JP4864895B2 - 半透過型表示装置 - Google Patents

Description

発明の属する技術分野

本発明は表示装置に関し、特に半透過型（transflective）表示装置に関する。

液晶表示装置（以下、ＬＣＤと省略する場合もある）は、ＣＲＴ（陰極線管又はブラウン管）表示装置に対して比較的薄く且つ低動作電力である。ＬＣＤは、種々の技術分野において徐々にＣＲＴ表示装置と置き換えられている。

ごく最近まで、透過型及び反射型の２つの基本型のＬＣＤがあった。これら両者の主要相違点は、内部光源を使用するか外部光源を使用するかである。

透過型ＬＣＤは、自身では発光しない液晶表示パネルを有し、光源としてバックライト（背面光源）を有する。バックライトは、パネルの背面又は一面に配置され、ライトガイド（導光部材）により光が表示エリアを横切るように照射する。液晶パネルは、液晶パネルを通過する光量を調節してイメージ（映像）表示を行う。透過型ＬＣＤ表示のバックライトは、典型的には全消費電力の５０％以上を消費する。

消費電力を低減するために、主としてポータブル用に反射型ＬＣＤが開発された。反射型ＬＣＤには、１対の基板（サブストレート）の一方に形成された反射器（リフレクタ）が設けられている。そこで、周囲光が反射器の表面から反射される。反射型ＬＣＤの性能は、周囲光が低レベルの場合には劣悪である。

上述した課題を克服するために、所謂半透過型表示装置が開発された。この表示装置は、透過モード及び反射モードを単一ＬＣＤに組み合わせるものである。半透過型ＬＣＤ装置は、交互に透過型ＬＣＤ装置及び反射型ＬＣＤ装置として作用する。周囲光状態に応じて内部及び外部光源を使用することにより、それは全ての光状態で動作し且つ低消費電力を有する。

カラー半透過型表示において遭遇する１つの問題は、同じカラーフィルタが透過及び反射動作モードの両方で使用されることである。従って、これらのカラーフィルタは、両方の機能で最適化できない。例えば、反射モードでは、光は入射及び反射方向でカラーフィルタを２度通過する、しかし透過モードでは、光はカラーフィルタをただ１回通過するのみである。

米国特許ＵＳ２００３／０１９７１９２号は、反射画素領域の一部にはカラーフィルタ層が設けられない。その結果、白色光は、カラーフィルタされた光とミックスされ、カラーポイントを調節する。

画素の異なる部分に関し異なる色のフィルタ層の厚さとすることも提案されている。例えば、米国特許ＵＳ２００３／００３００５５Ａ１には、黒マスク層の上に反射器が設けられ、カラーフィルタ層をその上に設ける構成が開示されている。このように反射器を持ち上げることにより、カラーフィルタ層の厚さは画素の反射部で薄くなる。米国特許ＵＳ２００４・０１２５２９は、画素の透過及び反射部のカラーフィルタ層を異ならせる構成を開示している。

異なる動作モードのカラーフィルタ層を異なる光学特性に更に制御する必要がある。また、この製造プロセスを低コストで実現可能にする必要もある。

本発明の第１の概念によると、複数の画素電極を有する第１基板と、
複数の対向電極、カラーフィルタのアレイ及び反射部よりなり、前記反射部は反射画素領域及び透過画素領域を定める第２基板と、
前記第１基板及び前記第２基板間に挟持される表示材料層と
を備え、前記第２基板は、少なくとも隣接する画素間の境界に設けられた吸収材料パターンを備え、各画素は、前記吸収材料を有する第１領域及び前記吸収材料を有しない第２領域よりなり、前記反射部は、前記画素の前記第１領域の吸収材料の上面、前記吸収材料の側面に設けられ且つ前記第２領域内に部分的に延び、各画素には、前記画素の前記第１領域に第１厚さを有すると共に前記画素の前記第２領域により大きい第２厚さを有するカラーフィルタが設けられることを特徴とする半透過型表示装置が提供される。

この構成により、各画素にカラーフィルタ部を設け、各画素は画素の反射部に２つの異なる厚さ部分を含み、相対厚さ及び各異なる厚さに関連する反射画素部分が制御可能である。これにより、反射及び透過動作モードにおけるカラーフィルタ特性の独立制御を改善することが可能である。

