JP4913240B2 - 小型カメラ - Google Patents

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Description

本発明は、携帯情報端末機器等に実装される小型カメラに関するものである。
近年、携帯電話等の情報端末機器は、高機能化が進み、テレビ電話等として使用できるよう撮像機能を備えたものが用いられる。このような機器においては、撮像を行うカメラを小型モジュール化し、回路基板に直接接合する構成が採用される。このカメラモジュールは、一般にCCD(Charge Coupled Device:電荷結合素子)及びCMOS(Complementary Metal Oxide Semiconductor:相補型金属酸化物半導体)等の撮像センサと撮像用のレンズを組み合わせた構成となっている。予め組立てられたカメラモジュールは、他の電子部品と同様に回路基板に半田接合や導電接着剤等の接合手段を用いて実装される。
しかしながら、撮像用のレンズの耐熱温度は、一般の電子部品の接合過程時に印加される温度(例えば、半田接合を用いる場合のリフロー温度、導電接着剤を用いる場合の熱硬化温度)よりも低い。従って、カメラモジュールを回路基板に接合する場合、他の電子部品の接合を終えた後に、カメラモジュールを単独で回路基板に接合する方法が採用されていた。
このカメラモジュールの接合作業は、手作業で行われる。即ち、小型部品であるカメラモジュールは、回路基板上の電極に接合部を位置合わせされた後、熱ダメージが与えられないよう細心の注意を払いながら半田付けされるという複雑な作業を必要としていた。このため、従来のカメラモジュールの実装作業は、生産性が低く、生産性向上のための方策が求められていた。
カメラモジュールの生産性を向上させる技術の例が、特許文献1に開示されている。特許文献1では、受光部上に光学画像を結像させるレンズの材質を、回路基板への電子部品の接合過程における加熱温度よりも高い耐熱温度を有する材質としている。従って、カメラモジュールを他の電子部品と同一の接合工程で回路基板に実装することができ、生産性を向上させることができる。
特開2002−185827号公報
しかしながら、特許文献1では、カメラレンズの材料として、硼珪酸ガラス等の耐熱性ガラスが使われている。一方、レンズを保持するレンズホルダの材料としては、一般的に樹脂が使われる。レンズにガラスを使う場合、ガラスは樹脂に比べ比重が大きいため重くなる。従って、カメラを搭載した機器を地面に落としたり、物にぶつけたりした時の衝撃によって、レンズが機器から外れ易くなる。レンズを外れ難くするためには、レンズを支えるレンズホルダを頑丈に作る必要があるが、その場合、カメラ自体のサイズが大きくなり、コンパクト性が失われる。また、ガラスレンズ自体が衝撃に弱く、過度の衝撃が加わるとレンズが割れるという問題がある。
また、レンズとして使用される光学ガラスの熱膨張率は、0.5×10−5〜1×10−5程度である。一方、レンズホルダに使われる樹脂材料の平均熱膨張率は、2×10−5〜10×10−5とガラスに比べかなり大きい。レンズユニットと回路基板の接合工程時においてリフロー炉に投入されると、レンズユニットと回路基板は、通過搬送されながら200〜300℃近くまで加熱される。従って、レンズホルダの方がレンズに比べ膨張し、更にリフロー炉を通過搬送する時等の衝撃でレンズがレンズホルダ内で動き、レンズが位置ずれする場合がある。その結果、レンズの光軸がセンサに対しずれることになるため、収差が発生し画像劣化が生じるという問題がある。
この問題を解決するために、レンズホルダ材料に、レンズ用ガラスと熱膨張率が近いガラスや、ステンレス等の金属を使う方法がある。しかし、レンズホルダにガラスを使用したカメラは、レンズ同様落下時等の衝撃で壊れやすくなる。また、ガラス及び金属は、樹脂に比べ比重が大きいためレンズホルダも重くなり、衝撃が加わるとレンズホルダとセンサの接続部が外れやすくなる。また、ガラス製のレンズホルダの場合、鋳型を用いて成形する必要があるため、樹脂成形に比べ高温での成形となり量産性に劣る。一方、金属製のレンズホルダの場合、切削、鍛造、及びプレス等の工程を用いて成型する。切削では、一個ずつの加工となり量産性に劣る。一方、鍛造、プレスは量産性には優れるが、鍛造、もしくはプレス工程等によるしわや、加工精度に劣る等の問題があり、カメラ用レンズホルダの量産方法としては適当でない。
以上のことから、本発明は、生産性が高く、機械的衝撃に強く、且つレンズの光軸ずれによる画像劣化が発生しにくい小型カメラを提供することを目的とする。
本発明は、光電変換を行う画素が配列した受光素子と、前記受光素子を保持する基板と、前記受光素子に光学画像を結像させるレンズと、前記レンズを保持し、前記基板に接続するレンズホルダと、を有し、少なくとも前記レンズと前記レンズホルダを形成する材料は、200℃以上の耐熱温度を有する樹脂材料からなり、かつ電子部品の実装工程における加熱温度よりも高い耐熱温度を有する樹脂材料からなる、小型カメラである。
本発明により、生産性が高く、機械的衝撃に強く、且つレンズの光軸ずれによる画像劣化が発生しにくい小型カメラが提供できる。
実施の形態1に係る小型カメラを示す断面図である。 実施の形態1に係る小型カメラの製造方法を示す断面図である。 実施の形態2に係る小型カメラを示す断面図である。 実施の形態3に係る小型カメラを示す断面図である。 実施例1〜3に係る評価試験に使用した小型カメラの断面図である。 実施例5〜7に係る評価試験に使用した小型カメラの断面図である。
以下に、本発明を適用可能な実施の形態を説明する。以下の説明は、本発明の実施形態を説明するものであり、本発明が以下の実施形態に限定されるものではない。また、説明の明確化のため、以下の記載は、適宜、省略及び簡略化がなされている。
発明の実施の形態1.
