JP4832963B2 - Resin coating system - Google Patents

Resin coating system Download PDF

Info

Publication number
JP4832963B2
JP4832963B2 JP2006157412A JP2006157412A JP4832963B2 JP 4832963 B2 JP4832963 B2 JP 4832963B2 JP 2006157412 A JP2006157412 A JP 2006157412A JP 2006157412 A JP2006157412 A JP 2006157412A JP 4832963 B2 JP4832963 B2 JP 4832963B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
substrate
resin
resin coating
moving mechanism
lane
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Fee Related
Application number
JP2006157412A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JP2007325992A (en
Inventor
美博 土橋
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Athlete FA Corp
Original Assignee
Athlete FA Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Athlete FA Corp filed Critical Athlete FA Corp
Priority to JP2006157412A priority Critical patent/JP4832963B2/en
Priority to KR1020060074262A priority patent/KR20070116705A/en
Priority to CN2006101281385A priority patent/CN101085436B/en
Priority to TW095132997A priority patent/TW200746945A/en
Publication of JP2007325992A publication Critical patent/JP2007325992A/en
Application granted granted Critical
Publication of JP4832963B2 publication Critical patent/JP4832963B2/en
Expired - Fee Related legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Classifications

    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B05SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
    • B05CAPPARATUS FOR APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
    • B05C5/00Apparatus in which liquid or other fluent material is projected, poured or allowed to flow on to the surface of the work
    • B05C5/02Apparatus in which liquid or other fluent material is projected, poured or allowed to flow on to the surface of the work the liquid or other fluent material being discharged through an outlet orifice by pressure, e.g. from an outlet device in contact or almost in contact, with the work
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B05SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
    • B05CAPPARATUS FOR APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
    • B05C9/00Apparatus or plant for applying liquid or other fluent material to surfaces by means not covered by any preceding group, or in which the means of applying the liquid or other fluent material is not important
    • B05C9/08Apparatus or plant for applying liquid or other fluent material to surfaces by means not covered by any preceding group, or in which the means of applying the liquid or other fluent material is not important for applying liquid or other fluent material and performing an auxiliary operation
    • B05C9/14Apparatus or plant for applying liquid or other fluent material to surfaces by means not covered by any preceding group, or in which the means of applying the liquid or other fluent material is not important for applying liquid or other fluent material and performing an auxiliary operation the auxiliary operation involving heating or cooling

Landscapes

  • Coating Apparatus (AREA)
  • Encapsulation Of And Coatings For Semiconductor Or Solid State Devices (AREA)
  • Application Of Or Painting With Fluid Materials (AREA)
  • Non-Metallic Protective Coatings For Printed Circuits (AREA)
  • Spray Control Apparatus (AREA)

Description

本発明は、基板に樹脂を塗布するとともに、基板に塗布された樹脂を硬化させる樹脂塗布システムに関する。   The present invention relates to a resin coating system that applies a resin to a substrate and cures the resin applied to the substrate.

従来から、フレキシブルなテープ状の基板に実装された半導体チップ等を封止、固定するための樹脂を塗布する樹脂塗布装置と、塗布された樹脂を加熱して硬化させる樹脂硬化装置と、樹脂塗布装置に対して基板を供給する基板供給装置と、樹脂硬化装置から搬出される基板を巻き取る基板巻取装置とを備えた樹脂塗布システムが知られている(たとえば、特許文献1参照)。   Conventionally, a resin coating device that applies a resin for sealing and fixing a semiconductor chip mounted on a flexible tape-shaped substrate, a resin curing device that heats and cures the applied resin, and a resin coating 2. Description of the Related Art A resin coating system is known that includes a substrate supply device that supplies a substrate to the device and a substrate winding device that winds a substrate unloaded from the resin curing device (see, for example, Patent Document 1).

特許文献1に記載された樹脂塗布システムでは、基板供給装置から樹脂塗布装置へ基板が供給される。樹脂塗布装置では、基板に樹脂が塗布され、樹脂が塗布された基板は樹脂硬化装置に向かって搬出される。樹脂硬化装置では、基板に塗布された樹脂の硬化が行われる。樹脂が硬化した後の基板は基板巻取装置に向かって搬出され、基板巻取装置で巻き取られる。なお、この種の樹脂塗布システムは一般にクリーンルームの中に設置される。   In the resin coating system described in Patent Document 1, the substrate is supplied from the substrate supply device to the resin coating device. In the resin coating device, the resin is applied to the substrate, and the substrate coated with the resin is carried out toward the resin curing device. In the resin curing device, the resin applied to the substrate is cured. The substrate after the resin is cured is carried out toward the substrate take-up device and taken up by the substrate take-up device. This type of resin coating system is generally installed in a clean room.

特開2004−122753号公報JP 2004-122753 A

近年、基板上に電子部品が実装された半導体関連等の部品は、多種多様化している。また、近年、産業界では、コストを低減するため、在庫の削減が行われている。そのため、産業界では、多品種少量生産のニーズが年々高まってきている。一方、コスト削減のため、樹脂塗布システムが設置されるクリーンルームの小型化のニーズも年々高まってきている。   In recent years, semiconductor-related components in which electronic components are mounted on a substrate have been diversified. In recent years, in order to reduce costs, the industry has reduced inventory. For this reason, the need for high-mix low-volume production is increasing year by year in the industry. On the other hand, in order to reduce costs, needs for downsizing a clean room where a resin coating system is installed are increasing year by year.

ここで、特許文献1に記載の樹脂塗布システムを複数配列することで、多品種少量生産のニーズに応えることも可能である。しかしながら、特許文献1に記載の樹脂塗布システムを単純に複数配列したのでは、樹脂塗布システムの設置面積が増加する。そのため、樹脂塗布システムが設置されるクリーンルームの小型化のニーズに応えることができない。   Here, by arranging a plurality of resin coating systems described in Patent Document 1, it is also possible to meet the needs of high-mix low-volume production. However, simply arranging a plurality of resin coating systems described in Patent Document 1 increases the installation area of the resin coating system. For this reason, it is impossible to meet the needs for downsizing a clean room in which a resin coating system is installed.

そこで、本発明の課題は、複数配列される場合であっても、設置面積を減少させることが可能な樹脂塗布システムを提供することにある。   Then, the subject of this invention is providing the resin coating system which can reduce an installation area even when it is a case where two or more are arranged.

上記の課題を解決するため、本発明は、所定方向へ搬送される基板に樹脂を塗布する樹脂塗布装置と、基板に塗布された樹脂を硬化させる樹脂硬化装置とを備える樹脂塗布システムにおいて、樹脂塗布装置は、基板が搬送される搬送路と、基板へ樹脂を塗布する樹脂塗布機構と、樹脂塗布機構を移動させる移動機構とを備え、移動機構の少なくとも一部が搬送路の下方に配置されていることを特徴とする。   In order to solve the above-described problems, the present invention provides a resin coating system including a resin coating device that applies a resin to a substrate conveyed in a predetermined direction, and a resin curing device that cures the resin applied to the substrate. The coating apparatus includes a transport path through which the substrate is transported, a resin coating mechanism that applies resin to the substrate, and a moving mechanism that moves the resin coating mechanism, and at least a part of the moving mechanism is disposed below the transport path. It is characterized by.

