JP4874834B2 - Seamless belt manufacturing method - Google Patents

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Description

本発明は、加熱成形によって製造されるシームレスベルトの製造方法に関する。このシームレスベルトは、電子写真複写機、プリンタ等の画像形成装置に用いる搬送ベルトや転写ベルト等の機能性ベルトに有用である。   The present invention relates to a method for manufacturing a seamless belt manufactured by thermoforming. This seamless belt is useful as a functional belt such as a conveyance belt or a transfer belt used in an image forming apparatus such as an electrophotographic copying machine or a printer.

近年、電子写真複写機、プリンタ、ファクシミリ、これらの複合機等の画像形成装置に用いられる転写搬送ベルト、中間転写ベルト、転写定着ベルト、感光体ベルトには、高速化・高画質化が要求されるため、これら機能性ベルトにはシームレス化が望まれている。シームレスベルトの製造は、筒状金型の内面に樹脂溶液を展開し、回転成形および加熱成形を行い、前記金型を誘導加熱により加湿することにより行われてきた(例えば、特許文献1参照)。   In recent years, high speed and high image quality have been demanded for transfer conveyance belts, intermediate transfer belts, transfer fixing belts, and photosensitive belts used in image forming apparatuses such as electrophotographic copying machines, printers, facsimiles, and composite machines thereof. Therefore, seamlessness is desired for these functional belts. The production of a seamless belt has been performed by spreading a resin solution on the inner surface of a cylindrical mold, performing rotational molding and thermoforming, and humidifying the mold by induction heating (see, for example, Patent Document 1). .

また、従来より、シームレスベルトの材料としては、成形性が良いこと、軽量であること等の理由からプラスチック材料が使用され、このプラスチック材料としては、耐熱性、機械的強度、耐環境特性に優れることから、ポリイミド系樹脂を使用したポリイミド系シームレスベルトの検討がなされている。また静電的な転写方式に用いられるベルト材料に要求される特性としては、表面抵抗値が10〜1013Ω・cm程度の、いわゆる中抵抗を有することが挙げられる。そこで、ポリイミド樹脂中に多量のカーボンブラックを含有せしめる手法が一般的に用いられている(例えば、特許文献2参照)。 Conventionally, as a material for a seamless belt, a plastic material has been used for reasons such as good moldability and light weight, and this plastic material has excellent heat resistance, mechanical strength, and environmental resistance. Therefore, a polyimide seamless belt using a polyimide resin has been studied. Moreover, as a characteristic requested | required of the belt material used for an electrostatic transfer system, it has what is called a medium resistance whose surface resistance value is about 10 < 8 > -10 < 13 > ohm * cm. Therefore, a method of incorporating a large amount of carbon black in the polyimide resin is generally used (see, for example, Patent Document 2).

特開2004‐181731号公報JP 2004-181731 A 特開平10‐63115号公報JP-A-10-63115

しかしながら、上記の従来技術で述べた製造方法では、以下のような課題がある。すなわち、ポリイミド樹脂の合成、成膜は複雑な工程を経るため、このカーボンブラックの凝集による不具合が生じ、その結果、抵抗率のバラツキや使用中の電気的負荷による電気抵抗値が低下する問題がある。このような電気抵抗値の低下は転写時にベルトに過大な電流を流すため、該ベルトを中間転写ベルトに用いた場合、一度転写したトナーが再転写する等の画像上の不具合を発生させる。   However, the manufacturing method described in the above prior art has the following problems. That is, since the synthesis and film formation of polyimide resin go through complicated processes, problems due to the aggregation of carbon black occur, and as a result, there is a problem that the electrical resistance value decreases due to variation in resistivity and electrical load during use. is there. Such a decrease in the electric resistance value causes an excessive current to flow through the belt during transfer. Therefore, when the belt is used as an intermediate transfer belt, a trouble on the image such as retransfer of toner once transferred occurs.

また、本発明者らは、円筒状金型の内面に展開された溶液樹脂に均一に加温が行われないために、乾燥皮膜の表面抵抗率が不均一になることを発見し、この問題の解決を望んでいた。   In addition, the present inventors have discovered that the surface resistivity of the dried film becomes non-uniform because the solution resin developed on the inner surface of the cylindrical mold is not uniformly heated. I wanted a solution.

そこで、本発明の目的は、円筒状金型の内面に展開された溶液樹脂を均一に加温して、表面抵抗率のばらつきを抑えることができるシームレスベルトの製造方法を提供することにある。   SUMMARY OF THE INVENTION An object of the present invention is to provide a seamless belt manufacturing method capable of uniformly heating a solution resin developed on the inner surface of a cylindrical mold and suppressing variation in surface resistivity.

そこで、本発明は、上記目的を達成すべく、半導電性シームレスベルトの製造方法について鋭意研究したところ、以下の製造方法により上記目的を達成できることを見出し、本発明を完成するに至った。   Therefore, the present invention has been intensively studied on a method for producing a semiconductive seamless belt in order to achieve the above object. As a result, the present inventors have found that the above object can be achieved by the following production method, and have completed the present invention.

すなわち、本発明のシームレスベルトの製造方法は、円筒状金型の内面に樹脂溶液を展開し、当該金型を誘導加熱により加熱することで当該樹脂溶液を加熱成形するシームレスベルトの製造方法であって、
前記金型の外面及び内面に磁性体または非磁性体材料のメッキ処理が施されていることを特徴とする。
That is, the seamless belt manufacturing method of the present invention is a seamless belt manufacturing method in which a resin solution is spread on the inner surface of a cylindrical mold, and the mold is heated by induction heating to heat mold the resin solution. And
The outer and inner surfaces of the mold are plated with a magnetic material or a non-magnetic material.

上記構成の作用効果は以下のとおりである。シームレスベルトの原料の樹脂には、導電性を付与する導電性フィラーが配合されている。この樹脂溶液は円筒状金型の内面に塗布され、内面に展開される。次いで、金型の回転による塗膜の均一化がなされる。次いで、金型を誘導加熱によって加熱する。誘導加熱の方法は、例えば、公知の誘導加熱装置が適用できる。金型が誘導加熱によって加熱されると、当該金型に展開された樹脂溶液が加温される。ここで、均一に加温させるために、金型または誘導加熱装置を回転させ、金型が均一に加熱されるように制御される。この結果、部分的に加熱時間が長くなったり、部分的に加熱温度が高くなるようなことがないので好ましい。   The operational effects of the above configuration are as follows. A conductive filler for imparting conductivity is blended in the raw material resin of the seamless belt. This resin solution is applied to the inner surface of the cylindrical mold and developed on the inner surface. Next, the coating film is made uniform by rotating the mold. The mold is then heated by induction heating. As a method of induction heating, for example, a known induction heating device can be applied. When the mold is heated by induction heating, the resin solution developed on the mold is heated. Here, in order to heat uniformly, it controls so that a metal mold | die or an induction heating apparatus may be rotated and a metal mold | die may be heated uniformly. As a result, it is preferable because the heating time is not partly increased and the heating temperature is not partially increased.