図面を参照し、本発明の実施の形態1について説明する。本実施形態は、例えば、CCDやCMOS等の固体撮像素子を用いた小型カメラにおいて、携帯用モジュールや小型携帯端末機に搭載されるものを対象とする。始めに、図1及び図2を用いて、本発明の実施の形態1を説明する。
図1は、実施の形態1に係る小型カメラの断面図である。図1に示すように、小型カメラは、回路基板1、ガラス基板2、受光センサ3、レンズホルダ4、赤外線カットフィルタ5、レンズ6を有する。小型カメラは、ガラス基板2及び受光センサ3によって、基板モジュール30を構成する。また、レンズホルダ4、赤外線カットフィルタ5、及びレンズ6によって、レンズユニット40を構成する。また、基板モジュール30とレンズユニット40によって、カメラモジュール20を構成する。図1に示すように、カメラモジュール20は、受光センサ3を載せた基板モジュール30とレンズユニット40により構成され、基板モジュール30を回路基板1に接合することにより、カメラモジュール20全体が回路基板1に接合され、小型カメラとなる。
図2を用いて、実施の形態1に係る小型カメラの製造方法を説明する。図2は、実施の形態1に係る小型カメラの製造方法を示した断面図である。始めに、図2(a)に示すように、予め組み立てられた基板モジュール30とレンズユニット40が接合され、カメラモジュール20が形成される。
基板モジュール30は、撮像用の受光素子であるCCDやCMOSエリアの受光センサ3をガラス基板2上に接合した受光モジュールである。ガラス基板2には、接続用配線パターンが施されており、受光センサ3とは半田バンプ2bにより電気的に接続される。受光センサ3の周囲は、封止材7で封止されている。受光センサ3の上面には光電変換を行う画素が多数格子状に配列された受光部が形成されており、この受光部に光学画像を結像させることにより各画素に蓄電された電荷を画像信号として出力する。
レンズユニット40はレンズホルダ4とレンズ6を備えている。レンズホルダ4は円筒形状を有し、その内側面にレンズ6の外側面を当接し、これを固定している。この例に係るレンズホルダ4は、外側面及び内側面に段差部が形成されている。レンズホルダ4の上部にレンズ6が保持されており、下部が接着剤によりガラス基板2に接合されている。レンズユニット40をガラス基板2に接合する際には、レンズホルダ4内に形成されている段差部がガラス基板2の上面に当接した状態で接合される。これにより、レンズ6と受光センサ3の下面までの距離が、レンズ6による光学画像を結像させるのに適正な高さに保たれ、レンズ6は受光センサ3の受光部に対して正しく位置あわせされる。以上の工程にて、カメラモジュール20が形成される。
次に、図2(b)及び図2(c)を参照してカメラモジュール20を回路基板1へ接合する方法について説明する。このカメラモジュール20は、図示しない他の電子部品を回路基板1に実装する部品実装工程と同時に、回路基板1に接合される。まず、図2(b)に示すように、カメラモジュール20は回路基板1の所定の接合位置に搭載される。そして全ての電子部品の搭載が完了したならば、回路基板1は加熱工程に送られる。その後、半田接合される温度(例えば220℃)まで加熱され、所定時間加熱状態が保持されると、図2(c)に示されるように、カメラモジュール20と回路基板1が接合される。基板モジュール30は回路基板1に半田ボール2aによって接合されるとともに、回路電極(図示せず)により電気的に導通する。回路基板1への接合は、導電性樹脂接着剤による接合でも可能である。
レンズ6は、樹脂によって形成されている。樹脂材料としては、光学的に透明である必要があるため、シリコン系樹脂、エポキシ系樹脂、及びポリスルホン系樹脂等の耐熱光学樹脂材料を使用することができる。また、前記耐熱光学樹脂材料に屈折率、屈折率の温度依存性、熱膨張率等を調整する無機微粒子材料を添加した耐熱樹脂材料を使用することもできる。また、ポリカーボネイト、ノルボルネン系アモルファスポリオレフィン、アクリル、及びオレフィン・マレイミド樹脂等に耐熱性を上げるために無機微粒子を添加した樹脂材料等を使用することもできる。
レンズホルダ4は、光学的には透明である必要がないため、レンズ6にて使用される前述の材料に加え、ポリアミド、ポリイミド、ポリアミドイミド、ポリエーテルスルホン、ポリエーテルイミド、ポリアリレート、ポリスルホン、ポリフタルアミド、ポリフタルイミド、液晶ポリマ、及びエポキシ樹脂等の耐熱エンジニアリング樹脂を使用することができる。
