JP4897449B2 - レーザ周波数安定化装置、レーザ周波数安定化方法、及びレーザ周波数安定化プログラム - Google Patents
レーザ周波数安定化装置、レーザ周波数安定化方法、及びレーザ周波数安定化プログラム Download PDFInfo
- Publication number
- JP4897449B2 JP4897449B2 JP2006327218A JP2006327218A JP4897449B2 JP 4897449 B2 JP4897449 B2 JP 4897449B2 JP 2006327218 A JP2006327218 A JP 2006327218A JP 2006327218 A JP2006327218 A JP 2006327218A JP 4897449 B2 JP4897449 B2 JP 4897449B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- saturated absorption
- absorption line
- laser
- frequency
- oscillation frequency
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
Images
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
- H01S3/00—Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
- H01S3/10—Controlling the intensity, frequency, phase, polarisation or direction of the emitted radiation, e.g. switching, gating, modulating or demodulating
- H01S3/13—Stabilisation of laser output parameters, e.g. frequency or amplitude
- H01S3/139—Stabilisation of laser output parameters, e.g. frequency or amplitude by controlling the mutual position or the reflecting properties of the reflectors of the cavity, e.g. by controlling the cavity length
- H01S3/1392—Stabilisation of laser output parameters, e.g. frequency or amplitude by controlling the mutual position or the reflecting properties of the reflectors of the cavity, e.g. by controlling the cavity length by using a passive reference, e.g. absorption cell
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
- H01S3/00—Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
- H01S3/09—Processes or apparatus for excitation, e.g. pumping
- H01S3/091—Processes or apparatus for excitation, e.g. pumping using optical pumping
- H01S3/094—Processes or apparatus for excitation, e.g. pumping using optical pumping by coherent light
- H01S3/0941—Processes or apparatus for excitation, e.g. pumping using optical pumping by coherent light of a laser diode
- H01S3/09415—Processes or apparatus for excitation, e.g. pumping using optical pumping by coherent light of a laser diode the pumping beam being parallel to the lasing mode of the pumped medium, e.g. end-pumping
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
- H01S3/00—Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
- H01S3/10—Controlling the intensity, frequency, phase, polarisation or direction of the emitted radiation, e.g. switching, gating, modulating or demodulating
- H01S3/10069—Memorized or pre-programmed characteristics, e.g. look-up table [LUT]
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
- H01S3/00—Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
- H01S3/10—Controlling the intensity, frequency, phase, polarisation or direction of the emitted radiation, e.g. switching, gating, modulating or demodulating
- H01S3/106—Controlling the intensity, frequency, phase, polarisation or direction of the emitted radiation, e.g. switching, gating, modulating or demodulating by controlling devices placed within the cavity
