JP4901176B2 - Display device - Google Patents
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Description
この発明は、表示装置に係り、特に、配線不良を検査するための検査用配線部を備えた表示装置に関する。 The present invention relates to a display device, and more particularly, to a display device provided with an inspection wiring section for inspecting a wiring defect.
液晶表示装置などの表示装置は、マトリクス状の表示画素によって構成された有効表示部を備えている。この有効表示部は、表示画素の行方向に沿って延在する複数の走査線、表示画素の列方向に沿って延在する複数の信号線、これら走査線と信号線との交差部付近に配置されたスイッチング素子、スイッチング素子に接続された画素電極などを備えている。 A display device such as a liquid crystal display device includes an effective display unit configured by matrix display pixels. The effective display section includes a plurality of scanning lines extending along the row direction of the display pixels, a plurality of signal lines extending along the column direction of the display pixels, and in the vicinity of an intersection between the scanning lines and the signal lines. A switching element arranged, a pixel electrode connected to the switching element, and the like are provided.
有効表示部の各走査線や各信号線に接続された配線群は、有効表示部の周囲に配置されている。このような配線群でのショートや断線、さらには有効表示部でのショートや断線などの表示パネル上での配線不良を検査する検査配線を同一の表示パネル上に備えた表示装置が提案されている(例えば、特許文献1参照。)。
このような表示パネルを製造する過程において、検査用配線が損傷を受けたり、隣接する検査用配線の間に導電性を有する異物が付着したりすると、表示パネルの配線不良を検査することが困難となる。 In the process of manufacturing such a display panel, it is difficult to inspect the display panel for wiring defects if the inspection wiring is damaged or if a conductive foreign substance adheres between adjacent inspection wirings. It becomes.
そこで、この発明は、上述した問題点に鑑みなされたものであって、その目的は、表示パネル上の配線不良を安定して検査することが可能であり、しかも、製造歩留まりの低下を抑制することが可能な表示装置を提供することにある。 Therefore, the present invention has been made in view of the above-described problems, and an object of the present invention is to stably inspect a wiring defect on a display panel and to suppress a decrease in manufacturing yield. An object of the present invention is to provide a display device that can perform the above-described operation.
本実施形態によれば、
複数の表示画素によって構成された有効表示部と、
前記有効表示部の外側に位置する外周部に配置された複数の配線からなる配線群と、
前記有効表示部及び前記配線群における配線不良を検査するための検査用配線部と、を備え、
前記検査用配線部は、
各々第1コンタクト部を有する複数の第1配線パターンからなる第1配線パターン群と、
第1配線パターンのそれぞれとは離間し各々第2コンタクト部を有する複数の第2配線パターンからなる第2配線パターン群と、
前記第1コンタクト部と前記第2コンタクト部との間に位置する絶縁膜と、
検査用配線部のほぼ全体を覆うように島状に配置され、複数の開口部を有する平坦化膜であって、前記開口部の各々は、単一の前記第1配線パターンの前記第1コンタクト部を露出し、単一の前記第2配線パターンの前記第2コンタクト部を露出し、しかも、前記第1コンタクト部と前記第2コンタクト部との間に位置する前記絶縁膜を露出するように形成された平坦化膜と、
前記平坦化膜の各開口部に個別に配置された複数の第3配線パターンからなる第3配線パターン群であって、前記第3配線パターンの各々は、前記第1コンタクト部及び前記第2コンタクト部に接触するとともに前記第1コンタクト部と前記第2コンタクト部との間に位置する前記絶縁膜上に延在している第3配線パターン群と、
を備え、前記平坦化膜は、隣接する前記第3配線パターンの間に位置し前記第3配線パターンを各々区画することを特徴とする表示装置が提供される。
According to this embodiment,
An effective display unit composed of a plurality of display pixels;
A wiring group consisting of a plurality of wirings arranged on the outer periphery located outside the effective display part;
An inspection wiring section for inspecting a wiring defect in the effective display section and the wiring group,
The inspection wiring section is
A first wiring pattern group comprising a plurality of first wiring patterns each having a first contact portion ;
A second wiring pattern group consisting of a plurality of second wiring patterns that are spaced apart from each of the first wiring patterns and each have a second contact portion ;
An insulating film positioned between the first contact portion and the second contact portion;
The planarizing film is arranged in an island shape so as to cover substantially the entire wiring part for inspection and has a plurality of openings , each of the openings being the first contact of the single first wiring pattern So that the second contact portion of the single second wiring pattern is exposed, and the insulating film located between the first contact portion and the second contact portion is exposed. A formed planarization film;
A third wiring pattern group consisting of a plurality of third wiring patterns individually disposed in each opening of the planarization film , wherein each of the third wiring patterns includes the first contact portion and the second contact; A third wiring pattern group that contacts the portion and extends on the insulating film located between the first contact portion and the second contact portion ;
The flattening film is located between the adjacent third wiring patterns and partitions the third wiring patterns . The display device is provided .
