構成する各層間に所望の基材を任意に積層して種々の形態からなる積層材を製造し得るものであり、而して、本発明においては、その使用目的、使用形態、用途、その他等によって、他の基材を任意に積層して、種々の形態の積層材を設計して製造することができるものである。
また、本発明において、上記のような積層を行う際に、積層面の基材面には、例えば、プラズマ処理、コロナ放電処理、その他等の公知の前処理を任意に行うことができるものである。
Next, in the present invention, the hydrogen peroxide barrier film according to the present invention produced above is used as a hydrogen peroxide-resistant protective film substrate, a barrier substrate, etc., and other plastics A laminate material having various forms is manufactured by arbitrarily laminating one or more kinds of various substrates such as a film, a paper substrate, a cellophane, a woven or non-woven fabric, a glass plate, and the like. The laminated material is a packaging material, optical member, protective sheet for solar cell module, protective film for organic EL display, protective film for film liquid crystal display, packaging material for polymer battery, or aluminum packaging. It can be applied to various uses such as materials and others.
As an example of the method for producing the laminated material, for example, on the other surface of the base film constituting the hydrogen peroxide barrier film according to the present invention, or the surface of the other hydrogen peroxide-resistant protective film. For example, a laminated adhesive layer is formed, and then, for example, a plastic film forming a heat-sealable resin layer or the like is desired via the laminated adhesive layer or the like. By laminating the base materials using the dry lamination method, laminated materials having various forms can be produced.
Alternatively, in the present invention, for example, on the other surface of the base film constituting the hydrogen peroxide barrier film according to the present invention or the surface of the other hydrogen peroxide-resistant protective film, for example, an anchor coat is used. An agent layer is formed, and then various resins and the like are melt-extruded through the anchor coat agent layer and the like, for example, a plastic film forming a heat-sealable resin layer and the like. Laminating materials having various forms can be produced by laminating using an extrusion laminating laminating method for laminating desired substrates.
In the present invention, a laminated material having various forms can be produced by arbitrarily laminating a desired base material between the respective layers constituting the hydrogen peroxide barrier film according to the present invention. In the present invention, it is possible to design and manufacture various types of laminated materials by arbitrarily laminating other base materials according to the purpose of use, usage pattern, application, etc.
In the present invention, when performing the above-described lamination, the substrate surface of the lamination surface can be arbitrarily subjected to known pretreatments such as plasma treatment, corona discharge treatment, and the like. is there.

次に、本発明において、上記のような積層材の使用例として、包装用容器を例にして説明すると、本発明においては、包装用容器としては、例えば、上記の積層材を2枚用意し、その最内層に位置するヒ−トシ−ル性樹脂層の面を対向させて重ね合わせ、しかる後、その外周周辺の端部の三方をヒ−トシ−ルしてシ−ル部を形成すると共に上方に開口部を設けて、三方シ−ル型の軟包装用容器を製造することができる。
而して、本発明においては、図示しないが、上記で製造した三方シ−ル型の軟包装用容器の開口部から、例えば、飲食品、その他等の内容物を充填し、次いで、上方の開口部をヒ−トシ−ルして上方のシ−ル部等を形成し、更に、必要に応じて、例えば、ボイル処理、レトルト処理等を施して、種々の形態からなる包装製品を製造することができるものである。
なお、本発明においては、上記に例示の包装用容器に限定されるものでないことは言うまでもないことであり、その目的、用途等により、軟包装用袋、液体紙製容器、紙缶、その他等の種々の形態の包装用容器を製造することができることは言うまでもないことである。
Next, in the present invention, a packaging container will be described as an example of use of the above laminated material. In the present invention, for example, two sheets of the above laminated material are prepared as packaging containers. Then, the surfaces of the heat-sealable resin layer located in the innermost layer are made to face each other, and thereafter, the seal part is formed by heat-sealing the three ends of the outer periphery. In addition, a three-sided seal type soft packaging container can be manufactured by providing an opening on the upper side.
Thus, in the present invention, although not shown, from the opening of the three-sided seal type soft packaging container manufactured above, for example, the contents such as food and drink, etc. are filled, and then the upper Heat seal the opening to form an upper seal, etc., and, if necessary, for example, boil treatment, retort treatment, etc., to produce packaged products of various forms Is something that can be done.
In the present invention, it goes without saying that the present invention is not limited to the above-described packaging containers. Depending on the purpose, use, etc., flexible packaging bags, liquid paper containers, paper cans, etc. It goes without saying that various types of packaging containers can be manufactured.

次に、本発明において、積層材を構成するラミネ−ト用接着剤層について説明すると、かかるラミネ−ト用接着剤層を構成する接着剤としては、例えば、ポリ酢酸ビニル系接着剤、アクリル酸のエチル、ブチル、2−エチルヘキシルエステル等のホモポリマ−、あるいは、これらとメタクリル酸メチル、アクリロニトリル、スチレン等との共重合体等からなるポリアクリル酸エステル系接着剤、シアノアクリレ−ト系接着剤、エチレンと酢酸ビニル、アクリル酸エチル、アクリル酸、メタクリル酸等のモノマ−との共重合体等からなるエチレン共重合体系接着剤、セルロ−ス系接着剤、ポリエステル系接着剤、ポリアミド系接着剤、ポリイミド系接着剤、尿素樹脂またはメラミン樹脂等からなるアミノ樹脂系接着剤、フェノ−ル樹脂系接着剤、エポキシ系接着剤、ポリウレタン系接着剤、反応型(メタ)アクリル系接着剤、クロロプレンゴム、ニトリルゴム、スチレン−ブタジエンゴム等からなるゴム系接着剤、シリコ−ン系接着剤、アルカリ金属シリケ−ト、低融点ガラス等からなる無機系接着剤、その他等の接着剤を使用することがてきる。
上記の接着剤の組成系は、水性型、溶液型、エマルジョン型、分散型等のいずれの組成物形態でもよく、また、その性状は、フィルム・シ−ト状、粉末状、固形状等のいずれの形態でもよく、更に、接着機構については、化学反応型、溶剤揮発型、熱溶融型、熱圧型等のいずれの形態でもよいものである。
而して、上記の接着剤は、例えば、ロ−ルコ−ト法、グラビアロ−ルコ−ト法、キスコ−ト法、その他等のコ−ト法、あるいは、印刷法等によって施すことができ、そのコ−ティング量としては、0.1〜10g/m2 (乾燥状態)位が望ましい。
Next, in the present invention, the laminating adhesive layer constituting the laminated material will be described. Examples of the laminating adhesive layer constituting the laminating adhesive layer include a polyvinyl acetate adhesive and acrylic acid. Homopolymers such as ethyl, butyl, 2-ethylhexyl ester, etc., or polyacrylate adhesives comprising these and copolymers of methyl methacrylate, acrylonitrile, styrene, etc., cyanoacrylate adhesives, ethylene Ethylene copolymer adhesives, cellulose adhesives, polyester adhesives, polyamide adhesives, polyimides, and the like, and copolymers of vinyl acetate, ethyl acrylate, acrylic acid, methacrylic acid and other monomers -Based adhesive, amino resin-based adhesive made of urea resin or melamine resin, phenolic resin-based adhesive Epoxy adhesives, polyurethane adhesives, reactive (meth) acrylic adhesives, rubber adhesives such as chloroprene rubber, nitrile rubber, styrene-butadiene rubber, silicone adhesives, alkali metal silicates It is possible to use an inorganic adhesive made of low-melting glass or the like, and other adhesives.
The composition system of the above-mentioned adhesive may be any composition form such as an aqueous type, a solution type, an emulsion type, and a dispersion type, and the properties thereof are film / sheet type, powder type, solid type, etc. Any form may be used, and the bonding mechanism may be any form such as a chemical reaction type, a solvent volatilization type, a heat melting type, and a hot pressure type.
Thus, the above adhesive can be applied by, for example, a roll coating method, a gravure roll coating method, a kiss coating method, a coating method or the like, or a printing method. The coating amount is preferably about 0.1 to 10 g / m 2 (dry state).