- H01S3/108—Controlling the intensity, frequency, phase, polarisation or direction of the emitted radiation, e.g. switching, gating, modulating or demodulating by controlling devices placed within the cavity using non-linear optical devices, e.g. exhibiting Brillouin or Raman scattering
- H01S3/109—Frequency multiplication, e.g. harmonic generation
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
- H01S3/00—Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
- H01S3/10—Controlling the intensity, frequency, phase, polarisation or direction of the emitted radiation, e.g. switching, gating, modulating or demodulating
- H01S3/13—Stabilisation of laser output parameters, e.g. frequency or amplitude
- H01S3/1305—Feedback control systems
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
- H01S3/00—Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
- H01S3/10—Controlling the intensity, frequency, phase, polarisation or direction of the emitted radiation, e.g. switching, gating, modulating or demodulating
- H01S3/13—Stabilisation of laser output parameters, e.g. frequency or amplitude
- H01S3/139—Stabilisation of laser output parameters, e.g. frequency or amplitude by controlling the mutual position or the reflecting properties of the reflectors of the cavity, e.g. by controlling the cavity length
- H01S3/1398—Stabilisation of laser output parameters, e.g. frequency or amplitude by controlling the mutual position or the reflecting properties of the reflectors of the cavity, e.g. by controlling the cavity length by using a supplementary modulation of the output
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
- H01S3/00—Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
- H01S3/14—Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range characterised by the material used as the active medium
- H01S3/16—Solid materials
- H01S3/1601—Solid materials characterised by an active (lasing) ion
- H01S3/1603—Solid materials characterised by an active (lasing) ion rare earth
- H01S3/1611—Solid materials characterised by an active (lasing) ion rare earth neodymium
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
- H01S3/00—Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
- H01S3/14—Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range characterised by the material used as the active medium
- H01S3/16—Solid materials
- H01S3/163—Solid materials characterised by a crystal matrix
- H01S3/1671—Solid materials characterised by a crystal matrix vanadate, niobate, tantalate
- H01S3/1673—YVO4 [YVO]
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Electromagnetism (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Plasma & Fusion (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Lasers (AREA)
Description
本発明の第1実施形態に係るレーザ周波数安定化装置の構成を説明する。
図1は、本発明の第1実施形態に係るレーザ周波数安定化装置の構成概略図である。図1に示すように、レーザ周波数安定化装置はレーザ発生部1、レーザ光検出部2、駆動制御部3を備える。
