JP4916152B2 - 半導体装置 - Google Patents
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Description
一般的に、半導体装置には複数のスイッチング素子が作り込まれている。本明細書では、スイッチング素子が形成されている領域をスイッチング素子領域という。スイッチング素子領域は半導体装置内に分散して形成されている。隣接するスイッチング素子領域とスイッチング素子領域の間には、両者間を絶縁分離するための素子分離領域が形成されている。
非特許文献1には、スイッチング素子領域が凸状立体構造内に形成されており、スイッチング素子領域が隣接するスイッチング素子領域から空間的に分離された構造が記載されている。非特許文献1のような構造は、その形状が複雑であり、製造の難易度及び製造に要する工程数が多くなるという問題がある。
このため、扁平状の半導体層を利用して、その半導体層内に複数のスイッチング素子が作り込まれた半導体装置の開発が望まれている。
本発明者らは、窒化ガリウムを用いて同様な構造に関して検討してみると、スイッチング素子領域とスイッチング素子領域の間にリーク電流が流れることを見出した。この現象をより詳細に検討してみると、素子分離領域の半導体層の表面に反転層が形成され、その反転層を介してリーク電流が流れていることを突き止めた。この物理現象は、窒化ガリウムの半導体層の表面に酸化シリコンの層間絶縁膜が形成されている場合、その層間絶縁膜に接する半導体層の界面の導電型が反転することが原因であることを突き止めた。上記の反転現象は、非特許文献2に紹介されている。ただし、非特許文献2は、反転が生じるという一般的知見を述べるにとどまっており、それが現在の素子に与える影響については考察していない。ましてや、素子分離領域にリーク電流が流れるために、スイッチング素子領域の絶縁分離が不十分となることを認識していない。
本発明は、扁平状な半導体層を利用しながらも、スイッチング素子領域とスイッチング素子領域の間の絶縁分離を確保することができる構造を提供することを目的としている。
ここで、本明細書で用いられる用語に関して説明する。
「スイッチング素子」とは、電流の導通状態と非導通状態を経時的に切り替えるために必要な最低限の構成要素を備えた基本的な構造をいう。例えば、トランジスタ、ダイオード等を含む。ダイオードは、順方向の電流に対しては導通し、逆方向の電流に対しては非導通状態になることから、スイッチング素子ということができる。ここでいうスイッチング素子は、広義に理解するべきものである。
「III-V族化合物半導体」とは、III族原子とV族原子の組合せを主材料とする半導体である。本発明は、表面に層間絶縁膜を形成すると表面の導電型が反転してしまうIII-V族化合物半導体に対して有用な技術である。この種のIII-V族化合物半導体には、GaN系、InN系等が含まれる。
前記したように、本発明者らは、III-V族化合物半導体の半導体層を用いた半導体装置において、隣接するスイッチング素子領域とスイッチング素子領域の間に流れるリーク電流の原因が、反転層の発生によるものであるということを突き止めた。隣接するスイッチング素子領域とスイッチング素子領域の間の半導体層の表面に反転層が形成されるのを抑制する構造を形成することによって、隣接するスイッチング素子領域とスイッチング素子領域の間にリーク電流が流れることを抑制することができることを確認した。扁平状の半導体層を利用する場合でも、反転層が形成されるのを抑制することによって、リーク電流が流れることを抑制することができる。
素子分離領域の半導体層の表面に層間絶縁膜が形成されていると、半導体層に対して縦方向には絶縁分離することができる。これにより、層間絶縁膜上に多層配線構造を形成することができる。しかしながら、前記したように、不用意に層間絶縁膜を形成すると、半導体層の表面に反転層が形成されるという問題が起きる。そこで、本発明では、層間絶縁膜の表面に仕事関数の大きい反転抑制膜が設けられた構造を採用する。これにより、半導体層の表面が反転する現象を抑制できる。隣接するスイッチング素子領域とスイッチング素子領域の間にリーク電流が流れることを抑制できるので、半導体層を横方向にも絶縁分離することができる。
隣接するスイッチング素子領域とスイッチング素子領域の間の半導体層の表面に、層間絶縁膜と反転抑制膜を備えた反転抑制構造を形成することによって、隣接するスイッチング素子とスイッチング素子の間の絶縁分離が縦方向及び横方向の両方向に保証された半導体装置を得ることができる。