これら樹脂は、リフロー等の一括半田接合時の加熱に耐える必要がある。近年の無鉛半田への対応を考慮すると、耐熱温度は200℃以上であることが望ましく、より好ましくは250℃以上であることが望ましい。レンズユニット40と基板モジュール30とを固定するには、接着剤で接合する方法がとられる。この場合も、リフロー等の一括半田接合に耐えるように、エポキシ系、アクリル系の耐熱接着剤を使用することが望ましい。接着方法は、光硬化でも、熱硬化でも両者併用の硬化方法でも構わない。
レンズユニット40と基板モジュール30との接合方法は、接着に限らない。例えば、接着とかしめを併用する方法を使用してもよい。即ち、位置決めと仮止め用にレンズホルダ4の下部にピンを形成し、基板モジュール30に対応する部分に、予めこのピンが通る穴を形成する。レンズユニット40と基板モジュール30を組合わせた時ピンを穴に通し、レンズの位置決め後、裏側から超音波かしめ機でピンを潰して仮止めし、次に接着剤で本止めする等の接合方法を使用することも可能である。
レンズホルダ4は、レンズ6を保持する部分と、受光センサ3を含む基板モジュール30と接続する部分からなる。レンズホルダ4は、複数部材からなることも可能である。また、レンズホルダ4の内面、及び外面には、基板モジュール30から放射される電磁ノイズの影響を低減させるために、Ni(ニッケル)及びNiP(ニッケル−リン)等の金属層をメッキ、真空蒸着、及びスパッタ法等で形成しても良い。
基板モジュール30は、受光センサ3を形成したSi(シリコン)、GaAs(ガリウム砒素)等の半導体そのもので良いし、受光センサ3を更に別の基板等に貼り付けたものでも良い。
基板モジュール30内のガラス基板2は、光学特性を考慮した場合、厚みを薄くすることが望ましい。即ち、ガラス基板2の厚みが厚くなると、レンズ6から受光センサ3までの距離が長くなり、光学特性に影響が生じるためである。従って、ガラス基板2の厚みは、0.3mm以下となるように形成することが望ましい。
カメラモジュール20を回路基板1に接合するリフロー等の一括半田接合では、回路基板1に装着した状態でリフロー炉等、200℃を超える高温部を通過する。従って、カメラモジュール20内部の気圧は、数十秒から数分の間であるが、常温時の1.5〜2倍となる。この圧力上昇で、レンズユニット40が基板モジュール30から剥がれたり、レンズ6の光軸がずれたりする可能性がある。この気圧差を解消するため、レンズユニット40の側壁に小さな穴を空け、レンズユニット40の内部と外部の圧力差を調整してもよい。この穴は、カメラモジュール20を回路基板1に接合後は、塞ぐことが望ましい。外部からの塵埃が内部に入り、受光センサ3上に付着して欠陥等の原因となるためである。また、気圧差を調整するだけなので、穴の径を10μm程度として欠陥となるような大きな塵埃が入り込めないようにすることもできる。
ここで、レンズユニット40の高さHは、3.5mm以下であることが望ましい。リフロー等の一括半田接合時の加熱において、レンズユニット40全体に温度の不均一が生じる場合、レンズユニット40に歪みが生じる。従って、レンズ6が傾いたりすることによって光軸がずれる。その結果、収差が大きくなり、像がボケたり、像の周辺の歪が大きくなったりする等の光学的な問題を引き起こす。このような歪みによる問題を防ぐために、レンズユニットが均一に加熱されることが望ましい。発明者らは、評価試験による検討の結果、レンズユニットの高さを3.5mm以下にすることで、量産性の良いリフロー等の一括半田接合を行えることをつきとめた。なお、評価試験については、詳細に後述する。
さらに、発明者らは、このカメラにおけるレンズユニット40の高さをH、レンズホルダ4をガラス基板2に接着する部分の接着面積をSとした場合、下記(1)式とすることが望ましいことを発見した。
0.05≦S/(H×H) (1)
(1)式の条件とすることで、レンズユニット40に落下等の衝撃が加わってもレンズユニットが基板から外れたり、ずれる等の度合いが低くなる。なお、(1)式より小さい範囲では、レンズユニット40の高さHが、接着部の面積Sや周長より相対的に高くなる。従って、落下等により衝撃が加わると、レンズユニットにかかるモーメントが大きくなり、外れやすくなる。
また、レンズ6を保持するレンズホルダ4や、レンズホルダ4の外周部の壁を厚くすると、カメラモジュール20自体のサイズが大きくなるため望ましくない。従って、上限は、下記(2)式とすることで十分である。