本発明の樹脂塗布システムでは、樹脂塗布機構を移動させる移動機構の少なくとも一部が、基板が搬送される搬送路の下方に配置されている。そのため、基板の搬送方向に直交する前後方向で樹脂塗布装置を小型化することが可能になる。その結果、樹脂塗布システムの前後方向での小型化が可能になり、樹脂塗布システムが複数配列される場合であっても、設置面積を減少させることができる。   In the resin coating system of the present invention, at least a part of the moving mechanism that moves the resin coating mechanism is disposed below the transport path on which the substrate is transported. Therefore, it is possible to reduce the size of the resin coating apparatus in the front-rear direction orthogonal to the substrate transport direction. As a result, the resin coating system can be reduced in size in the front-rear direction, and the installation area can be reduced even when a plurality of resin coating systems are arranged.

また、上記の課題を解決するため、本発明は、所定方向へ搬送される第1基板、および、第1基板と同方向へ搬送される第2基板への樹脂の塗布および塗布された樹脂の硬化を行う樹脂塗布システムであって、第1基板への樹脂の塗布を行う第1樹脂塗布部を有する第1処理レーンと、第2基板への樹脂の塗布を行う第2樹脂塗布部を有し、第1処理レーンとの境界面に対して第1処理レーンと対称配置される第2処理レーンとから構成されるとともに、第1樹脂塗布部は、第1基板が搬送される第1搬送路と、第1基板へ樹脂を塗布する第1樹脂塗布機構と、第1樹脂塗布機構を移動させる第1移動機構とを備え、第2樹脂塗布部は、第2基板が搬送される第2搬送路と、第2基板へ樹脂を塗布する第2樹脂塗布機構と、第2樹脂塗布機構を移動させる第2移動機構とを備え、第1移動機構の少なくとも一部が第1搬送路の下方に配置され、第2移動機構の少なくとも一部が第2搬送路の下方に配置されていることを特徴とする。   Further, in order to solve the above-described problems, the present invention is directed to applying a resin to a first substrate transported in a predetermined direction and a second substrate transported in the same direction as the first substrate, and the applied resin. A resin coating system for curing, which includes a first processing lane having a first resin coating unit for coating a resin on a first substrate, and a second resin coating unit for coating a resin on a second substrate. In addition, the second processing lane is arranged symmetrically with the first processing lane with respect to the boundary surface with the first processing lane, and the first resin application unit transfers the first substrate. A path, a first resin application mechanism that applies resin to the first substrate, and a first movement mechanism that moves the first resin application mechanism, and the second resin application unit is configured to convey the second substrate. A transport path, a second resin application mechanism for applying resin to the second substrate, and a second resin application mechanism A second moving mechanism to be moved, wherein at least a part of the first moving mechanism is disposed below the first transport path, and at least a part of the second moving mechanism is disposed below the second transport path. It is characterized by.

本発明の樹脂塗布システムでは、第1樹脂塗布機構を移動させる第1移動機構の少なくとも一部が、第1基板が搬送される第1搬送路の下方に配置され、第2樹脂塗布機構を移動させる第2移動機構の少なくとも一部が、第2基板が搬送される第2搬送路の下方に配置されている。そのため、第1処理レーンと第2処理レーンとの2つの処理レーンから樹脂塗布システムを構成しても、基板の搬送方向に直交する前後方向で樹脂塗布システムを小型化することが可能になる。その結果、樹脂塗布システムが複数配列される場合であっても、設置面積を減少させることができる。   In the resin coating system of the present invention, at least a part of the first moving mechanism that moves the first resin coating mechanism is disposed below the first transport path through which the first substrate is transported, and moves the second resin coating mechanism. At least a part of the second moving mechanism is disposed below the second transport path on which the second substrate is transported. Therefore, even if the resin coating system is composed of two processing lanes, the first processing lane and the second processing lane, the resin coating system can be downsized in the front-rear direction orthogonal to the substrate transport direction. As a result, the installation area can be reduced even when a plurality of resin coating systems are arranged.

また、本発明の樹脂塗布システムは、第1処理レーンと第2処理レーンとの2つの処理レーンによって構成されている。そのため、各処理レーンごとに、異なる基板に対して樹脂の塗布および硬化を行うことができる。その結果、本発明の樹脂塗布システムでは、多品種少量生産への対応が可能になる。   The resin coating system of the present invention is configured by two processing lanes, a first processing lane and a second processing lane. Therefore, it is possible to apply and cure the resin on different substrates for each processing lane. As a result, in the resin coating system of the present invention, it is possible to cope with a large variety and small quantity production.

さらに、本発明の樹脂塗布システムでは、第1処理レーンと第2処理レーンとが、境界面に対して対称に配置されている。そのため、たとえば、システムの前面側に第1処理レーンを配置し、後面側に第2処理レーンを配置することができる。したがって、システムの前面側と後面側とが対向するように、樹脂塗布システムを複数配列する場合であっても、作業が必要なときには、オペレータは振り返るだけで、第1処理レーンと第2処理レーンとの2つの処理レーンでの作業することが可能となる。また、第1処理レーンと第2処理レーンとが境界面に対して対称で配置されるため、基板の搬送方向も同じになる。その結果、本発明の樹脂塗布システムでは、オペレータの作業性を向上させることが可能となる。   Furthermore, in the resin coating system of the present invention, the first processing lane and the second processing lane are arranged symmetrically with respect to the boundary surface. Therefore, for example, the first processing lane can be arranged on the front side of the system, and the second processing lane can be arranged on the rear side. Therefore, even when a plurality of resin coating systems are arranged so that the front side and the rear side of the system face each other, when the work is necessary, the operator simply looks back and the first processing lane and the second processing lane It is possible to work in two processing lanes. Further, since the first processing lane and the second processing lane are arranged symmetrically with respect to the boundary surface, the substrate transport direction is also the same. As a result, the workability of the operator can be improved in the resin coating system of the present invention.

本発明において、樹脂塗布装置は、第1搬送路が載置される第1載置板と、第2搬送路が載置される第2載置板とを備え、第1移動機構の少なくとも一部が第1載置板の下方に配置され、第2移動機構の少なくとも一部が第2載置板の下方に配置されていることが好ましい。このように構成すると、第1基板が搬送される第1搬送路と、塵埃の発生源となりうる第1移動機構との間を第1載置板で仕切ることができる。そのため、クリーン度が要求される第1基板のクリーン度を維持することが可能になる。同様に、第2搬送路と、第2移動機構との間を第2載置板で仕切ることができるため、第2基板のクリーン度を維持することが可能になる。   In the present invention, the resin coating apparatus includes a first placement plate on which the first transport path is placed and a second placement plate on which the second transport path is placed, and at least one of the first moving mechanisms. Preferably, the portion is disposed below the first mounting plate, and at least a part of the second moving mechanism is disposed below the second mounting plate. If comprised in this way, it can partition with the 1st mounting board between the 1st conveyance path in which a 1st board | substrate is conveyed, and the 1st moving mechanism which can become a dust generation source. Therefore, it is possible to maintain the cleanness of the first substrate that requires cleanliness. Similarly, since the second transfer path and the second moving mechanism can be partitioned by the second placement plate, the cleanliness of the second substrate can be maintained.

本発明において、境界面は、基板の搬送方向に平行な鉛直面であり、第1処理レーンと第2処理レーンとは、鉛直面に面対称に配置されていることが好ましい。このように構成すると、第1処理レーンと第2処理レーンとの構成を同一にできるため、樹脂塗布システムの構成が簡素化される。   In the present invention, the boundary surface is a vertical surface parallel to the substrate transport direction, and the first processing lane and the second processing lane are preferably arranged symmetrically with respect to the vertical surface. If comprised in this way, since the structure of a 1st process lane and a 2nd process lane can be made the same, the structure of a resin coating system is simplified.