この発明によれば、表示パネル上の配線不良を安定して検査することが可能であり、しかも、製造歩留まりの低下を抑制することが可能な表示装置を提供することができる。 According to the present invention, it is possible to provide a display device capable of stably inspecting a wiring defect on a display panel and suppressing a decrease in manufacturing yield.
以下、この発明の一実施の形態に係る表示装置、特に液晶表示装置について図面を参照して説明する。 Hereinafter, a display device, particularly a liquid crystal display device according to an embodiment of the present invention will be described with reference to the drawings.
図1に示すように、液晶表示装置は、略矩形平板状の表示パネルとして液晶表示パネル1を備えている。この液晶表示パネル1は、一対の基板すなわちアレイ基板3及び対向基板4と、これら一対の基板の間に光変調層として保持された液晶層5と、によって構成されている。この液晶表示パネル1は、画像を表示する矩形状の有効表示部6を備えている。この有効表示部6は、マトリクス状に配置された複数の表示画素PXによって構成されている。
As shown in FIG. 1, the liquid crystal display device includes a liquid
アレイ基板3は、有効表示部6において、表示画素PXの行方向に沿って延在する複数の走査線Y(1、2、3、…、m)、表示画素PXの列方向に沿って延在する複数の信号線X(1、2、3、…、n)、これら走査線Yと信号線Xとの交差部付近において表示画素PX毎に配置されたスイッチング素子7、スイッチング素子7に接続された画素電極8などを備えている。
In the
スイッチング素子7は、薄膜トランジスタ(TFT)などで構成されている。このスイッチング素子7のゲート電極7Gは、対応する走査線Yに電気的に接続されている(あるいは走査線と一体に形成されている)。スイッチング素子7のソース電極7Sは、対応する信号線Xに電気的に接続されている(あるいは信号線と一体に形成されている)。スイッチング素子7のドレイン電極7Dは、対応する表示画素PXの画素電極8に電気的に接続されている。
The switching element 7 is composed of a thin film transistor (TFT) or the like. The
対向基板4は、有効表示部6において、全表示画素PXに共通の対向電極9などを備えている。これらアレイ基板3及び対向基板4は、画素電極8と対向電極9とを対向させた状態で配設され、これらの間にギャップを形成する。液晶層5は、アレイ基板3と対向基板4とのギャップに封止された液晶組成物によって形成されている。
The
カラー表示タイプの液晶表示装置では、液晶表示パネル1は、複数種類の表示画素、例えば赤(R)を表示する赤色画素、緑(G)を表示する緑色画素、青(B)を表示する青色画素を有している。すなわち、赤色画素は、赤色の主波長の光を透過する赤色カラーフィルタを備えている。緑色画素は、緑色の主波長の光を透過する緑色カラーフィルタを備えている。青色画素は、青色の主波長の光を透過する青色カラーフィルタを備えている。これらカラーフィルタは、アレイ基板3または対向基板4の主面に配置される。
In the color display type liquid crystal display device, the liquid
液晶表示パネル1は、有効表示部6の外側に位置する外周部10に駆動信号源として駆動ICチップ11を配置可能である。図1に示した例では、駆動ICチップ11は、対向基板4の端部4Aより外方に延在したアレイ基板3の延在部10A上に配置されている。なお、液晶表示パネル1は、有効表示部6に駆動信号を供給する駆動回路を有するフレキシブル配線基板を接続可能な接続パッド部を、駆動ICチップ11と同様に延在部10A上に配置しても良い。
In the liquid
液晶表示パネル1に実装された駆動ICチップ11は、有効表示部6の各信号線Xに駆動信号(映像信号)を供給する信号線駆動部11X、及び、有効表示部6の各走査線Yに駆動信号(走査信号)を供給する走査線駆動部11Yを有している。
The driving
走査線駆動部11Yは、例えば、奇数番走査線Y(1、3、5、…)に対して駆動信号を出力する第1駆動部11Y1、及び、偶数番走査線Y(2、4、6、…)に対して駆動信号を出力する第2駆動部11Y2を含んで構成されてもよい。これら第1駆動部11Y1及び第2駆動部11Y2は、信号線駆動部11Xを挟んだ両側にそれぞれ配置されている。