S/(H×H)≦1 (2)
更に、リフロー等の一括半田接合時の加熱を考慮すると、レンズ6の樹脂材料及びレンズを支えるレンズホルダ4の材料の熱膨張率の関係は、下記(3)式とすることが望ましい。ここで、レンズ6の樹脂材料の熱膨張率はα1、レンズを支えるレンズホルダ4の材料の熱膨張率はα2で示される。
1<α1/α2≦20 (3)
(3)式に示すように、レンズ6の樹脂材料の熱膨張率α1をレンズホルダ4の樹脂材料の熱膨張率α2より大きくしておけば、一括半田接合時の加熱では、レンズ6が常にレンズホルダ4を押す形となり、レンズ6がレンズホルダ4に対しずれにくくなる。しかし、α1/α2が20を越すと、加熱時にレンズ6及びレンズホルダ4に加わる歪みが大きくなりすぎるため、レンズ6やレンズホルダ4が変形したり、レンズ6の固定位置がずれる等の問題を引き起こす。従って、(3)式の範囲の樹脂材料を選定することが望ましい。なお、(3)式に示されるα1/α2は、好ましくは1.5より大きく、より好ましくは2より大きくすることが望ましい。
以上のように、レンズユニット40の材質には、リフローに代表される一括半田接合時の加熱温度よりも耐熱温度の高い材質が用いられるため、加熱過程においてレンズユニットが熱ダメージを受けることがない。従って、カメラモジュール20は、他の電子部品と共に回路基板1に同時に実装することができる。従って、カメラ量産時の生産性を向上させることが可能となる。
また、レンズユニットの高さを3.5mm以下とし、且つカメラの構造を(1)及び(2)式の条件とすることにより、落下時等の衝撃に強い小型カメラを提供することができる。
また、レンズの樹脂材料の熱膨張率、及びレンズホルダ材料の熱膨張率を(3)の条件とすることにより、レンズの光軸がセンサに対しずれ難く収差が低減されるため、カメラ画像が向上する。
発明の実施の形態2.
次に、図面を参照し、本発明の実施の形態2について説明する。本実施形態は、例えば、CCDやCMOS等の固体撮像素子を用いた小型カメラにおいて、携帯用モジュールや小型携帯端末機に搭載されるものを対象とすることは、実施の形態1と同様である。図3を用いて、本発明の実施の形態2を説明する。
図3は、実施の形態2に係る小型カメラの断面図である。小型カメラの構成要素や動作原理等、実施の形態1と同様のものは省略する。図3に示すように、小型カメラは、回路基板11、プリント基板のサブ基板12、レンズホルダ13、レンズ14、赤外線カットフィルタ15、及び受光センサ16を有す。小型カメラは、サブ基板12及び受光センサ16によって、基板モジュール30を構成する。また、レンズホルダ13、赤外線カットフィルタ15、及びレンズ14によって、レンズユニット40を構成する。また、基板モジュール30とレンズユニット40によって、カメラモジュール20を構成する。図3に示すように、カメラモジュール20は、受光センサ16を載せた基板モジュール30とレンズユニット40より構成され、基板モジュール30を回路基板11に接合することにより、カメラモジュール20全体が回路基板11に接合される。
基板モジュール30は、撮像用の受光素子であるCCDやCMOSエリアの受光センサ16をプリント基板で形成されるサブ基板12上に接合した受光モジュールである。サブ基板12には、図示されない接続用配線パターンが施されており、受光センサ16とは図示されないワイヤーボンディング等により電気的に接続される。サブ基板12には、スルーホール12aを形成し、この内側にメッキ等の導電層を形成することで、サブ基板の表裏の配線を電気的に接続する。受光センサ16の上面には光電変換を行う画素が多数格子状に配列された受光部が形成されており、この受光部に光学画像を結像させることにより各画素に蓄電された電荷を画像信号として出力する。基板モジュール30は、半田ボール12bによって回路基板11の図示されない回路電極と接合されることより、電気的に導通する。なお、基板モジュール30と回路基板11との接合は、半田ボール12bによる方法に限らず、導電性樹脂接着剤によって接合される方法も可能である。
レンズユニット40はレンズホルダ13を備えている。レンズホルダ13の上部にレンズ14が保持されており、下部が基板モジュール30に接着剤により固定されている。赤外線カットフィルタ15は、このレンズホルダ13内に保持されている。受光センサ16の気密性は、この赤外線カットフィルタ15とレンズホルダ13と基板モジュール30との接合により保たれている。基板モジュール30に接合されている受光センサ16上にガラス板を配置し、このガラス板とサブ基板の間を気密封止することも可能である。