そして、金型の外周面及び内周面には、磁性体または非磁性体材料のメッキ処理が施されている。これによって、より金型が均一に加温されることになる。メッキ処理によって、金型の加熱温度が均一となり、部分的に加熱温度が高くまたは低くなるようなことがない。   The outer peripheral surface and inner peripheral surface of the mold are plated with a magnetic material or a non-magnetic material. As a result, the mold is heated more uniformly. By the plating process, the heating temperature of the mold becomes uniform, and the heating temperature does not partially increase or decrease.

その結果、金型に塗布された樹脂膜の厚み方向に対しても均一な加熱を行え、均一に分散された導電性フィラーがベルト成膜されるまで、著しい凝集を起こすことがなく、表面抵抗率のバラツキや電気抵抗値の低下が抑えられたシームレスベルトを製造することができる。得られたシームレスベルトは、画像形成装置に用いる中間転写ベルトに有用であり、本発明のシームレスベルトの製造方法は、画像形成装置に用いる中間転写ベルトの製造方法として有用である。   As a result, uniform heating can be performed in the thickness direction of the resin film applied to the mold, and the surface resistance does not cause significant aggregation until the uniformly dispersed conductive filler is deposited on the belt. It is possible to manufacture a seamless belt in which variation in rate and reduction in electric resistance value are suppressed. The obtained seamless belt is useful as an intermediate transfer belt used in an image forming apparatus, and the seamless belt manufacturing method of the present invention is useful as an intermediate transfer belt manufacturing method used in an image forming apparatus.

また、本発明の好適な実施形態として、金型に施されたメッキの層の厚みバラツキは、メッキの層の厚み平均値の±20%以内である。メッキの層のばらつきが小さいほど、金型を均一に加熱することができて好ましい。   As a preferred embodiment of the present invention, the thickness variation of the plating layer applied to the mold is within ± 20% of the average thickness of the plating layer. It is preferable that the variation in the plating layer is small because the mold can be heated uniformly.

また、本発明は、特に熱硬化性で高粘度樹脂に対し好適であるとともに、用途面からも耐熱性、機械的強度、化学的安定性などに優れた特性を生かすことができるポリイミド樹脂を、短時間で乾燥、成形しつつ、かつ表面抵抗率の均一性に優れたシームレスベルトに仕上げるのに非常に適した製造方法といえる。本発明の製造方法によって得られるシームレスベルトは、複写機、プリンタ等の転写搬送ベルト、中間転写ベルト、転写定着ベルト、感光体ベルトなど、機能性ベルトとして優れており、その他広範囲な分野への用途展開も可能である。   In addition, the present invention is a polyimide resin that is particularly suitable for thermosetting and high-viscosity resins, and that can take advantage of excellent properties such as heat resistance, mechanical strength, and chemical stability from the viewpoint of use. It can be said that the production method is very suitable for finishing into a seamless belt excellent in uniformity of surface resistivity while being dried and molded in a short time. The seamless belt obtained by the production method of the present invention is excellent as a functional belt such as a transfer conveyance belt, an intermediate transfer belt, a transfer fixing belt, and a photoreceptor belt of a copying machine or a printer, and is used in a wide range of other fields. Deployment is also possible.

また、本発明の好適な実施形態として、記金型と加熱用誘導コイルとの距離を調整可能とすることを特徴とする。   As a preferred embodiment of the present invention, the distance between the recording die and the induction coil for heating can be adjusted.

これによって、ベルトの厚みや金型の管径といった、製造工程で変更される種々の条件設定に対し、任意に最適加熱配置が可能とすることで容易に対応できるとともに、1つの工程内での条件変更にも対応を可能とすることで、より微妙な調整をすることができる。   This makes it possible to easily cope with various conditions such as the thickness of the belt and the pipe diameter of the mold, which can be changed in the manufacturing process, by arbitrarily enabling the optimal heating arrangement, and within one process. By making it possible to cope with changes in conditions, it is possible to make finer adjustments.

また、本発明の方法の好適な実施形態の一例として、
シームレスベルトを製造するための円筒状金型と、
前記円筒状金型の内面に樹脂溶液を展開する手段と、
前記円筒状金型を誘導加熱により加熱することで当該樹脂溶液を加熱成形する手段と、を備えるシームレスベルトの製造装置であって、
前記円筒状金型の外面及び内面に磁性体または非磁性体材料のメッキ処理が施されていることを特徴とする。
As an example of a preferred embodiment of the method of the present invention,
A cylindrical mold for producing a seamless belt;
Means for spreading a resin solution on the inner surface of the cylindrical mold;
Means for heating and molding the resin solution by heating the cylindrical mold by induction heating, and a seamless belt manufacturing apparatus comprising:
The outer and inner surfaces of the cylindrical mold are plated with a magnetic or non-magnetic material.

この構成の作用効果は、上記記載の作用効果と同様である。   The operational effects of this configuration are the same as the operational effects described above.

以下、本発明の実施の形態について適宜図面を用いて説明する。   Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings as appropriate.

本発明は、メッキ処理を施した円筒状金型の内面に樹脂溶液を展開し、回転成形、加熱成形を行うシームレスベルトの製造方法およびその製造装置である。そして、金型を誘導加熱により加熱することで、樹脂皮膜を加温し、均一性の高いシームレスベルトを製造する。   The present invention is a seamless belt manufacturing method and a manufacturing apparatus therefor, in which a resin solution is spread on the inner surface of a cylindrical mold subjected to plating, and rotational molding and heat molding are performed. Then, the resin film is heated by heating the mold by induction heating, and a highly uniform seamless belt is manufactured.

本発明は、被加熱体(樹脂皮膜)に直接接することなく加熱が可能で、かつ直接被加熱体に電気エネルギーを投入できるとともに、温度制御が容易で迅速であるという利点を有する「誘導加熱」によって、回転する金型自体を非接触で均等に加熱する。そして、金型に塗布された樹脂被膜の厚み方向に対しても均一な加熱を行うことで、その厚みの均一性が高いシームレスベルトを確保することができることを見出したものである。   The present invention is capable of heating without being in direct contact with the object to be heated (resin film), and can directly input electric energy to the object to be heated, and has the advantages that temperature control is easy and quick. Thus, the rotating mold itself is heated uniformly without contact. And it discovered that the uniform belt with the high uniformity of the thickness can be ensured by performing uniform heating also to the thickness direction of the resin film applied to the metallic mold.

また、上記工程からなる半導電性シームレスベルト製造方法によると、均一に分散された導電性フィラーがベルト成膜されるまで、著しい凝集を起こすことがない。このため、表面抵抗率のバラツキや電気抵抗値の低下が抑えられる。また、例えば、イミド化促進剤の使用で、温度や環境の可撓性と表面平滑性に優れたシームレスベルトを提供できる。   In addition, according to the semiconductive seamless belt manufacturing method comprising the above steps, no significant aggregation occurs until the uniformly dispersed conductive filler is formed into a belt. For this reason, variations in surface resistivity and a decrease in electrical resistance value can be suppressed. For example, the use of an imidization accelerator can provide a seamless belt excellent in temperature and environmental flexibility and surface smoothness.