次に、本発明において、積層材を構成するアンカ−コ−ト剤層について説明すると、かかるアンカ−コ−ト剤層を構成するアンカ−コ−ト剤としては、例えば、アルキルチタネ−ト等の有機チタン系、イソシアネ−ト系、ポリエチレンイミン系、ポリプタジエン系、その他等の水性ないし油性の各種のアンカ−コ−ト剤を使用することができる。
上記のアンカ−コ−ト剤は、例えば、ロ−ルコ−ト、グラビアロ−ルコ−ト、キスコ−ト、その他等のコ−ティング法を用いてコ−ティングすることができ、そのコ−ティング量としては、0.1〜5g/m2 (乾燥状態)位が望ましい。
Next, in the present invention, the anchor coat agent layer constituting the laminated material will be described. As the anchor coat agent constituting the anchor coat agent layer, for example, alkyl titanate or the like is used. Various aqueous or oil-based anchor coating agents such as organic titanium, isocyanate, polyethyleneimine, polyptadiene, etc. can be used.
The above-mentioned anchor coating agent can be coated by using a coating method such as a roll coat, a gravure roll coat, a kiss coat, and the like. The amount is preferably 0.1 to 5 g / m 2 (dry state).

また、上記の溶融押出積層方式における溶融押出樹脂層としては、例えば、ポリエチレン系樹脂、ポリプロピレン系樹脂、酸変性ポリエチレン系樹脂、酸変性ポリプロピレン系樹脂、エチレン−アクリル酸またはメタクリル酸共重合体、サ−リン系樹脂、エチレン−酢酸ビニル共重合体、ポリ酢酸ビニル系樹脂、エチレン−アクリル酸エステルまたはメタクリル酸エステル共重合体、ポリスチレン系樹脂、ポリ塩化ビニル系樹脂、その他等の熱可塑性樹脂の1種ないし2種以上を使用することができる。
なお、上記の溶融押出積層方式において、より強固な接着強度を得るために、例えば、上記のアンカ−コ−ト剤等のアンカ−コ−ト剤層を介して、積層することができる。
Examples of the melt-extruded resin layer in the melt-extrusion laminating method include, for example, polyethylene resins, polypropylene resins, acid-modified polyethylene resins, acid-modified polypropylene resins, ethylene-acrylic acid or methacrylic acid copolymers, saps. 1 of thermoplastic resins such as phosphorus resin, ethylene-vinyl acetate copolymer, polyvinyl acetate resin, ethylene-acrylic acid ester or methacrylic acid ester copolymer, polystyrene resin, polyvinyl chloride resin, etc. Species or two or more can be used.
In the melt extrusion lamination method, in order to obtain stronger adhesive strength, for example, lamination can be performed through an anchor coating agent layer such as the above-described anchor coating agent.

次に、本発明において、積層材の最内層等を形成するプラスチックフィルム等の基材としては、例えば、熱によって溶融し相互に融着し得るヒ−トシ−ル性樹脂のフィルムないしシ−トを使用することができ、具体的には、例えば、低密度ポリエチレン、中密度ポリエチレン、高密度ポリエチレン、直鎖状(線状)低密度ポリエチレン、メタロセン触媒を使用して重合したエチレン−α・オレフィン共重合体、ポリプロピレン、エチレン−酢酸ビニル共重合体、アイオノマ−樹脂、エチレン−アクリル酸共重合体、エチレン−アクリル酸エチル共重合体、エチレン−メタクリル酸共重合体、エチレン−メタクリル酸メチル共重合体、エチレン−プロピレン共重合体、メチルペンテンポリマ−、ポリブテンポリマ−、ポリエチレンまたはポリプロピレン等のポリオレフィン系樹脂をアクリル酸、メタクリル酸、マレイン酸、無水マレイン酸、フマ−ル酸、イタコン酸等の不飽和カルボン酸で変性した酸変性ポリオレフィン樹脂、ポリ酢酸ビニル系樹脂、ポリ(メタ)アクリル系樹脂、ポリ塩化ビニル系樹脂、その他等の樹脂のフィルムないしシ−トを使用することができる。
而して、上記のフィルムないしシ−トは、その樹脂を含む組成物によるコ−ティング膜の状態で使用することができる。
その膜もしくはフィルムないしシ−トの厚さとしては、5μmないし300μm位が好ましくは、更には、10μmないし100μm位が望ましい。
Next, in the present invention, as a base material such as a plastic film for forming the innermost layer of the laminated material, for example, a heat-seal resin film or sheet that can be melted by heat and fused to each other is used. Specifically, for example, low density polyethylene, medium density polyethylene, high density polyethylene, linear (linear) low density polyethylene, ethylene-α-olefin polymerized using a metallocene catalyst Copolymer, polypropylene, ethylene-vinyl acetate copolymer, ionomer resin, ethylene-acrylic acid copolymer, ethylene-ethyl acrylate copolymer, ethylene-methacrylic acid copolymer, ethylene-methyl methacrylate copolymer Polymer, ethylene-propylene copolymer, methylpentene polymer, polybutene polymer, polyethylene or polypropylene Polyolefin resins such as pyrene modified with unsaturated carboxylic acids such as acrylic acid, methacrylic acid, maleic acid, maleic anhydride, fumaric acid, itaconic acid, polyvinyl acetate resins, poly (meta ) A film or sheet of a resin such as an acrylic resin, a polyvinyl chloride resin, or the like can be used.
Thus, the above film or sheet can be used in the state of a coating film made of a composition containing the resin.
The thickness of the film or film or sheet is preferably about 5 μm to 300 μm, more preferably about 10 μm to 100 μm.

更にまた、本発明において、上記の積層材を構成するプラスチックフィルム等の基材としては、例えば、積層材の基本素材となるものとして、機械的、物理的、化学的、その他等において優れた性質を有し、特に、強度を有して強靱であり、かつ耐熱性を有する樹脂のフィルムないしシ−トを使用することができ、具体的には、例えば、ポリエステル系樹脂、ポリアミド系樹脂、ポリアラミド系樹脂、ポリオレフィン系樹脂、ポリカ−ボネ−ト系樹脂、ポリスチレン系樹脂、ポリアセタ−ル系樹脂、フッ素系樹脂、その他等の強靱な樹脂のフィルムないしシ−ト、その他等を使用することができる。
而して、上記の樹脂のフィルムないしシ−トとしては、未延伸フィルム、あるいは、一軸方向または二軸方向に延伸した延伸フィルム等のいずれのものでも使用することができる。
そのフィルムの厚さとしては、5μmないし100μm位、好ましくは、10μmないし50μm位が望ましい。
なお、本発明においては、上記のような基材フィルムには、例えば、文字、図形、記号、絵柄、模様等の所望の印刷絵柄を通常の印刷法で表刷り印刷あるいは裏刷り印刷等が施されていてもよい。
Furthermore, in the present invention, as a base material such as a plastic film constituting the above laminated material, for example, as a basic material of the laminated material, excellent properties in mechanical, physical, chemical, etc. In particular, a resin film or sheet having strength, toughness, and heat resistance can be used. Specifically, for example, polyester resin, polyamide resin, polyaramid Films, sheets, etc. of tough resins such as resin, polyolefin resin, polycarbonate resin, polystyrene resin, polyacetal resin, fluorine resin, etc. can be used. .
Thus, as the resin film or sheet, any of an unstretched film or a stretched film stretched in a uniaxial direction or a biaxial direction can be used.
The thickness of the film is about 5 μm to 100 μm, preferably about 10 μm to 50 μm.
In the present invention, the base film as described above is subjected to surface printing or back printing by a normal printing method with a desired printing pattern such as letters, figures, symbols, patterns, patterns, etc., for example. May be.

