JP4848452B2 - 真空蒸着装置 - Google Patents
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Description
すなわち、本発明は、外部より搬入される被蒸着体を収容可能な真空チャンバと、該真空チャンバ内に設けられて蒸着材料を収容する坩堝と、前記坩堝の底部に分散配置され前記坩堝を支持すると共に、前記坩堝と前記真空チャンバの床部との間で伝熱する複数の支持部と、前記加熱源の発熱量を制御する制御部と、を備え、前記制御部は、前記坩堝内の前記蒸着材料が所定量以下となったことを条件として、前記加熱源による発熱調整を開始し、予め把握されている蒸発材料の温度分布を用いて、前記坩堝への加熱量が前記坩堝の位置に応じて異なるよう、該加熱源の発熱量を調整することを特徴とする。
この構成によれば、坩堝の底部に分散配置され、前記坩堝と前記真空チャンバの床部との間で伝熱する複数の支持部を備えるので、支持部近傍の坩堝内の蒸着材料の温度を低下させることができ、低温部分を故意に設けて坩堝内の蒸着材料の温度を調整することができる。つまり、低温部分を分散して配置させることで、蒸着材料の温度の均一化を図ることができる。さらに、温度分布が均一化されることにより、蒸着材料の気化量の偏差を小さくすることができるので、蒸着材料の減少を坩堝内の各部位で均一化することができ、蒸着材料の余分な充填を低減することが可能となる。
(第一参考例)
図1は、本発明の第一参考例に係る真空蒸着装置A1を示す概略構成図である。
図1(a)に示すように、真空蒸着装置A1は、真空チャンバ1と、この真空チャンバ1内に設けられて有機材料Mを収容する坩堝2と、この坩堝2を加熱して有機材料Mを気化させる加熱源3と、坩堝2の底部2cに分散配置され坩堝2を支持すると共に、坩堝2と真空チャンバ1の床部1aとの間で伝熱する三つの支持部5とを備えている。
この坩堝2は、構造上の特性で長手方向の一端2b側が低温になる傾向にある。
この支持部5は、坩堝2の長手方向に略等間隔で設けられており、坩堝2の短手方向の寸法と略同じ寸法の長辺を坩堝2の短手方向に向けて坩堝2を支持している。
まず、図2(a)に示すように、基板保持部(不図示)によって真空チャンバ1内に搬入された基板Bは、真空チャンバ1内で上部に保持される。次に、真空チャンバ1内が減圧され、所定の真空度となる。
そして、坩堝2には、図2(c)に示すように、相対的に高温となっていた部位の有機材料Mが全て気化すると共に、相対的に低温となっていた部位に三つの有機材料Mの塊状となったMが残存する。
このようにして、所定時間の蒸着により、基板Bの一方の板面に薄膜が均一に形成される。
すなわち、本来であれば、坩堝2の構造特性上、一端2b側が低温に偏るものであるために、低温部が一端2b側に一つ形成されるために、温度分布に偏りが生ずる。しかしながら、真空蒸着装置A1によれば、低温部分を故意に設けて三つに分散させることができるので、有機材料Mの温度の均一化を図ることができる。
さらに、温度分布が均一化されることにより、有機材料Mの気化量が均一化するので、有機材料Mの減少が坩堝2内の各部位で略等しいものとなり、有機材料Mの余分な充填を低減することが可能となる。
また、加熱源3は、坩堝2の下方だけでなく、側方や上方にもあってもよい。このような構成で坩堝2全体を暖めることにより、坩堝2内の材料付着を防ぐことができる。
また、加熱源3は、坩堝2の長手方向に向けて設置してもよい。すなわち、坩堝2を加熱することができれば、加熱源3の設置方向は問わない。
続いて、本発明の第二参考例について説明する。
図3は、本発明の第二参考例に係る真空蒸着装置A2を示す概略構成図である。なお、以下の説明においては、図1〜3と同様の構成要素のものについては、同一の符号を付し、説明を省略する。
一端2b側の支持部5aは、熱伝導に方向性のある伝熱阻害部材6を介して床部1aに立設されている。この伝熱阻害部材6は、支持部5aから床部1aへの熱伝達を阻害するものであり、例えば、カーボンシートやステンレス鋼板を用いることができる。
支持部5bに隣接する支持部5cは、上記第一実施形態の支持部5と同一のものである。なお、支持部5aの断面積は、支持部5cと略等しく構成されている。
このような構成により、熱伝達率の大きさは、支持部5a<支持部5b<支持部5cの順となっている。
続いて、本発明の第三参考例について説明する。
図4は、本発明の第三参考例に係る真空蒸着装置A3を示す概略構成図である。
このような構成によれば、坩堝12に構造上の特性で長手方向の両方側が低温になる傾向があったとしても、この両方側の加熱量を大とし、中央付近を小とするので、有機材料Mの温度の均一化を図ることができる。
続いて、本発明の第一実施形態について説明する。
図5は、本発明の第一実施形態に係る真空蒸着装置A4を示す概略構成図である。
真空蒸着装置A4は、加熱源3の発熱量を制御する制御部7を備えている。この制御部7には、有機材料Mが坩堝12の内部で所定量以下となる時間に対応する情報が記憶されている。そして、制御部7は、蒸着開始後、この時間が経過したことを認識すると、各加熱源3の発熱量を調整するようになっている。
すなわち、所定時間が経過すると、坩堝12内の有機材料Mの温度分布が均一化されるようになっている。
なお、上述した構成に代えて、有機材料Mの総量を検出するセンサ等により制御を開始する構成としてもよい。
同様に、予め有機材料Mの温度分布を計測等により把握しておき、この温度分布を調整するために支持部5の断面積、伝熱阻害部材6の材料等を変更してもよい。
さらに、上述した実施の形態では、金属で構成した坩堝2について本発明を適用したが、金属に代えて非金属(例えば、グラファイト、石英)で構成した坩堝についても本発明を適用することができる。
1a…床部
2,12…坩堝
2c…底部
3…加熱源
5(5a〜5d)…支持部
6…伝熱阻害部材
7…制御部
B…基板
M,m…有機材料(蒸着材料)
A1,A2,A3,A4…真空蒸着装置
Claims (2)
- 外部より搬入される被蒸着体を収容可能な真空チャンバと、
該真空チャンバ内に設けられて蒸着材料を収容する坩堝と、
該坩堝を加熱して前記蒸着材料を気化させる加熱源と、
前記坩堝の底部に分散配置され前記坩堝を支持すると共に、前記坩堝と前記真空チャンバの床部との間で伝熱する複数の支持部と、
前記加熱源の発熱量を制御する制御部と、
を備え、
前記制御部は、前記坩堝内の前記蒸着材料が所定量以下となったことを条件として、前記加熱源による発熱調整を開始し、予め把握されている蒸発材料の温度分布を用いて、前記坩堝への加熱量が前記坩堝の位置に応じて異なるよう、該加熱源の発熱量を調整することを特徴とする真空蒸着装置。 - 前記加熱源は、前記坩堝への加熱量が加熱場所に応じて異なるよう、前記真空チャンバー内の配置密度が変えられていることを特徴とする請求項1に記載の真空蒸着装置。
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