また、本発明の製造方法によって、表面抵抗率の均一性に優れたシームレスベルトの製造が可能であり、画像形成装置に用いる中間転写ベルトなどに有用となる。   In addition, the production method of the present invention makes it possible to produce a seamless belt excellent in uniformity of surface resistivity, which is useful for an intermediate transfer belt used in an image forming apparatus.

<金型>
円筒状金型の材料としては、ステンレス鋼(SUS)・アルミニウム(AI)・炭素鋼などの耐熱性材料が使用される。円筒状金型のサイズ(内径、外径、高さ)は、特に制限されず、シームレスベルトのサイズに依存して設定できる。
<Mold>
As the material of the cylindrical mold, a heat resistant material such as stainless steel (SUS), aluminum (AI), or carbon steel is used. The size (inner diameter, outer diameter, height) of the cylindrical mold is not particularly limited, and can be set depending on the size of the seamless belt.

(メッキ処理)
円筒状金型に施すメッキの材料としては、例えば、亜鉛、ニッケル、ニッケルとクロムの複合物、硬質クロム、テフロン(登録商標)、アルマイト(金型材料がアルミ、アルミ合金の場合)等が例示でき、特に、磁性体の無電解ニッケルメッキ、非磁性体のクロムなどが好適に適用できる。金型の全面にメッキ処理を施すことが好ましく、少なくとも、内周面に、又は内周面及び外周面に施すことが好ましい。メッキ処理の方法は、メッキ層の厚みのばらつきを抑えることが要求され、これを実現できる公知の処理方法が適用できる。
(Plating treatment)
Examples of the plating material applied to the cylindrical mold include zinc, nickel, a composite of nickel and chromium, hard chromium, Teflon (registered trademark), and anodized (when the mold material is aluminum or aluminum alloy). Particularly, electroless nickel plating of magnetic material, chromium of nonmagnetic material, etc. can be suitably applied. Plating treatment is preferably performed on the entire surface of the mold, and at least the inner peripheral surface, or the inner peripheral surface and the outer peripheral surface are preferably applied. The plating method is required to suppress variation in the thickness of the plating layer, and a known processing method capable of realizing this can be applied.

また、円筒状金型に施すメッキの厚みは、例えば磁性体材料では100μm以下、非磁性体材料では金型材料と当該非磁性体の透磁率により異なるが10〜30μm程度が好ましい。例えば炭素鋼では透磁率3.142×10−3(H/m)、硬質クロムでは透磁率1.257×10−6(H/m)である。また、メッキの厚みバラツキは厚み平均値の±20%以内、好ましくは±10%以内、特に好ましくは、±5%以内である。 The thickness of the plating applied to the cylindrical mold is, for example, 100 μm or less for a magnetic material, and about 10 to 30 μm for a nonmagnetic material, although it varies depending on the permeability of the mold material and the nonmagnetic material. For example, the permeability is 3.142 × 10 −3 (H / m) for carbon steel, and the permeability is 1.257 × 10 −6 (H / m) for hard chromium. Further, the plating thickness variation is within ± 20% of the average thickness, preferably within ± 10%, and particularly preferably within ± 5%.

<製造方法・装置>
(誘導加熱方法・装置)
図1は、本発明の一例を示す製造方法・装置の概要を示す説明図である。樹脂溶液を内面に展開する円筒状金型1に対して所定の距離をおいて加熱用誘導コイル2が設置されている。高周波電源4から加熱用誘導コイル2に高周波電流が印加されると、円筒状金型1に誘導電流が生じて内部抵抗によって発熱つまり円筒状金型1自体が加熱されることとなる。このとき、印加する電流値を変えると発生する誘導電流も変化し発熱量も変化するため、加熱量も可変できることとなる。円筒状金型1は、図1の下部に示すように、該金型1と接設する回転ローラ3によって所定の回転数に回動することができ、内面に展開された樹脂の製造工程に即した稼動状態(つまり、停止、高速回転(例えば、5〜100rpm程度、100rpm以上等)、低速回転(例えば、高速回転が5rpm以上であれば低速回転は5rp未満)など)を実現している。
<Manufacturing method / apparatus>
(Induction heating method and equipment)
FIG. 1 is an explanatory view showing an outline of a manufacturing method and apparatus showing an example of the present invention. A heating induction coil 2 is installed at a predetermined distance from a cylindrical mold 1 that spreads the resin solution on the inner surface. When a high frequency current is applied from the high frequency power source 4 to the heating induction coil 2, an induction current is generated in the cylindrical mold 1 and heat is generated by the internal resistance, that is, the cylindrical mold 1 itself is heated. At this time, if the current value to be applied is changed, the generated induced current also changes and the amount of heat generation also changes, so that the heating amount can also be varied. As shown in the lower part of FIG. 1, the cylindrical mold 1 can be rotated at a predetermined number of rotations by a rotating roller 3 provided in contact with the mold 1. Realized operation state (that is, stop, high speed rotation (for example, about 5 to 100 rpm, 100 rpm or more), low speed rotation (for example, if high speed rotation is 5 rpm or more, low speed rotation is less than 5 rp), etc.) .

また、金型と加熱用誘導コイル2との距離を調整可能とすることが好適である。つまり、上記のように、図1における円筒状金型1の加熱量は誘導電流によって制御できるが、円筒状金型1に対して加熱用誘導コイル2が設置される距離を調整可能とすることで、さらにこうした制御幅を拡大することができ、多様な使用に適用することができる。つまり、金型の形状・材質によっては、誘導電流による制御範囲に限界が生じることがあり、本発明はかかる場合に非常に有効な手段となりうる。同様に、ベルトの厚みや金型の管径といった、製造工程で変更される種々の条件設定に対し、任意に最適加熱配置が可能とすることで容易に対応できるとともに、1つの工程内での条件変更にも対応を可能とすることで、より微妙な調整をすることができる。   In addition, it is preferable that the distance between the mold and the heating induction coil 2 can be adjusted. That is, as described above, the heating amount of the cylindrical mold 1 in FIG. 1 can be controlled by the induced current, but the distance at which the heating induction coil 2 is installed with respect to the cylindrical mold 1 can be adjusted. Thus, the control range can be further expanded and applied to various uses. That is, depending on the shape and material of the mold, the control range by the induced current may be limited, and the present invention can be a very effective means in such a case. Similarly, various conditions such as the thickness of the belt and the pipe diameter of the mold can be easily accommodated by enabling the optimal heating arrangement arbitrarily, and within one process. By making it possible to cope with changes in conditions, it is possible to make finer adjustments.

(電磁加熱用誘導コイル)
加熱用誘導コイル2は、電磁誘導機能を発揮するものであれば特に制限されないが、例えば、面焼形コイル、角形コイル、円筒加熱用コイル等が例示され、円筒状金型の軸方向に沿って加熱させる場合、角形コイル、面焼形コイルが好ましい。また、円筒状金型の内面全面を加熱する場合、円筒状加熱用コイルが好ましい。
(Induction coil for electromagnetic heating)
The heating induction coil 2 is not particularly limited as long as it exhibits an electromagnetic induction function, and examples thereof include a face-fired coil, a square coil, a cylindrical heating coil, and the like, along the axial direction of the cylindrical mold. In the case of heating, a square coil and a face-fired coil are preferable. Further, when heating the entire inner surface of the cylindrical mold, a cylindrical heating coil is preferable.