レンズユニット40は、接着剤によってサブ基板12に接合される。この時、レンズホルダ13下部面とサブ基板12の上面が当接した状態で接合される。レンズ14は、予めレンズ設計時のレンズ14位置に接合されている。従って、レンズ14をレンズホルダ13に接合すると、レンズ14と受光センサ16の下面までの距離が、レンズ14による光学画像の結像に適正な高さに保たれる。即ち、レンズ14は受光センサ16の受光部に対して正しく位置あわせされる。レンズユニット40を基板モジュール30に接合することでカメラモジュール20となる。実施形態1と同様にカメラモジュールを基板11に接合することで、実際に、小型カメラとして利用可能となる。
ここで、レンズユニット40の高さHは、3.5mm以下であることが望ましい。それにより、レンズユニット40全体に伝わる温度が均一化し、量産性良くリフロー等の一括半田接合を行えることは、実施の形態1と同様である。
また、この小型カメラにおけるレンズユニット40の高さをH、レンズホルダ13をサブ基板12に接着する部分の接着面積をSとした場合、前記(1)式とすることが望ましい。それにより、レンズユニット40に落下等の衝撃が加わってもレンズユニット40が基板モジュール30から外れたり、ずれる等の度合いが低くなることは、実施の形態1と同様である。
なお、レンズ14を保持するレンズホルダ13や、レンズホルダ13の外周部の壁を厚くすると、カメラモジュール20自体のサイズが大きくなるため望ましくない。従って、上限は、前記(2)式とすることは、実施の形態1と同様である。
更に、リフロー等の一括半田接続時の加熱を考慮すると、レンズ14の樹脂材料及びレンズを支えるレンズホルダ13の材料の熱膨張率の関係は、前記(3)式とすることが望ましい。ここで、レンズ14の樹脂材料の熱膨張率はα1、レンズを支えるレンズホルダ13の材料の熱膨張率はα2で示される。なお、α1/α2は、1.5より大きく、より好ましくは2より大きくすることが望ましいことは、実施の形態1と同様である。
以上により、実施の形態2においても、実施の形態1と同様の効果が得られる。
発明の実施の形態3.
次に、図面を参照し、本発明の実施の形態3について説明する。本実施形態は、例えば、CCDやCMOS等の固体撮像素子を用いた小型カメラにおいて、携帯用モジュールや小型携帯端末機に搭載されるものを対象とすることは、実施の形態1と同様である。図4を用いて、本発明の実施の形態3を説明する。
図4は、実施の形態3に係る小型カメラの断面図である。小型カメラの構成要素や動作原理等、実施の形態1と同様のものは省略する。図4に示すように、小型カメラは、回路基板60、基板モジュール61、レンズユニット62、及び赤外線カットフィルタ63を有す。小型カメラは、基板モジュール61とレンズユニット62によって、カメラモジュール20を構成する。図4に示すように、カメラモジュール20は、受光センサ61bを載せた基板モジュール61とレンズユニット62より構成され、基板モジュール61を回路基板60に接合することにより、カメラモジュール20全体が回路基板60に接合され小型カメラとなる。
基板モジュール61は、撮像用の受光素子であるCCDやCMOSエリアの受光センサ61bを形成したウェハである。ウェハの表裏には、図示されない接続用配線パターンが施されており、スルーホール61aを形成し、この内側にメッキ等の導電層を形成することで、表裏の配線を電気的に接続する。受光センサ61b面には、光電変換を行う画素が多数格子状に配列された受光部が形成されており、この受光部に光学画像を結像させることにより各画素に蓄電された電荷を画像信号として出力する。基板モジュール61は、半田ボール61cによって回路基板60の図示されない回路電極と接合されることより、電気的に接続する。なお、基板モジュール61と回路基板60との接合は、半田ボール61cによる方法に限らず、導電性樹脂接着剤によって接合される