あるいは、層間絶縁膜と反転抑制膜の組合せ構造は、半導体層がp型のガリウムナイトライド(GaN)を主材料とする場合、層間絶縁膜の主材料に窒化シリコンを選択し、反転抑制膜の主材料にプラチナ又はセレンを選択する。
これらの材料の組合せを選択すると、半導体層の表面の導電型が反転する現象が抑制され、リーク電流が流れることを抑制できる。
さらに反転抑制構造は、隣接するスイッチング素子領域とスイッチング素子領域の間に位置する半導体層の表面に形成されている層間絶縁膜と、その層間絶縁膜の表面に形成されている反転抑制膜を備えている。反転抑制膜の仕事関数が、半導体層の表面の導電型が反転するのを抑制する大きさである。層間絶縁膜の主材料が、酸化シリコン又は窒化シリコンである。
(第1形態) 半導体層が窒化ガリウムであり、層間絶縁膜が酸化シリコンの場合は、反転抑制膜の材料に仕事関数が6.4 eV以上のものを採用するのが好ましい。この条件を満たしていると、半導体層の表面に反転層が形成されるのを抑制できる。この種の反転抑制膜の材料には、硫黄カドニウム(CdS)を用いることができる。
(第2形態) 半導体層が窒化ガリウムであり、層間絶縁膜が窒化シリコンの場合は、反転抑制膜の材料に仕事関数が5.8 eV以上のものを採用するのが好ましい。この条件を満たしていると、半導体層の表面に反転層が形成されるのを抑制できる。この種の反転抑制膜の材料には、プラチナ(Pt)、セレン(Se)等を用いることができる。
半導体装置10は、複数のスイッチング素子領域12、16を備えている。スイッチング素子領域12、16には、MOS(Metal Oxide Semiconductor)型のゲート構造を備えた横型MOSFET(スイッチング素子の一例)が形成されている。紙面右側のスイッチング素子領域12(以下、右側スイッチング素子領域12という)と紙面左側のスイッチング素子領域16(以下、左側スイッチング素子領域16という)の間には、素子分離領域14が設けられており、右側スイッチング素子領域12と左側スイッチング素子領域16の間の絶縁分離を保証している。
半導体装置10は、p型の窒化ガリウム(GaN)の半導体層26を備えている。半導体層26は、サファイア基板22上に窒化ガリウムのバッファ層24を介して形成されている。半導体層26の表面部の一部に、n+型の窒化ガリウムのソース領域32が形成されている。ソース領域32には、チタン(Ti)とアルミニウム(Al)の積層からなるソース電極31が電気的に接続されている。半導体層26の表面部の一部に、n+型の窒化ガリウムのドレイン領域36が形成されている。ドレイン領域36には、チタン(Ti)とアルミニウム(Al)の積層からなるドレイン電極35が電気的に接続されている。ソース領域32とドレイン領域36は、半導体層26によって隔てられている。半導体装置10はさらに、ソース領域32とドレイン領域36の間に位置する半導体層26の表面に、ゲート絶縁膜33を介して対向しているゲート電極34を備えている。ゲート絶縁膜33の主材料には酸化シリコン(SiO2)が用いられており、ゲート電極34の主材料にはアルミニウム(Al)又はニッケル(Ni)が用いられている。
ソース領域32、ドレイン領域36等は紙面垂直方向に長く伸びており、平面視したときに、ストライプ状に配置されており、紙面左右方向に繰返し形成されている。
反転抑制構造40は、右側スイッチング素子領域12と左側スイッチング素子領域14の間に位置する半導体層26の表面部46において、半導体層26の導電型が反転するのを抑制することができる。
(1)半導体層26の導電型(真性の場合も含む)
(2)半導体層26の不純物濃度
(3)層間絶縁膜42の材料
(4)層間絶縁膜42の厚み
上記の(1)〜(4)を加味したした上で、半導体層26の表面46に反転層が形成されないために必要な反転抑制膜42の仕事関数を求めてもよい。ただし、実際には、上記の(1)〜(4)以外の要素によって必要とされる仕事関数は変動することが多く、経験則に基づいた補正を加えることが望ましい。
図2(a)は、本実施例のエネルギーバンド図である。図2(b)は、反転抑制膜44が形成されていない場合の比較例のエネルギーバンド図である。
まず、図2(b)の比較例に示すように、反転抑制膜44が形成されていない場合、半導体層26の表面46において、エネルギーバンドが大きく湾曲することによって、半導体層26の表面46の真性フェルミ準位(Ei)がフェルミ準位(EF)よりも下側に位置している。このため、半導体層26の表面46に電子の存在できる状態が形成されている。半導体層26の表面46に偏在した電子によって反転層が形成される。したがって、右側スイッチング素子領域12のドレイン領域36と、左側スイッチング素子領域16のソース領域32が反転層を介して導通するので、この間にリーク電流が発生してしまう。