(塗布方法・装置)
円筒状金型の内面に樹脂皮膜を形成する方法・手段としては、特に制限されず、従来公知の方法・手段が適用でき、例えば、弾丸状走行体を用いて自重走行により速度20mm/分で金型内面を走行させ、樹脂皮膜を金型内周面に塗布する方法・手段、塗布装置によって内周面に塗布する方法等が例示される。
(Coating method / apparatus)
The method / means for forming the resin film on the inner surface of the cylindrical mold is not particularly limited, and a conventionally known method / means can be applied. For example, a bullet-shaped traveling body is used to travel at its own speed with a weight of 20 mm / min. Examples include methods and means for running on the inner surface of the mold and applying the resin film to the inner peripheral surface of the mold, and a method of applying the resin film to the inner peripheral surface with a coating apparatus.

次いで、金型の内面に樹脂溶液を塗布後、内周面に樹脂皮膜の厚みを均一に展開するために、金型を所定時間(例えば、数分から数十分)、高速回転(例えば、100rpmから5000rpmの回転速度)させる。金型の回転速度、回転時間は、樹脂溶液の粘度等に依存して設定される。次いで、金型を低速(例えば、0rpmより大きく5rpm〜100rpm未満程度の範囲(上記高速回転より小さい範囲)で)回転させながら、誘導加熱による金型の加熱を行なう。この金型の加熱によって、金型が樹脂皮膜を加温することになる。   Next, after applying the resin solution to the inner surface of the mold, the mold is rotated at a high speed (for example, 100 rpm) for a predetermined time (for example, several minutes to several tens of minutes) in order to uniformly develop the thickness of the resin film on the inner peripheral surface. To 5000 rpm). The rotation speed and rotation time of the mold are set depending on the viscosity of the resin solution and the like. Next, the mold is heated by induction heating while rotating the mold at a low speed (for example, in a range of greater than 0 rpm to less than about 5 rpm to less than 100 rpm). By heating the mold, the mold heats the resin film.

誘導加熱を用いることで円筒金型が加熱され、溶液が蒸発し、従来の方法よりも熱効率が向上するために短時間で乾燥皮膜化を実現できる。特に、厚みばらつきを抑えて均一にメッキが施されていることで金型面から樹脂溶液に伝わる熱量が金型軸方向で均一となり乾燥皮膜の表面抵抗率がバラつかないという効果が得られる。   By using induction heating, the cylindrical mold is heated, the solution is evaporated, and the thermal efficiency is improved as compared with the conventional method, so that a dry film can be realized in a short time. In particular, since plating is performed uniformly while suppressing thickness variation, the amount of heat transferred from the mold surface to the resin solution is uniform in the mold axis direction, and the surface resistivity of the dry film does not vary.

(導電性フィラー)
本発明に用いるカーボンブラックは、平均粒子径が5〜100nmであり、好ましくは10〜70nmであり、より好ましくは15〜60nmである。平均粒子径が5nm未満のものは、実質的に入手することが困難であり、平均粒子径が100nmを越える場合、該カーボンブラックを含有したポリイミド樹脂組成物の表面粗さ、機械的強度及び電気抵抗制御性等の観点から実用上満足できるものが得られ難いからである。
(Conductive filler)
The carbon black used in the present invention has an average particle size of 5 to 100 nm, preferably 10 to 70 nm, and more preferably 15 to 60 nm. Those having an average particle diameter of less than 5 nm are substantially difficult to obtain. When the average particle diameter exceeds 100 nm, the surface roughness, mechanical strength and electrical properties of the polyimide resin composition containing the carbon black This is because it is difficult to obtain a practically satisfactory one from the viewpoint of resistance controllability.

前記平均粒子径は、電子顕微鏡などで測定された一次粒子径に基づく平均粒子径を示す。また、前記カーボンブラックは、粒子表面にポリマーをグラフト化させたり、絶縁材を被覆したりすることで電気抵抗を制御してもよく、カーボンブラック粒子表面に酸化処理を施してもよい。本発明に用いるカーボンブラックとしては、例えばファーネスプラック、チャンネルブラック等が挙げられる。具体的には、ファーネスブラックとして、デグサ・ヒュルス社製の「SpecialBlack550」、「SpecialBlack350」、「SpecialBlack250」、「SpecialBlack100」、「Printex 35」、「Printex 25」、三菱化学社製の「MA7」、「MA77」、「MA8」、「MA11」、「MA100」、「MA100R」、「MA220」、「MA230」、キャボット社製、「MONARCH 1300」、「MONARCH 1100」、「MONARCH 1000」、「MONARCH 900」、「MONARCH 880」、「MONARCH 800」、「MONARCH 700」、「MOGUL L」、「REGAL 400R」、「VULCAN XC−72R」等が挙げられ、チャンネルブラックとしてデグサ・ヒュルス社製の「Color B1ack FW200」、「Color B1ack FW2」、「Color B1ack FW2V」、「Color B1ack FW1」、「Color B1ack FW18」、「SpecialBlack6」、「ColorBlackS170」、「ColorBlackS160」、「SpecialBlack5」、「SpecialBlack4」、「SpecialBlack 4A」、「Printex 150T」、「Printex U」、「Printex V」、「Printex 140U」、「Printex 140V」等が挙げられ、単独及び複数種類のカーボンブラックを併用してもよい。   The said average particle diameter shows the average particle diameter based on the primary particle diameter measured with the electron microscope etc. In addition, the carbon black may have its electric resistance controlled by grafting a polymer on the particle surface or coating an insulating material, or may oxidize the carbon black particle surface. Examples of the carbon black used in the present invention include furnace black and channel black. Specifically, “Special Black 550”, “Special Black 350”, “Special Black 250”, “Special Black 100”, “Printex 35”, “Printex 25”, manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation, manufactured by Degussa Huls, Inc. “MA77”, “MA8”, “MA11”, “MA100”, “MA100R”, “MA220”, “MA230”, manufactured by Cabot Corporation, “MONARCH 1300”, “MONARCH 1100”, “MONARCH 1000”, “MONARCH 900” ”,“ MONARCH 880 ”,“ MONARCH 800 ”,“ MONARCH 700 ”,“ MOGUL L ”,“ REGAL 400R ”,“ VULCAN XC- “Color B1ack FW200”, “Color B1ack FW2”, “Color B1ack FW2V”, “Color B1ack FW1”, “Color B1ack FW18”, “Color B1ack FW18”, “Color B1ack FW18”, “Color B1ack FW18” “ColorBlackS170”, “ColorBlackS160”, “SpecialBlack5”, “SpecialBlack4”, “SpecialBlack 4A”, “Printex 150T”, “Printex U”, “Pex”, “Tex”, “Pex” A single type or a plurality of types of carbon black may be used in combination.