次にまた、本発明において、上記の積層材を構成する基材としては、例えば、紙層を構成する各種の紙基材を使用することができ、具体的には、本発明において、紙基材としては、賦型性、耐屈曲性、剛性等を持たせるものであり、例えば、強サイズ性の晒または未晒の紙基材、あるいは純白ロ−ル紙、クラフト紙、板紙、加工紙等の紙基材、その他等を使用することができる。
上記において、紙層を構成する紙基材としては、坪量約80〜600g/m2 位のもの、好ましくは、坪量約100〜450g/m2 位のものを使用することが望ましい。
勿論、本発明においては、紙層を構成する紙基材と、上記に挙げた基材フィルムとしての各種の樹脂のフィルムないしシ−ト等を併用して使用することができる。
Next, in the present invention, as the base material constituting the laminated material, for example, various paper base materials constituting the paper layer can be used. Specifically, in the present invention, Materials include formability, bending resistance, rigidity, etc., for example, strong sized bleached or unbleached paper base, or pure white roll paper, kraft paper, paperboard, processed paper Paper base materials such as, etc., etc. can be used.
In the above, as the paper substrate constituting the paper layer, it is desirable to use a material having a basis weight of about 80 to 600 g / m 2 , preferably a basis weight of about 100 to 450 g / m 2 .
Of course, in the present invention, the paper base material constituting the paper layer and various resin films or sheets as the base film mentioned above can be used in combination.

更に、本発明において、上記の積層材を構成する材料として、例えば、水蒸気、水等のバリア−性を有する低密度ポリエチレン、中密度ポリエチレン、高密度ポリエチレン、直鎖状低密度ポリエチレン、ポリプロピレン、エチレン−プロピレン共重合体等の樹脂のフィルムないしシ−ト、あるいは、酸素、水蒸気等に対するバリア−性を有するポリビニルアルコ−ル、エチレン−酢酸ビニル共重合体ケン化物、ナイロンMXD6樹脂等の樹脂のフィルムないしシ−ト、樹脂に顔料等の着色剤を、その他、所望の添加剤を加えて混練してフィルム化してなる遮光性を有する各種の着色樹脂のフィルムないしシ−ト等を使用することができる。
これらの材料は、一種ないしそれ以上を組み合わせて使用することができる。 上記のフィルムないしシ−トの厚さとしては、任意であるが、通常、5μmないし300μm位、更には、10μmないし100μm位が望ましい。
Furthermore, in the present invention, examples of the material constituting the laminated material include low density polyethylene, medium density polyethylene, high density polyethylene, linear low density polyethylene, polypropylene, and ethylene having barrier properties such as water vapor and water. -Resin film or sheet such as propylene copolymer, or resin film such as polyvinyl alcohol, saponified ethylene-vinyl acetate copolymer, nylon MXD6 resin having barrier properties against oxygen, water vapor, etc. It is also possible to use various colored resin films or sheets having light-shielding properties obtained by adding a colorant such as a pigment to a sheet or a resin and adding a desired additive and kneading to form a film. it can.
These materials can be used alone or in combination. The thickness of the film or sheet is arbitrary, but is usually about 5 μm to 300 μm, more preferably about 10 μm to 100 μm.

なお、本発明においては、通常、上記の積層材は各種の用途に適用される場合、物理的にも化学的にも過酷な条件におかれることから、上記の積層材には、厳しい条件が要求され、変形防止強度、落下衝撃強度、耐ピンホ−ル性、耐熱性、密封性、品質保全性、作業性、衛生性、その他等の種々の条件が要求され、このために、本発明においては、上記のような諸条件を充足する材料を任意に選択して使用することができ、具体的には、例えば、低密度ポリエチレン、中密度ポリエチレン、高密度ポリエチレン、線状低密度ポリエチレン、ポリプロピレン、エチレン−プロピレン共重合体、エチレン−酢酸ビニル共重合体、アイオノマ−樹脂、エチレン−アクリル酸エチル共重合体、エチレン−アクリル酸またはメタクリル酸共重合体、メチルペンテンポリマ−、ポリブテン系樹脂、ポリ塩化ビニル系樹脂、ポリ酢酸ビニル系樹脂、ポリ塩化ビニリデン系樹脂、塩化ビニル−塩化ビニリデン共重合体、ポリ(メタ)アクリル系樹脂、ポリアクリルニトリル系樹脂、ポリスチレン系樹脂、アクリロニトリル−スチレン共重合体(AS系樹脂)、アクリロニトリル−ブタジェン−スチレン共重合体(ABS系樹脂)、ポリエステル系樹脂、ポリアミド系樹脂、ポリカ−ボネ−ト系樹脂、ポリビニルアルコ−ル系樹脂、エチレン−酢酸ビニル共重合体のケン化物、フッ素系樹脂、ジエン系樹脂、ポリアセタ−ル系樹脂、ポリウレタン系樹脂、ニトロセルロ−ス、その他等の公知の樹脂のフィルムないしシ−トから任意に選択して使用することができる。
その他、例えば、セロハン等のフィルム、合成紙等も使用することができる。 本発明において、上記のフィルムないしシ−トは、未延伸、一軸ないし二軸方向に延伸されたもの等のいずれのものでも使用することができる。
また、その厚さは、任意であるが、数μmから300μm位の範囲から選択して使用することができる。
更に、本発明においては、フィルムないしシ−トとしては、押し出し成膜、インフレ−ション成膜、コ−ティング膜等のいずれの性状の膜でもよい。
In the present invention, usually, when the above laminated material is applied to various applications, it is subjected to severe conditions both physically and chemically. Various requirements such as deformation prevention strength, drop impact strength, pinhole resistance, heat resistance, sealing performance, quality maintenance, workability, hygiene, etc. are required. Can be used by arbitrarily selecting a material that satisfies the above-mentioned conditions. Specifically, for example, low density polyethylene, medium density polyethylene, high density polyethylene, linear low density polyethylene, polypropylene , Ethylene-propylene copolymer, ethylene-vinyl acetate copolymer, ionomer resin, ethylene-ethyl acrylate copolymer, ethylene-acrylic acid or methacrylic acid copolymer, methyl Pentene polymer, polybutene resin, polyvinyl chloride resin, polyvinyl acetate resin, polyvinylidene chloride resin, vinyl chloride-vinylidene chloride copolymer, poly (meth) acrylic resin, polyacrylonitrile resin, polystyrene Resin, acrylonitrile-styrene copolymer (AS resin), acrylonitrile-butadiene-styrene copolymer (ABS resin), polyester resin, polyamide resin, polycarbonate resin, polyvinyl alcohol Resin, saponified ethylene-vinyl acetate copolymer, fluorine resin, diene resin, polyacetal resin, polyurethane resin, nitrocellulose, etc. You can select and use.
In addition, for example, a film such as cellophane, a synthetic paper, or the like can be used. In the present invention, the above-described film or sheet may be any of unstretched, uniaxially or biaxially stretched.
The thickness is arbitrary, but can be selected from a range of several μm to 300 μm.
Furthermore, in the present invention, the film or sheet may be a film having any property such as extrusion film formation, inflation film formation, and coating film.

而して、本発明においては、上記の積層を行う際に、必要ならば、例えば、コロナ処理、オゾン処理等の前処理をフィルムに施すことができ、また、例えば、イソシアネ−ト系(ウレタン系)、ポリエチレンイミン系、ポリブタジェン系、有機チタン系等のアンカ−コ−ティング剤、あるいはポリウレタン系、ポリアクリル系、ポリエステル系、エポキシ系、ポリ酢酸ビニル系、セルロ−ス系、その他等のラミネ−ト用接着剤等の公知の前処理、アンカ−コ−ト剤、接着剤等を使用することができる。   Thus, in the present invention, when performing the above-mentioned lamination, if necessary, pretreatment such as corona treatment and ozone treatment can be applied to the film, and for example, isocyanate (urethane) Type), polyethyleneimine type, polybutadiene type, organic titanium type anchor coating agent, or polyurethane type, polyacrylic type, polyester type, epoxy type, polyvinyl acetate type, cellulose type, etc. -Known pretreatments such as adhesives for coating, anchor coating agents, adhesives, and the like can be used.