レンズユニット62は、レンズ62aとレンズホルダ62bが一体形成されている。レンズホルダ62bの下部に切り込みを形成し、レンズホルダ62bを基板モジュール61に固定する際に、赤外線カットフィルタ63を挟み込んで固定する。レンズユニット62は、レンズ62aとレンズホルダ62bが一体形成されるため、気密性が保持される。従って、受光センサ61bの気密性は、レンズユニット62と基板モジュール61との接着により保たれている。気密性については、基板モジュール61で、ウェハ上に保護用のガラス板を用いて気密封止してもよい。ガラス保護板を使う場合は、ガラス保護板上に赤外線カットフィルタ63を形成することも可能である。その場合、部品点数が削減される効果がある。
ここで、レンズユニット62の高さHは、3.5mm以下であることが望ましい。それにより、レンズユニット62全体に伝わる温度が均一化し、量産性良くリフロー等の一括半田接合を行えることは、実施の形態1と同様である。
また、この小型カメラにおけるレンズユニット62の高さをH、レンズホルダ62bを基板モジュール61に接着する部分の接着面積をSとした場合、前記(1)式とすることが望ましい。それにより、レンズユニット62に落下等の衝撃が加わってもレンズユニット62が基板モジュール61から外れたり、ずれる等の度合いが低くなることは、実施の形態1と同様である。
なお、レンズ62aを保持するレンズホルダ62bや、レンズホルダ62bの外周部の壁を厚くすると、カメラモジュール20自体のサイズが大きくなり望ましくない。従って、上限は、前記(2)式とすることは、実施の形態1と同様である。
更に、リフロー等の一括半田接続時の加熱を考慮すると、レンズ62aの樹脂材料及びレンズを支えるレンズホルダ62bの材料の熱膨張率の関係は、前記(3)式とすることが望ましい。ここで、レンズ14の樹脂材料の熱膨張率はα1、レンズを支えるレンズホルダ13の材料の熱膨張率はα2で示される。なお、α1/α2は、1.5より大きく、より好ましくは2より大きくすることが望ましいことは、実施の形態1と同様である。
以上により、実施の形態3においても、実施の形態1と同様の効果が得られる。
次に、前述した(1)及び(2)式の結果を導き出した評価試験について説明する。始めに、実施例1〜3及び実施例1〜3に対する比較例1を用いた評価試験について説明する。実施例1〜3及び比較例1の評価試験は、図5の断面構造を有するカメラにて実施された。受光センサ3には、1/8インチサイズ、画素数30万画素のCMOSセンサを用いた。
レンズホルダ4には、液晶ポリマを使い、レンズ6は、Si樹脂の成形で一枚玉の非球面レンズを用いた。液晶ポリマ材料は、東レ株式会社製液晶ポリエステル樹脂「シベラス」、或いはポリプラスチック社製液晶ポリマ「ベクトラ」を使用する。レンズホルダ4には、圧入されたレンズ6が保持できるよう溝が形成されている。レンズ6圧入後、レンズ6とレンズホルダ4は、2液混合タイプの熱硬化性エポキシ接着剤で接合した。同様にレンズホルダ6と基板モジュール30のガラス基板2との接着にも、2液混合タイプの熱硬化性エポキシ接着剤を用いた。
カメラサンプルは、レンズホルダ4の上面からガラス基板2上面までの高さ(H)を3mmの一定とし、レンズホルダ4の厚み条件別に、各10,000個が作成された。以下に実施例1〜3、及び実施例1〜3に対する比較例1に係るレンズホルダ4の厚み条件を示す。
実施例1
実施例1の小型カメラは、レンズホルダ4の厚みが下記条件において作成される。なお、カメラ構造は、図5に示されるものと同等である。
S/(H×H)=0.1
実施例2
実施例2の小型カメラは、レンズホルダ4の厚みが下記条件において作成される。なお、カメラ構造は、図5に示されるものと同等である。
S/(H×H)=0.2
実施例3
実施例3の小型カメラは、レンズホルダ4の厚みが下記条件において作成される。なお、カメラ構造は、図5に示されるものと同等である。
S/(H×H)=0.3
実施例4
実施例4の小型カメラは、レンズホルダ4の厚みが下記条件において作成される。なお、カメラ構造は、図5に示されるものと同等である。
S/(H×H)=0.45
比較例1
比較例1の小型カメラは、レンズホルダの厚みが下記条件において作成される。下記条件は、実施例1〜4と比べ、レンズホルダ4の外壁厚みが薄い。なお、カメラ構造は、図5に示されるものと同等である。
S/(H×H)=0.03
実施例1〜4、比較例1のカメラモジュール各10,000個をカメラの画像評価が可能なように配線パターンを形成した回路基板1に、通常接合される他の抵抗、コンデンサ、ICと一緒に搭載し、リフロー炉に通して接合した。リフロー炉の加熱プロファイルは、予備加熱170〜190℃を60秒行い、その後本加熱220〜240℃を30秒行うものである。加熱後、実装済み回路基板はリフロー炉から外に取り出される。