(樹脂溶液原料)
本発明に用いる有機極性溶媒は、導電性フィラー、特にカーボンブラックの分散性を高めるものであれば特に制限されないが、N,N−ジアルキルアミド類が有用であり、例えば低分子量のものとしてN,N−ジメチルホルムアミド、N,N−ジメチルアセトアミド等が挙げられる。これらは、蒸発、置換又は拡散によりポリアミド酸及びポリアミド酸成形品から容易に除去することができる。また、上記以外の有機極性溶媒として、N,N−ジエチルホルムアミド、N,N−ジエチルアセトアミド、N,N−ジメチルメトキシアセトアミド、ジメチルスルホキシド、ヘキサメチルホスホルトリアミド、N−メチル−2−ピロリドン、ピリジン、テトラメチレンスルホン、ジメチルテトラメチレンスルホン等が挙げられる。これらは単独で用いてもよいし、分散方法としては公知の方法が適用でき、ポールミル、サンドミル、バスケットミル、超音波分散等が挙げられる。
(Resin solution raw material)
The organic polar solvent used in the present invention is not particularly limited as long as it enhances the dispersibility of the conductive filler, particularly carbon black, but N, N-dialkylamides are useful. N-dimethylformamide, N, N-dimethylacetamide and the like can be mentioned. They can be easily removed from the polyamic acid and the polyamic acid molded article by evaporation, displacement or diffusion. Other organic polar solvents include N, N-diethylformamide, N, N-diethylacetamide, N, N-dimethylmethoxyacetamide, dimethyl sulfoxide, hexamethylphosphortriamide, N-methyl-2-pyrrolidone, pyridine , Tetramethylene sulfone, dimethyltetramethylene sulfone and the like. These may be used singly or a known method can be applied as a dispersion method, and examples thereof include a pole mill, a sand mill, a basket mill, and ultrasonic dispersion.

次に、半導電性ポリアミド酸溶液を調製するためには、有機極性溶媒中にジアミンと酸二無水物を溶解し、重合反応後得られたポリアミド酸溶液中に該カーボンブラック分散液を添加し混合・攪拌する方法、該カーボンブラック分散液中にジアミン及び酸二無水物を溶解し、重合反応する方法等が挙げられるが、カーボンブラックの分散性を均一にするためには、後者の方法が好ましい。   Next, in order to prepare a semiconductive polyamic acid solution, diamine and acid dianhydride are dissolved in an organic polar solvent, and the carbon black dispersion is added to the polyamic acid solution obtained after the polymerization reaction. A method of mixing and stirring, a method of dissolving a diamine and an acid dianhydride in the carbon black dispersion, and a polymerization reaction, etc. are mentioned. In order to make the dispersibility of carbon black uniform, the latter method is used. preferable.

酸二無水物成分としては、ピロメリット酸二無水物、3,3’,4,4’−ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物、3,3’,4,4’−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物、2,3,3’,4−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物、2,3,6,7−ナフタレンテトラカルボン酸二無水物、1,2,5,6−ナフタレンテトラカルボン酸二無水物、1,4,5,8−ナフタレンテトラカルボン酸二無水物、2,2’−ビス(3,4−ジカルボキシフェニル)プロパン二無水物、ビス(3,4−ジカルボキシフェニル)スルホン二無水物、ペリレン−3,4,9,10−テトラカルボン酸二無水物、ビス(3,4−ジカルボキシフェニル)エーテル二無水物、エチレンテトラカルボン酸二無水物等が挙げられる。   As the acid dianhydride component, pyromellitic dianhydride, 3,3 ′, 4,4′-benzophenone tetracarboxylic dianhydride, 3,3 ′, 4,4′-biphenyltetracarboxylic dianhydride 2,3,3 ′, 4-biphenyltetracarboxylic dianhydride, 2,3,6,7-naphthalenetetracarboxylic dianhydride, 1,2,5,6-naphthalenetetracarboxylic dianhydride, 1,4,5,8-naphthalenetetracarboxylic dianhydride, 2,2′-bis (3,4-dicarboxyphenyl) propane dianhydride, bis (3,4-dicarboxyphenyl) sulfone dianhydride Perylene-3,4,9,10-tetracarboxylic dianhydride, bis (3,4-dicarboxyphenyl) ether dianhydride, ethylenetetracarboxylic dianhydride and the like.

ジアミンとしては、4,4’−ジアミノジフェニルエーテル、4,4’−ジアミノジフェニルメタン、3,3’−ジアミノジフェニルメタン、3,3’−ジクロロベンジジン、4,4’−ジアミノジフェニルスルフィド、3,3’−ジアミノジフェニルスルホン、1,5−ジアミノナフタレン、m−フェニレンジアミン、p−フェニレンジアミン、3,3’−ジメチル−4,4’−ビフェニルジアミン、ベンジジン、3,3’−ジメチルベンジジン、3,3’−ジメトキシベンジジン、4,4’−ジアミノジフェニルスルホン、4,4’−ジアミノジフェニルスルフィド、4,4’−ジアミノジフェニルプロパン、2,4−ビス(β−アミノ−t−ブチル)トルエン、ビス(p−β−アミノ−t−ブチルフェニル)エーテル、ビス(p−β−メチル−t−アミノフェニル)ベンゼン、ビス−p−(1,1−ジメチル−5−アミノ−ペンチル)ベンゼン、1−イソプロピル−2,4−m−フェニレンジアミン、m−キシリレンジアミン、p−キシリレンジアミン、ジ(p−アミノシクロヘキシル)メタン、ヘキサメチレンジアミン、ヘプタメチレンジアミン、オクタメチレンジアミン、ノナメチレンジアミン、デカメチレンジアミン、ジアミノプロピルテトラメチレン、3−メチルへブタメチレンジアミン、4,4−ジメチルヘプタメチレンジアミン、2,11−ジアミノドデカン、1,2−ビス−3−アミノプロポキシエタン、2,2−ジメチルプロピレンジアミン、3−メトキシヘキサメチレンジアミン、2,5−ジメチルヘプタメチレンジアミン、3−メチルへプタメチレンジアミン、5−メチルノナメチレンジアミン、2,11−ジアミノドデカン、2,17−ジアミノエイコサデカン、1,4−ジアミノシクロヘキサン、1,10−ジアミノ−1,10−ジメチルデカン、1,12−ジアミノオクタデカン、2,2−ビス〔4−(4−アミノフェノキシ)フェニル〕プロパン、ピベラジン、HN(CH),O(CHOCHNH、HN(CHS(CHNH、HN(CHN(CH(CHNH等が挙げられる。 Examples of the diamine include 4,4'-diaminodiphenyl ether, 4,4'-diaminodiphenylmethane, 3,3'-diaminodiphenylmethane, 3,3'-dichlorobenzidine, 4,4'-diaminodiphenyl sulfide, 3,3'- Diaminodiphenylsulfone, 1,5-diaminonaphthalene, m-phenylenediamine, p-phenylenediamine, 3,3′-dimethyl-4,4′-biphenyldiamine, benzidine, 3,3′-dimethylbenzidine, 3,3 ′ -Dimethoxybenzidine, 4,4'-diaminodiphenylsulfone, 4,4'-diaminodiphenyl sulfide, 4,4'-diaminodiphenylpropane, 2,4-bis (β-amino-t-butyl) toluene, bis (p -Β-amino-t-butylphenyl) ether, bis (p-β-methyl-t-aminophenyl) Benzyl) benzene, bis-p- (1,1-dimethyl-5-amino-pentyl) benzene, 1-isopropyl-2,4-m-phenylenediamine, m-xylylenediamine, p-xylylenediamine, di ( p-aminocyclohexyl) methane, hexamethylenediamine, heptamethylenediamine, octamethylenediamine, nonamethylenediamine, decamethylenediamine, diaminopropyltetramethylene, 3-methylheptamethylenediamine, 4,4-dimethylheptamethylenediamine, 2 , 11-diaminododecane, 1,2-bis-3-aminopropoxyethane, 2,2-dimethylpropylenediamine, 3-methoxyhexamethylenediamine, 2,5-dimethylheptamethylenediamine, 3-methylheptamethylenediamine, 5-methylno Methylenediamine, 2,11-diaminododecane, 2,17-diaminoeicosadecane, 1,4-diaminocyclohexane, 1,10-diamino-1,10-dimethyldecane, 1,12-diaminooctadecane, 2,2- Bis [4- (4-aminophenoxy) phenyl] propane, piverazine, H 2 N (CH 2 ), O (CH 2 ) 2 OCH 2 NH 2 , H 2 N (CH 2 ) 3 S (CH 2 ) 3 NH 2 , H 2 N (CH 2 ) 3 N (CH 2 ) 2 (CH 2 ) 3 NH 2 and the like.