なお、本発明においては、上記の積層材を構成するいずれかの層間に所望の印刷模様層を形成することができるものである。
而して、上記の印刷模様層としては、通常のインキビヒクルの1種ないし2種以上を主成分とし、これに、必要ならば、可塑剤、安定剤、酸化防止剤、光安定剤、紫外線吸収剤、硬化剤、架橋剤、滑剤、帯電防止剤、充填剤、その他等の添加剤の1種ないし2種以上を任意に添加し、更に、染料・顔料等の着色剤を添加し、溶媒、希釈剤等で充分に混練してインキ組成物を調整し、次いで、該インキ組成物を使用し、例えば、グラビア印刷、オフセット印刷、凸版印刷、スクリ−ン印刷、転写印刷、フレキソ印刷、その他等の印刷方式を使用し、前述のコ−ティング薄膜の上に、文字、図形、記号、模様等からなる所望の印刷模様を印刷して、本発明にかかる印刷模様層を形成することができる。
In the present invention, a desired printed pattern layer can be formed between any of the layers constituting the laminated material.
Thus, the printed pattern layer is mainly composed of one or more ordinary ink vehicles, and if necessary, a plasticizer, a stabilizer, an antioxidant, a light stabilizer, an ultraviolet ray, and the like. One or more additives such as an absorbent, a curing agent, a crosslinking agent, a lubricant, an antistatic agent, a filler, and the like are arbitrarily added, and a colorant such as a dye / pigment is added, and a solvent is added. The ink composition is prepared by sufficiently kneading with a diluent, and then the ink composition is used. For example, gravure printing, offset printing, letterpress printing, screen printing, transfer printing, flexographic printing, etc. The printing pattern layer according to the present invention can be formed by printing a desired printing pattern composed of characters, figures, symbols, patterns, etc. on the above-described coating thin film using a printing method such as .

次に、本発明において、上記のような積層材を使用して包装用容器を製造する製袋ないし製函する方法について説明すると、例えば、包装用容器がプラスチックフィルム等からなる軟包装袋の場合、上記のような方法で製造した積層材を使用し、その内層のヒ−トシ−ル性フィルムの面を対向させて、それを折り重ねるか、或いはその二枚を重ね合わせ、更にその周辺端部をヒ−トシ−ルしてシ−ル部を設けて袋体を構成することができる。
而して、その製袋方法としては、上記の積層材を、その内層の面を対向させて折り曲げるか、あるいはその二枚を重ね合わせ、更にその外周の周辺端部を、例えば、側面シ−ル型、二方シ−ル型、三方シ−ル型、四方シ−ル型、封筒貼りシ−ル型、合掌貼りシ−ル型(ピロ−シ−ル型)、ひだ付シ−ル型、平底シ−ル型、角底シ−ル型、その他等のヒ−トシ−ル形態によりヒ−トシ−ルして、本発明にかかる種々の形態の包装用容器を製造することができる。
その他、例えば、自立性包装袋(スタンディングパウチ)等も製造することが可能であり、更に、本発明においては、上記の積層材を使用してチュ−ブ容器等も製造することができる。
上記において、ヒ−トシ−ルの方法としては、例えば、バ−シ−ル、回転ロ−ルシ−ル、ベルトシ−ル、インパルスシ−ル、高周波シ−ル、超音波シ−ル等の公知の方法で行うことができる。
なお、本発明においては、上記のような包装用容器には、例えば、ワンピ−スタイプ、ツウ−ピ−スタイプ、その他等の注出口、あるいは開閉用ジッパ−等を任意に取り付けることができる。
Next, in the present invention, a description will be given of a bag making or box making method for manufacturing a packaging container using the above-described laminated material. For example, when the packaging container is a flexible packaging bag made of a plastic film or the like Using the laminated material manufactured by the method as described above, facing the heat-sealable film of the inner layer facing each other, folding them up or stacking the two sheets, The bag body can be configured by heat sealing the portion to provide a seal portion.
Thus, as a bag-making method, the above-mentioned laminated material is folded with the inner layer faces facing each other, or the two sheets are overlapped, and the peripheral edge of the outer periphery is, for example, a side sheet. Seal type, two-sided seal type, three-sided seal type, four-sided seal type, envelope-sealed seal type, jointed seal type (pillar seal type), pleated seal type The various types of packaging containers according to the present invention can be manufactured by heat sealing in the form of a heat sealing such as a flat bottom sealing type, a square bottom sealing type, or the like.
In addition, for example, a self-supporting packaging bag (standing pouch) or the like can be manufactured, and in the present invention, a tube container or the like can also be manufactured using the above-described laminated material.
In the above, as the heat seal method, for example, a bar seal, a rotary roll seal, a belt seal, an impulse seal, a high frequency seal, an ultrasonic seal and the like are known. It can be done by the method.
In the present invention, a spout such as a one-piece type, a two-piece type, or the like, or a zipper for opening and closing can be arbitrarily attached to the packaging container as described above.

次にまた、包装用容器として、紙基材を含む液体充填用紙容器の場合、例えば、積層材として、紙基材を積層した積層材を製造し、これから所望の紙容器を製造するブランク板を製造し、しかる後該ブランク板を使用して胴部、底部、頭部等を製函して、例えば、ブリックタイプ、フラットタイプあるいはゲ−ベルトップタイプの液体用紙容器等を製造することができる。
また、その形状は、角形容器、丸形等の円筒状の紙缶等のいずれのものでも製造することができる。
Next, in the case of a liquid-filled paper container including a paper base material as a packaging container, for example, as a laminated material, a laminated material in which a paper base material is laminated is manufactured, and a blank plate for manufacturing a desired paper container is prepared from this. After that, the body, bottom, head, etc. can be boxed by using the blank plate, and for example, a brick type, flat type or gable top type liquid paper container can be manufactured. .
Further, the shape can be any of a rectangular container, a cylindrical paper can such as a round shape, and the like.

次に、本発明において、本発明に係る積層材を殺菌処理する方法としては、例えば、走行する積層材を使用し、これを製袋して包装用袋を製造しながらその包装用袋内に内容物を充填し、しかる後、その内容物を充填した充填口をシ−ルして包装製品を製造する殺菌充填包装方式において、殺菌充填包装機内の積層材を供給する上流側で、まず、積層材を予備加熱し、次いで、過酸化水素水を加熱気化させた後に凝縮させて生成した過酸化水素ミストを上記の予備加熱した積層材の表面に供給して上記の積層材の表面に過酸化水素ミストを接触させ、しかる後、上記の過酸化水素ミストが接触した積層材を乾燥させて殺菌処理を行い、次いで、殺菌処理した積層材を使用して、殺菌充填包装機内で上記のように製袋、充填、包装等の工程を経て、包装製品を製造することができる。
上記の例は、その一例であり、本発明は、これによって限定されるものではないものである。
Next, in the present invention, as a method for sterilizing the laminated material according to the present invention, for example, a traveling laminated material is used, and the resulting laminated bag is manufactured to produce a packaging bag. In the sterilization filling and packaging method in which the contents are filled and then the filling port filled with the contents is sealed to produce a packaged product, on the upstream side supplying the laminated material in the sterilization filling and packaging machine, The laminated material is preheated, and then the hydrogen peroxide mist generated by condensing the hydrogen peroxide solution after being heated and evaporated is supplied to the surface of the preheated laminated material to be excessively applied to the surface of the laminated material. Contact the hydrogen oxide mist, and then dry the laminated material contacted with the hydrogen peroxide mist for sterilization, and then use the sterilized laminated material in the sterilization filling packaging machine as described above. Through bag making, filling, packaging, etc. , It is possible to manufacture the packaging products.
The above example is one example, and the present invention is not limited thereby.

本発明において、上記のようにして製造した包装用容器は、種々の飲食品、接着剤、粘着剤等の化学品、化粧品、医薬品、ケミカルカイロ等の雑貨品、その他等の物品の充填包装に使用されるものである。
而して、本発明においては、特に、例えば、醤油、ソ−ス、ス−プ等を充填包装する液体用小袋、餅を充填包装する小袋、生菓子等を充填包装する軟包装用袋、あるいは、ボイルあるいはレトルト食品等を充填包装する軟包装用袋等の飲食物等を充填包装する包装用容器として有用なものである。
上記の本発明について以下に実施例を挙げて更に具体的に説明する。
In the present invention, the packaging container produced as described above is used for filling and packaging various foods, chemicals such as adhesives and adhesives, cosmetics, pharmaceuticals, miscellaneous goods such as chemical warmers, and other items. It is what is used.
Thus, in the present invention, in particular, for example, a liquid sachet filled with soy sauce, sauce, soup, etc., a sachet filled with candy, a soft packaging bag filled with fresh confectionery, or the like, or It is useful as a packaging container for filling and packaging foods and beverages such as soft packaging bags for filling and packaging boiled or retort foods.
Hereinafter, the present invention will be described in more detail with reference to examples.