For example, the scanning line driving unit 11Y outputs a driving signal to the odd-numbered scanning lines Y (1, 3, 5,...) And the even-numbered scanning lines Y (2, 4, 6). ,... May include a second drive unit 11Y2 that outputs a drive signal. The first drive unit 11Y1 and the second drive unit 11Y2 are respectively disposed on both sides of the signal
より詳細には、第1駆動部11Y1は、外周部10の一端側10Bに配置された第1配線群20を介して奇数番走査線Y(1、3、5、…)と電気的に接続されている。この第1配線群20は、奇数番走査線Y(1、3、5、…)のそれぞれに接続された配線W(1、3、5、…)によって構成されている。つまり、第1駆動部11Y1から出力された駆動信号は、各配線W(1、3、5、…)を介して対応する奇数番走査線Y(1、3、5、…)に供給され、奇数行目の表示画素PXをオン・オフさせる。すなわち、奇数行目の各表示画素PXに含まれるスイッチング素子7は、対応する走査線Yから供給された駆動信号に基づいてオン・オフ制御される。
More specifically, the first driving unit 11Y1 is electrically connected to the odd-numbered scanning lines Y (1, 3, 5,...) Via the
第2駆動部11Y2は、外周部10の他端側10Cに配置された第2配線群30を介して偶数番走査線Y(2、4、6、…)と電気的に接続されている。この第2配線群30は、偶数番走査線Y(2、4、6、…)のそれぞれに接続された配線W(2、4、6、…)によって構成されている。つまり、第2駆動部11Y2から出力された駆動信号は、各配線W(2、4、6、…)を介して対応する偶数番走査線Y(2、4、6、…)に供給され、偶数行目の表示画素PXをオン・オフさせる。すなわち、偶数行目の各表示画素PXに含まれるスイッチング素子7は、対応する走査線Yから供給された駆動信号に基づいてオン・オフ制御される。
The second driving unit 11Y2 is electrically connected to the even-numbered scanning lines Y (2, 4, 6,...) Via the
また、信号線駆動部11Xは、各信号線X(1、2、3、…)と電気的に接続されている。各列の各表示画素PXに含まれるスイッチング素子7は、オンしたタイミングで対応する信号線Xから供給された映像信号を画素電極8に書き込む。
Further, the
アレイ基板3は、図1に示すように、外周部10における第1配線群20の各配線間の配線不良、第2配線群30の各配線間の配線不良、及び、有効表示部6における配線不良を検査するための検査用配線部40を備えている。この検査用配線部40は、駆動ICチップ11が配置される領域に対応して形成されている。
As shown in FIG. 1, the
図2に示すように、検査用配線部40は、信号線駆動部11Xに対応して設けられた信号線検査部41、走査線駆動部11Yの第1駆動部11Y1に対応して設けられた第1走査線検査部42、第2駆動部11Y2に対応して設けられた第2走査線検査部43、及び、各検査部41、42、43に各種信号を入力するためのパッド部44を有している。
As shown in FIG. 2, the
信号線検査部41は、各信号線Xに接続された信号線検査用配線51を備えている。また、信号線検査部41は、各信号線X(1、2、…、n)と信号線検査用配線51(R、G、B)との間にスイッチ素子61を備えている。これらのスイッチ素子61は、例えば薄膜トランジスタによって構成されている。
The signal
すなわち、各スイッチ素子61のゲート電極61Gは、スイッチ信号線55に電気的に接続されている。また、各スイッチ素子61のソース電極61Sは、対応する信号線検査用配線51(R、G、B)に電気的に接続されている。さらに、各スイッチ素子61のドレイン電極61Dは、対応する信号線Xに電気的に接続されている。
That is, the gate electrode 61G of each
第1走査線検査部42は、第1配線群20の各配線21、例えば配線W1、W3、W5…に接続された第1検査用配線52を備えている。また、第1走査線検査部42は、各配線21と第1検査用配線52との間にスイッチ素子62を備えている。これらのスイッチ素子62は、例えば薄膜トランジスタによって構成されている。
The first scanning