吸収材料部分は、好ましくは隣接画素の境界部分に、各画素の中心位置が第２領域になるように設けられる。次に、これらの部分は、画素境界を定めること及び異なる高さを与えることの２つの作用を有し、複数の厚さのフィルタの形成を可能にする。

この反射部は、好ましくは画素間の境界に開口を含み、これらの開口には吸収材料が現れ、画素の境界を定める。

本発明の第２の概念によると、複数の画素電極を有する第１基板と、
複数の対向電極、カラーフィルタのアレイ及び反射部よりなり、前記反射部は反射画素領域及び透過画素領域を定める第２基板と、
前記第１基板及び前記第２基板間に挟持された表示材料層と
を備え、前記第２基板は、隣接画素間の境界に吸収材料の第１パターン及び各画素の中心領域に吸収材料の第２パターンよりなり、前記第２パターンは、前記吸収材料の部分を有する第１領域及び前記吸収材料の部分を有しない第２領域を定め、前記反射部は、前記第２パターンの前記吸収材料の上面、前記吸収材料の側面に設けられ且つ部分的に前記第２領域内へ延び、各画素には、画素の前記第１領域に第１厚さ及び画素の前記第２領域により大きい第２厚さを有するカラーフィルタが設けられることを特徴とする半透過型表示装置が提供される。

上述した構成により、吸収材料の異なる部分は、画素を定めること及び高さを調整することの異なる作用で規定される。しかし、これら異なる作用は、単一層により実現される。

この反射部は、第２パターンの吸収材料部分の端部上に設けられ且つ部分的に第２画素領域へ延びている。

上述した何れの概念においても、反射部は、好ましくはアルミニウム層により構成される。

バックライトを、透過動作モードのために第２基板に隣接して設けることができる。

カラーフィルタは、異なる複数カラーの印刷材料且つ単一の印刷層により構成可能である。

本発明の半透過型表示装置は、パッシブ（受動）又はアクティブ（能動）マトリクス装置に応用可能である。

本発明は、更に半透過型表示装置用カラーフィルタ基板の製造方法を提供する。ここで、第１基板は画素電極を有し、表示材料層が第１基板とカラーフィルタ基板間に設けられる。この方法は、透明基板上に吸収材料部のパターンを定める工程と、反射部を形成する工程と、カラーフィルタをプリントする工程と、このプリントされたカラーフィルタの上面を略平坦化する工程とを備えている。上述した吸収材料部は、少なくとも隣接する画素間の境界に設けられ、これにより各画素には、吸収材料を有する第１領域及び吸収材料を有しない第２領域が設けられる。反射部は、画素の第１領域の吸収材料の上に形成され、これにより反射性画素領域及び透過性画素領域を定める。各カラーフィルタは、個々の画素に関連している。以上により、各画素のカラーフィルタは、画素の第１領域において第１厚さを有し、画素の第２領域においてより大きい第２厚さを有することとなる。

この製造方法により、本発明の表示装置用カラーフィルタ基板を低コストで製造可能にする。

吸収材料部のパターンの決定は、隣接画素間の境界に吸収材料部の第１パターン及び各画素の中心領域の吸収材料部の第２パターンを形成し、これにより第２パターンは吸収材料の部分を有する第１画素領域及び吸収材料を全く有しない第２領域を定める。

吸収材料部上の反射部は、更に吸収材料部の端部及び第２画素領域に部分的に延びて反射器を形成する工程を備えてもよい。

ここで、マルチプルカラーフィルタが、１回のプリント動作を使用することによりプリント可能にしてもよい。

この方法は半透過型表示装置の製造に使用してもよい。その場合には、更に複数の画素電極を有する付加基板の製造工程及び液晶層をこの付加基板及びカラーフィルタ基板間に挟持する工程を備える。

以下、本発明による実施の形態び動作を、添付図面を参照して詳細に説明する。尚、各図は、概略的なものであり、必ずしも同じ縮尺ではなく、また説明の便宜上、図中において、同様の構成要素には同様の参照符号を使用していることに留意されたい。

Ｒ、ＧおよびＢの記号は、それぞれ光の３原色である赤、緑及び青を示すものとする。

本発明の１つの実施の形態である半透過型表示装置は、各画素用のカラーフィルタ部を有し、カラーフィルタ部は画素の反射部において厚さの異なる２つの部分を含んでいる。相対的な厚さ及び各厚さに対応する画素の反射部エリア（面積）は制御可能であり、反射動作モード及び透過動作モードのカラーフィルタ特性を独立して制御可能にする。他の実施の形態では、画素の形成機能及び高さ調節機能のために光吸収材料の異なる部分を使用するが、これらは単一のパターン層により実現できる。