(1).基材フィルムとして、厚さ15μmの二軸延伸ナイロン6フィルムを使用し、まず、上記の二軸延伸ナイロン6フィルムをプラズマ化学蒸着装置の送り出しロールに装着し、次いで、これを繰り出し、その2軸延伸ナイロン6フィルムの外面側の未コロナ処理面の上に、下記の蒸着条件により、膜厚100Åの酸化珪素の蒸着膜を形成して、本発明に係る過酸化水素バリア性フィルムを製造した。
(蒸着条件)
反応ガス混合比;ヘキサメチルジシロキサン:酸素ガス:ヘリウム=1.0:4.0:1.0(単位:slm)
真空チヤンバー内の真空度;5.1Pa
蒸着チヤンバー内の真空度;7.5Pa
冷却・電極ドラム供給電力;15kw
フィルムの搬送速度;150m/min
蒸着面;コロナ処理面
(2).次いで、上記で製造した過酸化水素バリア性フィルムを構成する基材フィルムの他方のコロナ処理面の面に、通常のグラビアインキ組成物を使用し、グラビア印刷方式により、文字、図形、記号、絵柄、その他等からなる所定の印刷模様を印刷して印刷模様層を形成した。
次に、上記で形成した印刷模様層を含む全面に、2液硬化型のポリウレタン系のドライラミネ−ト用接着剤をグラビアロールコート法によりコーティングし、次いで、100℃で30秒間、加熱処理して、厚さ4. 0g/m2 (乾燥状態)のドライラミネ−ト用接着剤層を形成した。
次いで、上記で形成したドライラミネ−ト用接着剤層の上に、厚さ50μmの無延伸ポリプロピレンフィルム重ね合わせてドライラミネ−ション法を利用して積層して、本発明に係る積層材を製造した。
(3).次に、上記で製造した積層材を構成する酸化珪素の蒸着膜の面に、その10cm2当たり0.05mgの割合で35%過酸化水素水を加熱気化させ、そのミストを吹き付け、次いで、加熱エア−にて乾燥して滅菌処理を施した。
(4).次に、上記の積層材を2枚用意し、その最内層に位置する無延伸ポリプロピレンフィルムの面を対向させて重ね合わせ、しかる後、その外周周辺の端部の三方をヒ−トシ−ルして三方シ−ル型の液体小袋を製造し、次いで、その開口部から、例えば、醤油、ソ−ス、その他等の液状ないし粘体状の調味料を充填し、しかる後、その開口部をヒ−トシ−ルして、本発明にかかる液体小袋包装体を製造した。
(1). A biaxially stretched nylon 6 film having a thickness of 15 μm is used as a base film. First, the above biaxially stretched nylon 6 film is mounted on a feeding roll of a plasma chemical vapor deposition apparatus, and then this is fed out to be biaxial. On the uncorona-treated surface on the outer surface side of the stretched nylon 6 film, a silicon oxide vapor deposition film having a thickness of 100 mm was formed under the following vapor deposition conditions to produce a hydrogen peroxide barrier film according to the present invention.
(Deposition conditions)
Reaction gas mixing ratio: hexamethyldisiloxane: oxygen gas: helium = 1.0: 4.0: 1.0 (unit: slm)
Degree of vacuum in the vacuum chamber; 5.1 Pa
Degree of vacuum in the deposition chamber; 7.5 Pa
Cooling and electrode drum power supply: 15 kW
Film transport speed: 150 m / min
Deposition surface: Corona-treated surface (2). Next, a normal gravure ink composition is used on the surface of the other corona-treated surface of the base film constituting the hydrogen peroxide barrier film produced above, and characters, figures, symbols, and patterns are printed by a gravure printing method. A printed pattern layer was formed by printing a predetermined printed pattern composed of, etc.
Next, the entire surface including the printed pattern layer formed above is coated with a two-component curable polyurethane-based dry laminating adhesive by a gravure roll coating method, and then heated at 100 ° C. for 30 seconds. Then, an adhesive layer for dry lamination having a thickness of 4.0 g / m 2 (dry state) was formed.
Subsequently, on the dry-laminate adhesive layer formed above, an unstretched polypropylene film having a thickness of 50 μm was superposed and laminated using a dry lamination method to produce a laminate according to the present invention.
(3). Next, 35% hydrogen peroxide water was vaporized by heating at a rate of 0.05 mg per 10 cm 2 on the surface of the silicon oxide vapor deposition film constituting the laminated material produced above, and then the mist was sprayed. It was dried with air and sterilized.
(4). Next, two sheets of the above-mentioned laminated material are prepared, the surfaces of the unstretched polypropylene film located in the innermost layer are overlapped with each other, and thereafter, the three sides of the outer periphery are heat sealed. A three-way seal type liquid sachet is manufactured, and then, from the opening, liquid or viscous seasonings such as soy sauce, sauce, etc. are filled, and then the opening is opened. -Tossed to produce a liquid sachet package according to the present invention.

