JP4853265B2 - Varnish processing apparatus and varnish processing method - Google Patents

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Description

本発明は、巻線体に対してワニス処理を行うワニス処理装置およびワニス処理方法に関する。より詳細には、巻線体を自転させながら複数の処理ステーションへ搬送してワニス処理(滴下・硬化・冷却など)を行うワニス処理装置およびワニス処理方法に関するものである。   The present invention relates to a varnish treatment apparatus and a varnish treatment method for performing a varnish treatment on a winding body. More specifically, the present invention relates to a varnish treatment apparatus and a varnish treatment method for carrying out varnish treatment (dripping, curing, cooling, etc.) while rotating a winding body to a plurality of treatment stations.

従来より、巻線体(例えば、固定子コアに装着された固定子コイル)に対するワニス処理を行う技術に関して種々提案されている。例えば、そのうちの1つとして、ローター(巻線体)装着用支軸を有した無端チェーンと、無端チェーンを間欠送り即ち公転させるための駆動機構と、ローター装着用支軸を回転即ち自転させるための駆動機構とを有するワニス処理装置がある(特許文献1)。   Conventionally, various techniques for performing a varnish treatment on a winding body (for example, a stator coil mounted on a stator core) have been proposed. For example, as one of them, an endless chain having a rotor (winding body) mounting spindle, a drive mechanism for intermittently feeding or revolving the endless chain, and rotating or rotating the rotor mounting spindle There is a varnish processing device having a driving mechanism (Patent Document 1).

このワニス処理装置では、ローター装着用支軸にローターを装着し、無端チェーンを間欠回転させて炉内で公転させ、ローターをある程度予熱させた後に、ローターにワニスを滴下させ、ローター装着用支軸を回転させてワニス滴下後のローターを自転させながら内部に浸透するように含浸させる。さらに無端チェーンにより炉内を間欠送りさせて、炉内の各処理ステーションに搬送し、ローターに含浸させたワニスを次第に乾燥させるようになっている。
実公平6−44300号公報
In this varnish processing device, the rotor is mounted on the rotor mounting spindle, the endless chain is rotated intermittently and revolved in the furnace, the rotor is preheated to a certain degree, and then the varnish is dropped onto the rotor to support the rotor mounting spindle. Is rotated and the rotor after dropping the varnish is impregnated so as to penetrate inside while rotating the rotor. Further, the inside of the furnace is intermittently fed by an endless chain, and the varnish impregnated in the rotor is gradually dried by being conveyed to each processing station in the furnace.
No. 6-44300

しかしながら、上記したワニス処理技術では、巻線体(ローター)の自転および公転は、それぞれモータによるチェーン駆動によって行われているため、各処理ステーションを移動させる(巻線体を公転させる)際に、互いのチェーンが同時に駆動されるので、巻線体の自転回転数が変化してしまうという問題があった。具体的には例えば、図7に示すように、公転期間中に自転回転数が高くなってしまうのである。   However, in the varnish processing technique described above, the rotation and revolution of the winding body (rotor) are performed by chain driving by a motor, respectively, so when moving each processing station (revolving the winding body), Since the chains are driven simultaneously, there is a problem that the rotational speed of the winding body changes. Specifically, for example, as shown in FIG. 7, the rotation speed increases during the revolution period.

ここで、巻線体の自転回転数は、巻線体からワニスが染み出さない所定の回転数に設定(固定)されている。なぜなら、図8に示すように、所定の回転数X(rpm)であれば、ワニスのトリミング(除去)時間が最も短くなるからである。   Here, the rotation speed of the winding body is set (fixed) to a predetermined rotation speed at which the varnish does not exude from the winding body. This is because, as shown in FIG. 8, the varnish trimming (removal) time is the shortest at a predetermined rotational speed X (rpm).

そして、ワニス処理を行う巻線体の自転回転数が変化してしまうと、ワニス処理に悪影響を及ぼす。すなわち、巻線体の自転回転数が増加した(早くなった)場合には、遠心力によりワニスが巻線体から染み出して飛散してしまう。逆に、巻線体の自転回転数が減少(遅くなった)場合には、重力により巻線体からワニスが染み出してしまう。このため、巻線体の自転回転数が変化すると、最適量のワニスを巻線体に対して含浸させることができないばかりでなく、巻線体から染み出してワニス含浸が不必要な部分(例えば、モータケース装着部分など)に付着して硬化したワニスのトリミング(除去)時間が長くなり、生産効率の低下や製造コストの上昇を招くことになる。   And if the rotation speed of the winding which performs a varnish process will change, it will have a bad influence on a varnish process. That is, when the rotational speed of the winding body increases (becomes faster), the varnish exudes from the winding body due to centrifugal force and scatters. On the contrary, when the rotation speed of the winding body decreases (becomes slower), the varnish exudes from the winding body due to gravity. For this reason, when the rotation speed of the winding body changes, not only the optimum amount of varnish cannot be impregnated into the winding body, but also the portion that exudes from the winding body and does not need varnish impregnation (for example, The trimming (removal) time of the varnish that has adhered to and hardened on the motor case mounting portion becomes longer, leading to a decrease in production efficiency and an increase in manufacturing cost.

そこで、本発明は上記した問題点を解決するためになされたものであり、各処理ステーションを移動させる際に巻線体の自転回転数を一定に保つことができるワニス処理装置およびワニス処理方法を提供することを課題とする。   Accordingly, the present invention has been made to solve the above-described problems, and provides a varnish treatment apparatus and a varnish treatment method capable of keeping the rotation speed of a winding body constant when moving each processing station. The issue is to provide.

上記課題を解決するためになされた本発明に係るワニス処理装置は、第1無端チェーンと、前記第1無端チェーンに所定間隔で配置されるとともに巻線体を保持するための複数の保持軸と、前記保持軸に備わるスプロケットに噛み合わせた第2無端チェーンとを有し、前記保持軸に保持された巻線体を自転させながら、前記巻線体を公転させて複数の処理ステーションを間欠移動させることにより、前記巻線体に対するワニス処理を行うワニス処理装置において、前記保持軸に保持された巻線体を一定回転数で自転させるために前記第2無端チェーンを回転駆動する自転駆動機構と、前記複数の処理ステーション間を間欠移動させるために前記保持軸に保持された巻線体を公転させるべく前記第1無端チェーンを回転駆動する公転駆動機構と、前記自転駆動機構による前記巻線体の自転回転数を調整する自転回転数調整手段とを有し、前記自転回転数調整手段は、前記公転駆動機構により前記巻線体を公転させている間、前記巻線体の自転回転数が変化しないように、前記自転駆動機構における駆動周波数を変化させることを特徴とする。   A varnish treatment device according to the present invention made to solve the above-described problems includes a first endless chain, a plurality of holding shafts arranged at a predetermined interval on the first endless chain and holding a winding body. A second endless chain meshed with a sprocket provided on the holding shaft, and while rotating the winding body held on the holding shaft, the winding body is revolved to intermittently move a plurality of processing stations. In the varnish processing apparatus that performs varnish processing on the winding body, a rotation driving mechanism that rotationally drives the second endless chain to rotate the winding body held on the holding shaft at a constant rotation speed; A revolving drive mechanism for rotationally driving the first endless chain to revolve the winding body held by the holding shaft in order to intermittently move between the plurality of processing stations; A rotation speed adjustment means for adjusting the rotation speed of the winding body by the rotation drive mechanism, and the rotation speed adjustment means, while revolving the winding body by the revolution drive mechanism, The drive frequency in the rotation drive mechanism is changed so that the rotation speed of the winding body does not change.