次に、本発明の一実施形態に係るレーザ周波数安定化装置の発振周波数を固定する制御について、図2〜図9を参照して説明する。
次に、本発明の第2実施形態に係るレーザ周波数安定化装置の構成を説明する。
第2実施形態に係るレーザ周波数安定化装置は、図1に示す第1実施形態と略同様の構成を有する。第2実施形態に係るレーザ周波数安定化装置においては、アクチュエータ制御部31、及びアクチュエータ駆動部33によるアクチュエータ124の駆動可能な範囲が第1実施形態と異なる。また、コンピュータ36(自動ロック部36a)の機能が第1実施形態と異なる。また、共振器に設けられた希望の周波数を選択するための周波数フィルタが第1実施形態と異なる。なお、以下の第2実施形態の説明において、第1実施形態と同一の構成及び処理には、同一符号を付し、その説明を省略する。
Claims (8)
- 対向する位置に一対のミラーを配置してなる共振器により励起光を共振させてレーザ光を生成し、該レーザ光を吸収セルに照射して得られる光出力信号に含まれる飽和吸収線に基づき前記共振器長を変化させ前記レーザ光の発振周波数を固定し、安定化するレーザ周波数安定化装置であって、
前記共振器に設けられた所定の周波数を選択する周波数フィルタと、
前記光出力信号を検出する光検出部と、
前記共振器長を変化させるアクチュエータと、
前記アクチュエータを駆動させる駆動部と、
前記駆動部によって前記アクチュエータを駆動して前記共振器長を変化させて発振周波数を走査したときに得られる前記光出力信号の微分信号を検出する微分信号検出部と、
前記微分信号に基づき前記駆動部を制御する制御部とを備え、
前記制御部は、前記共振器長が最大及び最小のいずれか一方から他方に変化するように前記駆動部を制御して、周期的に繰り返す複数の飽和吸収線からなる複数の飽和吸収線群を検出し、前記複数の飽和吸収線群の一つを選択して、前記選択された飽和吸収線群の中の特定の飽和吸収線を前記選択された飽和吸収線群の発振周波数軸に沿って現れる飽和吸収線の本数により選定し、該選定した特定の飽和吸収線に前記レーザ光の発振周波数を固定する
ことを特徴とするレーザ周波数安定化装置。 - 前記制御部は、隣接する飽和吸収線について当該飽和吸収線を得た駆動部制御電圧の間隔が所定の閾値内であれば前記隣接する飽和吸収線が同一の飽和吸収線群に含まれると認定する
ことを特徴とする請求項1記載のレーザ周波数安定化装置。 - 前記制御部は、前記複数の飽和吸収線群のうち、前記駆動制御電圧の最大値と最小値の中心電圧に近い前記駆動制御電圧で現れる飽和吸収線群を選択する
ことを特徴とする請求項1又は2記載のレーザ周波数安定化装置。 - 前記アクチュエータは、ピエゾ素子であることを特徴とする請求項1乃至3のいずれか1項記載のレーザ周波数安定化装置。
- 前記飽和吸収線は、ヨウ素分子に基づくものであることを特徴とする請求項1乃至4のいずれか1項記載のレーザ周波数安定化装置。
- 前記微分信号は、前記光出力信号の2次微分信号或いは3次微分信号であることを特徴とする請求項1乃至5のいずれか1項記載のレーザ周波数安定化装置。
- 対向する位置に一対のミラーを配置してなる共振器により励起光を共振させてレーザ光を生成し、前記共振器長を変化させて発振周波数を走査しながら前記レーザ光を吸収セルに照射して得られる光出力信号の微分信号に含まれる飽和吸収線に基づき前記共振器長を変化させ前記レーザ光の発振周波数を固定し、安定化するレーザ周波数安定化方法であって、
前記共振器に所定の周波数を選択する周波数フィルタを設け、
前記共振器長が最大及び最小のいずれか一方から他方に変化するようにして、周期的に繰り返す複数の飽和吸収線からなる複数の飽和吸収線群を検出し、前記複数の飽和吸収線群の一つを選択し、前記選択された飽和吸収線群の中の特定の飽和吸収線を前記選択された飽和吸収線群の発振周波数軸に沿って現れる飽和吸収線の本数により選定する飽和吸収線選定ステップと、
該選定した特定の飽和吸収線に前記レーザ光の発振周波数を固定する発振周波数固定ステップと
を有することを特徴とするレーザ周波数安定化方法。 - 対向する位置に一対のミラーを配置してなる共振器により励起光を共振させてレーザ光を生成し、前記共振器長を変化させて発振周波数を走査しながら前記レーザ光を吸収セルに照射して得られる光出力信号の微分信号に含まれる飽和吸収線に基づき前記共振器長を変化させ前記レーザ光の発振周波数を固定することで安定化させるためのレーザ周波数安定化プログラムであって、
前記共振器に所定の周波数を選択する周波数フィルタを設け、
コンピュータに、
前記共振器長が最大及び最小のいずれか一方から他方に変化するようにして、周期的に繰り返す複数の飽和吸収線からなる複数の飽和吸収線群を検出し、前記複数の飽和吸収線群の一つを選択し、前記選択された飽和吸収線群の中の特定の飽和吸収線を前記選択された飽和吸収線群の発振周波数軸に沿って現れる飽和吸収線の本数により選定する飽和吸収線選定ステップと、
該選定した特定の飽和吸収線に前記レーザ光の発振周波数を固定する発振周波数固定ステップと
を実行させるためのレーザ周波数安定化プログラム。
Priority Applications (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2006327218A JP4897449B2 (ja) | 2006-12-04 | 2006-12-04 | レーザ周波数安定化装置、レーザ周波数安定化方法、及びレーザ周波数安定化プログラム |
EP07122027.1A EP1930998B1 (en) | 2006-12-04 | 2007-11-30 | Laser frequency stabilizing apparatus, method and computer program product for stabilizing laser frequency |
US11/987,507 US7613216B2 (en) | 2006-12-04 | 2007-11-30 | Laser frequency stabilizing apparatus, method and computer program product for stabilizing laser frequency |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2006327218A JP4897449B2 (ja) | 2006-12-04 | 2006-12-04 | レーザ周波数安定化装置、レーザ周波数安定化方法、及びレーザ周波数安定化プログラム |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2008141054A JP2008141054A (ja) | 2008-06-19 |