(1).基材フィルムとして、厚さ15μmの二軸延伸ナイロン6フィルムを使用し、まず、上記の二軸延伸ナイロン6フィルムをプラズマ化学蒸着装置の送り出しロールに装着し、次いで、これを繰り出し、その2軸延伸ナイロン6フィルムの外面側のコロナ処理面の上に、下記の蒸着条件により、膜厚100Åの酸化珪素の蒸着膜を形成した。
更に、上記で膜厚100Åの酸化珪素の蒸着膜を形成した厚さ15μmの二軸延伸ナイロン6フィルムを使用し、上記と同様に、これをプラズマ化学蒸着装置の送り出しロールに装着し、次いで、これを繰り出し、その2軸延伸ナイロン6フィルムの内面側の未コロナ処理面の上に、上記と同じ蒸着条件により、膜厚100Åの酸化珪素の蒸着膜を形成して、上記の2軸延伸ナイロン6フィルムの両面に酸化珪素の蒸着膜を形成した。
(蒸着条件)
反応ガス混合比;ヘキサメチルジシロキサン:酸素ガス:ヘリウム=1.0:4.0:1.0(単位:slm)
真空チヤンバー内の真空度;5.1Pa
蒸着チヤンバー内の真空度;7.5Pa
冷却・電極ドラム供給電力;15kw
フィルムの搬送速度;150m/min
蒸着面;コロナ処理面
次に、上記で厚さ100Åの酸化珪素の蒸着膜を形成した直後に、その一方の酸化珪素の蒸着膜の面に、グロー放電プラズマ発生装置を使用し、パワー9kw、酸素ガス(O2 ):アルゴンガス(Ar)=7.0:2.5(単位:Slm)からなる混合ガスを使用し、混合ガス圧 6.0×10-2mbar、処理速度 150m/minで酸素/アルゴン混合ガスプラズマ処理を行って、酸化珪素の蒸着膜面の表面張力を54dyne/cm以上向上させてたプラズマ処理面を形成して、本発明に係る過酸化水素バリア性フィルムを製造した。
(2).次いで、上記で製造した過酸化水素バリア性フィルムを構成する基材フィルムの一方の酸化珪素の蒸着膜のプラズマ処理面の面に、通常のグラビアインキ組成物を使用し、グラビア印刷方式により、文字、図形、記号、絵柄、その他等からなる所定の印刷模様を印刷して印刷模様層を形成した。
次に、上記で形成した印刷模様層を含む全面に、2液硬化型のポリウレタン系のドライラミネ−ト用接着剤をグラビアロールコート法によりコーティングし、次いで、100℃で30秒間、加熱処理して、厚さ4. 0g/m2 (乾燥状態)のドライラミネ−ト用接着剤層を形成した。
次いで、上記で形成したドライラミネ−ト用接着剤層の上に、厚さ50μmの無延伸ポリプロピレンフィルム重ね合わせてドライラミネ−ション法を利用して積層して、本発明に係る積層材を製造した。
(3).次に、上記で製造した積層材を構成する外面側の酸化珪素の蒸着膜の面に、その10cm2当たり0.05mgの割合で35%過酸化水素水を加熱気化させ、そのミストを吹き 付け、次いで、加熱エア−にて乾燥して滅菌処理を施した。
(4).次に、上記の積層材を2枚用意し、その最内層に位置する無延伸ポリプロピレンフィルムの面を対向させて重ね合わせ、しかる後、その外周周辺の端部の三方をヒ−トシ−ルして三方シ−ル型の液体小袋を製造し、次いで、その開口部から、例えば、醤油、ソ−ス、その他等の液状ないし粘体状の調味料を充填し、しかる後、その開口部をヒ−トシ−ルして、本発明にかかる液体小袋包装体を製造した。
(1). A biaxially stretched nylon 6 film having a thickness of 15 μm is used as a base film. First, the above biaxially stretched nylon 6 film is mounted on a feeding roll of a plasma chemical vapor deposition apparatus, and then this is fed out to be biaxial. On the corona-treated surface on the outer surface side of the stretched nylon 6 film, a silicon oxide vapor deposition film having a thickness of 100 mm was formed under the following vapor deposition conditions.
Furthermore, using a 15 μm-thick biaxially stretched nylon 6 film on which a silicon oxide vapor deposition film having a thickness of 100 mm was formed as described above, this was mounted on a feeding roll of a plasma chemical vapor deposition apparatus, and then, This was drawn out, and a silicon oxide deposited film having a thickness of 100 mm was formed on the uncorona-treated surface on the inner surface side of the biaxially stretched nylon 6 film under the same deposition conditions as above, 6 A vapor-deposited film of silicon oxide was formed on both surfaces of the film.
(Deposition conditions)
Reaction gas mixing ratio: hexamethyldisiloxane: oxygen gas: helium = 1.0: 4.0: 1.0 (unit: slm)
Degree of vacuum in the vacuum chamber; 5.1 Pa
Degree of vacuum in the deposition chamber; 7.5 Pa
Cooling and electrode drum power supply: 15 kW
Film transport speed: 150 m / min
Next, immediately after forming the silicon oxide vapor deposition film having a thickness of 100 mm as described above, a glow discharge plasma generator is used on the surface of the silicon oxide vapor deposition film, and the power is 9 kw. A mixed gas consisting of oxygen gas (O 2 ): argon gas (Ar) = 7.0: 2.5 (unit: Slm) is used, and the mixed gas pressure is 6.0 × 10 −2 mbar, and the processing speed is 150 m / min. To produce a hydrogen peroxide barrier film according to the present invention by performing a plasma treatment with oxygen / argon mixed gas plasma to form a plasma treated surface in which the surface tension of the deposited film surface of silicon oxide is improved by 54 dyne / cm or more. did.
(2). Next, a normal gravure ink composition is used on the surface of the plasma-treated surface of one of the silicon oxide vapor-deposited films of the base film constituting the hydrogen peroxide barrier film produced as described above. A printed pattern layer was formed by printing a predetermined printed pattern consisting of a figure, a symbol, a pattern, and the like.
Next, the entire surface including the printed pattern layer formed above is coated with a two-component curable polyurethane-based dry laminating adhesive by a gravure roll coating method, and then heated at 100 ° C. for 30 seconds. Then, an adhesive layer for dry lamination having a thickness of 4.0 g / m 2 (dry state) was formed.
Subsequently, on the dry-laminate adhesive layer formed above, an unstretched polypropylene film having a thickness of 50 μm was superposed and laminated using a dry lamination method to produce a laminate according to the present invention.
(3). Next, 35% hydrogen peroxide water was vaporized by heating at a rate of 0.05 mg per 10 cm 2 on the surface of the vapor-deposited silicon oxide film constituting the laminated material produced above, and the mist was sprayed. Then, it was dried with heated air and sterilized.
(4). Next, two sheets of the above-mentioned laminated material are prepared, the surfaces of the unstretched polypropylene film located in the innermost layer are overlapped with each other, and thereafter, the three sides of the outer periphery are heat sealed. A three-way seal type liquid sachet is manufactured, and then, from the opening, liquid or viscous seasonings such as soy sauce, sauce, etc. are filled, and then the opening is opened. -Tossed to produce a liquid sachet package according to the present invention.

(比較例1)
(1).基材フィルムとして、厚さ15μmの二軸延伸ナイロン6フィルムを使用し、まず、上記の二軸延伸ナイロン6フィルムをプラズマ化学蒸着装置の送り出しロールに装着し、次いで、これを繰り出し、その2軸延伸ナイロン6フィルムの内面側のコロナ処理面の上に、下記の蒸着条件により、膜厚100Åの酸化珪素の蒸着膜を形成した。
(蒸着条件)
反応ガス混合比;ヘキサメチルジシロキサン:酸素ガス:ヘリウム=1.0:4.0:1.0(単位:slm)
真空チヤンバー内の真空度;5.1Pa
蒸着チヤンバー内の真空度;7.5Pa
冷却・電極ドラム供給電力;15kw
フィルムの搬送速度;150m/min
蒸着面;コロナ処理面
次に、上記で厚さ100Åの酸化珪素の蒸着膜を形成した直後に、その一方の酸化珪素の蒸着膜の面に、グロー放電プラズマ発生装置を使用し、パワー9kw、酸素ガス(O2 ):アルゴンガス(Ar)=7.0:2.5(単位:Slm)からなる混合ガスを使用し、混合ガス圧 6.0×10-2mbar、処理速度 150m/minで酸素/アルゴン混合ガスプラズマ処理を行って、酸化珪素の蒸着膜面の表面張力を54dyne/cm以上向上させてたプラズマ処理面を形成して、過酸化水素バリア性フィルムを製造した。
(2).次いで、上記で製造した過酸化水素バリア性フィルムを構成する酸化珪素の蒸着膜のプラズマ処理面の面に、通常のグラビアインキ組成物を使用し、グラビア印刷方式により、文字、図形、記号、絵柄、その他等からなる所定の印刷模様を印刷して印刷模様層を形成した。
次に、上記で形成した印刷模様層を含む全面に、2液硬化型のポリウレタン系のドライラミネ−ト用接着剤をグラビアロールコート法によりコーティングし、次いで、100℃で30秒間、加熱処理して、厚さ4. 0g/m2 (乾燥状態)のドライラミネ−ト用接着剤層を形成した。
次いで、上記で形成したドライラミネ−ト用接着剤層の上に、厚さ50μmの無延伸ポリプロピレンフィルム重ね合わせてドライラミネ−ション法を利用して積層して、積層材を製造した。
(3).次に、上記で製造した積層材を構成する外面側の2軸延伸ナイロン6フィルムの面に、その10cm2当たり0.05mgの割合で35%過酸化水素水を加熱気化させ、そのミス トを吹き 付け、次いで、加熱エア−にて乾燥して滅菌処理を施した。
(4).次に、上記の積層材を2枚用意し、その最内層に位置する無延伸ポリプロピレンフィルムの面を対向させて重ね合わせ、しかる後、その外周周辺の端部の三方をヒ−トシ−ルして三方シ−ル型の液体小袋を製造し、次いで、その開口部から、例えば、醤油、ソ−ス、その他等の液状ないし粘体状の調味料を充填し、しかる後、その開口部をヒ−トシ−ルして、液体小袋包装体を製造した。
(Comparative Example 1)
(1). A biaxially stretched nylon 6 film having a thickness of 15 μm is used as a base film. First, the above biaxially stretched nylon 6 film is mounted on a feeding roll of a plasma chemical vapor deposition apparatus, and then this is fed out to be biaxial. On the corona-treated surface on the inner surface side of the stretched nylon 6 film, a silicon oxide vapor deposition film having a thickness of 100 mm was formed under the following vapor deposition conditions.
(Deposition conditions)
Reaction gas mixing ratio: hexamethyldisiloxane: oxygen gas: helium = 1.0: 4.0: 1.0 (unit: slm)
Degree of vacuum in the vacuum chamber; 5.1 Pa
Degree of vacuum in the deposition chamber; 7.5 Pa
Cooling and electrode drum power supply: 15 kW
Film transport speed: 150 m / min
Next, immediately after forming the silicon oxide vapor deposition film having a thickness of 100 mm as described above, a glow discharge plasma generator is used on the surface of the silicon oxide vapor deposition film, and the power is 9 kw. A mixed gas consisting of oxygen gas (O 2 ): argon gas (Ar) = 7.0: 2.5 (unit: Slm) is used, and the mixed gas pressure is 6.0 × 10 −2 mbar, and the processing speed is 150 m / min. Then, an oxygen / argon mixed gas plasma treatment was performed to form a plasma treated surface in which the surface tension of the deposited silicon oxide film surface was improved by 54 dyne / cm or more to produce a hydrogen peroxide barrier film.
(2). Next, a normal gravure ink composition is used on the surface of the plasma-treated surface of the silicon oxide vapor deposition film constituting the hydrogen peroxide barrier film produced above, and characters, figures, symbols, and patterns are printed by a gravure printing method. A printed pattern layer was formed by printing a predetermined printed pattern composed of, etc.
Next, the entire surface including the printed pattern layer formed above is coated with a two-component curable polyurethane-based dry laminating adhesive by a gravure roll coating method, and then heated at 100 ° C. for 30 seconds. Then, an adhesive layer for dry lamination having a thickness of 4.0 g / m 2 (dry state) was formed.
Subsequently, a 50 μm-thick unstretched polypropylene film was superposed on the dry laminate adhesive layer formed above and laminated using a dry lamination method to produce a laminate.
(3). Next, 35% hydrogen peroxide water was heated and vaporized at a rate of 0.05 mg per 10 cm 2 on the surface of the biaxially stretched nylon 6 film constituting the laminated material produced above, and the mist was removed. Spraying was then performed, followed by drying with heated air and sterilization.
(4). Next, two sheets of the above-mentioned laminated material are prepared, the surfaces of the unstretched polypropylene film located in the innermost layer are overlapped with each other, and thereafter, the three sides of the outer periphery are heat sealed. A three-way seal type liquid sachet is manufactured, and then, from the opening, liquid or viscous seasonings such as soy sauce, sauce, etc. are filled, and then the opening is opened. -Tossed to produce a liquid sachet package.

(比較例2)
(1).基材フィルムとして、厚さ15μmの二軸延伸ナイロン6フィルムを使用し、まず、その2軸延伸ナイロン6フィルムのコロナ処理面の上に、通常のグラビアインキ組成物を使用し、グラビア印刷方式により、文字、図形、記号、絵柄、その他等からなる所定の印刷模様を印刷して印刷模様層を形成した。
次に、上記で形成した印刷模様層を含む全面に、2液硬化型のポリウレタン系のドライラミネ−ト用接着剤をグラビアロールコート法によりコーティングし、次いで、100℃で30秒間、加熱処理して、厚さ4. 0g/m2 (乾燥状態)のドライラミネ−ト用接着剤層を形成した。
次いで、上記で形成したドライラミネ−ト用接着剤層の上に、厚さ50μmの無延伸ポリプロピレンフィルム重ね合わせてドライラミネ−ション法を利用して積層して、積層材を製造した。
(2).次に、上記で製造した積層材を構成する外面側の2軸延伸ナイロン6フィルムの面に、その10cm2当たり0.05mgの割合で35%過酸化水素水を加熱気化させ、そのミストを吹き付け、次いで、加熱エア−にて乾燥して滅菌処理を施した。
(3).次に、上記の積層材を2枚用意し、その最内層に位置する無延伸ポリプロピレンフィルムの面を対向させて重ね合わせ、しかる後、その外周周辺の端部の三方をヒ−トシ−ルして三方シ−ル型の液体小袋を製造し、次いで、その開口部から、例えば、醤油、ソ−ス、その他等の液状ないし粘体状の調味料を充填し、しかる後、その開口部をヒ−トシ−ルして、液体小袋包装体を製造した。
(Comparative Example 2)
(1). A biaxially stretched nylon 6 film having a thickness of 15 μm is used as a base film. First, a normal gravure ink composition is used on the corona-treated surface of the biaxially stretched nylon 6 film, and the gravure printing method is used. A predetermined printed pattern consisting of characters, figures, symbols, patterns, etc. was printed to form a printed pattern layer.
Next, the entire surface including the printed pattern layer formed above is coated with a two-component curable polyurethane-based dry laminating adhesive by a gravure roll coating method, and then heated at 100 ° C. for 30 seconds. Then, an adhesive layer for dry lamination having a thickness of 4.0 g / m 2 (dry state) was formed.
Subsequently, a 50 μm-thick unstretched polypropylene film was superposed on the dry laminate adhesive layer formed above and laminated using a dry lamination method to produce a laminate.
(2). Next, 35% hydrogen peroxide solution was heated and vaporized at a rate of 0.05 mg per 10 cm 2 on the surface of the biaxially stretched nylon 6 film constituting the laminated material produced above, and the mist was sprayed. Then, it was dried with heated air and sterilized.
(3). Next, two sheets of the above-mentioned laminated material are prepared, the surfaces of the unstretched polypropylene film located in the innermost layer are overlapped with each other, and thereafter, the three sides of the outer periphery are heat sealed. A three-way seal type liquid sachet is manufactured, and then, from the opening, liquid or viscous seasonings such as soy sauce, sauce, etc. are filled, and then the opening is opened. -Tossed to produce a liquid sachet package.

(実験例)
次に、上記の実施例1〜2で製造した積層材と、上記の比較例1〜2で製造した積層材について、下記のデ−タを測定した。
(1).酸素透過度の測定
これは、上記の実施例1〜2、および、比較例1〜2で製造した積層材について、温度23℃、湿度90%RHの条件で、米国、モコン(MOCON)社製の測定機〔機種名、オクストラン(OX−TRAN2/20)〕にて測定した。
(2).水蒸気透過度の測定
これは、上記の実施例1〜2、および、比較例1〜2で製造した積層材について、温度40℃、湿度90%RHの条件で、米国、モコン(MOCON)社製の測定機〔機種名、パ−マトラン(PERMATRAN3/31)〕にて測定した。
(3).残留過酸化水素量の測定
これは、上記の上記の実施例1〜2、および、比較例1〜2で製造した積層材を過酸化水素水のミス トを吹き付け、次いで、加熱エア−にて乾燥後、その積層材10cm2を水100mlに浸漬し、次いで、その水に溶出した過酸化水素濃度を酸素電極法にて測定した。
上記の実験結果を下記の表1に示す。
(Experimental example)
Next, the following data were measured for the laminates produced in Examples 1-2 above and the laminates produced in Comparative Examples 1-2 above.
(1). Measurement of Oxygen Permeability This is about the laminates manufactured in Examples 1-2 and Comparative Examples 1-2 above, manufactured by Mocon, USA under the conditions of a temperature of 23 ° C. and a humidity of 90% RH. The measuring instrument [model name, OXTRAN (OX-TRAN 2/20)] was used.
(2). Measurement of water vapor transmission rate This is a product manufactured by MOCON, USA, under the conditions of a temperature of 40 ° C. and a humidity of 90% RH for the laminated materials produced in Examples 1-2 and Comparative Examples 1-2. The measuring instrument [model name, Permatran 3/31] was used.
(3). Measurement of amount of residual hydrogen peroxide This was done by spraying the layered materials produced in the above Examples 1 and 2 and Comparative Examples 1 and 2 with a mist of hydrogen peroxide solution, and then with heated air. After drying, 10 cm 2 of the laminated material was immersed in 100 ml of water, and then the concentration of hydrogen peroxide eluted in the water was measured by the oxygen electrode method.
The experimental results are shown in Table 1 below.