このワニス処理装置では、自転駆動機構によって、第2無端チェーンが回転駆動されて、保持軸に保持されワニス処理される巻線体が一定回転数で自転させられる。巻線体の一定回転数(自転回転数)は、巻線体に滴下・含浸されたワニスが染み出さない回転数に設定されている。そして、少なくともワニスが硬化するまでは、巻線体は自転駆動機構によって自転させられている。
ここで、ワニス処理には、保温(予備加熱)工程、滴下工程、硬化工程、および冷却工程が含まれており、このワニス処理装置では、各工程におけるそれぞれの処理を各処理ステーションごとに行うようになっている。このため、このワニス処理装置には、公転駆動機構が備わっており、この公転駆動機構によって、第1無端チェーンが回転駆動され、巻線体は次工程が実施される処理ステーションへ間欠的に移動させられる。
In this varnish processing apparatus, the second endless chain is rotationally driven by the rotation driving mechanism, and the winding body that is held on the holding shaft and is varnished is rotated at a constant rotational speed. The fixed number of rotations (automatic rotation number) of the winding body is set to a number of rotations at which the varnish dripped and impregnated into the winding body does not ooze out. And the winding body is rotated by the rotation drive mechanism at least until the varnish is cured.
Here, the varnish treatment includes a heat retention (preheating) step, a dripping step, a curing step, and a cooling step. In this varnish treatment apparatus, each treatment in each step is performed for each treatment station. It has become. For this reason, this varnish processing apparatus is equipped with a revolution drive mechanism, and the first endless chain is rotationally driven by this revolution drive mechanism, and the winding body is intermittently moved to a processing station where the next process is performed. Be made.

従って、巻線体が処理ステーション間を移動する際には、自転駆動機構による巻線体の自転と、公転駆動機構による巻線体の公転とが同時に行われることになる。つまり、第1無端チェーンと第2無端チェーンとが同時に回転駆動される。このため、巻線体の自転回転数が公転の影響を受けて変化してしまう。具体的には、第1無端チェーンと第2無端チェーンとの回転方向が逆方向であれば、巻線体の自転回転数が増加する。一方、第1無端チェーンと第2無端チェーンとの回転方向が同方向であれば、巻線体の自転回転数が減少する。そうすると、巻線体の自転回転数が増加した(早くなった)場合には、遠心力によりワニスが巻線体から染み出して飛散してしまう。逆に、巻線体の自転回転数が減少した(遅くなった)場合には、重力により巻線体からワニスが染み出してしまう。   Therefore, when the winding body moves between the processing stations, the rotation of the winding body by the rotation driving mechanism and the revolution of the winding body by the revolution driving mechanism are performed simultaneously. That is, the first endless chain and the second endless chain are driven to rotate simultaneously. For this reason, the rotation speed of the winding body changes under the influence of revolution. Specifically, if the rotation directions of the first endless chain and the second endless chain are opposite directions, the rotation speed of the winding body increases. On the other hand, if the rotation directions of the first endless chain and the second endless chain are the same direction, the rotational speed of the winding body decreases. Then, when the rotation speed of the winding body increases (becomes faster), the varnish exudes from the winding body due to centrifugal force and scatters. Conversely, when the rotational speed of the winding body decreases (becomes slower), the varnish exudes from the winding body due to gravity.

これに対して、このワニス処理装置では、自転回転数調整手段によって、自転駆動機構による巻線体の自転回転数が調整される。つまり、自転回転数調整手段が、公転駆動機構によって巻線体が公転させられている間に、巻線体の自転回転数が変化しないように自転駆動機構の駆動周波数を変化させる。   On the other hand, in this varnish processing apparatus, the rotation speed of the winding body by the rotation drive mechanism is adjusted by the rotation speed adjustment means. That is, the rotation speed adjusting means changes the drive frequency of the rotation drive mechanism so that the rotation speed of the winding body does not change while the winding body is being revolved by the revolution drive mechanism.

具体的には、前記自転回転数調整手段は、前記公転駆動機構の作動によって前記巻線体の自転回転数が変化した回転数分に相当する周波数を、前記一定回転数を得るための駆動周波数に対して減算または加算することにより、前記自転駆動機構における駆動周波数を変更すればよい。   Specifically, the rotation speed adjusting means is configured to obtain a frequency corresponding to a rotation speed at which the rotation speed of the winding body is changed by the operation of the revolution drive mechanism, to obtain the constant rotation speed. What is necessary is just to change the drive frequency in the said rotation drive mechanism by subtracting or adding to.

これにより、巻線体の公転に関わらず、巻線体の自転回転数を一定に保つことができる。このため、巻線体からワニスが染み出すことを防止することができる。その結果、最適量のワニスを巻線体に対して含浸させることができるとともに、ワニスのトリミング作業が不要となり、生産効率の低下や製造コストの上昇を防止することができる。また、巻線体の公転に関わらず、巻線体の自転回転数を一定に保つことができることにより、巻線体へのワニス含浸量のバラツキを低減することができる。さらに、巻線体からワニスが染み出すことが防止されるので、ワニスの使用量を必要最小限に抑えることができる。   Thereby, irrespective of the revolution of the winding body, the rotation speed of the winding body can be kept constant. For this reason, it is possible to prevent the varnish from seeping out from the winding body. As a result, the optimum amount of varnish can be impregnated into the winding body, and the varnish trimming operation is not required, thereby preventing a reduction in production efficiency and an increase in manufacturing cost. Further, since the rotation speed of the winding body can be kept constant regardless of the revolution of the winding body, variations in the amount of varnish impregnation into the winding body can be reduced. Furthermore, since the varnish is prevented from seeping out from the winding body, the amount of varnish used can be minimized.

本発明に係るワニス処理装置においては、前記公転駆動機構による前記巻線体の公転速度が減速されたことを検出する減速検出手段をさらに有し、前記自転回転数調整手段は、前記減速検出手段が公転速度の減速を検出すると、前記自転駆動機構における駆動周波数を、前記変化した回転数分に相当する周波数を減算または加算した後の駆動周波数を徐々に増加または減少させて、公転停止時に前記一定回転数を得るための周波数にすることが望ましい。   In the varnish processing apparatus according to the present invention, the varnish processing device further includes deceleration detection means for detecting that the revolution speed of the winding body by the revolution drive mechanism is reduced, and the rotation speed adjusting means is the deceleration detection means. When the deceleration of the revolution speed is detected, the drive frequency in the rotation drive mechanism is gradually increased or decreased after subtracting or adding the frequency corresponding to the changed number of revolutions, and when the revolution is stopped, It is desirable to use a frequency for obtaining a constant rotational speed.

このワニス処理装置では、公転駆動機構による巻線体の公転を停止する際に、巻線体の公転速度を減速してから停止させる。このような減速を行うのは、所定の停止位置に巻線体を正確に停止させるための他、停止時の慣性力を緩和して装置への負担を軽減するためである。ところが、公転速度の減速を開始した後に、自転駆動機構における駆動周波数を公転速度減速前と同じにしていると、巻線体の自転回転数を一定に保つことができない。なぜなら、減速前と減速後とにおける公転による自転回転数の変動量(増減量)が異なるからである。   In this varnish processing device, when the revolution of the winding body by the revolution drive mechanism is stopped, the revolution speed of the winding body is decelerated and then stopped. Such deceleration is performed not only for accurately stopping the winding body at a predetermined stop position, but also for reducing the inertial force at the time of stopping and reducing the burden on the apparatus. However, if the drive frequency in the rotation drive mechanism is the same as before the revolution speed reduction after the revolution speed reduction is started, the rotation speed of the winding body cannot be kept constant. This is because the amount of fluctuation (increase / decrease) in the rotational speed due to revolution before and after deceleration is different.

これに対して、このワニス処理装置では、減速検出手段により公転速度の減速が検出されると、自転回転数調整手段によって、自転駆動機構における駆動周波数が、公転開始時に減算または加算された駆動周波数から徐々に増加または減少させられていき、公転停止時には一定回転数を得るための周波数にされる。このように、公転速度の減速に伴う自転回転数の変化に伴って、自転駆動機構における駆動周波数が徐々に変化させられるため、巻線体の自転回転数が一定に保たれる。   On the other hand, in this varnish processing device, when deceleration of the revolution speed is detected by the deceleration detection means, the drive frequency in the rotation drive mechanism is subtracted or added at the start of revolution by the rotation speed adjusting means. The frequency is gradually increased or decreased from when the revolution is stopped, and is set to a frequency for obtaining a constant rotational speed. Thus, since the drive frequency in a rotation drive mechanism is changed gradually with the change of the rotation speed accompanying deceleration of revolution speed, the rotation speed of a winding body is kept constant.