これらの酸二無水物とジアミンを重合反応させる際の溶媒としては適宜なものを用いうるが、溶解性等の点から有機極性溶媒が好ましく用いられ、カーボンブラックの分散用と重合反応の溶媒用とを兼用できるものがより好ましい。   An appropriate solvent can be used for the polymerization reaction of these acid dianhydrides and diamines, but an organic polar solvent is preferably used from the viewpoint of solubility and the like, and for the dispersion of carbon black and the solvent for the polymerization reaction. Those that can also be used together are more preferred.

各原料の配合量に関しては、最終的に得られるポリイミド樹脂組成物の目的とする用途により、これに適合した組成を実験的に検討する必要がある。例えば、表面抵抗率の常用対数値が8〜13(logΩ/□)である半導電性ポリイミドベルトを得るためのカーボンブラックの添加量は、ポリイミド樹脂固形分に対し10〜40重量%程度が好ましく、10〜30重量%がより好ましい。前記抵抗領域を発現するためには高導電性カーポンブラックを用いる必要があり、このような高導電性カーボンブラックを10重量%より少ない低添加量で加えると、安定した抵抗を再現よく製造するのが困難となる場合がある。一方、40重量%より多いと、ポリイミド樹脂本来の高い機械特性が損なわれ、脆性が発現
し、ベルトを複数の駆動ローラ等により駆動する際にベルト端面に亀裂を生じることがある。
Regarding the blending amount of each raw material, it is necessary to experimentally examine a composition suitable for the intended use of the finally obtained polyimide resin composition. For example, the addition amount of carbon black for obtaining a semiconductive polyimide belt having a common logarithm of surface resistivity of 8 to 13 (log Ω / □) is preferably about 10 to 40% by weight with respect to the polyimide resin solid content. 10 to 30% by weight is more preferable. In order to develop the resistance region, it is necessary to use a highly conductive carbon black. When such a highly conductive carbon black is added at a low addition amount of less than 10% by weight, a stable resistance can be produced with good reproducibility. May be difficult. On the other hand, if it exceeds 40% by weight, the inherent high mechanical properties of the polyimide resin are impaired, brittleness is developed, and the belt end face may be cracked when the belt is driven by a plurality of drive rollers or the like.

前記半導電性ポリアミド酸溶液のモノマー濃度(溶媒中の酸二無水物成分とジアミン成分の濃度)は、種々の条件に応じて設定されるが、5〜30重量%が好ましい。また、重合反応は窒素雰囲気下で行い、反応温度は60℃以下に設定することが好ましく、反応時間は0.5〜10時間程度が好ましい。半導電性ポリアミド酸溶液は、重合反応の進行に従い、溶液粘度が増大するため、粘度を調整することができる。また、溶媒の添加等でモノマー濃度を下げることによって、粘度の調整も可能である。本発明における半導電性ポリアミド酸溶液の粘度は、通常、1〜1000Pa・sである。   The monomer concentration (concentration of acid dianhydride component and diamine component in the solvent) of the semiconductive polyamic acid solution is set according to various conditions, but is preferably 5 to 30% by weight. The polymerization reaction is carried out in a nitrogen atmosphere, the reaction temperature is preferably set to 60 ° C. or less, and the reaction time is preferably about 0.5 to 10 hours. The semiconductive polyamic acid solution can be adjusted in viscosity because the solution viscosity increases as the polymerization reaction proceeds. Also, the viscosity can be adjusted by lowering the monomer concentration by adding a solvent or the like. The viscosity of the semiconductive polyamic acid solution in the present invention is usually 1 to 1000 Pa · s.

なお、半導電性ポリアミド酸溶液を得る方法として、カーボンブラックを高分子分散剤の存在下で有機極性溶媒中に分散させてカーボンブラック分散液とし、該カーボンブラック分散液中でポリアミド酸を重合させた半導電性ポリアミド酸溶液に、イミド化促進剤を添加し、混合・攪拌することによって均一な半導電性ポリアミド酸溶液を得る方法やカーボンブラックを高分子分散剤の存在下で有機極性溶媒中に分散させてカーボンブラック分散液とし、該カーボンブラック分散液とポリアミド酸を混合させた半導電性ポリアミド酸溶液に、イミド転化触媒を添加し、混合・攪拌することによって均一な溶液を得る方法があるが、本発明の製造方法によれば、こうした方法より一層、機械的な強度・弾性を満たし、かつ温度や環境の可撓性と表面平滑性に優れたシームレスベルトを提供することができる。つまり、本発明の製造方法によって、混合・攪拌時間や方法による混合ムラや泡の混入の発生を大きく軽減することができ、カーボンブラックの分散の均一性を向上させるとともに、ベルト表面での窪みや突起が発生を防止し、高い膜厚精度を確保することができる。   As a method for obtaining a semiconductive polyamic acid solution, carbon black is dispersed in an organic polar solvent in the presence of a polymer dispersant to obtain a carbon black dispersion, and the polyamic acid is polymerized in the carbon black dispersion. A method of obtaining a uniform semiconductive polyamic acid solution by adding an imidization accelerator to a semiconductive polyamic acid solution, mixing and stirring, or carbon black in an organic polar solvent in the presence of a polymer dispersant A method of obtaining a uniform solution by adding an imide conversion catalyst to a semiconductive polyamic acid solution in which the carbon black dispersion and the polyamic acid are mixed, and mixing and stirring. However, according to the production method of the present invention, the mechanical strength and elasticity are further satisfied, and the flexibility of temperature and environment is improved. It is possible to provide a seamless belt having excellent surface smoothness. In other words, the production method of the present invention can greatly reduce the occurrence of mixing unevenness and foam mixing due to the mixing and stirring time and method, improve the uniformity of carbon black dispersion, Protrusions can be prevented and high film thickness accuracy can be ensured.