以上説明したように、本発明にかかる樹脂塗布システムでは、樹脂塗布システムが複数配列される場合であっても、設置面積を減少させることができる。   As described above, in the resin coating system according to the present invention, the installation area can be reduced even when a plurality of resin coating systems are arranged.

以下、本発明を実施するための最良の形態を図面に基づいて説明する。   Hereinafter, the best mode for carrying out the present invention will be described with reference to the drawings.

(樹脂塗布システムの概略構成)
図1は、本発明の実施の形態にかかる樹脂塗布システム1の概略構成を正面(前面)から示す概略図である。図2は、図1に示す樹脂塗布システム1の概略構成を上面から示す概略図である。なお、図2では、便宜上、基板供給装置6内の基板2(2A、2B)のみを図示している。
(Schematic configuration of resin coating system)
FIG. 1 is a schematic diagram showing a schematic configuration of a resin coating system 1 according to an embodiment of the present invention from the front (front side). FIG. 2 is a schematic view showing a schematic configuration of the resin coating system 1 shown in FIG. 1 from above. In FIG. 2, only the substrate 2 (2A, 2B) in the substrate supply device 6 is shown for convenience.

本形態の樹脂塗布システム1は、テープ状の第1基板2Aおよび第2基板2Bに実装された半導体チップ等の電子部品(図示省略)を熱硬化性の樹脂で封止し、固定するためのシステムである。この樹脂塗布システム1では、図2に示すように、図2の下側(図1の紙面手前側)で第1基板2Aが搬送され、図2の上側(図1の紙面奥側)で第2基板2Bが搬送される。すなわち、本形態の樹脂塗布システム1では、第1基板2Aに実装された電子部品の封止、固定と、第2基板2Bに実装された電子部品の封止、固定とを同時に行うことが可能となっている。なお、以下では、第1基板2Aと第2基板2Bとをまとめて表す場合には、「基板2」と表記する。   The resin coating system 1 of this embodiment is for sealing and fixing an electronic component (not shown) such as a semiconductor chip mounted on a tape-shaped first substrate 2A and a second substrate 2B with a thermosetting resin. System. In this resin coating system 1, as shown in FIG. 2, the first substrate 2A is transported on the lower side of FIG. 2 (front side of the paper in FIG. 1), and on the upper side of FIG. 2 (back side of the paper in FIG. 1). Two substrates 2B are conveyed. That is, in the resin coating system 1 of the present embodiment, it is possible to simultaneously seal and fix the electronic component mounted on the first substrate 2A and to seal and fix the electronic component mounted on the second substrate 2B. It has become. Hereinafter, when the first substrate 2A and the second substrate 2B are collectively represented, they are referred to as “substrate 2”.

樹脂塗布システム1は、図1および図2に示すように、基板2に実装された電子部品を封止するとともに確実に固定するための熱硬化性の樹脂を塗布する樹脂塗布装置4と、塗布された樹脂を加熱して硬化させる樹脂硬化装置5と、樹脂塗布装置4に対して基板2を供給する基板供給装置6と、樹脂硬化装置5から搬出される基板2を巻き取る基板巻取装置7とを備えている。また、樹脂塗布システム1では、基板供給装置6と、樹脂塗布装置4と、樹脂硬化装置5と、基板巻取装置7とがこの順番で、図1の左側から右側に向かって配置されている。   As shown in FIGS. 1 and 2, the resin coating system 1 includes a resin coating device 4 that applies a thermosetting resin for sealing and securely fixing an electronic component mounted on the substrate 2, and a coating Resin curing device 5 that heats and cures the cured resin, substrate supply device 6 that supplies substrate 2 to resin coating device 4, and substrate winding device that winds substrate 2 that is unloaded from resin curing device 5 7. In the resin coating system 1, the substrate supply device 6, the resin coating device 4, the resin curing device 5, and the substrate winding device 7 are arranged in this order from the left side to the right side in FIG. .

なお、図1の左右方向が、樹脂塗布システム1における基板2の搬送方向となるため、以下では、図1の左右方向を「搬送方向」と表記する。また、樹脂塗布システム1では、図1の左側から基板2が供給され、図1の右側で基板2が巻き取られるため、図1の左側を「供給側」、右側を「巻取側」と表記する。さらに、図1の紙面垂直方向を、搬送方向に直交する「前後方向」と表記するとともに、紙面手前側を「前面側」、紙面奥側を「後面側」と表記する。また、図1の上下方向を「上下方向」と表記する。   1 is the conveyance direction of the substrate 2 in the resin coating system 1, and therefore, the horizontal direction in FIG. Further, in the resin coating system 1, since the substrate 2 is supplied from the left side of FIG. 1 and the substrate 2 is wound up on the right side of FIG. 1, the left side of FIG. 1 is “supply side” and the right side is “winding side”. write. Further, the vertical direction in FIG. 1 is referred to as “front-rear direction” orthogonal to the transport direction, the front side of the paper is referred to as “front side”, and the back side of the paper is referred to as “rear side”. The vertical direction in FIG. 1 is referred to as “vertical direction”.

樹脂塗布システム1は、前後方向に2列に並列配置された第1処理レーン8Aと、第2処理レーン8Bとの2つの処理レーンから構成されている。具体的には、樹脂塗布システム1は、前面側で搬送される第1基板2Aへの樹脂の塗布および塗布された樹脂の硬化を行う第1処理レーン8Aと、後面側で搬送される第2基板2Bへの樹脂の塗布および塗布された樹脂の硬化を行う第2処理レーン8Bとから構成されている。第1処理レーン8Aおよび第2処理レーン8Bは、基板2の搬送方向に沿って配置されている。   The resin coating system 1 includes two processing lanes, a first processing lane 8A and a second processing lane 8B, which are arranged in parallel in two rows in the front-rear direction. Specifically, the resin coating system 1 includes a first processing lane 8A for applying a resin to the first substrate 2A transported on the front side and curing the applied resin, and a second transported on the rear side. The second processing lane 8B is configured to apply the resin to the substrate 2B and cure the applied resin. The first processing lane 8A and the second processing lane 8B are arranged along the transport direction of the substrate 2.