すなわち、各スイッチ素子62のゲート電極62Gは、スイッチ信号線55に電気的に接続されている。また、各スイッチ素子62のソース電極62Sは、対応する第1検査用配線52に電気的に接続されている。さらに、各スイッチ素子62のドレイン電極62Dは、対応する配線21に電気的に接続されている。
That is, the
第2走査線検査部43は、第2配線群30の各配線31、例えば配線W2、W4、W6…に接続された第2検査用配線53を備えている。また、第2走査線検査部43は、各配線31と第2検査用配線53との間にスイッチ素子63を備えている。これらのスイッチ素子63は、例えば薄膜トランジスタによって構成されている。
The second scanning
すなわち、各スイッチ素子63のゲート電極63Gは、スイッチ信号線55に電気的に接続されている。また、各スイッチ素子63のソース電極63Sは、対応する第2検査用配線53に電気的に接続されている。さらに、各スイッチ素子63のドレイン電極63Dは、対応する配線31に電気的に接続されている。
That is, the
パッド部44は、信号線検査用配線51の一端部に駆動信号の入力を可能とする入力パッド71、第1検査用配線52の一端部に駆動信号の入力を可能とする入力パッド72、第2検査用配線53の一端部に駆動信号の入力を可能とする入力パッド73、及び、スイッチ信号線55の一端部に駆動信号の入力を可能とする入力パッド75を備えている。
The
入力パッド71から入力される駆動信号は、検査段階において各表示画素PXの画素電極8に書き込まれる検査用映像信号である。入力パッド72及び73から入力される駆動信号は、検査段階において各表示画素PXのスイッチング素子7のオン・オフを制御するための検査信号である。入力パッド75から入力される駆動信号は、検査段階において、信号線検査部41のスイッチ素子61、第1走査線検査部42のスイッチ素子62、及び、第2走査線検査部43のスイッチ素子63のオン・オフを制御するためのスイッチ信号である。
The drive signal input from the
各信号線X(1、2、…n)、第1配線群20の各配線21、及び、第2配線群30の各配線31は、それぞれの中途部に駆動ICチップ11との接続を可能とする接続パッドPDを備えている。
Each signal line X (1, 2,... N), each
上述したような構成の液晶表示装置によれば、有効表示部の両端側から奇数番走査線及び偶数番走査線にそれぞれ駆動信号を供給可能なレイアウトにおいて、奇数番走査線に駆動信号を供給するための第1配線群を構成する第1配線に対して検査信号を入力することが可能となるとともに、偶数番走査線に駆動信号を供給するための第2配線群を構成する第2配線に対して検査信号を入力することが可能となる。このため、第1配線群における配線間でのショートや各配線の断線、及び、第2配線群における配線間でのショートや各配線の断線といったパネル上での配線不良を確実に検出することが可能となる。 According to the liquid crystal display device having the above-described configuration, the drive signal is supplied to the odd-numbered scan lines in the layout in which the drive signals can be supplied to the odd-numbered scan lines and the even-numbered scan lines from both ends of the effective display section. The inspection signal can be input to the first wiring constituting the first wiring group for the second wiring group and the second wiring constituting the second wiring group for supplying the drive signal to the even-numbered scanning line. In contrast, an inspection signal can be input. For this reason, it is possible to reliably detect a wiring defect on the panel such as a short circuit between the wirings in the first wiring group or a disconnection of each wiring, and a short circuit between the wirings in the second wiring group or a disconnection of each wiring. It becomes possible.
