JP2006272839A - Seamless belt and its manufacturing method - Google Patents

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Tomoyuki Kasagi
智之 笠置
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a seamless belt which can be produced by a method wherein a hot film making step using a polyamide acid is efficiently performed in a short period of time, and which has proper flexibility even if a large amount of a conductive filler such as carbon black is incorporated. <P>SOLUTION: In this seamless belt which is manufactured by using polyamide-acid varnish consisting of a 5-30 wt.% polymer and a 95-70 wt.% solvent, the solvent is a mixed one which contains at least one kind of 10-70 wt.% compound, selected from among aprotic solvents with a boiling point of less than 200°C, as a first component, and which contains at least one kind of 90-30 wt.% compound, selected among aprotic solvents with a boiling point of 200°C or more, as a second component. <P>COPYRIGHT: (C)2007,JPO&INPIT

Description

本発明は、本発明は、複写機、レーザビームプリンター、ファクシミリ及びこれらの複合装置などの電子写真式画像形成装置に用いられるシームレスベルトに関し、特には定着用、感光体基体用、中間転写用、紙搬送用及び転写定着用等に使用されるシームレスベルトに関するものである。   The present invention relates to a seamless belt used in an electrophotographic image forming apparatus such as a copying machine, a laser beam printer, a facsimile, and a composite device thereof, and more particularly, for fixing, for a photoreceptor substrate, for intermediate transfer, The present invention relates to a seamless belt used for paper conveyance and transfer fixing.

電子写真式画像形成装置においては、一般的に、帯電させた感光体の表面に、画像読取装置で得られた画像に対応する静電潜像を形成し、現像器によってトナー画像とした後、シームレスベルトからなる中間転写体に静電転写(一次転写)し、中間転写体から紙等へ再度転写(二次転写)して定着ロールまたは定着ベルトで加熱定着される。このとき、中間転写体だけではなく、感光体や転写を兼ねた定着等にもシームレスベルトの使用が検討されている。     In an electrophotographic image forming apparatus, generally, an electrostatic latent image corresponding to an image obtained by an image reading device is formed on the surface of a charged photoreceptor, and a toner image is formed by a developing device. It is electrostatically transferred (primary transfer) to an intermediate transfer member composed of a seamless belt, transferred again from the intermediate transfer member to paper or the like (secondary transfer), and heated and fixed by a fixing roll or a fixing belt. At this time, the use of a seamless belt is being considered not only for the intermediate transfer member but also for fixing that also serves as a photosensitive member and transfer.

従来より、こうしたシームレスベルトの材料としては、成形性が良いこと、軽量であること等の理由からプラスチック材料が使用され、このプラスチック材料としては、耐熱性、機械的強度、耐環境特性に優れることから、ポリイミド系樹脂を使用したポリイミドベルトが検討されている。また、静電的な転写方式に用いられるベルト材料に要求される特性としては、表面抵抗値が10〜1013Ω・cm程度の、いわゆる中抵抗を有することが挙げられる。一般には、こうした特性を確保するために、ポリイミド樹脂中にカーボンブラックなどの導電性フィラーを含有せしめる手法が用いられている(例えば特許文献1または2参照)。
特開平5‐77252号公報 特開平10‐63115号公報
Conventionally, a plastic material has been used as a material for such a seamless belt for reasons such as good moldability and light weight, and this plastic material has excellent heat resistance, mechanical strength, and environmental resistance. Therefore, a polyimide belt using a polyimide resin has been studied. Moreover, as a characteristic requested | required of the belt material used for an electrostatic transfer system, it has what is called a medium resistance whose surface resistance value is about 10 < 8 > -10 < 13 > (omega | ohm) * cm. In general, in order to ensure such characteristics, a method of incorporating a conductive filler such as carbon black in a polyimide resin is used (see, for example, Patent Document 1 or 2).
JP-A-5-77252 JP-A-10-63115

しかしながら、樹脂中に存在するカーボンブラックなどの導電性フィラーは、樹脂の可撓性を著しく低下させ、このようなベルトを装置中に組み込んだ場合、半導電性ベルトの寿命の短命化につながるおそれがある。すなわち、ベルトのクラック発生などの部品破損が生じるまでの期間が短くなり、電子写真方式の画像形成装置における、ベルト交換等のメンテナンスの手間とランニングコストを押し上げる結果につながる。   However, conductive fillers such as carbon black present in the resin significantly reduce the flexibility of the resin, and if such a belt is incorporated in an apparatus, the life of the semiconductive belt may be shortened. There is. In other words, the period until parts breakage such as the occurrence of cracks in the belt is shortened, leading to a result of increasing the labor and running costs such as belt replacement in the electrophotographic image forming apparatus.

また、こうした可撓性をなるべく落とさないように、ポリアミド酸の加熱製膜工程を十分な温度と時間で加熱処理する方法などが工夫されているが、生産時間が長くなり成膜の均一性を確保することが難しいという問題があり、シームレスベルトの生産効率の面からも望ましくない。   In addition, in order to prevent such flexibility from being lost as much as possible, a method of heat-treating the polyamic acid heating film forming process at a sufficient temperature and time has been devised. There is a problem that it is difficult to ensure, which is not desirable from the aspect of production efficiency of the seamless belt.

そこで、本発明の目的は、ポリアミド酸の加熱製膜工程を短時間で効率よく行い、かつカーボンブラックなどの導電性フィラーを多量に含有させた場合でも良好な可撓性を有するシームレスベルトを提供することにある。   Accordingly, an object of the present invention is to provide a seamless belt having good flexibility even when a polyamic acid heating film-forming process is efficiently performed in a short time and a large amount of conductive filler such as carbon black is contained. There is to do.

本発明者らは、鋭意研究を重ねた結果、以下に示すシームレスベルトおよびその製造方法により上記目的を達成できることを見出し、本発明を完成するに到った。   As a result of intensive studies, the present inventors have found that the above object can be achieved by the seamless belt and the manufacturing method thereof shown below, and have completed the present invention.

本発明は、ポリマー5〜30重量%と溶剤95〜70重量%とからなるポリアミド酸ワニスを用いて作製されるシームレスベルトの製造方法において、前記溶剤が、第1成分として沸点が200℃未満の非プロトン性溶剤から選ばれる少なくとも1種の化合物の10〜70重量%と、第2成分として沸点が200℃以上の非プロトン性溶剤から選ばれる少なくとも1種の化合物の90〜30重量%とを含有する混合溶剤であることを特徴とする。   The present invention provides a method for producing a seamless belt using a polyamic acid varnish comprising 5 to 30% by weight of a polymer and 95 to 70% by weight of a solvent, wherein the solvent has a boiling point of less than 200 ° C. as a first component. 10 to 70% by weight of at least one compound selected from aprotic solvents, and 90 to 30% by weight of at least one compound selected from aprotic solvents having a boiling point of 200 ° C. or higher as the second component. It is a mixed solvent containing.