図2に示すように、第1処理レーン8Aと第2処理レーン8Bとは、第1処理レーン8Aと第2処理レーン8Bとの境界面となる鉛直面Pに対して対称に配置されている。本形態の樹脂塗布システム1では、同一の構成を有する第1処理レーン8Aと第2処理レーン8Bとが、基板2の搬送方向に平行な鉛直面Pに関して面対称に配置されている。具体的には、前後方向において樹脂塗布システム1の略中心位置に形成される鉛直面Pに対して、第1処理レーン8Aと第2処理レーン8Bとは面対称に配置されている。なお、本形態では、図2に示すように、基板供給装置6、樹脂塗布装置4、樹脂硬化装置5および基板巻取装置7のそれぞれの前後方向の幅は、ほぼ等しくなっている。しかし、樹脂塗布装置4は、後述のように複雑な移動機構53A、53Bを有するため、基板供給装置6、樹脂硬化装置5および基板巻取装置7の前後方向の幅よりも、樹脂塗布装置4の前後方向の幅が若干広くなることもある。また、基板供給装置6、樹脂塗布装置4、樹脂硬化装置5および基板巻取装置7のそれぞれの前後方向の中心位置はほぼ一致している。   As shown in FIG. 2, the first processing lane 8A and the second processing lane 8B are arranged symmetrically with respect to the vertical plane P that is a boundary surface between the first processing lane 8A and the second processing lane 8B. . In the resin coating system 1 of this embodiment, the first processing lane 8A and the second processing lane 8B having the same configuration are arranged symmetrically with respect to the vertical plane P parallel to the transport direction of the substrate 2. Specifically, the first processing lane 8A and the second processing lane 8B are arranged symmetrically with respect to a vertical plane P formed at a substantially central position of the resin coating system 1 in the front-rear direction. In this embodiment, as shown in FIG. 2, the widths in the front-rear direction of the substrate supply device 6, the resin coating device 4, the resin curing device 5, and the substrate winding device 7 are substantially equal. However, since the resin coating device 4 has complicated moving mechanisms 53A and 53B as will be described later, the resin coating device 4 is larger than the width in the front-rear direction of the substrate supply device 6, the resin curing device 5, and the substrate winding device 7. The width in the front-rear direction may be slightly wider. In addition, the center positions of the substrate supply device 6, the resin coating device 4, the resin curing device 5, and the substrate winding device 7 in the front-rear direction substantially coincide.

基板供給装置6は、図1および図2に示すように、樹脂塗布装置4に供給される第1基板2Aとテープ状のスペーサ9とが重なった状態で巻回された第1基板供給リール10Aと、樹脂塗布装置4に供給される第2基板2Bとスペーサ9とが重なった状態で巻回された第2基板供給リール10Bとを備えている。また、基板巻取装置7は、樹脂硬化装置5から搬出される第1基板2Aとスペーサ9とが重なった状態で巻き取られる第1基板巻取リール11Aと、樹脂硬化装置5から搬出される第2基板2Bとスペーサ9とが重なった状態で巻き取られる第2基板巻取リール11Bとを備えている。そして、図1に示すように、第1基板供給リール10Aに巻回された第1基板2Aと第1基板巻取リール11Aに巻回される第1基板2Aとはつながっている。同様に、第2基板供給リール10Bに巻回された第2基板2Bと第2基板巻取リール11Bに巻回される第2基板2Bとはつながっている。すなわち、本形態の樹脂塗布システム1は、いわゆるリール・ツウ・リールの樹脂塗布システムとなっている。なお、以下では、第1基板供給リール10Aと第2基板供給リール10Bとをまとめて表す場合には、基板供給リール10と表記し、第1基板巻取リール11Aと第2基板巻取リール11Bとをまとめて表す場合には、基板巻取リール11と表記する。   As shown in FIGS. 1 and 2, the substrate supply device 6 includes a first substrate supply reel 10 </ b> A wound in a state where the first substrate 2 </ b> A supplied to the resin coating device 4 and the tape-like spacer 9 overlap each other. And a second substrate supply reel 10B wound in a state where the second substrate 2B supplied to the resin coating device 4 and the spacer 9 overlap each other. The substrate take-up device 7 is carried out from the resin curing device 5 and the first substrate take-up reel 11 </ b> A that is taken up in a state where the first substrate 2 </ b> A unloaded from the resin curing device 5 and the spacer 9 overlap each other. A second substrate take-up reel 11B is provided which is wound in a state where the second substrate 2B and the spacer 9 overlap each other. As shown in FIG. 1, the first substrate 2A wound around the first substrate supply reel 10A and the first substrate 2A wound around the first substrate take-up reel 11A are connected. Similarly, the second substrate 2B wound around the second substrate supply reel 10B and the second substrate 2B wound around the second substrate take-up reel 11B are connected. That is, the resin coating system 1 of this embodiment is a so-called reel-to-reel resin coating system. In the following, when the first substrate supply reel 10A and the second substrate supply reel 10B are collectively represented, they are referred to as the substrate supply reel 10, and the first substrate take-up reel 11A and the second substrate take-up reel 11B. Are collectively referred to as a substrate take-up reel 11.

基板2は、フレキシブルな樹脂基板であるCOF(Chip On Film or Chip On Flexible Circuit Board)テープやTAB(Tape Automated Bonding)テープ等の基板である。また、基板供給装置6から供給される基板2には予め電子部品が実装されている。本形態の樹脂塗布システム1では、基板2として、厚さがたとえば、20μm〜125μmであり、幅がたとえば、35mm〜200mmである種々の基板2が用いられる。また、スペーサ9は、基板供給リール10に巻回されている基板2や基板巻取リール11に巻回される基板2を保護するためのものであり、薄い樹脂でテープ状に形成されている。   The substrate 2 is a flexible resin substrate such as a COF (Chip On Film or Chip On Flexible Circuit Board) tape or a TAB (Tape Automated Bonding) tape. In addition, electronic components are mounted in advance on the substrate 2 supplied from the substrate supply device 6. In the resin coating system 1 of this embodiment, as the substrate 2, various substrates 2 having a thickness of, for example, 20 μm to 125 μm and a width of, for example, 35 mm to 200 mm are used. The spacer 9 is for protecting the substrate 2 wound around the substrate supply reel 10 and the substrate 2 wound around the substrate take-up reel 11 and is formed in a tape shape with a thin resin. .

(基板供給装置および基板巻取装置の構成)
図3は、図1に示す基板供給装置6の駆動部分の構成を説明するための図である。なお、図3は、図2のE−E方向から基板供給装置6の駆動部分を示している。
(Configuration of substrate supply device and substrate winding device)
FIG. 3 is a diagram for explaining the configuration of the drive portion of the substrate supply apparatus 6 shown in FIG. FIG. 3 shows a driving portion of the substrate supply device 6 from the EE direction of FIG.

基板供給装置6は、図1から図3に示すように、前面側に配置される第1処理レーン8Aを構成する第1基板供給部21Aと、後面側に配置される第2処理レーン8Bを構成する第2基板供給部21Bとから構成されている。すなわち、基板供給装置6では、同一の構成を有する第1基板供給部21Aと第2基板供給部21Bとが、鉛直面Pに関して対称に配置されている。なお、基板供給装置6の前面および後面の両面には、開閉可能な扉(図示省略)が取り付けられている。   As shown in FIGS. 1 to 3, the substrate supply apparatus 6 includes a first substrate supply unit 21 </ b> A that constitutes a first processing lane 8 </ b> A disposed on the front surface side, and a second processing lane 8 </ b> B disposed on the rear surface side. The second substrate supply unit 21B is configured. That is, in the substrate supply device 6, the first substrate supply unit 21 </ b> A and the second substrate supply unit 21 </ b> B having the same configuration are arranged symmetrically with respect to the vertical plane P. Note that openable / closable doors (not shown) are attached to both the front and rear surfaces of the substrate supply device 6.

第1基板供給部21Aは、上述した第1基板供給リール10Aの他に、第1基板2Aと分離されるスペーサ9が巻き取られるスペーサ巻取リール12Aと、第1基板2Aを案内する基板ガイドローラ13Aおよびガイド部材14Aと、スペーサ9を案内するスペーサガイドローラ15Aと、第1基板供給リール10Aを回転駆動させる基板供給リールモータ16Aと、スペーサ巻取リール12Aを回転駆動させるスペーサ巻取リールモータ17Aとを備えている。基板ガイドローラ13Aおよびスペーサガイドローラ15Aは、駆動手段を有しない従動ローラである。   In addition to the first substrate supply reel 10A described above, the first substrate supply unit 21A includes a spacer take-up reel 12A on which the spacer 9 separated from the first substrate 2A is taken up, and a substrate guide for guiding the first substrate 2A. Roller 13A and guide member 14A, spacer guide roller 15A for guiding spacer 9, substrate supply reel motor 16A for rotating first substrate supply reel 10A, and spacer take-up reel motor for rotating spacer take-up reel 12A 17A. The substrate guide roller 13A and the spacer guide roller 15A are driven rollers having no driving means.