また、信号線検査部41、第1走査線検査部42、及び、第2走査線検査部43は、駆動ICチップ11が配置される領域に対応して、アレイ基板3の延在部10A上に配置されている。当然のことながら、各種検査用配線51〜55は、延在部10A上に配置されている。これらの検査用配線は、駆動ICチップ11の長手方向に沿って伸びている。つまり、検査用配線は、駆動ICチップ11を実装した際に駆動ICチップ11に重なる。要するに、外形寸法を拡大することなく、駆動ICチップを実装可能な領域を確保する一方でアレイ基板上に検査用配線を配置することが可能となる。
In addition, the signal
次に、検査用配線部40の構造例について具体的に説明する。
Next, a structural example of the
図3及び図4に示すように、検査用配線部40を構成する各種検査用配線は、複数の金属層の配線パターンを利用して形成されている。すなわち、アレイ基板3は、絶縁基板110上に配置された第1金属層M1、第1金属層M1上に配置された絶縁膜120、絶縁膜120上に配置された第2金属層M2、第2金属層M2上に配置された平坦化膜130、平坦化膜130上に配置された第3金属層M3などを備えている。
As shown in FIGS. 3 and 4, various inspection wirings constituting the
第1金属層M1は、例えば、走査線Yを形成する金属層であり、モリブデン(Mo)/タングステン(W)などの金属材料によって形成されている。第2金属層M2は、例えば、信号線Xを形成する金属層であり、モリブデン(Mo)/アルミニウム(Al)/モリブデン(Mo)などの金属材料によって形成されている。第3金属層M3は、例えば、画素電極8を形成する金属層であり、インジウム・ティン・オキサイド(ITO)などの金属材料によって形成されている。 The first metal layer M1 is, for example, a metal layer that forms the scanning line Y, and is formed of a metal material such as molybdenum (Mo) / tungsten (W). The second metal layer M2 is, for example, a metal layer that forms the signal line X, and is formed of a metal material such as molybdenum (Mo) / aluminum (Al) / molybdenum (Mo). The third metal layer M3 is, for example, a metal layer that forms the pixel electrode 8, and is formed of a metal material such as indium tin oxide (ITO).
絶縁膜120は、窒化シリコン膜(SiN)や酸化シリコン膜(SiO2)などの無機系材料によって形成されている。平坦化膜130は、アクリル樹脂などの有機系材料によって形成されている。この平坦化膜130は、検査用配線部40のほぼ全体を覆うように島状に配置されている。
The insulating
検査用配線部40は、図3に示すように、複数の第1配線パターンWP1からなる第1配線パターン群G1と、これら第1配線パターンWP1のそれぞれとは離間した複数の第2配線パターンWP2からなる第2配線パターン群G2と、各第1配線パターンWP1と対応する第2配線パターンWP2とをそれぞれ個別に電気的に接続する複数の第3配線パターンWP3からなる第3配線パターン群G3と、を備えている。つまり、検査用配線部40を構成する各検査用配線は、第1配線パターンWP1と第2配線パターンWP2とを第3配線パターン2WP3によって電気的に接続したブリッジ構造によって形成されたものを含んでいる。
As shown in FIG. 3, the
図4に示した例では、第1配線パターンWP1は第1金属層M1に形成され、第2配線パターンWP2は第2金属層M2に形成され、第3配線パターンWP3は第3金属層M3に形成されている。 In the example shown in FIG. 4, the first wiring pattern WP1 is formed on the first metal layer M1, the second wiring pattern WP2 is formed on the second metal layer M2, and the third wiring pattern WP3 is formed on the third metal layer M3. Is formed.
なお、図4に示した例に限らず、第1配線パターンWP1及び第2配線パターンWP2は、その双方が同一金属層(すなわち第1金属層M1または第2金属層M2のいずれか一方)に形成されていても、また、双方が互いに異なる金属層に形成されていても良い(すなわち一方が第1金属層M1に形成され、他方が第2金属層M2に形成されていてもよい)。 Note that the first wiring pattern WP1 and the second wiring pattern WP2 are not limited to the example shown in FIG. 4, and both of them are on the same metal layer (that is, either the first metal layer M1 or the second metal layer M2). They may be formed, or both may be formed on different metal layers (that is, one may be formed on the first metal layer M1 and the other may be formed on the second metal layer M2).