本発明は、ポリイミドベルトにおける可撓性低下の原因が、加熱イミド化時のポリアミド酸ワニスに含まれる溶剤蒸発によるものであり、成膜時の溶剤除去工程において溶剤蒸発率を制御することにより、シームレスベルトの可撓性を向上することができることを見出したものである。また、溶剤の成分についても、1つの溶剤のみを使用する場合よりも異なる沸点を有する複数の成分からなり所定の範囲の混合比によって作製された混合溶媒が、シームレスベルトの可撓性向上に有用であることを見出したものである。具体的には、ポリアミド酸ワニスを構成する溶剤の複数の成分を、沸点200℃を基準に2つに分け、上記範囲の比率で混合することによって、ポリアミド酸の加熱製膜工程を短時間で効率よく行い、かつカーボンブラックなどの導電性フィラーを多量に含有させた場合でも良好な可撓性を有するシームレスベルトを提供することが可能となった。   In the present invention, the cause of the decrease in flexibility in the polyimide belt is due to the solvent evaporation contained in the polyamic acid varnish at the time of heat imidization, and by controlling the solvent evaporation rate in the solvent removal step during film formation, It has been found that the flexibility of the seamless belt can be improved. As for the solvent components, a mixed solvent made of a plurality of components having different boiling points compared to the case of using only one solvent and having a mixing ratio within a predetermined range is useful for improving the flexibility of the seamless belt. It has been found that. Specifically, by dividing a plurality of components of the solvent constituting the polyamic acid varnish into two parts based on a boiling point of 200 ° C. and mixing at a ratio in the above range, the polyamic acid heating film forming step can be performed in a short time. It is possible to provide a seamless belt that is efficient and has good flexibility even when a large amount of conductive filler such as carbon black is contained.

本発明は、ポリマー5〜30重量%と溶剤95〜70重量%とからなるポリアミド酸ワニスを用いて作製されるシームレスベルトの製造方法において、前記溶剤が、第1成分として沸点が200℃未満の非プロトン性溶剤から選ばれる少なくとも1種の化合物の10〜70重量%と、第2成分として沸点が200℃以上の非プロトン性溶剤から選ばれる少なくとも1種の化合物と沸点が200℃以上の複素環式第3級アミン類または沸点が200℃以上の塩基性有機化合物系触媒の合計量が90〜30重量%とを含有する混合溶剤であることを特徴とする。   The present invention provides a method for producing a seamless belt using a polyamic acid varnish comprising 5 to 30% by weight of a polymer and 95 to 70% by weight of a solvent, wherein the solvent has a boiling point of less than 200 ° C. as a first component. 10 to 70% by weight of at least one compound selected from aprotic solvents, and at least one compound selected from aprotic solvents having a boiling point of 200 ° C. or higher as a second component and a complex having a boiling point of 200 ° C. or higher. It is a mixed solvent containing 90 to 30% by weight of a total amount of cyclic tertiary amines or basic organic compound catalysts having a boiling point of 200 ° C. or higher.

上記のように、溶剤の成分を調整し成膜時の溶剤除去工程において溶剤蒸発率を制御することにより、良好な可撓性を有するシームレスベルトの作製が可能となる。本発明は、さらに、溶剤に添加するイミド化促進剤についても高沸点のイミド化促進剤を所定量混合することによって、一層効果的にイミド化を促進するとともに、合せて有効に可撓性の向上を図ることができる。従って、ポリアミド酸の加熱製膜工程を短時間で効率よく行い、優れた特性のシームレスベルトの製造方法を提供することが可能となった。   As described above, by adjusting the solvent components and controlling the solvent evaporation rate in the solvent removal step during film formation, it is possible to produce a seamless belt having good flexibility. The present invention further promotes imidization more effectively by mixing a predetermined amount of an imidization accelerator having a high boiling point with respect to the imidization accelerator to be added to the solvent, and at the same time, effectively improves the flexibility. Improvements can be made. Therefore, it has become possible to efficiently perform the polyamic acid heating film forming process in a short time and to provide a method for producing a seamless belt having excellent characteristics.

本発明は、ポリイミド樹脂を主成分としてなる上記のシームレスベルトの製造方法であって、ポリイミド樹脂がポリイミド前駆体である前記ポリアミド酸ワニスを150℃以上で加熱して溶媒を90%以上蒸発させた後、さらに200℃を越えて加熱することによりイミド転化して得られたものであることを特徴とする。   The present invention is a process for producing the above-described seamless belt comprising a polyimide resin as a main component, wherein the polyamic acid varnish whose polyimide resin is a polyimide precursor is heated at 150 ° C. or higher to evaporate the solvent by 90% or more. Thereafter, it is obtained by further imide conversion by heating above 200 ° C.

本発明は、成膜時の溶剤除去工程において、溶剤蒸発率に大きく関与する加熱温度を制御することにより可撓性を向上することを見出したものである。つまり、沸点の異なる複数の成分から構成される溶剤を用い、加熱温度を段階的に変更して溶剤の蒸散およびイミド化を行うことによって、ポリアミド酸の加熱製膜工程を短時間で効率よく行い、かつ優れた可撓性を有するシームレスベルトを作製することが可能となった。特に、イミド化促進剤を添加した場合にあっては、高温処理段階において高沸点のイミド化促進剤の機能を有効に生かすことが可能となり、一層効果的にイミド化を促進することができる。   The present invention has found that the flexibility is improved by controlling the heating temperature that is largely involved in the solvent evaporation rate in the solvent removal step during film formation. In other words, by using a solvent composed of a plurality of components having different boiling points and changing the heating temperature stepwise to evaporate the solvent and imidize, the polyamic acid heating film forming process can be efficiently performed in a short time. And it became possible to produce a seamless belt having excellent flexibility. In particular, when an imidization accelerator is added, the function of the high boiling point imidization accelerator can be effectively utilized in the high temperature treatment stage, and imidization can be promoted more effectively.

本発明は、上記のシームレスベルトの製造方法であって、ベルトの耐折強さが200回以上であることを特徴とする。   The present invention is the above-described seamless belt manufacturing method, characterized in that the folding strength of the belt is 200 times or more.

また、本発明は、上記の製造方法によって作製されたことを特徴とするシートベルトである。さらには、ベルトの耐折強さが200回以上であることを特徴とする。   The present invention also provides a seat belt manufactured by the above manufacturing method. Furthermore, the folding strength of the belt is 200 times or more.

本発明において作製されたベルトは優れた可撓性を有し、特にその指標である耐折強さを所定値以上有するベルトは、転写方式等に用いられるベルト材料に要求される機械的な強度・弾性を満たし、かつ可撓性に優れたシームレスベルトおよびその製造方法を提供することができる。なお、「ベルトの耐折強さ」の値は、後述する〔実施例〕<評価方法>に記載する測定方法に基づく測定値による。   The belt produced in the present invention has excellent flexibility, and in particular, a belt having a predetermined value or more of folding resistance, which is an index of the belt, has a mechanical strength required for a belt material used in a transfer method or the like. A seamless belt satisfying elasticity and excellent in flexibility and a method for producing the same can be provided. The value of “belt bending resistance” is based on a measurement value based on the measurement method described in [Example] <Evaluation method> described later.

以上のように、本発明のシームレスベルトによると、ポリアミド酸の加熱製膜工程を短時間で効率よく行うことができ、かつカーボンブラックを多量に含有させた場合でも良好な可撓性を有するシームレスベルトを提供できる。このため、低コストのベルトで長寿命化が実現可能となり、かつベルトの交換等のメンテナンスの手間とランニングコストをも低減できる。   As described above, according to the seamless belt of the present invention, the polyamic acid heating film-forming step can be efficiently performed in a short time, and even when a large amount of carbon black is contained, the seamless has good flexibility. Can provide a belt. For this reason, it is possible to extend the service life with a low-cost belt, and it is possible to reduce maintenance work such as belt replacement and running cost.

以下、本発明の実施の形態について説明する。   Hereinafter, embodiments of the present invention will be described.

本発明のシームレスベルトは、ポリイミド樹脂を主成分としてなるシームレスベルトであって、前記ポリイミド樹脂は、ポリマー5〜30重量%と溶剤95〜70重量%とからなるポリアミド酸ワニスを用い、イミド転化して得られたものである。   The seamless belt of the present invention is a seamless belt mainly composed of a polyimide resin, and the polyimide resin is converted to an imide by using a polyamic acid varnish composed of 5 to 30% by weight of a polymer and 95 to 70% by weight of a solvent. It was obtained.

ここで、ポリアミド酸ワニスを形成する溶剤が、第1成分として沸点が200℃未満の非プロトン性溶剤から選ばれる少なくとも1種の化合物の10〜70重量%と、第2成分として沸点が200℃以上の非プロトン性溶剤から選ばれる少なくとも1種の化合物の90〜30重量%とを含有する混合溶剤であることが好適である。   Here, the solvent for forming the polyamic acid varnish is 10 to 70% by weight of at least one compound selected from aprotic solvents having a boiling point of less than 200 ° C. as the first component, and a boiling point of 200 ° C. as the second component. A mixed solvent containing 90 to 30% by weight of at least one compound selected from the above aprotic solvents is preferable.

加熱イミド化の温度である200℃を基準に溶剤の成分構成を調整することによって、成膜時の溶剤除去工程における溶剤蒸発率を効率的に制御することが可能となる。また、200℃未満の沸点を有する溶剤と200℃以上の沸点を有する溶剤との混合溶剤において前者の混合溶剤に対する比率が10重量%を下回る場合には、イミド化段階でのポリアミド酸ワニス中の溶剤成分が過剰となり、可撓性はよくなるがベルトの強度が低下する場合がある。逆に、70重量%を超える場合には、イミド化段階でのポリアミド酸ワニス中の溶剤成分が不足し、可撓性の低下および脆性の増大を生じる可能性がある。特に、導電性フィラーを多量に含有させた場合には、こうした溶剤の成分構成を調整することにより、良好な可撓性を有するシームレスベルトを作製することが可能となった。   By adjusting the component composition of the solvent on the basis of the heating imidization temperature of 200 ° C., it is possible to efficiently control the solvent evaporation rate in the solvent removal step during film formation. Moreover, in the mixed solvent of a solvent having a boiling point of less than 200 ° C. and a solvent having a boiling point of 200 ° C. or more, the ratio of the former to the mixed solvent is less than 10% by weight, the polyamic acid varnish in the imidization stage The solvent component becomes excessive and the flexibility is improved, but the strength of the belt may be lowered. On the other hand, if it exceeds 70% by weight, the solvent component in the polyamic acid varnish in the imidization stage is insufficient, which may cause a decrease in flexibility and an increase in brittleness. In particular, when a large amount of conductive filler is contained, it is possible to produce a seamless belt having good flexibility by adjusting the component composition of such a solvent.

重合反応させる際の溶媒としては、上記したテトラカルボン酸二無水物とジアミンを適宜用いうるが、沸点が200℃以上の非プロトン性溶剤としてγ−ブチルラクトン、N−メチル−2−ピロリドン、ヘキサメチルホスホルトリアミド、テトラメチレンスルホン等が挙げられる。   As the solvent for the polymerization reaction, the above-described tetracarboxylic dianhydride and diamine can be used as appropriate. However, as an aprotic solvent having a boiling point of 200 ° C. or higher, γ-butyllactone, N-methyl-2-pyrrolidone, hexa Examples include methyl phosphortriamide and tetramethylene sulfone.

沸点が200℃未満の非プロトン性溶剤としては、N−メチルプロピオンアミド、N−メチルカプロラクタム、N,N−ジエチルホルムアミド、N,N−ジメチルホルムアミド、N,N−ジメチルアセトアミド、N,N−ジエチルアセトアミド、ジメチルスルホキシド等が挙げられる。   Examples of aprotic solvents having a boiling point of less than 200 ° C. include N-methylpropionamide, N-methylcaprolactam, N, N-diethylformamide, N, N-dimethylformamide, N, N-dimethylacetamide, N, N-diethyl. Examples include acetamide and dimethyl sulfoxide.

また、イミド化促進剤として、沸点が200℃以上の複素環式第3級アミン類または沸点が200℃以上の塩基性有機化合物系触媒を含有することが好ましい。   Moreover, it is preferable to contain a heterocyclic tertiary amine having a boiling point of 200 ° C. or higher or a basic organic compound catalyst having a boiling point of 200 ° C. or higher as the imidization accelerator.

沸点が200℃以上の複素環式第3級アミン類としては、例えばイミダゾール、フェニルイミダゾールおよびベンズイミダゾールなどを挙げることができる。沸点が200℃以上の塩基性有機化合物系触媒としては、例えばキノリンやイソキノリンなどが挙げられる。   Examples of the heterocyclic tertiary amines having a boiling point of 200 ° C. or higher include imidazole, phenylimidazole and benzimidazole. Examples of the basic organic compound catalyst having a boiling point of 200 ° C. or higher include quinoline and isoquinoline.

このとき、前記溶剤が、第1成分として沸点が200℃未満の非プロトン性溶剤から選ばれる少なくとも1種の化合物の10〜70重量%と、第2成分として沸点が200℃以上の非プロトン性溶剤から選ばれる少なくとも1種の化合物と沸点が200℃以上の複素環式第3級アミン類または沸点が200℃以上の塩基性有機化合物系触媒の合計量が90〜30重量%とを含有する混合溶剤であることが好適である。   At this time, the solvent is 10 to 70% by weight of at least one compound selected from aprotic solvents having a boiling point of less than 200 ° C. as the first component, and aprotic having a boiling point of 200 ° C. or more as the second component. The total amount of at least one compound selected from solvents and a heterocyclic tertiary amine having a boiling point of 200 ° C. or higher or a basic organic compound catalyst having a boiling point of 200 ° C. or higher is 90 to 30% by weight. A mixed solvent is preferred.

溶剤にイミド化促進剤を添加する場合についても、上記のように、溶剤の成分を調整し成膜時の溶剤除去工程において溶剤蒸発率を制御することにより、良好な可撓性を有するシームレスベルトの作製を図るもので、溶剤調整の基準となる沸点および2つの成分の混合比率についても、同様の数値範囲およびその有効性を確保することができる。   Even when an imidization accelerator is added to a solvent, as described above, a seamless belt having good flexibility can be obtained by adjusting the components of the solvent and controlling the solvent evaporation rate in the solvent removal step during film formation. The same numerical range and effectiveness can be ensured for the boiling point and the mixing ratio of the two components, which are the criteria for solvent adjustment.

前記ポリイミド樹脂を生成するためのポリアミド酸溶液は、例えば芳香族テトラカルボン酸二無水物と芳香族ジアミンまたは脂肪族ジアミンとを有機極性溶媒中で反応させることにより調製することができる。   The polyamic acid solution for producing the polyimide resin can be prepared, for example, by reacting an aromatic tetracarboxylic dianhydride with an aromatic diamine or an aliphatic diamine in an organic polar solvent.

ここで.ポリイミド系樹脂の原料液となるポリアミド酸溶液としては、例えばテトラカルボン酸二無水物やその誘導体とジアミンを溶媒中で重合反応させてなるポリアミド酸の溶液が使用可能である。   here. As the polyamic acid solution used as the raw material liquid for the polyimide resin, for example, a polyamic acid solution obtained by polymerizing tetracarboxylic dianhydride or its derivative and diamine in a solvent can be used.

前記ポリアミド酸はテトラカルボン酸二無水物あるいはその誘導体とジアミンの略等モルを有機溶媒中で反応させることにより得られるもので、通常、溶液状で用いられる。このようなテトラカルボン酸二無水物は、例えば下記の一般式(1)で示される。
[式1]

Figure 2006272839
(式中、Rは4価の有機基であり、芳香族、脂肪族、環状脂肪族、芳香族と脂肪族を組み合せたもの、またはそれらの置換された基である。) The polyamic acid is obtained by reacting tetracarboxylic dianhydride or a derivative thereof with an approximately equimolar amount of diamine in an organic solvent, and is usually used in the form of a solution. Such a tetracarboxylic dianhydride is represented by the following general formula (1), for example.
[Formula 1]
Figure 2006272839
(In the formula, R is a tetravalent organic group, and is an aromatic, aliphatic, cycloaliphatic, a combination of aromatic and aliphatic, or a substituted group thereof.)

前記したテトラカルボン酸二無水物の具体例としては、ピロメリット酸二無水物、3,3’4,4’−ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物、3,3’,4,4’−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物、2,3,3’,4−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物、2,3,6,7−ナフタレンテトラカルボン酸二無水物、1,2,5,6−ナフタレンテトラカルボン酸二無水物、1,4,5,8−ナフタレンテトラカルボン酸二無水物、2,2’−ビス(3,4−ジカルボキシフェニル)プロパン二無水物、ビス(3,4−ジカルボキシフェニル)スルホン二無水物、ペリレン−3,4,9,10−テトラカルボン酸二無水物、ビス(3,4−ジカルボキシフェニル)エーテル二無水物、エチレンテトラカルボン酸二無水物等が挙げられる。   Specific examples of the tetracarboxylic dianhydride include pyromellitic dianhydride, 3,3′4,4′-benzophenonetetracarboxylic dianhydride, 3,3 ′, 4,4′-biphenyltetra. Carboxylic dianhydride, 2,3,3 ′, 4-biphenyltetracarboxylic dianhydride, 2,3,6,7-naphthalenetetracarboxylic dianhydride, 1,2,5,6-naphthalenetetracarboxylic Acid dianhydride, 1,4,5,8-naphthalenetetracarboxylic dianhydride, 2,2′-bis (3,4-dicarboxyphenyl) propane dianhydride, bis (3,4-dicarboxyphenyl) ) Sulfone dianhydride, perylene-3,4,9,10-tetracarboxylic dianhydride, bis (3,4-dicarboxyphenyl) ether dianhydride, ethylenetetracarboxylic dianhydride and the like. That.

一方、ジアミンの例としては、4,4’−ジアミノジフェニルエーテル、4,4’−ジアミノジフェニルメタン、3,3’−ジアミノジフェニルメタン、3,3’−ジクロロベンジジン、4,4’−ジアミノジフェニルスルフィド、3,3’−ジアミノジフェニルスルフォン、1,5−ジアミノナフタレン、m−フェニレンジアミン、p−フェニレンジアミン、3,3’−ジメチル−4,4’−ビフェニルジアミン、ベンジジン、3,3’−ジメチルベンジジン、3,3’−ジメトキシベンジジン、4,4’−ジアミノフェニルスルフォン、4,4’−ジアミノフェニルスルフィド、4,4’−ジアミノジフェニルプロパン、2,4−ビス(β−アミノ−第三ブチル)トルエン、ビス(p−β−アミノ−第三ブチルフェニル)エーテル、ビス(p−β−メチル−δ−アミノフェニル)ベンゼン、ビス−p−(1,1−ジメチル−5−アミノ−ペンチル)ベンゼン、1−イソプロピル−2,4−m−フェニレンジアミン、m−キシリレンジアミン、p−キシリレンジアミン、ジ(p−アミノシクロヘキシル)メタン、ヘキサメチレンジアミン、ヘプタメチレンジアミン、オクタメチレンジアミン、ノナメチレンジアミン、デカメチレンジアミン、ジアミノプロピルテトラメチレン、3−メチルへプタメチレンジアミン、4,4−ジメチルヘプタメチレンジアミン、2,11−ジアミノドデカン、1,2−ビス−3−アミノプロポキシエタン、2,2−ジメチルプロピレンアミン、3−メトキシヘキサメチレンジアミン、2,5−ジメチルヘキサメチレンジアミン、2,5−ジメチルヘプタメチレンジアミン、3−メチルへプタメチレンジアミン、5−メチルノナメチレンジアミン、2,11−ジアミノドデカン、2,17−ジアミノエイコサデカン、1,4−ジアミノシクロへキサン、1,10−ジアミノ−1,10−ジメチルデカン、1,12−ジアミノオクタデカン、2,2−ビス[4−(4−アミノフェノキシ)フェニル]プロパン、ピペラジン
N(CHO(CHO(CH)NH
N(CHS(CHNH
N(CHN(CH(CHNH
等が挙げられる。
On the other hand, examples of diamines include 4,4′-diaminodiphenyl ether, 4,4′-diaminodiphenylmethane, 3,3′-diaminodiphenylmethane, 3,3′-dichlorobenzidine, 4,4′-diaminodiphenyl sulfide, 3 , 3′-diaminodiphenylsulfone, 1,5-diaminonaphthalene, m-phenylenediamine, p-phenylenediamine, 3,3′-dimethyl-4,4′-biphenyldiamine, benzidine, 3,3′-dimethylbenzidine, 3,3′-dimethoxybenzidine, 4,4′-diaminophenylsulfone, 4,4′-diaminophenyl sulfide, 4,4′-diaminodiphenylpropane, 2,4-bis (β-amino-tert-butyl) toluene Bis (p-β-amino-tert-butylphenyl) ether, bis (p-β-methyl-δ) Aminophenyl) benzene, bis-p- (1,1-dimethyl-5-amino-pentyl) benzene, 1-isopropyl-2,4-m-phenylenediamine, m-xylylenediamine, p-xylylenediamine, di (P-aminocyclohexyl) methane, hexamethylenediamine, heptamethylenediamine, octamethylenediamine, nonamethylenediamine, decamethylenediamine, diaminopropyltetramethylene, 3-methylheptamethylenediamine, 4,4-dimethylheptamethylenediamine, 2,11-diaminododecane, 1,2-bis-3-aminopropoxyethane, 2,2-dimethylpropyleneamine, 3-methoxyhexamethylenediamine, 2,5-dimethylhexamethylenediamine, 2,5-dimethylheptamethylene Diamine 3-methylheptamethylenediamine, 5-methylnonamethylenediamine, 2,11-diaminododecane, 2,17-diaminoeicosadecane, 1,4-diaminocyclohexane, 1,10-diamino-1,10- Dimethyldecane, 1,12-diaminooctadecane, 2,2-bis [4- (4-aminophenoxy) phenyl] propane, piperazine H 2 N (CH 2 ) 3 O (CH 2 ) 2 O (CH 2 ) NH 2 ,
H 2 N (CH 2 ) 3 S (CH 2 ) 3 NH 2 ,
H 2 N (CH 2) 3 N (CH 2) 2 (CH 2) 3 NH 2,
Etc.

また、芳香族ジアミンとしては、例えば4,4’−ジアミノジフェニルエーテル、4,4’−ジアミノジフェニルメタン、4,4’−ジアミノジフェニルエタン、4,4’−ジアミノジフェニルプロパン、4,4’−ジアミノジフェニルスルホン、4,4’−ジアミノジフェニルスルフィド、m−フェニレンジアミン、p−フェニレンジアミン、m−トルイレンジアミン、p−トルイレンジアミン、ベンチジン、1,5−ジアミノナフタレンなどが挙げられる。   Examples of the aromatic diamine include 4,4′-diaminodiphenyl ether, 4,4′-diaminodiphenylmethane, 4,4′-diaminodiphenylethane, 4,4′-diaminodiphenylpropane, and 4,4′-diaminodiphenyl. Examples include sulfone, 4,4′-diaminodiphenyl sulfide, m-phenylenediamine, p-phenylenediamine, m-toluylenediamine, p-toluylenediamine, benzidine, and 1,5-diaminonaphthalene.

さらに、脂肪族ジアミンとしては、例えばヘキサメチレンジアミン、ヘプタメチレンジアミン、オクタメチレンジアミン、ノナメチレンジアミン、デカメチレンジアミン、ジアミノプロピル、テトラメチレンジアミン、3−メチルへプタメチレンジアミン、4,4−ジメチル−ヘプタビス−(3−アミノプロポキシメタン)、2,2−ジメチルプロピレンジアミン、3−メトキシヘキサメチレンジアミン、2,5−ジメチルヘキサメチレンジアミン、2,5−ジメチルヘプタメチレンジアミン、3−メチルへプタメチレンジアミン、5−メチルノナメチレンジアミン、2,11−ジアミノドデカン、1,4−ジアミノシクロヘキサン、1,10−ジアミノ−1,10−ジメチルデカン、1,12−ジアミノオクタデカン、4,4’−ジアミノ−3,3’−ジメチルジシクロヘキシン,4,4’−ジアミノジシクロヘキシルメタン、4,4’−ジアミノジシクロヘキサン、1,4−シクロヘキサンビス(メチルアミン)などが挙げられる。   Furthermore, examples of the aliphatic diamine include hexamethylene diamine, heptamethylene diamine, octamethylene diamine, nonamethylene diamine, decamethylene diamine, diaminopropyl, tetramethylene diamine, 3-methylheptamethylene diamine, 4,4-dimethyl- Heptabis- (3-aminopropoxymethane), 2,2-dimethylpropylenediamine, 3-methoxyhexamethylenediamine, 2,5-dimethylhexamethylenediamine, 2,5-dimethylheptamethylenediamine, 3-methylheptamethylenediamine , 5-methylnonamethylenediamine, 2,11-diaminododecane, 1,4-diaminocyclohexane, 1,10-diamino-1,10-dimethyldecane, 1,12-diaminooctadecane, 4,4′-diamino 3,3'-dimethyl dicyclohexylmethane Singh, 4,4'-diaminodicyclohexylmethane, 4,4'-diaminodiphenyl cyclohexane, 1,4-cyclohexane bis (methylamine) and the like.

上記のテトラカルボン酸二無水物(a)とジアミン(b)とを有機極性溶媒中で反応させることによりポリアミド酸が得られる。その際のモノマー濃度(溶媒中における(a)+(b)の濃度)は、種々の条件に応じて設定されるが、5〜30重量%が好ましい。また、反応温度は80℃以下に設定することが好ましく、特に好ましくは5〜50℃であり、反応時間は0.5〜10時間である。このようにして酸二無水物成分とジアミン成分とを有機極性溶媒中で反応させることによりポリアミド酸が生成し、その反応の進行に伴い溶液粘度が上昇する。本発明ではこの現象を利用して、導電性フィラーを含有するポリアミド酸溶液のB型粘度計における25℃の粘度を1〜1000Pa・sに調整することができる。また、前記モノマー濃度による調整も可能である。   A polyamic acid is obtained by reacting the tetracarboxylic dianhydride (a) and the diamine (b) in an organic polar solvent. The monomer concentration (concentration of (a) + (b) in the solvent) at that time is set according to various conditions, but is preferably 5 to 30% by weight. Moreover, it is preferable to set reaction temperature to 80 degrees C or less, Most preferably, it is 5-50 degreeC, and reaction time is 0.5 to 10 hours. Thus, polyamic acid is produced | generated by making an acid dianhydride component and a diamine component react in an organic polar solvent, and solution viscosity rises with the progress of the reaction. In the present invention, by utilizing this phenomenon, the viscosity at 25 ° C. in a B-type viscometer of a polyamic acid solution containing a conductive filler can be adjusted to 1 to 1000 Pa · s. Moreover, the adjustment by the monomer concentration is also possible.

また、フィルム表面の滑性を良くするためにシリカ、アルミナ、リン酸カルシウム等のフィラーを混合できる。   Moreover, in order to improve the lubricity of the film surface, fillers such as silica, alumina and calcium phosphate can be mixed.

また、導電性を出すためにケッチェンブラックやアセチレンブラック等のカーボンブラック、アルミニウムやニッケルのような金属、酸化チタンや酸化錫のような酸化金属化合物、チタン酸カリウム等の導電性粉末、あるいはポリアニリンやポリアセチレンのような導電性ポリマー等の適宜なものの1種または2種以上を用いることができる。   In addition, carbon black such as ketjen black or acetylene black, metal such as aluminum or nickel, metal oxide compound such as titanium oxide or tin oxide, conductive powder such as potassium titanate, or polyaniline One or two or more suitable materials such as conductive polymers such as polyacetylene can be used.

本発明に用いるカーボンブラックは、平均粒子径が5〜100nmであり、好ましくは10〜70nmであり、より好ましくは15〜60nmである。平均粒子径が5nm未満のものは、実質的に入手することが困難であり、平均粒子径が100nmを越える場合、該カーボンブラックを含有したポリイミド樹脂組成物の表面粗さ、機械的強度及び電気抵抗制御性等の観点から実用上満足できるものが得られ難いからである。   The carbon black used in the present invention has an average particle size of 5 to 100 nm, preferably 10 to 70 nm, and more preferably 15 to 60 nm. Those having an average particle diameter of less than 5 nm are substantially difficult to obtain. When the average particle diameter exceeds 100 nm, the surface roughness, mechanical strength and electrical properties of the polyimide resin composition containing the carbon black This is because it is difficult to obtain a practically satisfactory one from the viewpoint of resistance controllability.

前記平均粒子径は、電子顕微鏡などで測定された一次粒子径に基づく平均粒子径を示す。また、前記カーボンブラックは、粒子表面にポリマーをグラフト化させたり、絶縁材を被覆したりすることで電気抵抗を制御してもよく、カーボンブラック粒子表面に酸化処理を施してもよい。   The said average particle diameter shows the average particle diameter based on the primary particle diameter measured with the electron microscope etc. In addition, the carbon black may have its electric resistance controlled by grafting a polymer on the particle surface or coating an insulating material, or may oxidize the carbon black particle surface.

本発明に用いるカーボンブラックとしては、例えばファーネスブラック、チャンネルブラック等が挙げられる。具体的には、ファーネスブラックとして、デグサ・ヒュルス社製の「Special Black 550」、「Special Black 350」、「Special Black 250」、「Special Black 100」、「Printex 35」、「Printex 25」、三菱化学社製の「MA 7」、「MA 77」、「MA 8」、「MA 11」、「MA 100」、「MA 100R」、「MA 220」、「MA 230」、キャボット社製、「MONARCH 1300」、「MONARCH 1100」、「MONARCH 1000」、「MONARCH 900」、「MONARCH 880」、「MONARCH 800」、「MONARCH 700」、「MOGUL L」、「REGAL 400R」、「VULCAN XC−72R」等が挙げられ、チャンネルブラックとしてデグサ・ヒュルス社製の「Color Black FW200」、「Color Black FW2」、「Color Black FW2V」、「Color Black FW1」、「Color Black FW18」、「Special Black 6」、「Color Black S170」、「Color Black S160」、「Special Black 5」、「Special Black 4」、「Special Black 4A」、「Printex 150T」、「Printex U」、「Printex V」、「Printex 140U」、「Printex 140V」等が挙げられ、単独及び複数種類のカーボンブラックを併用してもよい。   Examples of the carbon black used in the present invention include furnace black and channel black. Specifically, as the furnace black, “Special Black 550”, “Special Black 350”, “Special Black 250”, “Special Black 100”, “Printex 35”, “Print Mitsubishi” manufactured by Degussa Huls, Inc. “MA 7”, “MA 77”, “MA 8”, “MA 11”, “MA 100”, “MA 100R”, “MA 220”, “MA 230”, manufactured by Cabot Corporation, “MONARCH” 1300 "," MONARCH 1100 "," MONARCH 1000 "," MONARCH 900 "," MONARCH 880 "," MONARCH 800 "," MONARCH 700 "," MOGUL L "," REGAL 400R ", VULCAN XC-72R ”and the like, and“ Color Black FW200 ”,“ Color Black FW2 ”,“ Color Black FW2V ”,“ Color Black FW1 ”,“ Color Black ”,“ Black Black ”manufactured by Degussa Huls, Inc. “Special Black 6”, “Color Black S170”, “Color Black S160”, “Special Black 5”, “Special Black 4”, “Special Black 4A”, “Printex 150T”, “Printex P” "Printex 140U", "Printex 140V", etc. are listed, and single and multiple types of carbon black You may use together.

本発明の目的の範囲内で、カーボンブラックの分散性を高めるため高分子材料、界面活性剤、無機塩害の分散安定化剤を用いることもできる。   Within the scope of the object of the present invention, a polymer material, a surfactant, and a dispersion stabilizer for inorganic salt damage can be used in order to enhance the dispersibility of carbon black.

次に、半導電性ポリアミド酸溶液を調製するためには、有機極性溶媒中にジアミンと酸二無水物を溶解し、重合反応後得られたポリアミド酸溶液中に該カーボンブラック分散液を添加し混合・攪拌する方法、該カーボンブラック分散液中にジアミン及び酸二無水物を溶解し、重合反応する方法等が挙げられるが、カーボンブラックの分散性を均一にするためには、後者の方法が好ましい。   Next, in order to prepare a semiconductive polyamic acid solution, diamine and acid dianhydride are dissolved in an organic polar solvent, and the carbon black dispersion is added to the polyamic acid solution obtained after the polymerization reaction. A method of mixing and stirring, a method of dissolving a diamine and an acid dianhydride in the carbon black dispersion, and a polymerization reaction, etc. are mentioned. In order to make the dispersibility of carbon black uniform, the latter method is used. preferable.

半導電性ポリアミド酸溶液は、ディスペンサーにより鏡面仕上げした円筒状金型の内周面に塗布される。内面に塗布された溶液は遠心成形の高速回転により、脱泡、レベリングされ厚みが均一で精度の良い樹脂層が得られる。回転数は、金型径にもよるが、通常500〜2000rpm、好ましくは、800〜1500回転である。   The semiconductive polyamic acid solution is applied to the inner peripheral surface of a cylindrical mold that is mirror-finished by a dispenser. The solution applied to the inner surface is defoamed and leveled by high-speed rotation of centrifugal molding to obtain a resin layer having a uniform thickness and high accuracy. The number of rotations is usually 500 to 2000 rpm, preferably 800 to 1500, although it depends on the mold diameter.

金属製金型内で回転成形により、均一な塗膜とされた半導電ポリアミド醗ワニスは、金型内でゆっくり回転されながら乾燥される。   The semiconductive polyamide varnish formed into a uniform coating film by rotational molding in a metal mold is dried while being slowly rotated in the mold.

このとき加熱温度は、150℃以上であり、160〜200℃が好ましく、170〜190℃がより好ましい。150℃を下回る場合には、ポリアミド酸溶液中の溶媒がゆっくり蒸発するために十分な加熱時間が必要となり加熱時間短縮が行えず生産性の向上ができない。また、200℃を超える場合には、ポリアミド酸ワニスの粘度が著しく低下し、溶剤蒸発により膜面内の厚みムラやハジキが発生するため、十分な寸法安定性が得られない。   At this time, heating temperature is 150 degreeC or more, 160-200 degreeC is preferable and 170-190 degreeC is more preferable. When the temperature is lower than 150 ° C., the solvent in the polyamic acid solution slowly evaporates, so that a sufficient heating time is required, and the heating time cannot be shortened, so that productivity cannot be improved. On the other hand, when the temperature exceeds 200 ° C., the viscosity of the polyamic acid varnish is remarkably reduced, and thickness unevenness and repelling in the film surface occur due to solvent evaporation, so that sufficient dimensional stability cannot be obtained.

この段階での加熱で、溶媒を80%以上より好ましくは90%以上蒸発させた後、更に200℃を越えて加熱することによりイミド転化する。通常、この時の加熱温度は上記溶媒蒸発温度以上から450℃以下、好ましくは250〜400℃、加熱時間は10〜60分である。冷却後、金型より離型され目的の半導電性シームレスベルトが得られる。   By heating at this stage, the solvent is evaporated by 80% or more, more preferably 90% or more, and then the imide conversion is carried out by further heating above 200 ° C. Usually, the heating temperature at this time is not lower than the solvent evaporation temperature and not higher than 450 ° C., preferably 250 to 400 ° C., and the heating time is 10 to 60 minutes. After cooling, it is released from the mold to obtain the intended semiconductive seamless belt.

得られた半導電性シームレスベルトについては、その機能を確認するために表面抵抗率などの所定の特性を測定する。特に、本発明においては、可撓性の評価が重要であり、ベルトの耐折強さが200回以上であることが好適ある。200回を下回る場合には、装置中に組み込んだ際、半導電性ベルトが短命となり保守の煩雑さを招くおそれがある。200回以上の耐折強さを有するベルトは、転写方式等に用いられるベルト材料に要求される機械的な強度・弾性を満たし、かつ可撓性に優れたシームレスベルトといえる。ここでいう「ベルトの耐折強さ」は、以下の<評価方法>の測定方法に基づくものである。   About the obtained semiconductive seamless belt, in order to confirm the function, predetermined characteristics, such as surface resistivity, are measured. In particular, in the present invention, the evaluation of flexibility is important, and the folding strength of the belt is preferably 200 times or more. If it is less than 200 times, the semiconductive belt becomes short-lived when incorporated in the apparatus, and there is a risk of inconvenience in maintenance. A belt having a bending strength of 200 times or more can be said to be a seamless belt that satisfies the mechanical strength and elasticity required for a belt material used in a transfer system or the like and has excellent flexibility. The “belt bending resistance” referred to here is based on the following <Evaluation Method> measurement method.

以下、具体的実施例により本発明をさらに説明する。また、実施例等における評価項目は下記のようにして測定を行った。なお、本発明がかかる実施例、評価方法に限定されるものでないことはいうまでもない。   Hereinafter, the present invention will be further described with reference to specific examples. In addition, the evaluation items in Examples and the like were measured as follows. In addition, it cannot be overemphasized that this invention is not limited to this Example and evaluation method.

<評価方法>
(1)耐折強さ
JIS P8110に準じて、試験片(全長110mm/幅15mm)が破断するまでの往復折り曲げ回数を測定した。
<Evaluation method>
(1) Folding strength According to JIS P8110, the number of reciprocal bending until the test piece (total length 110 mm / width 15 mm) broke was measured.

<実施例1>
N−メチル−2−ピロリドン(NMP)1800g中にカーボンブラック(MA100、三菱化学社製、ファーネスブラック、一次粒子に基づく平均粒子径22nm)200gをボールミルで12時間室温で攪拌することにより分散した後、#400ステンレスメッシュでろ過しカーボン濃度10%のカーボン分散液を得た。このカーボン液1923.39gを5000mLの4つ口フラスコに移し、N−メチル−2−ピロリドン1000gとN,N−ジメチルアセトアミド1040.13gの混合溶剤とp−フェニレンジアミン227.09g(2.1モル)を仕込み、常温で攪拌させながら溶解した。次いで、3,3’,4,4’−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物617.86(2.1モル)を添加し、温度20℃で1時間反応させた後、75℃で20時間加熱しながら攪拌することにより、B型粘度計による溶液粘度が160Pa・sのカーボンブラック含有ポリイミド前駆体溶液(固形分濃度20wt%、カーボンブラックの添加量樹脂に対して25部)を得た。このカーボンブラック含有ポリイミド前駆体溶液を半導電性シームレスベルト形成用ワニスとした。次に、回転成形機にて1500rpmで10分間回転させて均一厚の展開層としたのち、50rpmで回転させながら該金属製円筒状金型の外側より180℃の熱風吹き付け溶剤蒸発率90%になるまで行った。次に380℃まで昇温加熱処理して、溶媒の除去とイミド化を完結させた。その後、冷却、金型より剥離して、75μmの半導電シームレスベルトを得た。
<Example 1>
After dispersing 200 g of carbon black (MA100, manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation, furnace black, average particle diameter of 22 nm based on primary particles) in 1800 g of N-methyl-2-pyrrolidone (NMP) by stirring with a ball mill at room temperature for 12 hours. Then, it was filtered through a # 400 stainless steel mesh to obtain a carbon dispersion having a carbon concentration of 10%. This carbon liquid 192.39 g was transferred to a 5000 mL four-necked flask, and a mixed solvent of N-methyl-2-pyrrolidone 1000 g and N, N-dimethylacetamide 1040.13 g and p-phenylenediamine 227.09 g (2.1 mol). ) And dissolved while stirring at room temperature. Subsequently, 3,3 ′, 4,4′-biphenyltetracarboxylic dianhydride 617.86 (2.1 mol) was added and reacted at a temperature of 20 ° C. for 1 hour, and then heated at 75 ° C. for 20 hours. By stirring the solution, a carbon black-containing polyimide precursor solution having a solution viscosity of 160 Pa · s as measured by a B-type viscometer (solid content concentration: 20 wt%, carbon black addition amount: 25 parts with respect to the resin) was obtained. This carbon black-containing polyimide precursor solution was used as a varnish for forming a semiconductive seamless belt. Next, after rotating for 10 minutes at 1500 rpm in a rotary molding machine to form a uniform thickness layer, while rotating at 50 rpm, the hot air blowing solvent evaporation rate of 90% from the outside of the metal cylindrical mold is 90%. I went until. Next, the temperature was increased to 380 ° C. to complete the removal of the solvent and imidization. Then, it cooled and peeled from the metal mold | die, and obtained the 75 micrometer semiconductive seamless belt.

<実施例2>
実施例1での混合溶剤をN−メチル−2−ピロリドン1000gとN,N−ジメチルアセトアミド949.41g、2−フェニルイミダゾール90.72gとした以外は、実施例1と同じ方法で75μmの半導電シームレスベルトを得た。
<Example 2>
A 75 μm semiconductive material was prepared in the same manner as in Example 1 except that the mixed solvent in Example 1 was 1000 g of N-methyl-2-pyrrolidone, 949.41 g of N, N-dimethylacetamide, and 90.72 g of 2-phenylimidazole. I got a seamless belt.

<比較例1>
実施例1での混合溶剤をN−メチル−2−ピロリドン単独の溶剤とした以外は実施例1と同じ方法で75μmの半導電シームレスベルトを得た。
<Comparative Example 1>
A 75 μm semiconductive seamless belt was obtained in the same manner as in Example 1 except that the mixed solvent in Example 1 was N-methyl-2-pyrrolidone alone.

<比較例2>
実施例1での混合溶剤をN,N−ジメチルアセトアミド単独の溶剤とした以外は実施例1と同じ方法で75μmの半導電シームレスベルトを得た。
<Comparative example 2>
A 75 μm semiconductive seamless belt was obtained in the same manner as in Example 1 except that the mixed solvent in Example 1 was N, N-dimethylacetamide alone.

<比較例3>
実施例1で行った回転乾燥工程に要した時間で130℃の回転乾燥工程を行った以外は実施例1と同じ方法で75μmの半導電シームレスベルトを得た。
<Comparative Example 3>
A 75 μm semiconductive seamless belt was obtained in the same manner as in Example 1 except that the rotary drying process at 130 ° C. was performed for the time required for the rotary drying process performed in Example 1.

<評価結果>
上記試料を評価した結果、表1の通りとなった。
<Evaluation results>
As a result of evaluating the sample, it was as shown in Table 1.

Figure 2006272839
表1に示すように、実施例1および2は耐屈曲性に優れることが分かった。
Figure 2006272839
As shown in Table 1, Examples 1 and 2 were found to have excellent bending resistance.

Claims (6)

ポリマー5〜30重量%と溶剤95〜70重量%とからなるポリアミド酸ワニスを用いて作製されるシームレスベルトの製造方法において、前記溶剤が、第1成分として沸点が200℃未満の非プロトン性溶剤から選ばれる少なくとも1種の化合物の10〜70重量%と、第2成分として沸点が200℃以上の非プロトン性溶剤から選ばれる少なくとも1種の化合物の90〜30重量%とを含有する混合溶剤であることを特徴とするシームレスベルトの製造方法。   In the method for producing a seamless belt produced using a polyamic acid varnish comprising 5 to 30% by weight of a polymer and 95 to 70% by weight of a solvent, the solvent is an aprotic solvent having a boiling point of less than 200 ° C. as a first component A mixed solvent containing 10 to 70% by weight of at least one compound selected from: and 90 to 30% by weight of at least one compound selected from aprotic solvents having a boiling point of 200 ° C. or higher as the second component A process for producing a seamless belt, characterized in that ポリマー5〜30重量%と溶剤95〜70重量%とからなるポリアミド酸ワニスを用いて作製されるシームレスベルトの製造方法において、前記溶剤が、第1成分として沸点が200℃未満の非プロトン性溶剤から選ばれる少なくとも1種の化合物の10〜70重量%と、第2成分として沸点が200℃以上の非プロトン性溶剤から選ばれる少なくとも1種の化合物と沸点が200℃以上の複素環式第3級アミン類または沸点が200℃以上の塩基性有機化合物系触媒の合計量が90〜30重量%とを含有する混合溶剤であることを特徴とするシームレスベルトの製造方法。   In the method for producing a seamless belt produced using a polyamic acid varnish comprising 5 to 30% by weight of a polymer and 95 to 70% by weight of a solvent, the solvent is an aprotic solvent having a boiling point of less than 200 ° C. as a first component And at least one compound selected from an aprotic solvent having a boiling point of 200 ° C. or higher as a second component and a heterocyclic third compound having a boiling point of 200 ° C. or higher. A method for producing a seamless belt, which is a mixed solvent containing a total amount of secondary amines or basic organic compound catalysts having a boiling point of 200 ° C. or higher and 90 to 30% by weight. ポリイミド樹脂を主成分としてなるシームレスベルトの製造方法であって、ポリイミド樹脂がポリイミド前駆体である前記ポリアミド酸ワニスを150℃以上で加熱して溶媒を90%以上蒸発させた後、さらに200℃を越えて加熱することによりイミド転化して得られたものであることを特徴とする請求項1または2記載のシームレスベルトの製造方法。   A process for producing a seamless belt mainly composed of a polyimide resin, wherein the polyamide acid varnish whose polyimide resin is a polyimide precursor is heated at 150 ° C. or more to evaporate the solvent by 90% or more, and further 200 ° C. The method for producing a seamless belt according to claim 1 or 2, wherein the seamless belt is obtained by imide conversion by heating beyond. ベルトの耐折強さが200回以上であることを特徴とする請求項1〜3いずれかに記載のシームレスベルトの製造方法。   The method for producing a seamless belt according to any one of claims 1 to 3, wherein the folding strength of the belt is 200 times or more. 請求項1〜3のいずれかに記載された製造方法によって作製されたことを特徴とするシームレスベルト。   A seamless belt produced by the production method according to claim 1. ベルトの耐折強さが200回以上であることを特徴とする請求項5記載のシームレスベルト。   6. The seamless belt according to claim 5, wherein the folding strength of the belt is 200 times or more.
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