図１は、半透過型液晶表示装置（ＬＣＤ）用の既知の液晶セル１０の断面図を示す。

液晶材料１２は、共にガラスやプラスチック等の透明材料で形成された第１基板１４及び第２基板１６間に挟持されている。画素電極１８が、第１基板１４上にマトリクスとして配置されており、配向膜０が第１基板１４にプリントされている。画素電極１８は、アクティブ（能動）マトリクス表示装置の場合には画素回路部であり、又は半透過型表示装置はパッシブ（受動）マトリクス装置であってもよい。

第２基板１６は反射器パターン２２を有する。この反射器パターン２２は反射画素領域を定め、且つパターンの間隙は、透過ピクセル領域を定める。反射器パターン２２は、アルミニウム、アルミニウム合金又はその他の金属により形成される。

カラーフィルタ構造２４がパターン２２上に設けられ、対向電極２６がカラーフィルタ上のポリマーコーティング層２５上に設けられる。対向電極２６及び電極１８は、電極間におけるＬＣ（液晶）材料の状態を制御する。

この表示装置は、第１基板１４側からの入射光を反射し（矢印２８参照）、そしてバックライト３０から反射層の開口を介して光を透過させる（矢印３２参照）。

図２は、図１中に示す第２基板のより詳細な断面図である。反射膜２２が、基板上に設けられ、開口が各画素の透過部を定める。カラーフィルタ２４が反射フィルム２２上に形成され、この反射フィルムはブラックマスクマトリクスにも関連し、カラーフルタ部間の接合部において光をブロック（遮蔽）する。

反射光２８は、透過光３２と同じカラー層を通過する。その結果、反射モードの表示装置の動作は、輝度及びＮＴＳＣ比に関して透過モードの動作とバランスできない。カラーフィルタは、典型的には複数回のフォトリトグラフのプロセスにより製造され、これは複雑な製造プロセスである。

２つの動作モードでのカラー動作性能のマッチングを改善する１つの既知の方法は、反射モードの白色光をカラーフィルタされた光と混合することである。これを実現するカラーフィルタ基板の１例を図３に示す。各画素のカラーフィルタ２４は、画素の反射部の一部から除去し（参照符号２７で示す）、反射モードの光出力部分がフィルタされない周囲光（白色）であり、これによりカラーポイントを変更するようにすることである。

また、カラーフィルタ層の厚さを画素の異なる部分で異ならせることも知られており、本発明は特にこの方法に関する。

特に、本発明は、安価なカラーフィルタ基板を提供し、且つ簡単な構成で反射及び透過動作モードの両方で輝度及びＮＴＳＣ比の優れたバランスの半透過型表示装置を提供することを意図する。また、本発明は、カラーフィルタ基板の製造方法の提供を意図する。

次に、図４Ａ乃至図４Ｃは、本発明に使用されるカラーフィルタ基板の第１実施の形態を示す。図４Ａは基板の断面図を示し、図４Ｂは基板の平面図を示し、図４Ｃは反射器のパターンを示す。

カラーフィルタ基板は、隣接画素間の境界において吸収材料部の第１パターン４０、各画素の中心領域の吸収材料の第２パターン４２により構成されている。これら両パターン４０、４２は、同じ層によりレジンベースのブラックマスク層の形状であり、フォトリトグラフのプロセスを使用して被着及びパターン化されている。

第２パターン４２は、吸収材料部分を有する第１画素領域４４及び吸収材料部を全く有しない第２画素領域４６を定める。反射器構成４８は、図示の例では、第２パターン４２の吸収材料部の上に設けられ、またこれらの部分４２の側壁上及び第２領域内に延びる。

各画素には、画素の第１領域４４に第１厚さ及び画素の第２領域４６により大きい第２厚さを有するカラーフィルタ２４が設けられている。この構成により、カラー層における反射光及び透過光が通る光学路長は異なり、反射器被膜上のカラー層の厚さ及びカラー被膜のタイプを調節することにより、優れた輝度及びＮＴＳＣ比の両方のバランスが実現できる。透過動作モードの動作性能は維持可能である。

図４Ｂは、基板の平面図であり、分離したブラックマスクパターン４０、４２及び反射器パターン４８を示す。図示の如く（図４Ｂのみに示し図４Ａには図示しない）、反射器パターンは異なるカラーに異なるサイズを有してもよい。特に、画素の反射器は、ブラックマスク部４２の端部上に延び、反射器は基板レベルの部分を含んでいる。その結果、反射モードのカラーフィルタブは薄い部分を有し、且つカラーフィルタ層の部分は厚い部分を有する。各厚さに関連する画素領域の比は、更なるパラメータを提供し、反射及び透過動作モードの動作間で最良のバランスを得るよう制御される。

図４Ｃは、３つの異なるカラーサブ画素の反射器パターン４８を示し、且つ異なるサイズを示す。

図５Ａ乃至図５Ｃは、本発明に使用されるカラーフィルタ基板の第２実施の形態を示す。図５Ａは基板の断面図を示し、図５Ｂは基板の平面図を示し、図５Ｃは反射器のパターンを示す。基板上の高さの異なる両部分に反射器を使用することを、この実施の形態では一層明瞭に示している。

このカラーフィルタ基板は、隣接する画素間の境界に吸収材料部分のパターン４３を備えている。この例では、単一のパターンにより、カラーフィルタの画素の輪郭決定及び高さを異ならせるという２つの機能を提供する。このパターン４３も、吸収材料の部分を有する第１画素領域４４及び吸収材料部分を全く有しない第２画素領域４６を定める。

反射器構造４８は、第１画素領域４４の吸収材料部の上に設けられ、且つ吸収材料部の端部上及び部分的に第２画素領域４６内へ延びている。ここでも、図示の如く各画素には、第１画素領域４４に第１厚さを有すると共に第２画素領域４６により大きな第２厚さを有するカラーフィルタが設けられている。

図５Ｂは基板の平面図を示し、ブラックマスクパターンの列方向区分よりも広い行方向区分を有するブラックマスクパターン４３を示す。この反射器パターン４８は、パターン４３の行部分上のみに設けられ、且つ図５Ｃに示す如く反射器パターン４８が簡単な平行線のアレイとなるようにする。この反射器部４８は、カラー毎に異なるサイズであってもよい。

反射器部４８は、ブラックマスクパターン４３の各行に１対の平行線４８ａ、４８ｂが配列され、これらの平行線間の間隙は、反射モードにおける画素の輪郭を提供する。透過モードでは、フルブラックマスクパターン４３が画素セパレーション（分離）を提供する。しかし、この間隙は、必須ではない。

従って、本発明は、構成が簡単であり且つ動作性能が優れた低コストの半透過型表示装置用のカラーフィルタ基板を提供する。

また、本発明は、低コストの半透過型表示装置の製造方法を提供するが、これについては図６を参照して以下に説明する。図６は、半透過型表示装置の主要部であるカラーフィルタ基板の製造方法を示す。

吸収材料部分４０、４２及び反射器４８（図６中には２層構造で示す）の形成後、カラーフィルタ部６０が上側の図に示す如く反射器部の上にプリントされる。このプリント動作は、同期プリント方法を採用している。

この方法により、赤インクパターン緑インクパターン及び青インクパターンが共通の印刷版上に順次被着される。次に、共通印刷版上のマルチカラーインクパターンは、転写ローラに転写され、その後基板上にロールされ、１回のプリント工程で３つのカラーパターンの全てを転写する。プリントされたパターンは、次にスプレッドローラを使用してスプレッドされる（塗られる）。

このプリント工程により、１回のプリント工程で３つの異なる色のフィルタ部分のアレイを定める。これにより、製造工程を簡単且つ低コストにする。図６の下側に示す如く、押圧工程の後、フィルタ２４が形成される。使用するインク量を適切に調節することにより、カラーフィルタ間の境界はブラックマスク部４０と位置合せされる。また、図６は、異なるカラーサブ画素のブラックマスク部は、同じサイズでなくてもよいことを示している。

図７は、図４の基板の製造における押圧工程が、インクを反射器パターンの上から画素境界へ向けてどのように流れさせるかを示している（矢印７０参照）。

図５の実施の形態において、カラーフィルタ部６０は、画素の中心部に設けられるが、これは画素の一層深い部分である。これは、フィルタ材料のうち流れなければならないのが少ない（矢印８０参照）ことを意味し、画素フィルタと所望画素境界の位置合せを一層正確にする。