第1配線パターンWP1は、少なくともその一端部(コンタクト部)C1が検査用配線部40の内部に延在している(つまり、第1配線パターンWP1のコンタクト部C1は、平坦化膜130のエッジ130Eより内方に配置されている)。この第1配線パターンWP1のコンタクト部C1は、絶縁膜120に形成されたコンタクトホール120Hから露出している。第2配線パターンWP2は、少なくともその一端部(コンタクト部)C2が検査用配線部40の内部に延在している(つまり、第2配線パターンWP2のコンタクト部C2は、平坦化膜130のエッジ130Eより内方に配置されている)。
The first wiring pattern WP1 has at least one end portion (contact portion) C1 extending inside the inspection wiring portion 40 (that is, the contact portion C1 of the first wiring pattern WP1 is the edge of the planarization film 130). 130E inward). The contact portion C1 of the first wiring pattern WP1 is exposed from the
平坦化膜130は、各第1配線パターンWP1と対応する第2配線パターンWP2とをつなぐ複数の開口部APを有している。すなわち、各開口部APは、第1配線パターンWP1のコンタクト部C1を露出するとともに、第2配線パターンWP2のコンタクト部C2を露出し、これらのコンタクト部C1及びC2をつなぐように平坦化膜130の下層に位置する絶縁膜120を露出する。
The
第3配線パターンWP3は、平坦化膜130の各開口部APに個別に配置され、第1配線パターンWP1と第2配線パターンWP2とを電気的に接続している。すなわち、第3配線パターンWP3は、コンタクト部C1及びC2に接触するとともに、これらのコンタクト部C1及びC2をつなぐように絶縁膜120上に延在している。このため、第3配線パターンWP3は、平坦化膜130のエッジ130Eを経由して配置される場合や、第1配線パターンWP1のコンタクト部C1及び第2配線パターンWP2のコンタクト部C2を露出するコンタクトホールを経由して平坦化膜130上に配置される場合と比較して、配置される領域の凹凸の影響を受けにくい。これにより、第3配線パターンWP3の断線を防止することが可能となる。
The third wiring pattern WP3 is individually disposed in each opening AP of the
また、平坦化膜130の開口部APは、検査用配線毎に個別に配置されている。すなわち、開口部APは、単一の第1配線パターンWP1のコンタクト部C1と単一の第2配線パターンWP2のコンタクト部C2とつなぐように形成されているため、コンタクト部C1及びC2を接続する第3配線パターンWP3を配置した際に、隣接する他の第1配線パターンWP1のコンタクト部C1や他の第2配線パターンWP2のコンタクト部C2と電気的に接続されることがない。つまり、隣接する検査用配線のブリッジ構造は、平坦化膜130によって確実に区画されている。このため、例え開口部AP内で第3配線パターンWP3のパターニング不良が発生しても、隣接する検査用配線間でのショートを防止することが可能となる。
Further, the opening AP of the
(比較例)
比較例に係る検査用配線部40においては、図5に示すように、平坦化膜130は、複数の第1配線パターンWP1とそれぞれに対応する第2配線パターンWP2とをつなぐ共通の開口部APを有している。すなわち、開口部APは、複数の第1配線パターンWP1のコンタクト部C1を露出するとともに、複数の第2配線パターンWP2のコンタクト部C2を露出し、これらのコンタクト部C1及びC2をつなぐように平坦化膜130の下層に位置する絶縁膜120を露出する。
(Comparative example)
In the
このような開口部APを有する平坦化膜130を形成した後に、第3金属層M3のパターニングを行った際、パターニング不良を発生することがあった。
When the third metal layer M3 is patterned after the
すなわち、図6Aに示すように、平坦化膜130を形成した後に、第3金属層M3を構成する金属材料として例えばITOを成膜する。その後、図6Bに示すように、第3金属層M3をパターニングするためのレジスト140のパターン化を行う。このとき、開口部APのエッジAPEに沿ってレジスト140が残ることがある。すなわち、第3金属層M3上にレジスト140を成膜した際、凹部に相当する開口部APにレジスト140が流れ込み、開口部APのエッジAPEに沿って堆積したレジスト140の膜厚が厚くなりやすい。このため、レジスト140をパターン化した際、エッジAPEに沿ったレジスト140を十分に除去できないことがある。
That is, as shown in FIG. 6A, after forming the
その後、図6Cに示すように、レジスト140をマスクとして第3金属層M3をエッチングすると、エッジAPEに沿って第3金属層M3が残ってしまう。つまり、第3金属層M3をパターニングすることによって形成された第3配線パターンWP3は、エッジAPEに沿って繋がってしまう。要するに、図5に示すように、隣接する第3配線パターンWP3が導通してしまい、隣接する検査用配線のブリッジ構造間でショートが発生してしまう。 Thereafter, as shown in FIG. 6C, when the third metal layer M3 is etched using the resist 140 as a mask, the third metal layer M3 remains along the edge APE. That is, the third wiring pattern WP3 formed by patterning the third metal layer M3 is connected along the edge APE. In short, as shown in FIG. 5, the adjacent third wiring pattern WP3 becomes conductive, and a short circuit occurs between the bridge structures of the adjacent inspection wirings.