JP4897449B2 true JP4897449B2 (ja) | 2012-03-14 |
Family
ID=39126213
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2006327218A Active JP4897449B2 (ja) | 2006-12-04 | 2006-12-04 | レーザ周波数安定化装置、レーザ周波数安定化方法、及びレーザ周波数安定化プログラム |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US7613216B2 (ja) |
EP (1) | EP1930998B1 (ja) |
JP (1) | JP4897449B2 (ja) |
Families Citing this family (20)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP5042781B2 (ja) * | 2007-11-06 | 2012-10-03 | 株式会社ミツトヨ | 周波数安定化レーザ装置及びレーザ周波数安定化方法 |
JP2009218488A (ja) * | 2008-03-12 | 2009-09-24 | Mitsutoyo Corp | レーザ周波数安定化装置、方法、及びプログラム |
JP5706680B2 (ja) * | 2010-12-22 | 2015-04-22 | 株式会社ミツトヨ | 安定化判別器、レーザ周波数安定化装置、及び安定化判別方法 |
JP5695426B2 (ja) * | 2011-01-07 | 2015-04-08 | 株式会社ミツトヨ | レーザ干渉測長装置の絶対距離測定方法、及びレーザ干渉測長装置 |
JP5763451B2 (ja) * | 2011-07-05 | 2015-08-12 | 株式会社ミツトヨ | 飽和吸収線判定方法、及びレーザ周波数安定化装置 |
JP5859793B2 (ja) | 2011-09-28 | 2016-02-16 | 株式会社ミツトヨ | 光出力信号の安定化判定方法、及びレーザ周波数安定化装置 |
JP2013152146A (ja) | 2012-01-25 | 2013-08-08 | Techno Echo Kk | 水質検査装置及び水質検査方法 |
JP6027316B2 (ja) * | 2012-01-26 | 2016-11-16 | 株式会社ミツトヨ | 飽和吸収線判定方法、及びレーザ周波数安定化装置 |
US9077354B2 (en) * | 2012-04-10 | 2015-07-07 | Honeywell International Inc. | Low power reduction of biases in a micro primary frequency standard |
JP6154657B2 (ja) * | 2013-05-02 | 2017-06-28 | 株式会社ミツトヨ | レーザ装置 |
US10925515B2 (en) | 2014-05-22 | 2021-02-23 | Picomole Inc. | Alveolar breath collection apparatus |
JP6469472B2 (ja) * | 2015-02-17 | 2019-02-13 | 株式会社ミツトヨ | レーザ周波数安定化装置、及びレーザ周波数安定化方法 |
JP6934748B2 (ja) * | 2016-06-14 | 2021-09-15 | 株式会社ミツトヨ | レーザ装置及び周波数偏移量特定方法 |
CA2998026A1 (en) * | 2017-03-13 | 2018-09-13 | Picomole Inc. | Apparatus and method of optimizing laser system |
JP2019087550A (ja) | 2017-11-01 | 2019-06-06 | 株式会社ミツトヨ | レーザ装置及びレーザ安定化方法 |
JP2019149400A (ja) | 2018-02-26 | 2019-09-05 | 株式会社ミツトヨ | レーザ光源装置及びレーザ光調整方法 |
US11035789B2 (en) | 2019-04-03 | 2021-06-15 | Picomole Inc. | Cavity ring-down spectroscopy system and method of modulating a light beam therein |
JP7376280B2 (ja) | 2019-08-21 | 2023-11-08 | 株式会社ミツトヨ | レーザ装置及びレーザ安定化方法 |
US11782049B2 (en) | 2020-02-28 | 2023-10-10 | Picomole Inc. | Apparatus and method for collecting a breath sample using a container with controllable volume |
US11957450B2 (en) | 2020-02-28 | 2024-04-16 | Picomole Inc. | Apparatus and method for collecting a breath sample using an air circulation system |
Family Cites Families (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2761505B2 (ja) * | 1990-09-26 | 1998-06-04 | 日本電信電話株式会社 | 波長安定化レーザ装置 |
JPH0786668A (ja) * | 1993-09-10 | 1995-03-31 | Hitachi Metals Ltd | 半導体レーザ励起固体レーザ装置 |
JPH10163549A (ja) * | 1996-12-03 | 1998-06-19 | Nikon Corp | レーザ光源装置、および、レーザ光源の支持構造 |
US6009111A (en) * | 1997-04-17 | 1999-12-28 | University Technology Corporation | System and a method for frequency-stabilizing a diode laser |