一方、図2(a)に示すように、反転抑制膜44が形成されている場合、エネルギーバンドの湾曲の程度が低減される。このため、半導体層26の表面46において、半導体層26の表面46の真性フェルミ準位(Ei)がフェルミ準位(EF)よりも上側に位置するようになる。これにより、半導体層26の表面46に電子が存在することができなくなり、反転層は形成されない。したがって、右側スイッチング素子領域12のドレイン領域36と、左側スイッチング素子領域16のソース領域32の間の絶縁性が保証される。
右側スイッチング素子領域12と左側スイッチング素子領域16の間の半導体層26の表面に、層間絶縁膜42と反転抑制膜44を備えた反転抑制構造40を形成することによって、右側スイッチング素子領域12と左側スイッチング素子領域16の間の絶縁分離が縦方向及び横方向にも保証された半導体装置10を得ることができる。
まず、図3に示すように、サファイア(Al2O3)を主材料とするサファイア基板22を用意する。次に、MOCVD(Metal Organic Chemical Vapor Deposition)法を利用して、サファイア基板22上にバッファ層24を介してp型の窒化ガリウム(GaN)を主材料とする半導体層26を結晶成長する。半導体層26の厚みは約2μmであり、そのキャリア濃度は1×1018cm-3に調整されている。
次に、図4に示すように、半導体層26の表面全体にマスク膜52を形成した後に、マスク膜52の一部をエッチングして除去する。マスク膜52には、USG(Undoped Silicon Glass)膜などが用いられる。次に、エッチング技術を利用して、露出する半導体層26の表面から所定の深さまで半導体層26をエッチングし、半導体層26の表面部に溝54を形成する。溝54の深さは、例えば0.5μmである。
次に、MOCVD(Metal Organic Chemical Vapor Deposition)法を利用して、溝54内にn+型の窒化ガリウム(GaN)のソース領域32及びドレイン領域36を選択成長して形成する。ソース領域32及びドレイン領域36のキャリア濃度は、例えば1×1018cm-3に調整されている。次に、マスク膜52を除去した後に、CVD(Chemical Vapor Deposition)法を利用して、半導体層26、ソース領域42及びドレイン領域36の表面全体に酸化シリコンの絶縁膜30を形成する。絶縁膜30には、HTO(High Temperature Oxide)膜が用いられる。なお、この絶縁膜30は、後にゲート絶縁膜33又は層間絶縁膜42になる。この状態を図5に示す。
次に、図6に示すように、素子分離領域14に対応する絶縁膜30の表面に、MOCVD(Metal Organic Chemical Vapor Deposition)法を利用して、反転抑制膜44を形成する。反転抑制膜44には、硫黄カドニウム(CdS)が用いられている。
次に、ソース領域42及びドレイン領域36に対応する絶縁膜30にコンタクトホールを形成した後に、チタン/アルミニウムをそれぞれ10nm/100nmで蒸着し、ソース電極とドレイン電極を形成する。
次に、リフトオフ法を利用して、ゲート電極を形成する。
ソース電極とドレイン電極のコンタクト性を向上させるために、熱処理(N2雰囲気下、500℃、2分)を実施する。
これらの工程を経て、図1に示す半導体装置10を得ることができる。
図7に、半導体装置100の要部断面図を模式的に示す。
半導体装置100では、素子分離領域14の層間絶縁膜42の一部が除去され、開口144が形成されている。このため、開口144に対応する半導体層26の表面部は層間絶縁膜42が接しておらず、半導体層26の表面部に反転層が形成されない。したがって、右側スイッチング素子領域12と左側スイッチング素子領域16の間にリーク電流が流れることを抑制できる。
なお、素子分離領域14の縦方向の絶縁分離も確保したい場合は、開口144に窒化シリコンを主材料とする絶縁膜を形成するのが好ましい。窒化シリコンと窒化ガリウムの接合面には、酸化シリコンと窒化ガリウムの接合面よりも反転層が形成され難い。したがって、窒化シリコンの絶縁膜を利用すると、縦方向の絶縁分離を確保しながら、リーク電流の発生を低減できる。なお、より確実に反転層の形成を防止したい場合は、窒化シリコンの絶縁膜上にも反転抑制膜を形成するのが好ましい。