(表1)
┌────┬────────────┬─────────┐ │ │ 積層材 │ │ │ ├─────┬──────┤残留過酸化水素濃度│ │ │酸素透過度│水蒸気透過度│ │ ├────┼─────┼──────┼─────────┤ │実施例1│10.0 │ 5.5 │ 3.0 │ ├────┼─────┼──────┼─────────┤ │実施例2│ 3.7 │ 3.0 │ 3.0 │ ├────┼─────┼──────┼─────────┤ │比較例1│ 5.0 │ 4.5 │ 50.0 │ ├────┼─────┼──────┼─────────┤ │比較例2│100> │ 7.0 │ 50.0 │ └────┴─────┴──────┴─────────┘ 上記の表1において、酸素透過度の単位は、[cc/m2 /day・23℃・90%RH]であり、水蒸気透過度の単位は、[g/m2 /day・40℃・90%RH]であり、残留過酸化水素濃度の単位は、[ppm]である。
(Table 1)
┌────┬────────────┬─────────┐ │ │ Laminate │ │ │ ├ ─────┬──────┤ Residual hydrogen peroxide concentration│ │ │Oxygen permeability │Water vapor permeability│ │ ├────┼─────┼──────┼─────────┤ │Example 1 │10.0 │ 5.5 │ 3.0 │ ├────┼─────┼──────┼─────────┤ │Example 2│ 3.7 │ 3.0 │ 3.0 │ ├────┼─────┼──────┼─────────┤ │Comparative Example 1 │ 5.0 │ 4.5 │ 50.0 │ ├────┼─────┼──────┼─────────┤ │Comparative Example 2 | 100> │ 7.0 │ 50.0 │ └────┴─────┴──────┴─────────┘ In Table 1 above, the unit of oxygen permeability is [ c / m is 2 / day · 23 ℃ · 90 % RH], the unit of water vapor transmission rate is [g / m 2 / day · 40 ℃ · 90% RH], the unit of the residual concentration of hydrogen peroxide [Ppm].

上記の表1に示す結果より明らかなように、実施例1〜2のものは、残留過酸化水素が殆ど認められず、また、酸素透過度および水蒸気透過度において良好であったが、これに対し、比較例1〜2のものは、残留過酸化水素濃度が著しく高いものであった。   As is clear from the results shown in Table 1 above, in Examples 1 and 2, almost no residual hydrogen peroxide was observed, and oxygen permeability and water vapor permeability were good. On the other hand, those of Comparative Examples 1 and 2 had a remarkably high residual hydrogen peroxide concentration.

本発明は、過酸化水素殺菌方法による食品、医薬品、その他等の無菌充填包装方式に適用することができ、耐過酸化水素バリア性に優れ、かつ、酸素透過性,水蒸気透過性等においても極めて優れ、更に、ラミネ−ト強度を有し、その貯蔵・保管ないし流通中に内容物の風味および食味等を損なうこがなく、例えば、醤油、ソ−ス、出し汁、香辛料、料理用酒類、その他等の液体ないし粘調体からなる調味料類、ス−プ類、果汁類、その他等の各種の液状ないし粘体状の飲食物を充填包装して、種々の形態からなる包装製品を製造し得る過酸化水素バリア性フィルムおよびそれを使用した積層材に関するものである。   The present invention can be applied to aseptic filling and packaging methods such as foods, pharmaceuticals, etc. by the hydrogen peroxide sterilization method, is excellent in hydrogen peroxide barrier resistance, and is extremely excellent in oxygen permeability, water vapor permeability, and the like. It has excellent laminating strength and does not impair the flavor and taste of its contents during storage, storage or distribution. It is possible to manufacture packaging products of various forms by filling and packaging various liquid or viscous foods and beverages such as seasonings, soups, fruit juices, etc. composed of liquids or viscous bodies such as The present invention relates to a hydrogen peroxide barrier film and a laminate using the same.

本発明に係る過酸化水素バリア性フィルムにいてその一例の層構成を示す概略的断面図である。It is a schematic sectional drawing which shows the layer structure of the example in the hydrogen peroxide barrier film which concerns on this invention. 本発明に係る過酸化水素バリア性フィルムにいてその一例の層構成を示す概略的断面図である。It is a schematic sectional drawing which shows the layer structure of the example in the hydrogen peroxide barrier film which concerns on this invention. 図1に示す本発明に係る過酸化水素バリア性フィルムを使用して製造した本発明に係る積層材についてその一例の層構成を示す概略的断面図である。It is a schematic sectional drawing which shows the layer structure of the example about the laminated material based on this invention manufactured using the hydrogen peroxide barrier film which concerns on this invention shown in FIG. 図2に示す本発明に係る過酸化水素バリア性フィルムを使用して製造した本発明に係る積層材についてその一例の層構成を示す概略的断面図である。It is a schematic sectional drawing which shows the layer structure of the example about the laminated material based on this invention manufactured using the hydrogen peroxide barrier film which concerns on this invention shown in FIG. 図3に示す本発明に係る積層材を使用して製袋した本発明に係る包装用袋についてその構成の一例を示す概略的斜視図である。It is a schematic perspective view which shows an example of the structure about the packaging bag which concerns on this invention which bag-made using the laminated material which concerns on this invention shown in FIG. 図3に示す本発明に係る積層材を使用して製袋した本発明に係る包装用袋に内容物を充填包装した包装製品ついてその構成の一例を示す概略的斜視図である。It is a schematic perspective view which shows an example of the structure about the packaging product which filled and packaged the contents in the packaging bag based on this invention bag-made using the laminated material which concerns on this invention shown in FIG. プラズマ化学気相巻き取り式蒸着機の一例を示す概略的構成図である。It is a schematic block diagram which shows an example of a plasma chemical vapor phase winding type vapor deposition machine.

符号の説明Explanation of symbols

1 基材フィルム
2 耐過酸化水素保護膜
2a 化学気相成長法による無機酸化物の蒸着膜
2b 化学気相成長法による有機酸化硅素の蒸着膜
2c 低温プラズマ化学気相成長法による有機酸化硅素の蒸着膜
3 ヒ−トシ−ル性樹脂層
11 ヒ−トシ−ル部
12 開口部
13 内容物
14 上部ヒ−トシ−ル部
15 開封用切れ目
A 過酸化水素バリア性フィルム
B、B1 積層材
C 包装用袋
D 包装製品
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Base film 2 Hydrogen peroxide resistant protective film 2a Inorganic oxide vapor deposition film by chemical vapor deposition 2b Organic silicon oxide vapor deposition film by chemical vapor deposition 2c Organic silicon oxide vapor deposition by low temperature plasma chemical vapor deposition Deposition film 3 Heat seal resin layer 11 Heat seal portion 12 Open portion 13 Contents 14 Upper heat seal portion 15 Opening cut A Hydrogen peroxide barrier film B, B 1 Laminate C Packaging bags D Packaging products

Claims (3)

2軸延伸ポリアミド系樹脂フィルムからなる基材フィルムの片面または両面に、化学気相成長法による無機酸化物の蒸着膜を設け、次いで、その蒸着膜の面に、過酸化水素を加熱気化させた過酸化水素ミストを吹きつけ、凝結させ、
しかる後、過酸化水素ミストを乾燥させて、上記過酸化水素の、基材フィルムへの接触、吸着、浸透を阻止すること
を特徴とする基材フィルムへの過酸化水素の接触、吸着、浸透防止法。
A vapor deposition film of an inorganic oxide by chemical vapor deposition was provided on one or both sides of a base film made of a biaxially stretched polyamide resin film , and then hydrogen peroxide was vaporized by heating on the vapor deposition film surface. Spray and condense hydrogen peroxide mist,
Thereafter, the hydrogen peroxide mist is dried to prevent the hydrogen peroxide from contacting, adsorbing and penetrating the base film, which prevents the hydrogen peroxide from contacting, adsorbing and penetrating the base film. Prevention law.
化学気相成長法による無機酸化物の蒸着膜が、化学気相成長法による有機酸化珪素の蒸着膜からなることを特徴とする上記の請求項に記載する基材フィルムへの過酸化水素の接触、吸着、浸透防止法。 2. The hydrogen peroxide film on the base film according to claim 1 , wherein the inorganic oxide vapor-deposited film by chemical vapor deposition comprises an organic silicon oxide vapor-deposited film by chemical vapor deposition. Contact, adsorption, and permeation prevention methods. 化学気相成長法による無機酸化物の蒸着膜が、低温プラズマ化学気相成長法による有機酸化珪素の蒸着膜からなることを特徴とする上記の請求項1または2に記載する基材フィルムへの過酸化水素の接触、吸着、浸透防止法。 3. The substrate film according to claim 1 or 2 , wherein the vapor-deposited film of the inorganic oxide by the chemical vapor deposition method comprises a vapor-deposited film of organic silicon oxide by the low-temperature plasma chemical vapor deposition method. Hydrogen peroxide contact, adsorption and penetration prevention methods.
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