図3等に示すように、前面側に配置される第1基板供給リール10Aやスペーサ巻取リール12A等の各構成は、基板供給装置6の筐体18に固定された取付板19Aに取り付けられている。取付板19Aの高さおよび搬送方向の幅は、筐体18の内側の高さまたは搬送方向の幅とほぼ同じになっている。また、取付板19Aは、基板供給装置6の前後方向の中心位置となる鉛直面Pよりも前面側に配置されている。   As shown in FIG. 3 and the like, each component such as the first substrate supply reel 10A and the spacer take-up reel 12A arranged on the front side is attached to an attachment plate 19A fixed to the housing 18 of the substrate supply device 6. ing. The height of the mounting plate 19A and the width in the transport direction are substantially the same as the height inside the casing 18 or the width in the transport direction. Further, the mounting plate 19 </ b> A is disposed on the front side of the vertical plane P that is the center position in the front-rear direction of the substrate supply device 6.

図3に示すように、基板供給リールモータ16Aおよびスペーサ巻取リールモータ17Aは、出力軸が上方向を向くように、図示を省略する取付ブラケットを介して取付板19Aに固定されている。また、第1基板供給リール10Aと基板供給リールモータ16Aとは、図3に示すように、第1基板供給リール10Aの回転軸に固定されたかさ歯車23Aと、基板供給リールモータ16Aの出力軸に固定されたかさ歯車24Aとを介して連結されている。同様に、スペーサ巻取リール12Aとスペーサ巻取リールモータ17Aとは、スペーサ巻取リール12Aの回転軸に固定されたかさ歯車25Aと、スペーサ巻取リールモータ17Aの出力軸に固定されたかさ歯車26Aとを介して連結されている。   As shown in FIG. 3, the substrate supply reel motor 16A and the spacer take-up reel motor 17A are fixed to the mounting plate 19A via a mounting bracket (not shown) so that the output shaft faces upward. Further, as shown in FIG. 3, the first substrate supply reel 10A and the substrate supply reel motor 16A include a bevel gear 23A fixed to the rotation shaft of the first substrate supply reel 10A, and an output shaft of the substrate supply reel motor 16A. It is connected via a bevel gear 24A fixed to. Similarly, the spacer take-up reel 12A and the spacer take-up reel motor 17A are a bevel gear 25A fixed to the rotating shaft of the spacer take-up reel 12A and a bevel gear fixed to the output shaft of the spacer take-up reel motor 17A. 26A.

かさ歯車23Aと、かさ歯車24Aとが噛み合う部分には、カバー27Aが配設されている。また、かさ歯車25Aと、かさ歯車26Aとが噛み合う部分には、カバー28Aが配設されている。   A cover 27A is disposed at a portion where the bevel gear 23A and the bevel gear 24A mesh with each other. Further, a cover 28A is disposed at a portion where the bevel gear 25A and the bevel gear 26A mesh with each other.

第2基板供給部21Bは、上述のように、第1基板供給部21Aと同一の構成が鉛直面Pに関して対称に配置されることで構成されている。そのため、第2基板供給部21Bの詳細な説明は省略する。なお、図2および図3では、上述した第1基板供給部21Aの構成に対応する第2基板供給部21Bの構成には、第1基板供給部21Aの構成に付された符号中の「A」の部分を「B」に代えた符号が付されている。   As described above, the second substrate supply unit 21B is configured by arranging the same configuration as the first substrate supply unit 21A symmetrically with respect to the vertical plane P. Therefore, detailed description of the second substrate supply unit 21B is omitted. 2 and 3, the configuration of the second substrate supply unit 21B corresponding to the configuration of the first substrate supply unit 21A described above has “A” in the reference numerals attached to the configuration of the first substrate supply unit 21A. "Is replaced by" B ".

図2および図3に示すように、鉛直面Pよりも前面側に配置された取付板19Aと、鉛直面Pよりも後面側に配置された取付板19Bとの間には、基板供給リールモータ16A、16B等が収納される収納空間20が形成されている。すなわち、基板供給リールモータ16A、16B、スペーサ巻取リールモータ17A、17Bおよびかさ歯車23A〜26B等の駆動部は、図3に示すように、収納空間20内に配置されている。また、これらを除く基板供給装置6の各構成は、取付板19Aの前面側または取付板19Bの後面側で、かつ、筐体18の内部に配置されている。   As shown in FIGS. 2 and 3, a substrate supply reel motor is provided between the mounting plate 19 </ b> A disposed on the front side of the vertical plane P and the mounting plate 19 </ b> B disposed on the rear side of the vertical plane P. A storage space 20 in which 16A, 16B and the like are stored is formed. That is, drive units such as the substrate supply reel motors 16A and 16B, the spacer take-up reel motors 17A and 17B, and the bevel gears 23A to 26B are arranged in the storage space 20 as shown in FIG. Further, each configuration of the substrate supply device 6 excluding these is arranged on the front surface side of the mounting plate 19A or the rear surface side of the mounting plate 19B and inside the housing 18.

第1基板供給部21Aでは、図1に示すように、第1基板供給リール10Aから供給された第1基板2Aが、基板ガイドローラ13Aとガイド部材14Aとの間で下側にたるむ。そして、基板ガイドローラ13Aとガイド部材14Aとの間で、一旦たるんだ第1基板2Aは、ガイド部材14Aによって下流側に案内され、樹脂塗布装置4へ供給される。また、第1基板2Aと分離されたスペーサ9は、スペーサガイドローラ15Aに案内されてスペーサ巻取リール12Aに巻き取られる。第2基板供給部21Bでも同様に、第2基板2Bが樹脂塗布装置4へ供給され、第2基板2Bと分離されたスペーサ9がスペーサ巻取リール12Bに巻き取られる。   In the first substrate supply unit 21A, as shown in FIG. 1, the first substrate 2A supplied from the first substrate supply reel 10A sag downwards between the substrate guide roller 13A and the guide member 14A. Then, the first substrate 2 </ b> A once slackened between the substrate guide roller 13 </ b> A and the guide member 14 </ b> A is guided downstream by the guide member 14 </ b> A and supplied to the resin coating device 4. Further, the spacer 9 separated from the first substrate 2A is guided by the spacer guide roller 15A and taken up on the spacer take-up reel 12A. Similarly, in the second substrate supply unit 21B, the second substrate 2B is supplied to the resin coating device 4, and the spacer 9 separated from the second substrate 2B is taken up by the spacer take-up reel 12B.