US5978391A (en) * | 1997-07-18 | 1999-11-02 | Cymer, Inc. | Wavelength reference for excimer laser |
JP3950570B2 (ja) * | 1999-03-09 | 2007-08-01 | アンリツ株式会社 | 周波数安定化光源 |
JP2001274483A (ja) * | 2000-03-27 | 2001-10-05 | Neoark Corp | レーザ装置の変調制御方法及び校正方法 |
JP2001274495A (ja) * | 2000-03-27 | 2001-10-05 | Neoark Corp | レーザ光発振周波数のオートロック方法 |
JP4389451B2 (ja) * | 2003-02-24 | 2009-12-24 | オムロン株式会社 | 半導体レーザ励起固体レーザ装置とその稼働方法 |
JP2007019361A (ja) * | 2005-07-11 | 2007-01-25 | Mitsutoyo Corp | 周波数安定化レーザ |
-
2006
- 2006-12-04 JP JP2006327218A patent/JP4897449B2/ja active Active
-
2007
- 2007-11-30 US US11/987,507 patent/US7613216B2/en active Active
- 2007-11-30 EP EP07122027.1A patent/EP1930998B1/en active Active
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US20080130694A1 (en) | 2008-06-05 |
EP1930998A1 (en) | 2008-06-11 |
EP1930998B1 (en) | 2017-07-05 |
JP2008141054A (ja) | 2008-06-19 |
US7613216B2 (en) | 2009-11-03 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP4897449B2 (ja) | レーザ周波数安定化装置、レーザ周波数安定化方法、及びレーザ周波数安定化プログラム | |
US7701984B2 (en) | Laser module and method of controlling wavelength of external cavity laser | |
JP2007019361A (ja) | 周波数安定化レーザ | |
JP5042781B2 (ja) | 周波数安定化レーザ装置及びレーザ周波数安定化方法 | |
US10505336B2 (en) | Laser adjustment method and laser source device | |
US7978737B2 (en) | Laser device, control device of laser device, method of controlling laser device, method of tuning wavelength of laser device and control data of laser device | |
JP6469472B2 (ja) | レーザ周波数安定化装置、及びレーザ周波数安定化方法 | |
JP6250762B2 (ja) | レーザ吸収分光計のレーザ動作点の最適化 | |
US7103075B2 (en) | Solid laser apparatus | |
JP6027316B2 (ja) | 飽和吸収線判定方法、及びレーザ周波数安定化装置 | |
JP5324332B2 (ja) | 光周波数コム安定化光源 | |
JP2009289991A (ja) | レーザ光源 | |
JP2008130848A (ja) | レーザ周波数安定化装置、及びレーザ周波数安定化方法 | |
JP5557601B2 (ja) | レーザ光源の調整システム | |
US10630046B2 (en) | Laser light source device and laser light adjusting method | |
JP2000208849A (ja) | 半導体レ―ザ励起固体レ―ザ装置 | |
JP2017224806A (ja) | レーザ装置及び周波数偏移量特定方法 | |
Bhatia et al. | Precisely tunable, narrow-band pulsed dye laser | |
Sturner | Development of a 780 nm External Cavity Diode Laser for Rubidium Spectroscopy | |
JP2008058918A (ja) | テラヘルツ電磁波発生方法及び分光・イメージング測定装置 | |
JP2011515014A (ja) | 周波数安定化レーザー装置及びレーザー周波数安定化方法 | |
JP2001267672A (ja) | レーザ装置 | |
JP2011128428A (ja) | 光高調波発生装置 | |
JP2006032882A (ja) | 固体レーザ装置 | |
JPH11119271A (ja) | 第2高調波発生装置 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20091029 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20110830 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20110831 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20111028 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20111206 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20111222 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 4897449 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20150106 Year of fee payment: 3 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |