JP4873718B2 - プラズマ処理装置及びプラズマ処理方法 - Google Patents
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Description
図2は、本発明の第1の実施形態に係るプラズマ処理装置全体の概略構成を表す模式図である。図1は、同プラズマ処理装置における要部構成の模式図である。なお、図2では、図1に示すアノード体5、6の図示は省略している。
図4は、本発明の第2の実施形態に係るプラズマ処理装置の要部構成の模式図である。
図5は、本発明の第3の実施形態に係るプラズマ処理装置の要部構成の模式図である。
図6は、本発明の第4の実施形態に係るプラズマ処理装置の要部構成の模式図である。
図7は、本発明の第5の実施形態に係るプラズマ処理装置の要部構成の模式図である。
Claims (5)
- 電源と、
放電空間に臨んで設けられ、前記電源から電力が印加されるカソード体と、
互いに分離されて前記放電空間に臨んで設けられたセンターアノードと外周アノードとを有するアノード体と、
を備え、
前記センターアノードは、前記カソード体に対して分離されて前記カソード体の中央に設けられ、
前記外周アノードは、前記カソード体に対して分離されて前記カソード体の外周側にリング状に設けられ、
前記センターアノードを介して前記放電空間の外部に流れる電流の経路と、前記外周アノードを介して前記放電空間の外部に流れる電流の経路との間でコンダクタンスを異ならせたことを特徴とするプラズマ処理装置。 - 前記アノード体とグランドとの間に設けられ、前記アノード体を介して前記放電空間の外部に流れる電流の経路のコンダクタンスを可変する手段をさらに備えたことを特徴とする請求項1記載のプラズマ処理装置。
- 電源からの電力が印加されるカソード体と、前記カソード体に対向して設けられグランドに接続された被処理物との間の放電空間に放電を生じさせて前記放電空間内にプラズマを生起して前記被処理物に処理を行うプラズマ処理方法であって、
前記カソード体に対して分離されて前記放電空間に臨んで前記カソード体の中央に設けられたセンターアノードを介して前記放電空間の外部に流れる電流の経路と、前記カソード体及び前記センターアノードに対して分離されて前記放電空間に臨んで前記カソード体の外周側にリング状に設けられた外周アノードを介して前記放電空間の外部に流れる電流の経路との間のコンダクタンスの比率を制御することを特徴とするプラズマ処理方法。 - 前記被処理物の処理レートを測定し、この測定結果に基づいて、前記センターアノードを介して前記放電空間の外部に流れる電流の経路と、前記外周アノードを介して前記放電空間の外部に流れる電流の経路との間のコンダクタンスの比率を制御することを特徴とする請求項3記載のプラズマ処理方法。
- 電源からの電力が印加されるカソード体と、前記カソード体に対向して設けられグランドに接続された被処理物との間の放電空間に放電を生じさせて前記放電空間内にプラズマを生起して前記被処理物に処理を行うプラズマ処理方法であって、
前記被処理物の処理レートを測定し、この測定結果に基づいて、互いに分離されて前記放電空間に臨んで設けられた複数のアノード体を介して前記放電空間の外部に流れる電流の経路のコンダクタンスの比率を制御することを特徴とするプラズマ処理方法。
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JPS6372870A (ja) * | 1986-09-17 | 1988-04-02 | Hitachi Ltd | プラズマ処理装置 |
US5616225A (en) * | 1994-03-23 | 1997-04-01 | The Boc Group, Inc. | Use of multiple anodes in a magnetron for improving the uniformity of its plasma |
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