リフロー炉での実装後、カメラ外観、及び画像を検査する。画像は、テストチャートを小型カメラで写し、その画像を目視で検査する。引き続き、実装済み回路基板の落下試験を行う。実装済み回路基板を直接落下させると、回路基板自体がダメージを受けるので、直方体形状のアルミのケースに一個ずつ固定し、落下試験を行う。落下試験は、高さ1.5mから、各面1回ずつ落下させる。落下試験後、再度カメラ部分の外観と画像を同様に検査した。結果を表1に示す。
Figure 0004913240
表1によるリフロー炉による実装試験、及び落下試験の結果、レンズユニット40の高さをH、レンズユニット40をガラス基板2に接着する部分の接着面積をSとしたとき、0.05≦S/(H×H)とすることで、カメラ不良率を下げる効果があることが判明した。
次に、実施例5〜7及び実施例5〜7に対する比較例2を用いた評価試験について説明する。実施例5〜7及び比較例2の評価試験は、図6の断面構造を有するカメラにて実施された。受光センサ61bには、1/8インチサイズ、画素数30万画素のCMOSセンサを用いた。
レンズホルダ62bには、液晶ポリマを使い、レンズ62aは、Si樹脂の成形で一枚玉の非球面レンズである。レンズ62aを樹脂成形で作成後、このレンズ62aをレンズユニット62の金型にいれ、インサート成形法によって、レンズホルダ62bとレンズ62aが一体となったレンズユニット62を作成する。レンズホルダ62bと基板モジュール61との接着には、2液混合タイプの熱硬化性エポキシ接着剤を用いた。
カメラサンプルは、レンズホルダ62bと基板モジュール61との接着の厚みを0.1mm、接着面積Sを一定とする。そして、レンズユニット62上面から基板モジュール61上面までの高さ(H)条件、及びレンズホルダ62bの厚み条件別に金型を作成し、各10,000個のカメラサンプルが作成された。レンズは、各高さで性能が出るようにレンズ面形状を最適設計し、それにあわせて金型も作製してレンズを作製した。以下に、実施例5〜7、及び実施例5〜7に対する比較例2の高さ(H)条件を示す。
実施例5
実施例5の小型カメラは、レンズユニット62上面から基板モジュール61までの高さ(H)が3.5mm、レンズホルダ62bの厚みが下記条件において作成される。なお、カメラ構造は、図6に示されるものと同等である。
S/(H×H)=0.06
実施例6
実施例6の小型カメラは、レンズユニット62上面から基板モジュール61までの高さ(H)が3.0mm、レンズホルダ62bの厚みが下記条件において作成される。なお、カメラ構造は、図6に示されるものと同等である。
S/(H×H)=0.08
実施例7
実施例7の小型カメラは、レンズユニット62上面から基板モジュール61までの高さ(H)が2.5mm、レンズホルダ62bの厚みが下記条件において作成される。なお、カメラ構造は、図6に示されるものと同等である。
S/(H×H)=0.11
比較例2
比較例2の小型カメラは、レンズユニット62上面から基板モジュール61までの高さ(H)が4.5mm、レンズホルダ62bの厚みが下記条件で作成される。下記条件は、実施例5〜7と比べ、レンズホルダ62bの外壁厚みが薄い。なお、カメラ構造は、図6に示されるものと同等である。
S/(H×H)=0.03
実施例5〜7、比較例2のカメラモジュール各10,000個をカメラの画像評価が可能なように配線パターンを形成した回路基板60に、通常接合される他の抵抗、コンデンサ、ICと一緒に搭載し、リフロー炉に通して接合した。リフロー炉の加熱プロファイルは、予備加熱170℃〜190℃を60秒行い、その後本加熱220〜240℃を30秒行うものである。加熱後、実装済み回路基板はリフロー炉から外に取り出される。
リフロー炉での実装後、カメラの外観、及び画像を検査する。画像は、テストチャートを小型カメラで写し、その画像を目視で検査する。引き続き、実装済み回路基板の落下試験を行う。実装済み回路基板を直接落下させると、回路基板自体がダメージを受けるので、直方体形状のアルミのケースに一個ずつ固定し、落下試験を行う。落下試験は、高さ1.5mから、各面1回ずつ落下させる。落下試験後、再度カメラ部分の外観と画像を同様に検査した。結果を表2に示す
Figure 0004913240
表2によるリフロー炉による実装試験、及び落下試験の結果、 レンズユニット62の高さを3.5mm以下にすることで、カメラ不良率を下げる効果があると判明した。