以上の製造方法によって得られるシームレスベルトは、複写機、プリンタ等の転写搬送ベルト、中間転写ベルト、転写定着ベルト、感光体ベルトなど、機能性ベルトとして優れておりその他広範囲な分野への用途展開も可能である。また、本発明の乾燥方法およびは上記用途のシームレスベルトに限らずあらゆる分野に用いられるベルトに適用でき、上記に限定されるものでないことはいうまでもない。   The seamless belt obtained by the above manufacturing method is excellent as a functional belt such as transfer and transfer belts for copying machines and printers, intermediate transfer belts, transfer and fixing belts, and photoreceptor belts, and can be used in a wide range of other fields. Is possible. Moreover, it cannot be overemphasized that the drying method and this invention of this invention can be applied not only to the seamless belt of the said use but to the belt used for every field | area, and are not limited above.

<実施例>
以下、本発明の構成と効果を具体的に示す実施例等について説明する。実施例等における評価項目は下記のようにして測定を行った。なお、本発明がかかる実施例、評価方法に限定されるものではない。
<Example>
Examples and the like specifically showing the configuration and effects of the present invention will be described below. Evaluation items in Examples and the like were measured as follows. In addition, this invention is not limited to this Example and evaluation method.

<評価方法>
(1)表面抵抗率とそのバラツキ
ハイレスタUP、MCP−HTP16(三菱化学社製、プローブ:UR−100)にて印加電圧100V、10秒後、測定条件25℃、60%RHでの表面抵抗率を調べ、その表面抵抗率を常用対数値にて示した。各サンプルにつき12箇所(周方向に4箇所とし軸方向に3点=12箇所)を測定して、周方向及び軸方向の夫々の最大値と最小値の偏差(最大値÷最小値値)により表面抵抗率のバラツキを評価した。なお平均値も算出してある。
<Evaluation method>
(1) Surface resistivity and its variation Hiresta UP, MCP-HTP16 (manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation, probe: UR-100) Applied voltage 100V, 10 seconds later, surface resistivity at measurement conditions 25 ° C., 60% RH The surface resistivity was shown as a common logarithm value. Measure 12 locations for each sample (4 locations in the circumferential direction and 3 points in the axial direction = 12 locations), and the deviation between the maximum and minimum values in the circumferential and axial directions (maximum value / minimum value) The variation in surface resistivity was evaluated. The average value is also calculated.

(2)メッキの厚みとそのバラツキ
電磁式デジタル膜厚計(SDM−3000、(株)サンコウ電子研究所)にて、金型にメッキされた厚みの平均値と、厚みのばらつき(%)を評価した。厚みばらつきは、(最大値―平均値)÷平均値×100で算出される。
(2) Thickness of plating and its variation With an electromagnetic digital film thickness meter (SDM-3000, Sanko Electronics Laboratory Co., Ltd.), the average value of the thickness plated on the mold and the thickness variation (%) evaluated. The thickness variation is calculated by (maximum value−average value) ÷ average value × 100.

<実施例>
N−メチル−2−ピロリドン(NMP)1687gとイソキノリン163gの混合溶液中にカーボンブラック(MA1O0、三菱化学社製、ファーネスブラック、一次粒子に基づく平均粒子径22nm)200gとポリ(N−ビニル−2−ピロリドン)100gを添加した。ボールミルを用いて、12時間、室温で攪拌することにより分散した後、#400ステンレスメッシュでろ過しカーボン濃度10%のカーボン分散液を得た。このカーボン分散液1923.39gを5000mlの4つ口フラスコに移し、N−メチル−2−ピロリドン2040.13gとp−フェニレンジアミン227.09g(2.1モル)を仕込み、常温で攪拌させながら溶解した。次いで、3,3’,4,4’−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物617.86g(2.1モル)を添加し、温度20℃で1時間反応させた後、75℃で20時間加熱しながら攪拌することにより、B型粘度計による溶液粘度が150Pa・sのカーボンブラック含有ポリイミド前駆体溶液(固形分濃度20wt%、カーボンブラックの添加量樹脂に対して25部)を得た。このカーボンブラック含有ポリイミド前駆体溶液を#800のステンレスメッシュを用いてろ過し、半導電性ポリイミドベルト形成用ワニスとした。次に、前記半導電性ポリイミドベルト形成用ワニスをディスペンサーにより、外径320mm、長さ1200mm、硬質クロムメッキ厚み平均値14.1μm、最大メッキ厚みバラツキ4.3%(内周面及び外周面にメッキ処理済み)の金属製円筒状金型の内周面に厚みが600μmになるように塗布した。次に、回転成形機にて1500rpmで10分間回転させて均一厚の展開層としたのち、10rpmで回転させながら、誘導加熱により金型を345℃まで加熱し溶媒の除去、脱水閉環水の除去、及びイミド転化を行った。その後室温に戻し、厚さ77〜78μmのシームレスの半導電性ベルトを得た。
<Example>
In a mixed solution of 1687 g of N-methyl-2-pyrrolidone (NMP) and 163 g of isoquinoline, 200 g of carbon black (MA1O0, manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation, furnace black, average particle diameter 22 nm based on primary particles) and poly (N-vinyl-2) -Pyrrolidone) 100 g was added. After being dispersed by stirring at room temperature for 12 hours using a ball mill, it was filtered through a # 400 stainless steel mesh to obtain a carbon dispersion having a carbon concentration of 10%. 192.39 g of this carbon dispersion was transferred to a 5000 ml four-necked flask, and 2040.13 g of N-methyl-2-pyrrolidone and 227.09 g (2.1 mol) of p-phenylenediamine were charged and dissolved while stirring at room temperature. did. Next, 617.86 g (2.1 mol) of 3,3 ′, 4,4′-biphenyltetracarboxylic dianhydride was added, reacted at 20 ° C. for 1 hour, and then heated at 75 ° C. for 20 hours. By stirring the mixture, a carbon black-containing polyimide precursor solution having a solution viscosity of 150 Pa · s as measured by a B-type viscometer (solid content concentration 20 wt%, carbon black addition amount resin 25 parts) was obtained. This carbon black-containing polyimide precursor solution was filtered using a # 800 stainless steel mesh to obtain a varnish for forming a semiconductive polyimide belt. Next, the semiconductive polyimide belt forming varnish is dispensed by a dispenser with an outer diameter of 320 mm, a length of 1200 mm, a hard chrome plating thickness average value of 14.1 μm, and a maximum plating thickness variation of 4.3% (on the inner and outer peripheral surfaces). It was applied to the inner peripheral surface of a metal cylindrical mold (plated) so as to have a thickness of 600 μm. Next, after rotating for 10 minutes at 1500 rpm on a rotary molding machine to form a uniform thickness layer, the mold is heated to 345 ° C. by induction heating while rotating at 10 rpm to remove the solvent and dehydrated ring-closing water. And imide conversion. Thereafter, the temperature was returned to room temperature to obtain a seamless semiconductive belt having a thickness of 77 to 78 μm.