基板巻取装置7は、図1および図2に示すように、前面側に配置される第1処理レーン8Aを構成する第1基板巻取部22Aと、後面側に配置される第2処理レーン8Bを構成する第2基板巻取部22Bとから構成されている。すなわち、基板巻取装置7では、同一の構成を有する第1基板巻取部22Aと第2基板巻取部22Bとが、鉛直面Pに関して対称に配置されている。なお、基板巻取装置7の前面および後面の両面には、開閉可能な扉(図示省略)が取り付けられている。   As shown in FIGS. 1 and 2, the substrate winding device 7 includes a first substrate winding unit 22A constituting a first processing lane 8A disposed on the front surface side, and a second processing lane disposed on the rear surface side. It is comprised from the 2nd board | substrate winding part 22B which comprises 8B. That is, in the substrate winding device 7, the first substrate winding unit 22 </ b> A and the second substrate winding unit 22 </ b> B having the same configuration are arranged symmetrically with respect to the vertical plane P. Note that doors (not shown) that can be opened and closed are attached to both the front and rear surfaces of the substrate winding device 7.

第1基板巻取部22Aは、上述の第1基板巻取リール11Aの他に、第1基板2Aと重なるスペーサ9を供給するスペーサ供給リール30Aと、第1基板巻取リール11Aを回転駆動させる基板巻取リールモータ(図示省略)と、スペーサ供給リール30Aを回転駆動させるスペーサ供給リールモータ(図示省略)と、樹脂硬化装置5に形成された後述の第1搬出口98Aから搬出される第1基板2Aを装置内部へ引き込む第1引込ローラ31Aと、後述の第2搬出口99Aから搬出される第1基板2Aを装置内部へ引き込む第2引込ローラ32Aと、第1引込ローラ31Aによって引き込まれた第1基板2Aを下方向へ案内する第1ガイド部材33Aと、第2引込ローラ32Aによって引き込まれた第1基板2Aを下方向へ案内する第2ガイド部材34Aと、第1基板2Aの搬送を案内する基板ガイドローラ35Aと、スペーサ9の搬送を案内するスペーサガイドローラ36Aとを備えている。   In addition to the first substrate take-up reel 11A described above, the first substrate take-up unit 22A rotates the spacer supply reel 30A that supplies the spacer 9 that overlaps the first substrate 2A, and the first substrate take-up reel 11A. A substrate take-up reel motor (not shown), a spacer supply reel motor (not shown) for rotationally driving the spacer supply reel 30A, and a first carry-out port 98A (described later) formed in the resin curing device 5 are first carried out. The first drawing roller 31A that pulls the substrate 2A into the apparatus, the second drawing roller 32A that pulls the first substrate 2A carried out from a second carry-out port 99A described later into the apparatus, and the first drawing roller 31A. A first guide member 33A that guides the first substrate 2A downward, and a second guide that guides the first substrate 2A drawn by the second drawing roller 32A downward. And de member 34A, and includes a board guide rollers 35A for guiding the conveyance of the first substrate 2A, and a spacer guide rollers 36A for guiding the conveyance of the spacer 9.

第1引込ローラ31Aおよび第2引込ローラ32Aは図示を省略するモータによって回転駆動される駆動ローラであり、基板ガイドローラ35A、スペーサガイドローラ36Aは駆動手段を有しない従動ローラである。第1引込ローラ31Aおよび第2引込ローラ32Aは、後述の搬送ローラ46A、47Aと同期するように、所定距離だけ回転した後に、一定時間停止するというサイクルを繰り返す。すなわち、第1処理レーン8Aでは、第1引込ローラ31Aまたは第2引込ローラ32Aと、搬送ローラ46A、47Aとによって、第1基板2Aが間欠的に搬送される。   The first drawing roller 31A and the second drawing roller 32A are driving rollers that are rotationally driven by a motor (not shown), and the substrate guide roller 35A and the spacer guide roller 36A are driven rollers having no driving means. The first drawing roller 31A and the second drawing roller 32A repeat a cycle of rotating for a predetermined distance and then stopping for a predetermined time so as to synchronize with later-described conveying rollers 46A and 47A. That is, in the first processing lane 8A, the first substrate 2A is intermittently conveyed by the first drawing roller 31A or the second drawing roller 32A and the conveyance rollers 46A and 47A.

図2等に示すように、前面側に配置される第1基板巻取リール11Aやスペーサ供給リール30A等の各構成は、基板巻取装置7の筐体38に固定された取付板39Aに取り付けられている。この取付板39Aの高さおよび搬送方向の幅は、筐体38の内側の高さまたは搬送方向の幅とほぼ同じになっている。また、取付板39Aは、基板巻取装置7の前後方向の中心位置となる鉛直面Pよりも前面側に配置されている。   As shown in FIG. 2 and the like, the components such as the first substrate take-up reel 11A and the spacer supply reel 30A arranged on the front side are attached to an attachment plate 39A fixed to the housing 38 of the substrate take-up device 7. It has been. The height of the mounting plate 39A and the width in the transport direction are substantially the same as the height inside the casing 38 or the width in the transport direction. Further, the mounting plate 39 </ b> A is disposed on the front side of the vertical plane P that is the center position in the front-rear direction of the substrate winding device 7.

第1基板供給部21Aと同様に、第1基板巻取部22Aでは、基板巻取リールモータおよびスペーサ供給リールモータは、出力軸が上方向を向くように取付ブラケットを介して取付板39Aに固定されている。また、第1基板供給部21Aと同様に、第1基板巻取リール11Aと基板巻取リールモータとは、第1基板巻取リール11Aの回転軸に固定されたかさ歯車(図示省略)と、基板巻取リールモータの出力軸に固定されたかさ歯車(図示省略)とを介して連結されている。さらに、第1基板供給部21Aと同様に、スペーサ供給リール30Aとスペーサ供給リールモータとは、スペーサ供給リール30Aの回転軸に固定されたかさ歯車(図示省略)と、スペーサ供給リールモータの出力軸に固定されたかさ歯車(図示省略)とを介して連結されている。   Similar to the first substrate supply unit 21A, in the first substrate take-up unit 22A, the substrate take-up reel motor and the spacer supply reel motor are fixed to the attachment plate 39A via the attachment bracket so that the output shaft faces upward. Has been. Similarly to the first substrate supply unit 21A, the first substrate take-up reel 11A and the substrate take-up reel motor are a bevel gear (not shown) fixed to the rotation shaft of the first substrate take-up reel 11A, It is connected via a bevel gear (not shown) fixed to the output shaft of the substrate take-up reel motor. Further, similarly to the first substrate supply unit 21A, the spacer supply reel 30A and the spacer supply reel motor are a bevel gear (not shown) fixed to the rotation shaft of the spacer supply reel 30A, and an output shaft of the spacer supply reel motor. It is connected via a bevel gear (not shown) fixed to.

また、第1基板巻取リール11Aの回転軸に固定されたかさ歯車と、基板巻取リールモータの出力軸に固定されたかさ歯車とが噛み合う部分には、図2に示すように、カバー42Aが配設されている。同様に、スペーサ供給リール30Aの回転軸に固定されたかさ歯車と、スペーサ供給リールモータの出力軸に固定されたかさ歯車とが噛み合う部分にも、カバー(図示省略)が配設されている。なお、第1引込ローラ31Aの駆動部にも図2に示すように、カバー43Aが配設され、第2引込ローラ32A等の駆動部にもカバー(図示省略)が配設されている。   Further, as shown in FIG. 2, a cover 42A is provided at a portion where the bevel gear fixed to the rotating shaft of the first substrate take-up reel 11A and the bevel gear fixed to the output shaft of the substrate take-up reel motor are engaged. Is arranged. Similarly, a cover (not shown) is also disposed at a portion where the bevel gear fixed to the rotation shaft of the spacer supply reel 30A and the bevel gear fixed to the output shaft of the spacer supply reel motor mesh. As shown in FIG. 2, a cover 43A is also provided in the driving portion of the first drawing roller 31A, and a cover (not shown) is also provided in the driving portion of the second drawing roller 32A and the like.