図５の構成の透過率は、カラーフィルタパターンと画素電極パターンとの位置合せにより、図４の位置合せより優れているようであるが、図５のバージョンは特に透過モードでコントラストが改善される。図５の反射率も、カラーフィルタパターンと画素電極パターン間の位置合せの課題のために、僅かに低いかもしれない。これらの効果は、図７及び図８から明らかな如く、カラー層の混合効果が図４のバージョンの透過領域にはあり、図５のバージョンの反射領域にはないからである。

動作性能のこれらの差異は、図９及び図１０に要約されている。これらの差異について以下に説明する。

図９は、図４の実施の形態（プロット９０）及び図５の実施の形態（プロット９２）における透過率（左側参照）及び反射率（右側参照）を示す。

図１０は、図４の実施の形態（プロット１００）及び図５の実施の形態（プロット１０２）における透過動作モード（左側）及び反射動作モード（右側）のコントラスト比を示す。

これらの結果を得るサンプルは、カラーフィルタの薄い部分及び厚い部分の比が１：２であり、この比を１：３又は１：４に増加すると動作特性が改善できる。

透過及び反射動作モードの両方及び製造プロセスにおける総合性能は、図５の実施の形態の方が好ましいことを意味する。この実施の形態において反射動作性能を改善するには、薄いカラーフィルタ及び厚いカラーフィルタの比を変更することである。この比は、典型的には１：２及び１：４間である。画素の反射部に関連するフィルタ層が薄ければ薄いほど、反射は大きいが、反射のカラー飽和度が低下することとなる。

上述の如く、図４Ａの例における反射器は、ブラックマスク層の端部を超えて厚さが大きい画素領域内へ延びている。これは必須事項ではなく、図１１Ａは反射器がブラックマスク層の上面から側面に沿って下がるが、厚さの大きいカラーフィルタを有する画素には反射領域の部分がない例を示している。また、上述した如く、図５Ａにおける反射器の部分間の間隙は、本発明の必須事項ではなく、図１１Ｂには間隙が全くない例を示している。

図１２は、図１１Ａの基板の平面図を示す。図４Ｂ及び図１２の反射器パターン４８は、全く同じであり、従って透過動作性能も同じである。異なるサブ画素のブラックマスク層領域は、図４Ｂと同じであり、従ってプリントプロセスで必要となるカラー量の違いも全く同じである。図１２の異なるサブ画素のブラックマスク領域は異なり、従ってプリントプロセスで必要とするカラー量は異なる。従って、図４Ｂ及び図１２の例の反射動作性能は異なる。これから理解される如く、本発明は種々の異なるパラメータを提供し、それは透過及び反射動作性能の制御に使用でき、且つ異なるカラーサブ画素に対して異なるデザインを提供する。

上述の如く、アクティブマトリクスの実施が可能であり、この場合には、画素は各々薄膜トランジスタ（ＴＦＴ）を含んでいる。これはトップゲート又はボトムゲート構造の何れであってもよい。

画素及びＬＣ層に使用されたプロセス及び材料については、これらが従来と同じでもよいので詳述しなかった。同様に、カラーフィルタには使用されたプリント可能な材料も当業者には良く知られた事項である。

以上、液晶表示装置について本発明を説明したが、他の光変調表示装置についても本発明の利益が享受可能である。

当業者には、種々の変形変更が可能であることが明らかであろう。

以上、本発明の特定の実施の形態について詳述したが、この説明は何ら本発明を限定することを意図するものではない。ここに開示された実施の形態の種々の変形変更が当業者には明らかであろう。従って、付属した特許請求の範囲が本発明の真実の範囲を定めるものである。

半透過型液晶表示装置に使用可能な一般的な液晶セルの断面図である。 図１に示す液晶セルに使用される第２基板の詳細な断面図である。 ２つの動作モードにおけるカラー動作性能のマッチングを行う１つの従来方法の説明図である。 本発明の表示装置に使用されるカラーフィルタ基板の第１実施の形態を示す。 本発明の表示装置に使用されるカラーフィルタ基板の第１実施の形態を示す。 本発明の表示装置に使用されるカラーフィルタ基板の第１実施の形態を示す。 本発明の表示装置に使用されるカラーフィルタ基板の第２実施の形態を示す。 本発明の表示装置に使用されるカラーフィルタ基板の第２実施の形態を示す。 本発明の表示装置に使用されるカラーフィルタ基板の第２実施の形態を示す。 図４に示す基板の製造方法を示す断面図である。 図４の基板の製造過程で、押圧操作中におけるインクの流れの説明図である。 図５の基板の製造過程で、押圧操作中におけるインクの流れの説明図である。 本発明の基板の透過率（トランスミッタンス）及び反射率（レフレクタンス）動作性能を示すグラフである。 本発明の基板の透過及び反射動作モードにおけるコントラスト比特性を示すグラフである。 本発明の変形例を示し、図４Ａの変形例である。 本発明の変形例を示し、図５Ａの変形例である。 図１１Ａの構成の平面図である。

