JP4885177B2 - 回転体の支持構造及びvブロック - Google Patents
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Description
支持構造には、(1)回転体の偏心量(回転時の半径方向の振れ量)を小さくすること、及び、(2)摩擦抵抗を小さくすること、の2点が要求される。
偏心量が特に重要となる支持構造の用途の一例として、シャフトなどの回転体の偏心量を測定する装置が挙げられる。回転体の偏心量を高精度に測定するためには、支持構造それ自体が回転体の偏心量に与える影響をできるだけ排除する必要がある。以下では、支持構造自体の偏心量を単に「支持構造の精度」と称する。すなわち、ベアリングには高精度が要求される。特許文献1に、Vブロック(ベース部材)のV字面の底部の両側にローラベアリングを配し、シャフトをローラベアリングの間に支持してシャフトの偏心量を測定する装置が開示されている。
本発明は、上記課題に鑑みて創作されたものであり、ベース部材に回転体を高精度に回転支持することのできる技術を提供することを目的とする。
本発明に係る支持構造は、大きさの異なる2タイプの球体でベース部材に対して回転体を支持する。従って、支持構造の偏心量に主に影響を与える寸法公差は、2タイプの球体の寸法公差だけとなる。この支持構造は、従来のベアリングに比較して、偏心量に影響を与える寸法公差の種類を少なくすることができる。本発明によれば、高精度の支持構造を実現できる。
上記の特徴によって、大球体は、その中心が貫通孔の中心線上に維持されながら、低い摩擦抵抗で回転することができる。
シャフトWは、2つのVブロック12のV字面に載置される。V字面の底部の両側には、一部がV字面から突出している大球体46が配置されており、シャフトWは合計4個の大球体46に点接触して支持されている。
シャフトWの上方にグリップローラ18が配置されている。グリップローラ18は、シャフトWを下方に押し付けている。グリップローラ18は、シャフトWがVブロックから浮き上がることを防止する。
偏心量測定装置10は、モータ14を備えており、その回転軸が自在継手16を介してシャフトWに連結されている。偏心量測定装置10は、モータ14によってシャフトWの角度を変化させながら、夫々の角度におけるシャフトWの偏心量をダイヤルゲージ20によって測定する。
Vブロック12には、大球体46を収容する収容孔32がV字面の谷の両側に設けられている。収容孔32は、円筒形状であり、一端がV字面で開口している。さらにVブロック12には、V字面に沿って2つの貫通孔30が形成されている。夫々の貫通孔30は、収容孔32の側面(円筒面)に交差しているとともにVブロック12を貫通している。夫々の貫通孔30は、円筒形状をなしており、V字面に平行である。図1に示すように、この収容孔32に大球体46が収容されている。大球体46の一部が収容孔32の開口部から露出(突出)している。
貫通孔30の直径は、大球体46の直径よりも小さい。また、収容孔32の直径は、大球体46の直径よりも大きい。Vブロック12を組み立てるときは、大球体46を収容孔32の開口部から挿入する。次いで、後述する他の部品40、42、44を貫通孔30の両側から挿入する。最後に、最後に抑え板34で部品群を貫通孔30内に保持する。なお、図1において貫通孔30の中心と部品群40〜46の中心を結ぶ一点鎖線は、部品群の位置関係を示しており、組み立ての手順を示すものではない。すなわち、図2は、大球体46が貫通孔30の端部から挿入されることを意味しない。
貫通孔30、収容孔32、大球体46、小球体44、保持プレート42、スペーサ40、及び、抑え板34が、支持構造を形成する。
図4は、図3のIV−IV線に沿った模式的断面図である。理解を助けるために、図4では、大球体46、小球体44、及び保持プレート42には断面であることを示すハッチングを省略している。また、保持プレート42は、単純な矩形で表している。また、図4では、Vブロック12の左側に配置される部品へ付するべき符号を省略している。
さらに、図4に示すように、夫々の小球体44は、大球体46、貫通孔30の内壁面、及び、スペーサ40の表面の3点で点接触している。夫々の小球体44は、他の部材に点接触しているが面接触していないので、スムーズに回転することができる。
Vブロック112には、V字面に沿って前後方向に貫通している2つの貫通孔30、130が形成されている。一方の貫通孔30に配置される部品は、図2に示したVブロック12と同じであるので説明を省略する。
他方、V字面に開口する2個の収容孔32a、32bが設けられている。収容孔32aと32bは、貫通孔130に交差している。収容孔32aと32bの夫々に大球体46aと46bが収容される。このとき、大球体46aは、収容孔32aと貫通孔130が交差する場所に位置し、大球体46bは収容孔32bと貫通孔130が交差する場所に位置する。大球体46aと46bを挟み込む小球体44や保持プレート42は、中間スペーサ140を挟んで貫通孔130内に直列に配置される。
また、大球体や小球体は、金属製であってもよいし、樹脂製であってもよい。また、収容孔32は、円柱状でなくともよい。
12:Vブロック(ベース部材)
14:モータ
16:自在継手
18:グリップローラ
20:ダイヤルゲージ
30:貫通孔
32:収容孔
34:抑え板
40:スペーサ
42:保持プレート
42a:切欠
44:小球体
46:大球体
W:シャフト(回転体)
Claims (5)
- 回転体をベース部材に回転可能に支持する支持構造であり、
少なくとも2個の大球体が回転体の周面に点接触して回転体を支持しており、
夫々の大球体が、大球体よりも小さい少なくとも3個の小球体によってベース部材に回転支持されていることを特徴とする回転体の支持構造。 - 大球体を収容する収容孔がベース部材に設けられており、
大球体は、一部を収容孔から突出させて収容されているとともに、両側から夫々少なくとも3個の小球体を介して挟持されており、
大球体は、収容孔から突出した部分で回転体と点接触することを特徴とする請求項1に記載の支持構造。 - 収容孔に交差する貫通孔がベース部材に設けられており、
大球体は、貫通孔の両側から夫々前記少なくとも3個の小球体によって、ベース部材に直接に接することなく支持されているとともに、大球体の中心が貫通孔の中心線上に維持されていることを特徴とする請求項2に記載の支持構造。 - 夫々の大球体を回転支持している少なくとも3個の小球体の相対位置を維持しながら小球体とともに回転する保持プレートを備えることを特徴とする請求項2又は3に記載の支持構造。
- 請求項1から3のいずれか1項に記載の支持構造を備えたVブロックであり、
少なくとも2個の大球体がVブロックのV字面の底部の両側に配置されており、底部の両側に配置された大球体によって回転体を支持することを特徴とするVブロック。
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