第2基板巻取部22Bは、上述のように、第1基板巻取部22Aと同一の構成が鉛直面Pに関して対称に配置されることで構成されている。そのため、第2基板巻取部22Bの詳細な説明は省略する。なお、図2では、上述した第1基板巻取部22Aの構成に対応する第2基板巻取部22Bの構成には、第1基板巻取部22Aの構成に付された符号中の「A」の部分を「B」に代えた符号が付されている。   As described above, the second substrate winding unit 22B is configured by arranging the same configuration as the first substrate winding unit 22A symmetrically with respect to the vertical plane P. Therefore, detailed description of the second substrate winding unit 22B is omitted. In FIG. 2, the configuration of the second substrate winding unit 22 </ b> B corresponding to the configuration of the first substrate winding unit 22 </ b> A described above is indicated by “A” in the reference numerals attached to the configuration of the first substrate winding unit 22 </ b> A. "Is replaced by" B ".

基板供給装置6と同様に、基板巻取装置7では、鉛直面Pよりも前面側に配置された取付板39Aと、鉛直面Pよりも後面側に配置された取付板39Bとの間に、収納空間20に相当する収納空間40が形成されている。すなわち、基板巻取リールモータ、スペーサ供給リールモータおよびかさ歯車等の駆動部や、第1および第2引込ローラ31A、31B、32Aの駆動部は、収納空間40内に配置されている。また、これらの構成を除く基板巻取装置7の各構成は、取付板39Aの前面側または取付板39Bの後面側で、かつ、筐体38の内部に配置されている。   Similar to the substrate supply device 6, in the substrate winding device 7, between the mounting plate 39 </ b> A disposed on the front side of the vertical surface P and the mounting plate 39 </ b> B disposed on the rear side of the vertical surface P, A storage space 40 corresponding to the storage space 20 is formed. That is, driving units such as a substrate take-up reel motor, a spacer supply reel motor, and a bevel gear, and driving units for the first and second drawing rollers 31A, 31B, and 32A are arranged in the storage space 40. Each configuration of the substrate winding device 7 excluding these configurations is disposed on the front surface side of the mounting plate 39A or the rear surface side of the mounting plate 39B and inside the housing 38.

第1基板巻取部22Aでは、図1に示すように、樹脂硬化装置5から搬出された後に第1引込ローラ31Aまたは第2引込ローラ32Aで引き込まれ、かつ、第1基板巻取リール11Aに巻き取られる前の第1基板2Aが、第1ガイド部材33Aまたは第2ガイド部材34Aと基板ガイドローラ35Aとの間で下側にたるむ。また、スペーサ9は、スペーサガイドローラ35Aに案内されてスペーサ供給リール30Aから第1基板巻取リール11Aに供給される。そして、第1ガイド部材33Aまたは第2ガイド部材34Aと基板ガイドローラ35Aとの間で下側にたるんだ第1基板2Aは、スペーサ9とともに第1基板巻取リール11Aに巻き取られる。第2基板巻取部22Bでも同様に、第2基板2Bがスペーサ9とともに第2基板巻取リール11Bに巻き取られる。なお、本形態の基板巻取装置7は、第1基板2Aのたるみ状態および第2基板2Bのたるみ状態をそれぞれ検出する基板たるみセンサ(図示省略)を備えている。   In the first substrate take-up part 22A, as shown in FIG. 1, after being taken out from the resin curing device 5, it is drawn in by the first draw-in roller 31A or the second draw-in roller 32A, and is taken into the first substrate take-up reel 11A. The first substrate 2A before being wound sag downwards between the first guide member 33A or the second guide member 34A and the substrate guide roller 35A. The spacer 9 is guided by the spacer guide roller 35A and supplied from the spacer supply reel 30A to the first substrate take-up reel 11A. Then, the first substrate 2A, which sags downward between the first guide member 33A or the second guide member 34A and the substrate guide roller 35A, is wound around the first substrate take-up reel 11A together with the spacer 9. Similarly, in the second substrate take-up portion 22B, the second substrate 2B is taken up along with the spacer 9 onto the second substrate take-up reel 11B. The substrate winding device 7 of this embodiment includes a substrate sag sensor (not shown) that detects the sag state of the first substrate 2A and the sag state of the second substrate 2B.

(樹脂塗布装置の構成)
図4は、図1に示す樹脂塗布装置4の概略構成を上面から示す概略図である。図5は、図4のF−F断面を示す断面図である。図6は、図4に示す移動機構53Aの概略構成を上面から示す概略図である。図7は、図4のG−G方向からY軸移動機構64A〜67A、X軸移動機構69A、71Aおよび搬送路48Aの概略構成を示す概略図である。図8は、図6に示すX軸移動機構70A,71Aの構成を説明するための図である。なお、図4では、基板2の一部のみを図示している。また、図5から図8では、基板2の図示を省略している。
(Configuration of resin coating device)
FIG. 4 is a schematic view showing a schematic configuration of the resin coating apparatus 4 shown in FIG. 1 from above. FIG. 5 is a cross-sectional view showing the FF cross section of FIG. 4. FIG. 6 is a schematic view showing the schematic configuration of the moving mechanism 53A shown in FIG. 4 from above. 7 is a schematic diagram showing a schematic configuration of the Y-axis moving mechanisms 64A to 67A, the X-axis moving mechanisms 69A and 71A, and the transport path 48A from the GG direction of FIG. FIG. 8 is a diagram for explaining the configuration of the X-axis moving mechanisms 70A and 71A shown in FIG. In FIG. 4, only a part of the substrate 2 is shown. 5 to 8, the illustration of the substrate 2 is omitted.

樹脂塗布装置4は、図2および図4に示すように、前面側に配置される第1処理レーン8Aを構成する第1樹脂塗布部45Aと、後面側に配置される第2処理レーン8Bを構成する第2樹脂塗布部45Bとから構成されている。すなわち、樹脂塗布装置4では、同一の構成を有する第1樹脂塗布部45Aと第2樹脂塗布部45Bとが、鉛直面Pに関して対称に配置されている。また、第1樹脂塗布部45Aおよび第2樹脂塗布部45Bは、図1に示すように、樹脂塗布装置4の制御基板等の制御機器(図示省略)が収納される箱状の収納部44の上面44aに配置されている。なお、樹脂塗布装置4の前面および後面の両面には、開閉可能な扉(図示省略)が取り付けられている。   As shown in FIGS. 2 and 4, the resin coating apparatus 4 includes a first resin coating unit 45 </ b> A constituting the first processing lane 8 </ b> A disposed on the front surface side and a second processing lane 8 </ b> B disposed on the rear surface side. It is comprised from the 2nd resin application part 45B which comprises. That is, in the resin coating device 4, the first resin coating part 45 </ b> A and the second resin coating part 45 </ b> B having the same configuration are arranged symmetrically with respect to the vertical plane P. Further, as shown in FIG. 1, the first resin application part 45 </ b> A and the second resin application part 45 </ b> B are provided in a box-shaped storage part 44 in which a control device (not shown) such as a control board of the resin application apparatus 4 is stored. Arranged on the upper surface 44a. In addition, doors (not shown) that can be opened and closed are attached to both the front and rear surfaces of the resin coating device 4.