Claims (18)

1. 複数の画素電極を有する第１基板と、
   複数の対向電極、カラーフィルタのアレイ及び反射部よりなり、前記反射部は反射画素領域及び透過画素領域を定める第２基板と、
   前記第１基板及び前記第２基板間に挟持される表示材料層と
   を備え、前記第２基板は、少なくとも隣接する画素間の境界に設けられた吸収材料パターンを備え、各画素は、前記吸収材料を有する第１領域及び前記吸収材料を有しない第２領域よりなり、前記反射部は、前記画素の前記第１領域の吸収材料の上面、前記吸収材料の側面に設けられ且つ前記第２領域内に部分的に延び、各画素には、前記画素の前記第１領域に第１厚さを有すると共に前記画素の前記第２領域により大きい第２厚さを有するカラーフィルタが設けられることを特徴とする半透過型表示装置。
2. 前記吸収材料は、隣接する画素間の境界に、各画素の中心部が前記第２領域となるように設けられることを特徴とする請求項１に記載の半透過型表示装置。
3. 前記反射部は、画素間の境界に開口を含むことを特徴とする請求項２に記載の半透過型表示装置。
4. 前記反射部は、パターン化された滑らかなアルミニウム層により構成されることを特徴とする請求項１に記載の半透過型表示装置。
5. 前記第２基板の近傍にバックライトを更に備えることを特徴とする請求項１に記載の半透過型表示装置。
6. 前記カラーフィルタのアレイは、３色の部分よりなることを特徴とする請求項１に記載の半透過型表示装置。
7. 前記カラーフィルタは、プリント材料により形成されることを特徴とする請求項１に記載の半透過型表示装置。
8. 前記カラーフィルタは、単一のプリント層により形成されることを特徴とする請求項７に記載の半透過型表示装置。
9. 前記第１基板が各々画素電極を含む複数の画素回路を有するアクティブマトリクス表示素子よりなる請求項１に記載の半透過型表示装置。
10. 前記表示材料層は、液晶表示材料よりなることを特徴とする請求項１に記載の半透過型表示装置。
11. 複数の画素電極を有する第１基板と、
    複数の対向電極、カラーフィルタのアレイ及び反射部よりなり、前記反射部は反射画素領域及び透過画素領域を定める第２基板と、
    前記第１基板及び前記第２基板間に挟持された表示材料層と
    を備え、前記第２基板は、隣接画素間の境界に吸収材料の第１パターン及び各画素の中心領域に吸収材料の第２パターンよりなり、前記第２パターンは、前記吸収材料の部分を有する第１領域及び前記吸収材料の部分を有しない第２領域を定め、前記反射部は、前記第２パターンの前記吸収材料の上面、前記吸収材料の側面に設けられ且つ部分的に前記第２領域内へ延び、各画素には、画素の前記第１領域に第１厚さ及び画素の前記第２領域により大きい第２厚さを有するカラーフィルタが設けられることを特徴とする半透過型表示装置。
12. 前記反射部は、パターン化された滑らかなアルミニウム層により構成されることを特徴とする請求項１１に記載の半透過型表示装置。
13. 前記第２基板の近傍に設けられたバックライトを更に備えることを特徴とする請求項１１に記載の半透過型表示装置。
14. 前記カラーフィルタのアレイは、３色部よりなることを特徴とする請求項１１に記載の半透過型表示装置。
15. 前記カラーフィルタは、プリント材料により形成されることを特徴とする請求項１１に記載の半透過型表示装置。
16. 前記カラーフィルタは、単一のプリント層により形成されることを特徴とする請求項１５に記載の半透過型表示装置。
17. 前記第１基板が各々画素電極を含むアクティブマトリクス表示素子よりなることを特徴とする請求項１１に記載の半透過型表示装置。
18. 前記表示材料層は液晶材料よりなることを特徴とする請求項１１に記載の半透過型表示装置。

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