これにより、巻線体の公転停止前に減速を行う場合であっても、巻線体の自転回転数を一定に保つことができる。従って、巻線体からワニスが染み出すことを防止することができる。その結果、最適量のワニスを巻線体に対して含浸させることができるとともに、ワニスのトリミング作業が不要となり、生産効率の低下や製造コストの上昇を防止することができる。   Thereby, even if it is a case where it decelerates before the revolution stop of a winding body, the rotation speed of a winding body can be kept constant. Therefore, it is possible to prevent the varnish from seeping out from the winding body. As a result, the optimum amount of varnish can be impregnated into the winding body, and the varnish trimming operation is not required, thereby preventing a reduction in production efficiency and an increase in manufacturing cost.

上記課題を解決するためになされた本発明に係るワニス処理方法は、巻線体を保持する複数の保持軸を第1無端チェーンに所定間隔で配置するとともに、前記保持軸に備わるスプロケットに第2無端チェーンを噛み合わせて、自転駆動機構により前記第2無端チェーンを駆動して巻線体を一定回転数で自転させながら、公転駆動機構により前記第1無端チェーンを駆動して前記巻線体が複数の処理ステーション間を間欠的に移動するように公転させることにより、前記巻線体に対するワニス処理を行うワニス処理方法において、前記公転駆動機構により前記巻線体が公転している間、前記巻線体の自転回転数が変化しないように、前記自転駆動機構における駆動周波数を変化させることを特徴とする。   In the varnish processing method according to the present invention made to solve the above-described problem, a plurality of holding shafts for holding a winding body are arranged at predetermined intervals on a first endless chain, and a second is applied to a sprocket provided on the holding shaft. The endless chain is engaged, the second endless chain is driven by the rotation driving mechanism to rotate the winding body at a constant rotation speed, and the first endless chain is driven by the revolution driving mechanism to In the varnish processing method of performing varnish processing on the winding body by revolving so as to move intermittently between a plurality of processing stations, the winding is performed while the winding body is revolving by the revolving drive mechanism. The drive frequency of the rotation drive mechanism is changed so that the rotation speed of the linear body does not change.

このワニス処理方法では、自転駆動機構によって、保持軸に保持されワニス処理される巻線体を一定回転数で自転させるとともに、公転駆動機構により巻線体が複数の処理ステーション間を間欠的に移動するように公転させる。そして、公転駆動機構により巻線体を公転させる間は、巻線体の自転回転数が変化しないように、自転駆動機構における駆動周波数を変化させる。   In this varnish processing method, the winding body held on the holding shaft is rotated at a constant rotation speed by the rotation driving mechanism, and the winding body is intermittently moved between a plurality of processing stations by the revolution driving mechanism. Revolve as you do. And while revolving a winding body by a revolution drive mechanism, the drive frequency in a rotation drive mechanism is changed so that the rotation speed of a winding body may not change.

具体的には、前記公転駆動機構の作動によって前記巻線体の自転回転数が変化した回転数分に相当する周波数を、前記一定回転数を得るための駆動周波数に対して減算または加算することにより、前記自転駆動機構における駆動周波数を変更すればよい。   Specifically, a frequency corresponding to the rotational speed at which the rotation speed of the winding body is changed by the operation of the revolution driving mechanism is subtracted or added to the driving frequency for obtaining the constant rotational speed. Thus, the drive frequency in the rotation drive mechanism may be changed.

これにより、巻線体の公転に関わらず、巻線体の自転回転数を一定に保つことができる。このため、巻線体からワニスが染み出すことを防止することができる。その結果、最適量のワニスを巻線体に対して含浸させることができるとともに、ワニスのトリミング作業が不要となり、生産効率の低下や製造コストの上昇を防止することができる。また、巻線体の公転に関わらず、巻線体の自転回転数を一定に保つことができることにより、巻線体へのワニス含浸量のバラツキを低減することができる。さらに、巻線体からワニスが染み出すことが防止されるので、ワニスの使用量を必要最小限に抑えることができる。   Thereby, irrespective of the revolution of the winding body, the rotation speed of the winding body can be kept constant. For this reason, it is possible to prevent the varnish from seeping out from the winding body. As a result, the optimum amount of varnish can be impregnated into the winding body, and the varnish trimming operation is not required, thereby preventing a reduction in production efficiency and an increase in manufacturing cost. Further, since the rotation speed of the winding body can be kept constant regardless of the revolution of the winding body, variations in the amount of varnish impregnation into the winding body can be reduced. Furthermore, since the varnish is prevented from seeping out from the winding body, the amount of varnish used can be minimized.

本発明に係るワニス処理方法において、前記公転駆動機構による前記巻線体の公転速度を減速してから公転を停止させる場合、前記公転駆動機構による公転速度の減速が開始されたときに、前記自転駆動機構における駆動周波数を、前記公転駆動機構の作動によって変化した回転数分に相当する周波数を減算または加算した後の駆動周波数から徐々に増加または減少させて、公転停止時に前記一定回転数を得るための周波数にすることが望ましい。   In the varnish processing method according to the present invention, when the revolution is stopped after decelerating the revolution speed of the winding body by the revolution drive mechanism, the rotation is reduced when the revolution speed reduction by the revolution drive mechanism is started. The drive frequency in the drive mechanism is gradually increased or decreased from the drive frequency after subtracting or adding the frequency corresponding to the number of revolutions changed by the operation of the revolution drive mechanism to obtain the constant revolution number when the revolution is stopped. It is desirable to set the frequency for

このワニス処理方法では、公転速度が減速されてからは、自転駆動機構における駆動周波数を、公転開始時に変化した回転数分に相当する周波数が減算または加算した後の駆動周波数から徐々に増加または減少させていき、公転停止時に一定回転数を得るための周波数にする。これにより、公転速度の減速に伴う自転回転数の変化に伴って、自転駆動機構における駆動周波数が徐々に変化していくため、巻線体の自転回転数を一定に保つことができる。   In this varnish processing method, after the revolution speed is reduced, the drive frequency in the rotation drive mechanism is gradually increased or decreased from the drive frequency after the frequency corresponding to the number of revolutions changed at the start of revolution is subtracted or added. The frequency is used to obtain a fixed number of revolutions when the revolution is stopped. Thereby, since the drive frequency in a rotation drive mechanism changes gradually with the change of the rotation speed accompanying deceleration of a revolution speed, the rotation speed of a winding body can be kept constant.

従って、巻線体の公転停止前に減速を行う場合にも、巻線体の自転回転数を一定に保つことができる。よって、巻線体からワニスが染み出すことを防止することができる。その結果、最適量のワニスを巻線体に対して含浸させることができるとともに、ワニスのトリミング作業が不要となり、生産効率の低下や製造コストの上昇を防止することができる。   Therefore, even when the deceleration is performed before the revolution of the winding body is stopped, the rotation speed of the winding body can be kept constant. Therefore, it is possible to prevent the varnish from seeping out from the winding body. As a result, the optimum amount of varnish can be impregnated into the winding body, and the varnish trimming operation is not required, thereby preventing a reduction in production efficiency and an increase in manufacturing cost.

本発明に係るワニス処理装置およびワニス処理方法によれば、上記した通り、巻線体の公転の有無に関わらず、巻線体の自転回転数を一定に保つことができる。これにより、巻線体からワニスが染み出すことを防止することができるため、最適量のワニスを巻線体に対して含浸させることができるとともに、ワニスのトリミング作業が不要となり、生産効率の低下や製造コストの上昇を防止することができる。また、巻線体の公転に関わらず、巻線体の自転回転数を一定に保つことができることにより、巻線体へのワニス含浸量のバラツキを低減することができる。さらに、巻線体からワニスが染み出すことが防止されるので、ワニスの使用量を必要最小限に抑えることができる。   According to the varnish treatment device and the varnish treatment method of the present invention, as described above, the rotation speed of the winding body can be kept constant regardless of the revolution of the winding body. As a result, it is possible to prevent the varnish from seeping out from the winding body, so that an optimum amount of varnish can be impregnated into the winding body, and the trimming work of the varnish becomes unnecessary, resulting in a decrease in production efficiency. And an increase in manufacturing cost can be prevented. Further, since the rotation speed of the winding body can be kept constant regardless of the revolution of the winding body, variations in the amount of varnish impregnation into the winding body can be reduced. Furthermore, since the varnish is prevented from seeping out from the winding body, the amount of varnish used can be minimized.