以上説明したように、この実施の形態によれば、検査用配線部を備えたアレイ基板において、検査用配線部を覆うように島状に配置された平坦化膜により、検査用配線の損傷や隣接する検査用配線間への導電性の異物の付着を防止することができる。 As described above, according to this embodiment, in the array substrate including the inspection wiring portion, the inspection wiring is damaged by the planarizing film arranged in an island shape so as to cover the inspection wiring portion. It is possible to prevent the adhesion of conductive foreign matter between adjacent inspection wirings.
また、検査用配線部は、同層または異層に配置された第1配線パターンと第2配線パターンとをこれらとは異なる層の第3配線パターンによって電気的に接続したブリッジ構造の検査用配線を含んでおり、各検査用配線のブリッジ構造は、平坦化膜に個別に形成された開口部に対応して形成されている。つまり、隣接する検査用配線のブリッジ構造は、平坦化膜によって区画されている。このため、開口部内で第3配線パターンのパターニング不良が発生しても、隣接するブリッジ構造が導通することがなく、検査用配線間でのショートを防止することが可能となる。また、第3配線パターンは、平坦化膜のエッジやコンタクトホールを経由することなく配置されるため、配置される領域の凹凸の影響を受けにくい。このため、第3配線パターンの断線を防止することが可能となる。 In addition, the inspection wiring section has a bridge structure inspection wiring in which the first wiring pattern and the second wiring pattern arranged in the same layer or different layers are electrically connected by a third wiring pattern of a layer different from these. The bridge structure of each inspection wiring is formed corresponding to the opening formed individually in the planarizing film. That is, the bridge structure of the adjacent inspection wiring is partitioned by the planarizing film. For this reason, even if the patterning failure of the third wiring pattern occurs in the opening, the adjacent bridge structure does not conduct and it is possible to prevent a short circuit between the inspection wirings. Further, since the third wiring pattern is arranged without going through the edge of the planarizing film or the contact hole, it is difficult to be affected by the unevenness of the arranged area. For this reason, it becomes possible to prevent disconnection of the third wiring pattern.
したがって、検査用配線部を用いて表示パネル上の各種配線の配線不良を安定的に検査することが可能となる。このため、配線不良の表示パネルの後工程への流出を未然に防ぐことが可能となる。これにより、製造歩留まりの低下を抑制することが可能となる。 Accordingly, it is possible to stably inspect wiring defects of various wirings on the display panel using the inspection wiring section. For this reason, it is possible to prevent the wiring defect from flowing out to the subsequent process. As a result, it is possible to suppress a decrease in manufacturing yield.
なお、この発明は、上記実施形態そのままに限定されるものではなく、その実施の段階ではその要旨を逸脱しない範囲で構成要素を変形して具体化できる。また、上記実施形態に開示されている複数の構成要素の適宜な組み合せにより種々の発明を形成できる。例えば、実施形態に示される全構成要素から幾つかの構成要素を削除してもよい。更に、異なる実施形態に亘る構成要素を適宜組み合わせてもよい。 Note that the present invention is not limited to the above-described embodiment as it is, and can be embodied by modifying the constituent elements without departing from the spirit of the invention in the stage of implementation. Further, various inventions can be formed by appropriately combining a plurality of constituent elements disclosed in the embodiment. For example, some components may be deleted from all the components shown in the embodiment. Furthermore, you may combine the component covering different embodiment suitably.