なお、本発明は、上記の各実施形態に限定されるものではない。本発明の範囲において、上記の実施形態の各要素を、当業者であれば用意に考えうる内容に変更、追加、変換することができる。
1 回路基板、 2 ガラス基板、 2a 半田ボール、
2b 半田バンプ、 3 受光センサ、 4 レンズホルダ、
5 赤外線カットフィルタ、 6 レンズ、 7 封止材、
11 回路基板、 12 サブ基板、 12a スルーホール、
12b 半田ボール、 13 レンズホルダ、 14 レンズ、
15 赤外線カットフィルタ、 16 受光センサ、
20 カメラモジュール、 30 基板モジュール、
40 レンズユニット、
60 回路基板、 61 基板モジュール、
61a スルーホール、 61b 受光センサ、 61c 半田ボール、
62 レンズユニット、 62a レンズ、 62b レンズホルダ、
63 赤外線カットフィルタ

Claims (6)

  1. 情報端末機器の回路基板に対してリフロー方式で実装される小型カメラであって、
    光電変換を行う画素が配列した受光素子と、
    前記受光素子を保持する基板と、
    前記受光素子に光学画像を結像させるレンズと、
    前記レンズを保持し、前記基板に接続するレンズホルダと、を備え、
    前記レンズを形成する材料は、200℃以上の耐熱温度を有し、かつ、前記リフロー方式の実装工程における加熱温度よりも高い耐熱温度を有し、
    前記レンズホルダを形成する材料は、200℃以上の耐熱温度を有し、かつ、前記リフロー方式の実装工程における加熱温度よりも高い耐熱温度を有する樹脂材料からなり、
    さらに、前記レンズと前記レンズホルダを有するレンズユニットの高さが3.5mm以下である
    ことを特徴とする小型カメラ。
  2. 請求項1に記載の小型カメラにおいて、
    前記耐熱温度は、250℃以上である
    ことを特徴とする小型カメラ。
  3. 請求項1または請求項2のいずれかに記載の小型カメラにおいて、
    前記レンズホルダの材料は、シリコン系樹脂、エポキシ系樹脂、及びポリスルホン系樹脂である耐熱光学樹脂材料、或いは前記耐熱光学樹脂材料、ポリカーボネイト、ノルボルネン系アモルファスポリオレフィン、アクリル、オレフィン・マレイミド樹脂に無機微粒子を添加した樹脂材料の他、ポリアミド、ポリイミド、ポリアミドイミド、ポリエーテルスルホン、ポリエーテルイミド、ポリアリレート、ポリフタルアミド、ポリフタルイミド、液晶ポリマに挙げられる樹脂材料である
    ことを特徴とする小型カメラ。
  4. 請求項1から請求項3のいずれかに記載の小型カメラにおいて、
    前記レンズと前記レンズホルダを有するレンズユニットの高さをH、前記レンズホルダと前記基板との接続部分の面積をSとしたとき、0.05≦S/(H×H)及びS/(H×H)≦1の少なくとも一方の条件を満足する
    ことを特徴とする小型カメラ。
  5. 情報端末機器の回路基板に対してリフロー方式で実装される小型カメラであって、
    光電変換を行う画素が配列した受光素子と、
    前記受光素子を保持する基板と、
    前記受光素子に光学画像を結像させるレンズと、
    前記レンズを保持し、前記基板に接続するレンズホルダと、備え
    前記レンズを形成する材料は200℃以上の耐熱温度を有し、かつ、前記リフロー方式の実装工程における加熱温度よりも高い耐熱温度を有し、
    前記レンズホルダを形成する材料は、200℃以上の耐熱温度を有し、かつ、前記リフロー方式の実装工程における加熱温度よりも高い耐熱温度を有する樹脂材料からなり、
    前記レンズと前記レンズホルダを有するレンズユニットの高さをH、前記レンズホルダと前記基板との接続部分の面積をSとしたとき、0.05≦S/(H×H)及びS/(H×H)≦1の少なくとも一方の条件を満足する
    ことを特徴とする小型カメラ。
  6. 回路基板と、
    請求項1から請求項5のいずれかに記載の小型カメラと、を具備した情報端末機器であって、
    前記小型カメラは前記回路基板に対してリフロー方式で実装されることにより、前記受光素子と前記回路基板間の電気接続が確保されている
    ことを特徴とする情報端末機器。
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