<比較例1>
実施例の金属製円筒状金型を硬質クロムメッキ厚み平均値24.6μm、最大メッキ厚みバラツキ36.7%の金型に代えて行った。
<Comparative Example 1>
The metal cylindrical mold of the example was replaced with a mold having a hard chrome plating thickness average value of 24.6 μm and a maximum plating thickness variation of 36.7%.

<比較例2>
実施例の金属製円筒状金型を硬質クロムメッキ厚み平均値280μm、最大メッキ厚みバラツキ12.6%の金型に代えて行った。
<Comparative example 2>
The metal cylindrical mold of the example was replaced with a mold having a hard chrome plating thickness average value of 280 μm and a maximum plating thickness variation of 12.6%.

それぞれの金型を用いた場合の比較を表1に示した。

Figure 0004874834
Table 1 shows a comparison when each mold is used.
Figure 0004874834

表1の結果より、実施例は、比較例1,2と比較して、メッキ厚み(平均値)が薄く、厚みばらつきが小さい金型を用いて誘導加熱方式を用いることで、表面抵抗率のばらつきが小さいポリイミド樹脂製のシームレスベルトが得られた。   From the results of Table 1, in the example, compared with Comparative Examples 1 and 2, by using an induction heating method using a mold having a thin plating thickness (average value) and small thickness variation, the surface resistivity is reduced. A seamless belt made of polyimide resin with little variation was obtained.

以上によれば、本発明の製造方法は、熱硬化性で高粘度樹脂に対し好適であり、特に、樹脂溶液がボリアミド酸溶液を主成分とする溶液である場合に好適である。用途面からも耐熱性、機械的強度、化学的安定性などに優れた特性を生かすことができるポリイミド樹脂を、短時間で乾燥、成形しつつ、かつ表面抵抗率のバラツキのないシームレスベルトに仕上げるのに非常に適した製造方法といえる。   Based on the above, the production method of the present invention is suitable for thermosetting and high-viscosity resins, and particularly suitable when the resin solution is a solution containing a polyamic acid solution as a main component. Polyimide resin that can make use of properties such as heat resistance, mechanical strength, and chemical stability from the application aspect, is finished in a seamless belt that is dried and molded in a short time and has no variation in surface resistivity. It can be said that this is a very suitable manufacturing method.

このようにして得られるシームレスベルトは、複写機、プリンタ等の転写搬送ベルト、中間転写ベルト、転写定着ベルト、感光体ベルトなど、機能性ベルトとして優れておりその他広範囲な分野への用途展開も可能である。   The seamless belt obtained in this way is excellent as a functional belt such as transfer and transfer belts for copying machines and printers, intermediate transfer belts, transfer and fixing belts, and photoreceptor belts, and can be used in a wide range of other fields. It is.

本発明に係る方法を実施するための装置の一例を示す説明図Explanatory drawing which shows an example of the apparatus for enforcing the method concerning this invention

符号の説明Explanation of symbols

1 円筒状金型
2 加熱用誘導コイル
3 回転ローラ
4 高周波電源
1 Cylindrical mold 2 Induction coil for heating 3 Rotating roller 4 High frequency power supply

Claims (6)

円筒状金型の内面に樹脂溶液を展開し、当該金型を誘導加熱により加熱することで当該樹脂溶液を加熱成形するシームレスベルトの製造方法であって、
前記金型の外面及び内面に磁性体または非磁性体材料のメッキ処理が施され
前記磁性体材料のメッキ厚みが100μm以下でかつメッキ厚みのバラツキがメッキ厚み平均値の±20%以内であり、
前記非磁性体材料のメッキ厚みが10〜30μmの範囲でかつメッキ厚みのバラツキがメッキ厚み平均値の±20%以内であることを特徴とするシームレスベルトの製造方法。
A method for producing a seamless belt, in which a resin solution is developed on the inner surface of a cylindrical mold, and the mold is heated by induction heating, and the resin solution is thermoformed.
The outer surface and inner surface of the mold are plated with a magnetic or non-magnetic material ,
The plating thickness of the magnetic material is 100 μm or less, and the variation in plating thickness is within ± 20% of the average plating thickness,
A method for producing a seamless belt, wherein the plating thickness of the non-magnetic material is in the range of 10 to 30 μm and the variation in plating thickness is within ± 20% of the average plating thickness .
前記メッキがクロムを含み、メッキ厚みのバラツキがメッキ厚み平均値の±10%以内である請求項1に記載のシームレスベルトの製造方法。 The method for producing a seamless belt according to claim 1, wherein the plating contains chromium, and variation in plating thickness is within ± 10% of an average plating thickness . 前記樹脂溶液がポリアミド酸溶液を主成分とする溶液であることを特徴とする請求項1または請求項2に記載のシームレスベルトの製造方法。   The method for producing a seamless belt according to claim 1, wherein the resin solution is a solution containing a polyamic acid solution as a main component. 前記金型と加熱用誘導コイルとの距離を調整可能とすることを特徴とする請求項1から請求項3のいずれか1項に記載のシームレスベルトの製造方法。   The method for manufacturing a seamless belt according to any one of claims 1 to 3, wherein a distance between the mold and the induction coil for heating is adjustable. シームレスベルトを製造するための円筒状金型と、前記円筒状金型の内面に樹脂溶液を展開する手段と、前記円筒状金型を誘導加熱により加熱することで当該樹脂溶液を加熱成形する手段とを備えるシームレスベルトの製造装置であって、
前記円筒状金型の外面及び内面に磁性体または非磁性体材料のメッキ処理が施され
前記磁性体材料のメッキ厚みが100μm以下でかつメッキ厚みのバラツキがメッキ厚み平均値の±20%以内であり、
前記非磁性体材料のメッキ厚みが10〜30μmの範囲でかつメッキ厚みのバラツキがメッキ厚み平均値の±20%以内であることを特徴とするシームレスベルトの製造装置。
Cylindrical mold for manufacturing a seamless belt, means for spreading a resin solution on the inner surface of the cylindrical mold, and means for thermoforming the resin solution by heating the cylindrical mold by induction heating A seamless belt manufacturing apparatus comprising:
The outer surface and the inner surface of the cylindrical mold are plated with a magnetic or non-magnetic material ,
The plating thickness of the magnetic material is 100 μm or less, and the variation in plating thickness is within ± 20% of the average plating thickness,
An apparatus for producing a seamless belt, wherein the plating thickness of the non-magnetic material is in the range of 10 to 30 μm and the variation in plating thickness is within ± 20% of the average plating thickness .
前記メッキがクロムを含み、メッキ厚みのバラツキがメッキ厚み平均値の±10%以内である請求項5に記載のシームレスベルトの製造装置。The seamless belt manufacturing apparatus according to claim 5, wherein the plating contains chromium, and variation in plating thickness is within ± 10% of an average plating thickness.
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