この発明の表示装置は、上述した液晶表示装置に限定されるものではない。例えば、有効表示部の両端側から奇数番走査線及び偶数番走査線にそれぞれ駆動信号を供給するレイアウトに限らず、有効表示部の一端側から全走査線にそれぞれ駆動信号を供給するレイアウトに適用しても良い。また、表示装置の一例として液晶表示装置を例に説明したが、自己発光素子を表示素子とする有機エレクトロルミネッセンス表示装置などの表示装置に適用しても良い。 The display device of the present invention is not limited to the liquid crystal display device described above. For example, the present invention is not limited to a layout in which driving signals are supplied to both odd-numbered scanning lines and even-numbered scanning lines from both ends of the effective display section, but is applied to a layout in which driving signals are supplied to all scanning lines from one end of the effective display section You may do it. Further, although a liquid crystal display device has been described as an example of the display device, the display device may be applied to a display device such as an organic electroluminescence display device using a self-luminous element as a display element.
PX…表示画素、1…液晶表示パネル、3…アレイ基板、6…有効表示部、10…外周部、10A…延在部、11…駆動ICチップ、20…第1配線群、21…配線、30…第2配線群、31…配線、40…検査用配線部、41…信号線検査部、42…第1走査線検査部、43…第2走査線検査部、44…パッド部、51…信号線検査用配線、52…第1検査用配線、53…第2検査用配線、55…スイッチ信号線、120…絶縁膜、120H…コンタクトホール、130…平坦化膜、130E…エッジ、AP…開口部、M1…第1金属層、M2…第2金属層、M3…第3金属層、W1…第1配線パターン、W2…第2配線パターン、W3…第3配線パターン
PX ... display pixel, 1 ... liquid crystal display panel, 3 ... array substrate, 6 ... effective display portion, 10 ... outer peripheral portion, 10A ... extended portion, 11 ... driving IC chip, 20 ... first wiring group, 21 ... wiring, DESCRIPTION OF
Claims (5)
前記有効表示部の外側に位置する外周部に配置された複数の配線からなる配線群と、
前記有効表示部及び前記配線群における配線不良を検査するための検査用配線部と、を備え、
前記検査用配線部は、
各々第1コンタクト部を有する複数の第1配線パターンからなる第1配線パターン群と、
第1配線パターンのそれぞれとは離間し各々第2コンタクト部を有する複数の第2配線パターンからなる第2配線パターン群と、
前記第1コンタクト部と前記第2コンタクト部との間に位置する絶縁膜と、
検査用配線部のほぼ全体を覆うように島状に配置され、複数の開口部を有する平坦化膜であって、前記開口部の各々は、単一の前記第1配線パターンの前記第1コンタクト部を露出し、単一の前記第2配線パターンの前記第2コンタクト部を露出し、しかも、前記第1コンタクト部と前記第2コンタクト部との間に位置する前記絶縁膜を露出するように形成された平坦化膜と、
前記平坦化膜の各開口部に個別に配置された複数の第3配線パターンからなる第3配線パターン群であって、前記第3配線パターンの各々は、前記第1コンタクト部及び前記第2コンタクト部に接触するとともに前記第1コンタクト部と前記第2コンタクト部との間に位置する前記絶縁膜上に延在している第3配線パターン群と、
を備え、前記平坦化膜は、隣接する前記第3配線パターンの間に位置し前記第3配線パターンを各々区画することを特徴とする表示装置。 An effective display unit composed of a plurality of display pixels;
A wiring group consisting of a plurality of wirings arranged on the outer periphery located outside the effective display part;
An inspection wiring section for inspecting a wiring defect in the effective display section and the wiring group,
The inspection wiring section is
A first wiring pattern group comprising a plurality of first wiring patterns each having a first contact portion ;
A second wiring pattern group consisting of a plurality of second wiring patterns that are spaced apart from each of the first wiring patterns and each have a second contact portion ;
An insulating film positioned between the first contact portion and the second contact portion;
The planarizing film is arranged in an island shape so as to cover substantially the entire wiring part for inspection and has a plurality of openings , each of the openings being the first contact of the single first wiring pattern So that the second contact portion of the single second wiring pattern is exposed, and the insulating film located between the first contact portion and the second contact portion is exposed. A formed planarization film;
A third wiring pattern group consisting of a plurality of third wiring patterns individually disposed in each opening of the planarization film , wherein each of the third wiring patterns includes the first contact portion and the second contact; A third wiring pattern group that contacts the portion and extends on the insulating film located between the first contact portion and the second contact portion ;
The flattening film is located between the adjacent third wiring patterns and partitions each of the third wiring patterns .
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