以下、本発明のワニス処理装置およびワニス処理方法を具体化した最も好適な実施の形態について、図面に基づき詳細に説明する。そこで、まず、本実施の形態に係るワニス処理装置の概略構成について、図1〜図4を参照しながら説明する。図1は、本実施の形態に係るワニス処理装置の概略を示す概略構成図である。図2は、本実施の形態に係るワニス処理装置におけるステータ搬送部の概略を示す概略構成図である。図3は、ステータ搬送部に複数設けられているステータ保持部の概略を示す概略構成図である。図4は、図3に示すA−A方向からの矢視図である。   DESCRIPTION OF EMBODIMENTS Hereinafter, a most preferred embodiment that embodies a varnish treatment apparatus and a varnish treatment method of the present invention will be described in detail based on the drawings. Therefore, first, a schematic configuration of the varnish processing apparatus according to the present embodiment will be described with reference to FIGS. FIG. 1 is a schematic configuration diagram showing an outline of a varnish treatment apparatus according to the present embodiment. FIG. 2 is a schematic configuration diagram showing an outline of a stator transport unit in the varnish processing apparatus according to the present embodiment. FIG. 3 is a schematic configuration diagram showing an outline of a plurality of stator holding portions provided in the stator conveying portion. FIG. 4 is an arrow view from the AA direction shown in FIG.

ワニス処理装置10には、図1に示すように、複数の空間に区画された本体11と、ワークであるステータWを自転させながら区画された空間を順次移動させるためのステータ搬送部12と、ワニス処理装置10の動作を統括的に制御するための制御部13とが備わっている。
本体11には、ステータ搬送部12にステータWを脱着する脱着ステーション14と、ステータを予備加熱する保温ステーション15と、予備加熱されたステータWにワニスを滴下して含浸させる滴下ステーション16と、ステータWに滴下・含浸されたワニスを硬化させる硬化ステーション17と、ワニスが硬化したステータWを冷却する冷却ステーション18とが設けられている。これらのステーションのうち、脱着ステーション14のみ一部が開放された空間とされ、その他の保温ステーション15、滴下ステーション16、硬化ステーション17、および冷却ステーション18は閉空間とされている。
As shown in FIG. 1, the varnish processing apparatus 10 includes a main body 11 partitioned into a plurality of spaces, a stator transport unit 12 for sequentially moving the partitioned spaces while rotating the stator W as a workpiece, And a control unit 13 for comprehensively controlling the operation of the varnish processing apparatus 10.
The main body 11 includes a detaching station 14 for detaching the stator W from the stator conveying section 12, a heat retaining station 15 for preheating the stator, a dropping station 16 for dripping and impregnating the varnish into the preheated stator W, a stator A curing station 17 that cures the varnish dripped and impregnated into W and a cooling station 18 that cools the stator W after the varnish is cured are provided. Among these stations, only the desorption station 14 is a partially opened space, and the other heat retaining station 15, the dropping station 16, the curing station 17 and the cooling station 18 are closed spaces.

ここで、着脱ステーション14では、ワニス処理前のステータWがステータ搬送部12に装着されるとともに、ワニス処理後のステータWがステータ搬送部12から外されるようになっている。また、着脱ステーション14の上部に制御部13が配置されている。
保温ステーション15には、不図示のヒータにより遠赤加熱されるようになっている。これにより、保温ステーション15では、前工程で予備加熱されたステータWを所定の温度に保温することができる。なお、ステータWを保温するのは、滴下されたワニスの浸透性を良くする(ワニスの粘性を下げる)ためである。
滴下ステーション16には、不図示のワニス供給ポンプに接続された滴下ノズル19が設けられており、滴下ノズル19からステータWに対してワニスが滴下されるようになっている。そして、ステータWに滴下されたワニスは、ステータWのコイルに含浸していく。
硬化ステーション17には、上部にヒータ20が設けられている。これにより、硬化ステーション17の前半(上段部)では、ヒータ20によりステータWが加熱されて、ステータWのコイルに含浸したワニスがゲル化されるようになっている。そして、硬化ステーション17の後半(下段部)で、ゲル化されたワニスが硬化するようになっている。
Here, at the attachment / detachment station 14, the stator W before the varnish treatment is mounted on the stator conveyance unit 12, and the stator W after the varnish treatment is removed from the stator conveyance unit 12. In addition, a control unit 13 is disposed above the detachable station 14.
The heat retention station 15 is heated by far-red by a heater (not shown). Thereby, in the heat retention station 15, the stator W preliminarily heated in the previous process can be kept at a predetermined temperature. The reason for keeping the stator W warm is to improve the permeability of the dropped varnish (lower the viscosity of the varnish).
The dropping station 16 is provided with a dropping nozzle 19 connected to a varnish supply pump (not shown), and the varnish is dropped from the dropping nozzle 19 to the stator W. And the varnish dripped at the stator W impregnates the coil of the stator W.
The curing station 17 is provided with a heater 20 at the top. Thereby, in the first half (upper part) of the curing station 17, the stator W is heated by the heater 20, and the varnish impregnated in the coil of the stator W is gelled. The gelled varnish is cured in the latter half (lower part) of the curing station 17.

そして、これらの各ステーション14〜18を通過するように、本体11内にステータ搬送部12が配置されている。このステータ搬送部12には、図2に示すように、無端状の公転用チェーン30と、公転用チェーン30の内周側に配置された無端状の自転用チェーン40と、ステータWを保持する複数のステータ保持部50と、減速リミットスイッチ60と、停止位置確認リミットスイッチ61とが備わっている。なお、公転用チェーン30は2本設けられており、その間に自転用チェーン40が配置されている(図3参照)。ステータ保持部50は、公転用チェーン30に所定間隔で配置されて駆動(公転)されるとともに、自転用チェーン40によって保持軸52が回転(自転)されるようになっている。つまり、ステータ搬送部12により、ステータWを自転させながら公転させることができるようになっている。また、減速検出手段である減速リミットスイッチ60によりステータWの公転速度の減速が検出され、停止位置確認リミットスイッチ61によりステータWの停止位置への到達が検出されるようになっている。なお、本実施の形態では、18個のステータ保持部50が公転用チェーン30に配置されている。   And the stator conveyance part 12 is arrange | positioned in the main body 11 so that these each stations 14-18 may be passed. As shown in FIG. 2, the stator transport unit 12 holds an endless revolving chain 30, an endless revolving chain 40 disposed on the inner peripheral side of the revolving chain 30, and a stator W. A plurality of stator holding portions 50, a deceleration limit switch 60, and a stop position confirmation limit switch 61 are provided. Two revolution chains 30 are provided, and a rotation chain 40 is disposed between them (see FIG. 3). The stator holding portion 50 is arranged (revolved) in the revolving chain 30 at predetermined intervals, and the holding shaft 52 is rotated (revolved) by the revolving chain 40. That is, the stator conveyance unit 12 can revolve the stator W while rotating. The deceleration limit switch 60, which is a deceleration detection means, detects the deceleration of the revolution speed of the stator W, and the stop position confirmation limit switch 61 detects the arrival of the stator W at the stop position. In the present embodiment, 18 stator holding portions 50 are arranged in the revolution chain 30.

ここで、ステータ保持部50には、図3および図4に示すように、パレット51と、保持軸52と、スプロケット53と、チャック54とが備わっている。パレット51の両端に公転用チェーン30が配置(固定)されている。
パレット51上には、回転可能に支持された保持軸52が設けられており、保持軸52の一端にステータWを内周側から保持するためのチャック54が取り付けられている。また、保持軸52には、スプロケット53が固定されている。そして、パレット51を公転用チェーン30に配置すると、スプロケット53の歯が自転用チェーン40に噛み合うようになっている。
このような構成によりステータ保持部50は、ステータWを保持した状態で自転させながら公転させることができるようになっている。
Here, as shown in FIGS. 3 and 4, the stator holding unit 50 includes a pallet 51, a holding shaft 52, a sprocket 53, and a chuck 54. Revolution chains 30 are arranged (fixed) at both ends of the pallet 51.
A holding shaft 52 supported rotatably is provided on the pallet 51, and a chuck 54 for holding the stator W from the inner peripheral side is attached to one end of the holding shaft 52. A sprocket 53 is fixed to the holding shaft 52. When the pallet 51 is arranged on the revolving chain 30, the teeth of the sprocket 53 are engaged with the revolving chain 40.
With such a configuration, the stator holding portion 50 can be revolved while rotating while holding the stator W.

公転用チェーン30は、図2に示すように、駆動ローラ31と従動ローラ32とに掛けられている。また、駆動ローラ31と公転用モータ34の出力軸に固定されたプーリーとの間には、駆動ベルト35が張設されている。これにより、公転用モータ34を駆動すると、公転用モータ34の回転が、駆動ベルト35を介して駆動ローラ31に伝達されるようになっている。そして、駆動ローラ31が回転駆動されることにより公転用チェーン30が駆動されるようになっている。この公転用チェーン30の駆動によって、ステータ保持部50に保持されたステータWがワニス処理装置10内を公転させられることにより、各処理ステーション14〜18を間欠移動するようになっている。つまり、公転用チェーン30、駆動ローラ31、従動ローラ32、公転用モータ34、およびステータ保持部50により、本発明の「公転駆動機構」が構成されている。   As shown in FIG. 2, the revolving chain 30 is hung on a driving roller 31 and a driven roller 32. A drive belt 35 is stretched between the drive roller 31 and a pulley fixed to the output shaft of the revolution motor 34. Accordingly, when the revolution motor 34 is driven, the rotation of the revolution motor 34 is transmitted to the drive roller 31 via the drive belt 35. The revolving chain 30 is driven by the drive roller 31 being driven to rotate. By driving the revolving chain 30, the stator W held by the stator holding portion 50 is revolved in the varnish processing apparatus 10, so that the processing stations 14 to 18 are intermittently moved. That is, the “revolution drive mechanism” of the present invention is constituted by the revolution chain 30, the drive roller 31, the driven roller 32, the revolution motor 34, and the stator holding portion 50.

自転用チェーン40は、駆動ローラ41と2つの従動ローラ42,43に掛けられている。また、駆動ローラ41と自転用モータ44の出力軸に固定されたプーリー(不図示)との間には、駆動ベルト45が張設されている。これにより、自転用モータ44を駆動すると、自転用モータ44の回転が、駆動ベルト45を介して駆動ローラ41に伝達されるようになっており、駆動ローラ41が回転駆動されることにより自転用チェーン40が駆動されるようになっている。この自転用チェーン40の駆動によって、ステータ保持部50に保持されたステータWが自転するようになっている。そして、制御部13によって自転用モータ44の回転数(出力)を変化させることにより、ステータ保持部50に保持されたステータWの自転回転数を調整することができるようになっている。つまり、自転用チェーン40、駆動ローラ41、従動ローラ42,43、自転用モータ44、およびステータ保持部50により本発明の「自転駆動機構」が構成され、制御部13が本発明の「自転回転数調整手段」に相当する。   The rotation chain 40 is hung on a driving roller 41 and two driven rollers 42 and 43. A driving belt 45 is stretched between the driving roller 41 and a pulley (not shown) fixed to the output shaft of the motor 44 for rotation. Thus, when the rotation motor 44 is driven, the rotation of the rotation motor 44 is transmitted to the drive roller 41 via the drive belt 45, and the rotation is driven by the rotation of the drive roller 41. The chain 40 is driven. By driving the rotation chain 40, the stator W held by the stator holding portion 50 rotates. Then, by changing the rotation speed (output) of the rotation motor 44 by the control unit 13, the rotation speed of the stator W held by the stator holding unit 50 can be adjusted. That is, the “rotation drive mechanism” of the present invention is configured by the rotation chain 40, the drive roller 41, the driven rollers 42 and 43, the rotation motor 44, and the stator holding unit 50, and the control unit 13 performs the “rotation rotation” This corresponds to “number adjusting means”.

そして、ワニス処理装置10では、制御部13により、公転用モータ34および自転用モータ44の回転駆動および回転数が制御されて、ステータ保持部50に保持されたステータWがワニス処理装置10内を常に一定の回転数で自転しながら適切なタイミングで公転し、ワニス処理が行われるようになっている。   In the varnish processing device 10, the control unit 13 controls the rotation drive and the number of rotations of the revolution motor 34 and the rotation motor 44, and the stator W held by the stator holding unit 50 passes through the varnish processing device 10. While always rotating at a constant rotational speed, it revolves at an appropriate timing to perform varnish treatment.

続いて、上記した構成を有するワニス処理装置10によるワニス処理方法について、図5および図6を参照しながら説明する。図5は、ワニス処理装置10によるワニス処理時におけるステータの自転回転数制御の内容を示すフローチャートである。図6は、ワニス処理装置10によるワニス処理時におけるステータの自転回転数制御を実施したときの自転回転数および駆動周波数の変化を示すタイミングチャートである。   Then, the varnish processing method by the varnish processing apparatus 10 which has an above-described structure is demonstrated, referring FIG. 5 and FIG. FIG. 5 is a flowchart showing the contents of the rotation speed control of the stator during the varnish treatment by the varnish treatment apparatus 10. FIG. 6 is a timing chart showing changes in the rotation speed and drive frequency when the rotation speed control of the stator is performed during varnish processing by the varnish processing apparatus 10.

まず、脱着ステーション14において、ステータWが保持軸52のチャック54に取り付けられて固定される。そして、スタートボタンが押されると、制御部13により自転用モータ44が駆動される。そうすると、自転用モータ44の回転が駆動ベルト45を介して駆動ローラ41に伝達され、自転用チェーン40が反時計回りに駆動される。自転用チェーン40が反時計回りに駆動すると、ステータ保持部50のスプロケット53を介して保持軸52が時計回り方向に回転する(S1)。このとき、図6に示すように、保持軸52の回転数はX(rpm)となる。つまり、ステータWは、コイルにワニスが滴下・含浸された際にコイルからワニスが染み出さない回転数X(rpm)で自転される。
なお、脱着ステーション14に位置する3つのステータ保持部50の保持軸52は回転しない。これらのステータ保持部50のスプロケット53は自転用チェーン40に噛み合っていないからである。
First, in the detaching station 14, the stator W is attached and fixed to the chuck 54 of the holding shaft 52. Then, when the start button is pressed, the rotation motor 44 is driven by the control unit 13. Then, the rotation of the rotation motor 44 is transmitted to the drive roller 41 via the drive belt 45, and the rotation chain 40 is driven counterclockwise. When the rotation chain 40 is driven counterclockwise, the holding shaft 52 rotates clockwise via the sprocket 53 of the stator holding portion 50 (S1). At this time, as shown in FIG. 6, the rotation speed of the holding shaft 52 is X (rpm). That is, the stator W rotates at a rotational speed X (rpm) at which the varnish does not ooze out from the coil when the varnish is dripped and impregnated into the coil.
Note that the holding shafts 52 of the three stator holding portions 50 located at the detaching station 14 do not rotate. This is because the sprockets 53 of these stator holding portions 50 are not engaged with the rotation chain 40.

そして、図6に示す時刻t1において、公転用モータ34の回転が駆動ベルト35を介して駆動ローラ31に伝達され、公転用チェーン30が時計回り方向に駆動される。公転用チェーン30が駆動すると、公転用チェーン30に固定されているパレット51(ステータ保持部50)が移動する(S2)。この公転により、例えば、脱着ステーション14でステータWが取り付けられたステータ保持部50が、保温ステーション15に送られる。   Then, at time t1 shown in FIG. 6, the rotation of the revolution motor 34 is transmitted to the drive roller 31 via the drive belt 35, and the revolution chain 30 is driven in the clockwise direction. When the revolving chain 30 is driven, the pallet 51 (stator holding portion 50) fixed to the revolving chain 30 moves (S2). By this revolution, for example, the stator holding portion 50 to which the stator W is attached at the detaching station 14 is sent to the heat retaining station 15.

そして、保持軸52に保持されたステータWを自転させながら、間欠的に公転用チェーン30を駆動させることにより、ステータWが自転しながら保温ステーション15、滴下ステーション16、硬化ステーション17、および冷却ステーション18を順次移動していきワニス処理が実施される。そして、ワニス処理が終了したステータWは、脱着ステーション14においてステータ保持部から外される。なお、ワニス処理装置10では、ワニス処理後のステータW(ステータ保持部50)を所定位置に正確に停止させるために、公転用チェーン30の駆動を停止する前に公転速度が減速される。   The revolving chain 30 is driven intermittently while rotating the stator W held on the holding shaft 52, so that the heat retaining station 15, the dropping station 16, the curing station 17, and the cooling station are rotated while the stator W rotates. The varnish processing is performed by sequentially moving 18. Then, the stator W that has been subjected to the varnish treatment is removed from the stator holding portion at the detachment station 14. In the varnish treatment apparatus 10, the revolution speed is reduced before the drive of the revolution chain 30 is stopped in order to accurately stop the stator W (the stator holding portion 50) after the varnish treatment at a predetermined position.

ここで、時刻t1において、公転用チェーン30が駆動されてステータ保持部50が移動する際、図6に破線で示すように、保持軸52の回転数(ステータWの自転回転数)が変化してしまう。具体的には、本実施の形態のように、互いのチェーンの駆動方向が逆である場合には、保持軸52の回転数(ステータWの自転回転数)が増加して「Y(rpm)」になってしまう。そうすると、ステータWのコイルからワニスが染み出さないように設定された自転回転数X(rpm)が保たれなくなる。その結果、遠心力によりワニスがステータWのコイルから染み出して飛散し、ワニスのトリミング(除去)時間が長くなり、生産効率の低下や製造コストの上昇を招くことになる。
なお、互いのチェーンの駆動方向が同じある場合には、保持軸52の回転数(ステータWの自転回転数)が減少してしまって、自転回転数X(rpm)が保たれなくなる。その結果、重力によりステータからワニスが染み出して、ワニスのトリミング(除去)時間が長くなり、生産効率の低下や製造コストの上昇を招くことになる。
Here, when the revolving chain 30 is driven and the stator holding portion 50 moves at time t1, the rotation speed of the holding shaft 52 (the rotation speed of the stator W) changes as shown by the broken line in FIG. End up. Specifically, when the driving directions of the chains are opposite as in the present embodiment, the rotation speed of the holding shaft 52 (the rotation speed of the stator W) increases and “Y (rpm) "Become. If it does so, the rotation speed X (rpm) set so that a varnish may not exude from the coil of the stator W will no longer be maintained. As a result, the varnish oozes out from the coil of the stator W due to centrifugal force and scatters, and the trimming (removal) time of the varnish becomes longer, leading to a decrease in production efficiency and an increase in manufacturing cost.
When the drive directions of the chains are the same, the rotation speed of the holding shaft 52 (the rotation speed of the stator W) decreases, and the rotation speed X (rpm) cannot be maintained. As a result, the varnish oozes out from the stator due to gravity, and the trimming (removal) time of the varnish becomes longer, leading to a decrease in production efficiency and an increase in manufacturing cost.

ところが、本実施の形態では、公転駆動が開始されると、制御部13によって自転回転数制御が実施される(S3)。具体的には、制御部13によって、時刻t1において、図6に示すように、自転回転数X(rpm)を得るために必要な駆動周波数(S1で自転用モータ44に与えられている駆動周波数)fxから、公転駆動による自転回転数の変化回転数分「Y−X(rpm)」に相当する周波数が減算されてfxyとされる。そして時刻t1以降、その減算後の駆動周波数fxyが自転用モータ44に供給される。これにより、保持軸52(ステータW)の自転回転数は、自転用モータ44による保持軸52(ステータW)の自転回転数が公転駆動による自転回転数の変化回転数分だけ低められるため、高くならずX(rpm)に保たれる。   However, in this embodiment, when the revolution drive is started, the rotation speed control is performed by the control unit 13 (S3). Specifically, as shown in FIG. 6, at the time t <b> 1, as shown in FIG. 6, a drive frequency necessary for obtaining the rotation speed X (rpm) (the drive frequency given to the rotation motor 44 in S <b> 1). ) A frequency corresponding to “YX (rpm)” is subtracted from fx by the amount of change in the rotation speed of the revolution due to revolution drive to obtain fxy. Then, after time t1, the subtracted drive frequency fxy is supplied to the motor 44 for rotation. As a result, the rotation speed of the holding shaft 52 (stator W) is increased because the rotation speed of the holding shaft 52 (stator W) by the rotation motor 44 is decreased by the change rotation speed of the rotation speed due to revolution driving. It is kept at X (rpm).

従って、公転用チェーン30が駆動されている間であっても、保持軸52(ステータW)の自転回転数はX(rpm)で一定であるから、ステータWのコイルからワニスが染み出すことを防止することができる。その結果、最適量のワニスをステータWのコイルに対して含浸させることができるとともに、ワニスのトリミング時間が最短(場合によって不要)となり、生産効率の低下や製造コストの上昇を防止することができる。また、ステータWのコイルへのワニス含浸量のバラツキを低減することができる。さらに、ステータWのコイルからワニスが染み出すことが防止されるので、ワニスの使用量を必要最小限に抑えることもできる。   Therefore, even while the revolution chain 30 is being driven, the rotation speed of the holding shaft 52 (stator W) is constant at X (rpm), so that the varnish oozes out from the coil of the stator W. Can be prevented. As a result, the coil of the stator W can be impregnated with the optimum amount of varnish, and the trimming time of the varnish is minimized (unnecessary in some cases), thereby preventing a decrease in production efficiency and an increase in manufacturing cost. . Further, variation in the amount of varnish impregnated in the coil of the stator W can be reduced. Further, since the varnish is prevented from seeping out from the coil of the stator W, the amount of varnish used can be minimized.

時刻t1において公転用チェーン30が駆動された後、時刻t2にてステータ保持部50が減速位置に達すると、減速リミットスイッチ60がオンされる(S4)。この減速リミットスイッチ60の出力が制御部13に入力され、制御部13により公転用モータ34の回転速度が減速される。これにより、公転用チェーン30の公転速度が減速する(S5)。   After the revolving chain 30 is driven at time t1, when the stator holding part 50 reaches the deceleration position at time t2, the deceleration limit switch 60 is turned on (S4). The output of the deceleration limit switch 60 is input to the control unit 13, and the rotation speed of the revolution motor 34 is reduced by the control unit 13. Thereby, the revolution speed of the revolution chain 30 is reduced (S5).

ここで、公転用チェーン30の公転速度の減速を開始した後においても、自転用モータ44に対して減速前と同じ駆動周波数fxyを与えていると、保持軸52(ステータW)の自転回転数をX(rpm)に保つことができない。なぜなら、公転速度の減速前と減速後とでは、公転による自転回転数の変動量(増減量:本実施の形態では増加量となる)が異なるからである。   Here, even after starting the deceleration of the revolution speed of the revolution chain 30, if the same drive frequency fxy as that before the deceleration is given to the motor 44 for rotation, the rotation speed of the holding shaft 52 (stator W) Cannot be maintained at X (rpm). This is because the amount of change in the rotational speed of the revolution due to revolution differs (increase / decrease: an increase in this embodiment) before and after the revolution speed is reduced.

ところが、本実施の形態では、公転用チェーン30の公転速度が減速される(減速リミットスイッチ60がオンされる)と、制御部13によって、自転用モータ44に与えられる駆動周波数の除変制御が実施される(S6)。つまり、時刻t2において、公転用チェーン30の公転速度が減速されると、自転用モータ44に与えられる駆動周波数が、図6に示すように、公転用チェーン30が停止するときにfxとなるように、公転開始時に(時刻t1において)変更した駆動周波数fxyから徐々に増加させられていく。
そして、時刻t3において、ステータ保持部50が停止位置に達すると、停止位置確認リミットスイッチ61がオンされる(S7)。この停止位置確認リミットスイッチ61の出力が制御部13に入力され、制御部13により公転用モータ34が停止されて公転用チェーン30の公転が停止する(S8)。このとき、自転用モータ44に与える駆動周波数は、時刻t2における駆動周波数fxyから徐々に大きくなり、時刻t3でfxに戻される。そして、この状態で、制御部13による自転制御が終了する(S9)。その後、公転用チェーンが駆動されると、上記した処理が繰り返し実施される。
However, in the present embodiment, when the revolution speed of the revolution chain 30 is reduced (the deceleration limit switch 60 is turned on), the control unit 13 performs the change control of the drive frequency applied to the rotation motor 44. Implemented (S6). That is, when the revolution speed of the revolution chain 30 is decelerated at time t2, the drive frequency applied to the revolution motor 44 becomes fx when the revolution chain 30 stops as shown in FIG. In addition, the driving frequency fxy changed at the start of revolution (at time t1) is gradually increased.
When the stator holding portion 50 reaches the stop position at time t3, the stop position confirmation limit switch 61 is turned on (S7). The output of the stop position confirmation limit switch 61 is input to the control unit 13, and the revolution motor 34 is stopped by the control unit 13 and the revolution of the revolution chain 30 is stopped (S8). At this time, the drive frequency applied to the rotation motor 44 gradually increases from the drive frequency fxy at time t2, and is returned to fx at time t3. And in this state, the rotation control by the control part 13 is complete | finished (S9). Thereafter, when the revolving chain is driven, the above-described processing is repeatedly performed.

このように本実施の形態では、公転用チェーン30の公転速度が減速された後においても、公転速度の減速に伴う自転回転数の変化に伴って、自転用モータ44に与えられる駆動周波数が徐々に変化するため、保持軸52(ステータW)の自転回転数をX(rpm)に保つことができる。これにより、公転用チェーン30の公転速度減速後においても、ステータWのコイルからワニスが染み出すことを防止することができる。   As described above, in the present embodiment, even after the revolution speed of the revolution chain 30 is reduced, the drive frequency given to the revolution motor 44 is gradually increased in accordance with the change in the revolution speed accompanying the reduction in the revolution speed. Therefore, the rotation speed of the holding shaft 52 (stator W) can be maintained at X (rpm). Thereby, it is possible to prevent the varnish from seeping out from the coil of the stator W even after the revolution speed of the revolution chain 30 is reduced.

以上、詳細に説明したように本実施の形態に係るワニス処理装置10によるワニス処理方法では、公転用チェーン30が駆動されると、制御部13によって、自転用モータ44の駆動周波数が、保持軸52(ステータW)の自転回転数をX(rpm)にするために必要な駆動周波数fx(Hz)から、公転用チェーン30の駆動による回転数変化分「Y−X(rpm)」に相当する周波数をfx(Hz)から減算したfxy(Hz)とされる。これにより、保持軸52(ステータW)の自転回転数は、自転用モータ44による保持軸52(ステータW)の自転回転数が公転駆動による回転数上昇分だけ低められるため、公転用チェーン30が駆動されている公転期間中にも高くならずに、X(rpm)に保たれる。   As described above in detail, in the varnish processing method by the varnish processing apparatus 10 according to the present embodiment, when the revolving chain 30 is driven, the driving frequency of the rotation motor 44 is changed by the control unit 13 to the holding shaft. From the drive frequency fx (Hz) required to set the rotation speed of the 52 (stator W) to X (rpm), this corresponds to the change in the rotation speed by driving the revolution chain 30 “YX (rpm)”. It is set to fxy (Hz) which subtracted the frequency from fx (Hz). As a result, the rotation speed of the holding shaft 52 (stator W) is reduced by an amount corresponding to an increase in the rotation speed due to the revolution drive because the rotation speed of the holding shaft 52 (stator W) by the rotation motor 44 is reduced. It is kept at X (rpm) without becoming high during the revolution period of driving.

従って、公転期間中であっても、保持軸52(ステータW)の自転回転数を一定に保つことができるから、ワニス処理中にステータWのコイルからワニスが染み出すことを防止することができる。その結果、最適量のワニスをステータWのワニスに対して含浸させることができるとともに、ワニスのトリミング時間が最短(場合によって不要)となり、生産効率の低下や製造コストの上昇を防止することができる。また、ステータWのコイルへのワニス含浸量のバラツキを低減することができる。さらに、ステータWのコイルからワニスが染み出すことが防止されるので、ワニスの使用量を必要最小限に抑えることもできる。   Therefore, even during the revolution period, the rotation speed of the holding shaft 52 (stator W) can be kept constant, so that the varnish can be prevented from seeping out from the coil of the stator W during the varnish treatment. . As a result, the varnish of the stator W can be impregnated with the optimum amount of varnish, and the trimming time of the varnish is minimized (unnecessary in some cases), thereby preventing a decrease in production efficiency and an increase in manufacturing cost. . Further, variation in the amount of varnish impregnated in the coil of the stator W can be reduced. Further, since the varnish is prevented from seeping out from the coil of the stator W, the amount of varnish used can be minimized.

なお、上記した実施の形態は単なる例示にすぎず、本発明を何ら限定するものではなく、その要旨を逸脱しない範囲内で種々の改良、変形が可能であることはもちろんである。例えば、上記した実施の形態では、公転用チェーン30と自転用チェーン40との回転方向を逆にしているが、公転用チェーン30と自転用チェーン40との回転方向を同じにしてもよい。この場合、公転によって自転回転数が減少するので、その変化分相当の周波数を加算した駆動周波数を自転用モータ44に与えればよい。また、公転用チェーン30の公転速度の減速後は、自転用モータ44に与える駆動周波数を、公転開始時に加算した駆動周波数から徐々に減少させて行けばよい。これにより、公転用チェーン30と自転用チェーン40との回転方向が同じ場合であっても、保持軸52(ステータW)の自転回転数を一定に保つことができる。   It should be noted that the above-described embodiment is merely an example and does not limit the present invention in any way, and various improvements and modifications can be made without departing from the scope of the invention. For example, in the above-described embodiment, the rotation directions of the revolution chain 30 and the rotation chain 40 are reversed, but the rotation directions of the revolution chain 30 and the rotation chain 40 may be the same. In this case, since the rotation speed decreases due to the revolution, a drive frequency obtained by adding a frequency corresponding to the change may be given to the rotation motor 44. In addition, after the revolution speed of the revolution chain 30 is reduced, the drive frequency applied to the rotation motor 44 may be gradually decreased from the drive frequency added at the start of revolution. Thereby, even if the rotation direction of the revolution chain 30 and the rotation chain 40 is the same, the rotation speed of the holding shaft 52 (stator W) can be kept constant.

実施の形態に係るワニス処理装置の概略を示す概略構成図である。It is a schematic block diagram which shows the outline of the varnish processing apparatus which concerns on embodiment. 実施の形態に係るワニス処理装置におけるステータ搬送部の概略を示す概略構成図である。It is a schematic block diagram which shows the outline of the stator conveyance part in the varnish processing apparatus which concerns on embodiment. ステータ搬送部に複数設けられているステータ保持部の概略を示す概略構成図である。It is a schematic block diagram which shows the outline of the stator holding | maintenance part provided with two or more by the stator conveyance part. 図3に示すA−A方向からの矢視図である。It is an arrow view from the AA direction shown in FIG. 実施の形態に係るワニス処理装置によるワニス処理時におけるステータの自転回転数制御の内容を示すフローチャートである。It is a flowchart which shows the content of the rotation speed control of the stator at the time of the varnish process by the varnish processing apparatus which concerns on embodiment. 実施の形態に係るワニス処理装置によるワニス処理時におけるステータの自転回転数制御を実施したときの自転回転数および駆動周波数の変化を示すタイミングチャートである。It is a timing chart which shows the rotation speed and drive frequency change when the rotation speed control of the stator at the time of the varnish process by the varnish processing apparatus which concerns on embodiment is implemented. 従来のワニス処理装置におけるワニス処理時におけるステータの自転回転数の変化の一例を示す図である。It is a figure which shows an example of the rotation speed of a stator at the time of the varnish process in the conventional varnish processing apparatus. ステータの自転回転数とワニストリミング時間との関係を示す図である。It is a figure which shows the relationship between the rotation speed of a stator, and varnish trimming time.

符号の説明Explanation of symbols

10 ワニス処理装置
11 本体
12 ステータ搬送部
13 制御部
14 脱着ステーション
15 保温ステーション
16 滴下ステーション
17 硬化ステーション
18 冷却ステーション
19 滴下ノズル
20 ヒータ
30 公転用チェーン
31 駆動ローラ
32 従動ローラ
34 公転用モータ
35 駆動ベルト
40 自転用チェーン
41 駆動ローラ
42 従動ローラ
43 従動ローラ
44 自転用モータ
45 駆動ベルト
50 ステータ保持部
51 パレット
52 保持軸
53 スプロケット
54 チャック
60 減速リミットスイッチ
61 停止位置確認リミットスイッチ
W ステータ
DESCRIPTION OF SYMBOLS 10 Varnish processing apparatus 11 Main body 12 Stator conveyance part 13 Control part 14 Desorption | desorption station 15 Heat retention station 16 Dripping station 17 Curing station 18 Cooling station 19 Dripping nozzle 20 Heater 30 Revolution chain 31 Drive roller 32 Drive roller 34 Revolution motor 35 Drive belt 40 Rotating Chain 41 Drive Roller 42 Followed Roller 43 Followed Roller 44 Rotating Roller Motor 45 Drive Belt 50 Stator Holding Unit 51 Pallet 52 Holding Shaft 53 Sprocket 54 Chuck 60 Deceleration Limit Switch 61 Stop Position Check Limit Switch W Stator

Claims (6)

第1無端チェーンと、前記第1無端チェーンに所定間隔で配置されるとともに巻線体を保持するための複数の保持軸と、前記保持軸に備わるスプロケットに噛み合わせた第2無端チェーンとを有し、前記保持軸に保持された巻線体を自転させながら、前記巻線体を公転させて複数の処理ステーションを間欠移動させることにより、前記巻線体に対するワニス処理を行うワニス処理装置において、
前記保持軸に保持された巻線体を一定回転数で自転させるために前記第2無端チェーンを回転駆動する自転駆動機構と、
前記複数の処理ステーション間を間欠移動させるために前記保持軸に保持された巻線体を公転させるべく前記第1無端チェーンを回転駆動する公転駆動機構と、
前記自転駆動機構による前記巻線体の自転回転数を調整する自転回転数調整手段とを有し、
前記自転回転数調整手段は、前記公転駆動機構により前記巻線体を公転させている間、前記巻線体の自転回転数が変化しないように、前記自転駆動機構における駆動周波数を変化させることを特徴とするワニス処理装置。
A first endless chain, a plurality of holding shafts arranged at predetermined intervals on the first endless chain and holding a winding body; and a second endless chain meshed with a sprocket provided on the holding shaft. Then, while rotating the winding body held on the holding shaft, by revolving the winding body and intermittently moving a plurality of processing stations, a varnish processing apparatus that performs varnish processing on the winding body,
A rotation driving mechanism for rotating the second endless chain to rotate the winding body held on the holding shaft at a constant rotation speed;
A revolution drive mechanism that rotationally drives the first endless chain to revolve the winding body held on the holding shaft in order to intermittently move between the plurality of processing stations;
A rotation speed adjusting means for adjusting the rotation speed of the winding body by the rotation drive mechanism;
The rotation speed adjusting means changes the drive frequency in the rotation drive mechanism so that the rotation speed of the winding body does not change while the winding body is revolved by the revolution drive mechanism. A varnish processing device characterized.
請求項1に記載するワニス処理装置において、
前記自転回転数調整手段は、前記公転駆動機構の作動によって前記巻線体の自転回転数が変化した回転数分に相当する周波数を、前記一定回転数を得るための駆動周波数に対して減算または加算することにより、前記自転駆動機構における駆動周波数を変更することを特徴とするワニス処理装置。
In the varnish processing apparatus according to claim 1,
The rotation speed adjusting means subtracts a frequency corresponding to the rotation speed at which the rotation speed of the winding body has changed by the operation of the revolution drive mechanism from the drive frequency for obtaining the constant rotation speed. The varnish processing apparatus characterized by changing the drive frequency in the autorotation drive mechanism by adding.
請求項2に記載するワニス処理装置において、
前記公転駆動機構による前記巻線体の公転速度が減速されたことを検出する減速検出手段をさらに有し、
前記自転回転数調整手段は、前記減速検出手段が公転速度の減速を検出すると、前記自転駆動機構における駆動周波数を、前記公転駆動機構の作動によって変化した回転数分に相当する周波数を減算または加算した後の駆動周波数から徐々に増加または減少させて、公転停止時に前記一定回転数を得るための周波数にすることを特徴とするワニス処理装置。
In the varnish processing apparatus according to claim 2,
Further comprising deceleration detection means for detecting that the revolution speed of the winding body by the revolution drive mechanism has been reduced,
The rotation speed adjusting means subtracts or adds a drive frequency in the rotation drive mechanism to a frequency corresponding to the rotation speed changed by the operation of the revolution drive mechanism when the deceleration detection means detects a reduction in revolution speed. A varnish processing apparatus characterized by gradually increasing or decreasing the drive frequency after the rotation to obtain a frequency for obtaining the constant rotation speed when the revolution is stopped.
巻線体を保持する複数の保持軸を第1無端チェーンに所定間隔で配置するとともに、前記保持軸に備わるスプロケットに第2無端チェーンを噛み合わせて、自転駆動機構により前記第2無端チェーンを駆動して巻線体を一定回転数で自転させながら、公転駆動機構により前記第1無端チェーンを駆動して前記巻線体が複数の処理ステーション間を間欠的に移動するように公転させることにより、前記巻線体に対するワニス処理を行うワニス処理方法において、
前記公転駆動機構により前記巻線体が公転している間、前記巻線体の自転回転数が変化しないように、前記自転駆動機構における駆動周波数を変化させることを特徴とするワニス処理方法。
A plurality of holding shafts for holding the winding body are arranged at predetermined intervals on the first endless chain, the second endless chain is engaged with a sprocket provided on the holding shaft, and the second endless chain is driven by a rotation driving mechanism. Then, while rotating the winding body at a constant rotational speed, by driving the first endless chain by a revolving drive mechanism and revolving so that the winding body moves intermittently between a plurality of processing stations, In the varnish treatment method for performing varnish treatment on the winding body,
A varnish treatment method, wherein a drive frequency in the rotation drive mechanism is changed so that a rotation speed of the winding body does not change while the winding body is revolving by the revolution drive mechanism.
請求項4に記載するワニス処理方法において、
前記公転駆動機構の作動によって前記巻線体の自転回転数が変化した回転数分に相当する周波数を、前記一定回転数を得るための駆動周波数に対して減算または加算することにより、前記自転駆動機構における駆動周波数を変更することを特徴とするワニス処理方法。
In the varnish processing method of Claim 4,
The rotation drive is performed by subtracting or adding a frequency corresponding to the rotation speed at which the rotation speed of the winding body is changed by the operation of the revolution drive mechanism to the drive frequency for obtaining the constant rotation speed. A varnish treatment method, wherein the drive frequency in the mechanism is changed.
請求項5に記載するワニス処理方法において、
前記公転駆動機構による前記巻線体の公転速度を減速してから公転を停止させる場合、前記公転駆動機構による公転速度の減速が開始されたときに、前記自転駆動機構における駆動周波数を、前記公転駆動機構の作動によって変化した回転数分に相当する周波数を減算または加算した後の駆動周波数から徐々に増加または減少させて、公転停止時に前記一定回転数を得るための周波数にすることを特徴とするワニス処理方法。
In the varnish processing method of Claim 5,
When stopping the revolution after decelerating the revolution speed of the winding body by the revolution drive mechanism, when the revolution speed reduction by the revolution drive mechanism is started, the drive frequency in the revolution drive mechanism is changed to the revolution speed. It is characterized by gradually increasing or decreasing the driving frequency after subtracting or adding the frequency corresponding to the number of revolutions changed by the operation of the driving mechanism to obtain the constant number of revolutions when the revolution is stopped. Varnish treatment method.
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