図8に、半導体装置200の要部断面図を模式的に示す。
半導体装置200では、素子分離領域14に位置する半導体層26の表面から深部に向けて伸びる絶縁壁244が形成されている。絶縁壁244は、例えば、半導体層26に形成したトレンチ内に、有機オキシラン(TEOS:Si(OC2H5)4)を充填し、熱分解法で硬化させることによって形成することができる。有機オキシランは被膜性が良いので、深いトレンチであっても十分に充填することができ、良質な絶縁壁を形成することができる。
右側スイッチング素子領域12と左側スイッチング素子領域16の間に絶縁壁244が形成されていると、右側スイッチング素子領域12と左側スイッチング素子領域16の間にリーク電流が流れることを抑制できる。
また、本明細書または図面に説明した技術要素は、単独であるいは各種の組合せによって技術的有用性を発揮するものであり、出願時請求項記載の組合せに限定されるものではない。また、本明細書または図面に例示した技術は複数目的を同時に達成し得るものであり、そのうちの一つの目的を達成すること自体で技術的有用性を持つものである。
14:素子分離領域
22:サファイア基板
24:バッファ層
26:半導体層
31:ソース電極
32:ソース領域
33:ゲート絶縁膜
34:ゲート電極
35:ドレイン電極
36:ドレイン領域
40:反転抑制構造
42:層間絶縁膜
44:反転抑制膜
Claims (4)
- 複数のスイッチング素子が作り込まれている半導体装置であり、
第1導電型の不純物を含むIII-V族化合物半導体の半導体層と、
その半導体層の表面部の一部に形成されており、第2導電型の不純物を含むIII-V族化合物半導体のソース領域と、
ソース領域に電気的に接続されているソース電極と、
前記半導体層の表面部の一部に形成されており、前記半導体層によって前記ソース領域から隔てられており、第2導電型の不純物を含むIII-V族化合物半導体のドレイン領域と、
ドレイン領域に電気的に接続されているドレイン電極と、
ソース領域とドレイン領域の間に位置する前記半導体層の表面にゲート絶縁膜を介して対向しているゲート電極と、
ソース領域及びドレイン領域を含むスイッチング素子領域の周囲に位置する前記半導体層の表面の導電型が反転するのを抑制する反転抑制構造と、を備えており、
前記反転抑制構造は、ソース領域及びドレイン領域を含むスイッチング素子領域の周囲に位置する前記半導体層の表面に形成されている層間絶縁膜と、その層間絶縁膜の表面に形成されている反転抑制膜を備えており、
前記反転抑制膜の仕事関数が、前記半導体層の表面の導電型が反転するのを抑制する大きさであり、
層間絶縁膜の主材料が、酸化シリコン又は窒化シリコンである半導体装置。 - 前記半導体層は、p型の窒化ガリウム(GaN)を主材料としており、
層間絶縁膜と反転抑制膜の主材料が、以下の(1)又は(2)の関係である請求項1の半導体装置。
(1)層間絶縁膜が酸化シリコンの場合、反転抑制膜が硫化カドニウムである、
(2)層間絶縁膜が窒化シリコンの場合、反転抑制膜がプラチナ又はセレンである。 - 第1導電型の不純物を含むIII-V族化合物半導体の半導体層に複数のスイッチング素子が作り込まれている半導体装置であり、
スイッチング素子が作り込まれているスイッチング素子領域は、前記半導体層に分散して形成されており、
スイッチング素子領域内の前記半導体層の表面部の一部に、電極に接続されている第2導電型の不純物を含むIII-V族化合物半導体の半導体領域が形成されており、
隣接するスイッチング素子領域とスイッチング素子領域の間に位置する前記半導体層の表面の導電型が反転するのを抑制する反転抑制構造が設けられており、
前記反転抑制構造は、隣接するスイッチング素子領域とスイッチング素子領域の間に位置する前記半導体層の表面に形成されている層間絶縁膜と、その層間絶縁膜の表面に形成されている反転抑制膜を備えており、
前記反転抑制膜の仕事関数が、前記半導体層の表面の導電型が反転するのを抑制する大きさであり、
層間絶縁膜の主材料が、酸化シリコン又は窒化シリコンである半導体装置。 - 前記半導体層は、p型の窒化ガリウム(GaN)を主材料としており、
層間絶縁膜と反転抑制膜の主材料が、以下の(1)又は(2)の関係である請求項3の半導体装置。
(1)層間絶縁膜が酸化シリコンの場合、反転抑制膜が硫化カドニウムである、
(2)層間絶縁膜が窒化シリコンの場合、反転抑制膜がプラチナ又はセレンである。
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