第1樹脂塗布部45Aは、図4等に示すように、第1基板供給部21Aから供給された第1基板2Aを搬送する搬送ローラ46A、47Aと、第1基板2Aが搬送される搬送路48Aと、第1基板2Aの電子部品が実装された部分に熱硬化性の樹脂を塗布するために搬送路48Aの上方に配置される樹脂塗布機構としての4個の樹脂塗布ヘッド49A、50A、51A、52Aと、樹脂塗布ヘッド49A〜52Aを移動させる移動機構53Aとを備えている。また、第1樹脂塗布部45Aは、収納部44の上面44aと平行に配置され搬送路48Aが載置される載置板54Aを備えている。この載置板54Aは、図示を省略する取付ブラケットを介して上面44aに固定されている。なお、本形態では、搬送路48A、樹脂塗布ヘッド49A〜52A、移動機構53A、載置板54Aはそれぞれ、第1処理レーン8Aを構成する第1搬送路、第1樹脂塗布機構、第1移動機構および第1載置板となっている。   As shown in FIG. 4 and the like, the first resin application unit 45A includes conveyance rollers 46A and 47A for conveying the first substrate 2A supplied from the first substrate supply unit 21A, and a conveyance path for conveying the first substrate 2A. 48A and four resin coating heads 49A, 50A as a resin coating mechanism disposed above the conveyance path 48A in order to apply a thermosetting resin to a portion where the electronic components of the first substrate 2A are mounted. 51A, 52A, and a moving mechanism 53A for moving the resin coating heads 49A to 52A. The first resin application unit 45A includes a mounting plate 54A that is disposed in parallel with the upper surface 44a of the storage unit 44 and on which the transport path 48A is mounted. The mounting plate 54A is fixed to the upper surface 44a via a mounting bracket (not shown). In this embodiment, the transport path 48A, the resin coating heads 49A to 52A, the moving mechanism 53A, and the mounting plate 54A are respectively the first transport path, the first resin coating mechanism, and the first movement that constitute the first processing lane 8A. The mechanism and the first mounting plate are provided.

本形態では、搬送ローラ46Aが供給側に配置され、搬送ローラ47Aが巻取側に配置されている。搬送ローラ46A、47Aは、搬送ローラ46A、47A間で第1基板2Aにたるみが生じないように、同一の周速度で回転する。また、搬送ローラ46A、47Aは、第1引込ローラ31Aまたは第2引込ローラ32Aと同期するように、所定距離だけ回転した後に、一定時間停止するという間欠動作を繰り返す。そして、第1基板2Aが停止した状態で、樹脂塗布ヘッド49A〜52Aによって、第1基板2Aに樹脂が塗布される。すなわち、第1樹脂塗布部45Aでは、第1基板供給部21Aから供給された第1基板2Aへ熱硬化性の樹脂が塗布され、その後、第1基板2Aが樹脂硬化装置5へ向かって搬出される。   In this embodiment, the conveyance roller 46A is arranged on the supply side, and the conveyance roller 47A is arranged on the winding side. The transport rollers 46A and 47A rotate at the same peripheral speed so that no slack occurs in the first substrate 2A between the transport rollers 46A and 47A. Further, the transport rollers 46A and 47A repeat an intermittent operation of rotating for a predetermined distance and stopping for a predetermined time so as to be synchronized with the first drawing roller 31A or the second drawing roller 32A. Then, the resin is applied to the first substrate 2A by the resin application heads 49A to 52A while the first substrate 2A is stopped. That is, in the first resin application unit 45A, a thermosetting resin is applied to the first substrate 2A supplied from the first substrate supply unit 21A, and then the first substrate 2A is carried out toward the resin curing device 5. The

なお、搬送ローラ46A、47Aを駆動するモータ等の駆動部は、図4等に示すように、カバー55A、55Aによって覆われている。また、上述のように、本形態では、第1引込ローラ31Aまたは第2引込ローラ32Aと、搬送ローラ46A、47Aとによって、第1処理レーン8Aでの第1基板2Aの間欠的な搬送が行われる。すなわち、樹脂硬化装置5を構成する後述の第1搬送レーン90Aにおいても、第1引込ローラ31Aまたは第2引込ローラ32Aと、搬送ローラ46A、47Aとによって、第1基板2Aの搬送が行われる。   In addition, as shown in FIG. 4 etc., drive parts, such as a motor which drives the conveyance rollers 46A and 47A, are covered with covers 55A and 55A. Further, as described above, in the present embodiment, the first substrate 2A is intermittently conveyed in the first processing lane 8A by the first drawing roller 31A or the second drawing roller 32A and the conveyance rollers 46A and 47A. Is called. That is, also in a first transport lane 90A, which will be described later, constituting the resin curing device 5, the first substrate 2A is transported by the first pull-in roller 31A or the second pull-in roller 32A and the transport rollers 46A and 47A.

搬送路48Aは、第1基板2Aの両端を案内するための2個の基板ガイド57A、57Aと、基板ガイド57A、57Aがそれぞれ取り付けられる2個の取付ブラケット58A、58Aとを備えている。基板ガイド57A、57Aは、図4等に示すように、細長いブロック状の部材であり、取付ブラケット58A、58Aによって、前後方向に間隔をあけた状態で固定されている。取付ブラケット58A、58Aは、図4および図7に示すように、搬送方向に間隔をあけた状態で、載置板54Aの上面に固定されている。   The transport path 48A includes two substrate guides 57A and 57A for guiding both ends of the first substrate 2A, and two attachment brackets 58A and 58A to which the substrate guides 57A and 57A are respectively attached. As shown in FIG. 4 and the like, the board guides 57A and 57A are elongated block-like members, and are fixed by mounting brackets 58A and 58A at intervals in the front-rear direction. As shown in FIGS. 4 and 7, the mounting brackets 58 </ b> A and 58 </ b> A are fixed to the upper surface of the mounting plate 54 </ b> A with a gap in the transport direction.

樹脂塗布ヘッド49A〜52Aは、図4等に示すように、供給側から巻取側に向かってこの順番で、かつ、搬送方向で隣接するように配置されている。樹脂塗布ヘッド49A〜52Aは、先端部(図5の下端部)に形成されたノズル部を備え、このノズル部から、第1基板2Aの上面の電子部品が実装された部分に熱硬化性の樹脂を塗布する。なお、第1樹脂塗布部45Aに配置される樹脂塗布ヘッド49A〜52Aの数は4個には限定されず、3個以下または5個以上の樹脂塗布ヘッドが第1樹脂塗布部45Aに配置されても良い。   As shown in FIG. 4 and the like, the resin coating heads 49A to 52A are arranged in this order from the supply side to the winding side and adjacent to each other in the transport direction. The resin coating heads 49A to 52A include a nozzle portion formed at a tip portion (lower end portion in FIG. 5). From this nozzle portion, a thermosetting portion is mounted on a portion where the electronic component on the upper surface of the first substrate 2A is mounted. Apply resin. The number of resin coating heads 49A to 52A arranged in the first resin coating unit 45A is not limited to four, but three or less or five or more resin coating heads are arranged in the first resin coating unit 45A. May be.

移動機構53Aは、図4等に示すように、樹脂塗布ヘッド49A〜52Aをそれぞれ上下方向に移動させるZ軸移動機構60A、61A、62A、63Aと、Z軸移動機構60A〜63Aとともに樹脂塗布ヘッド49A〜52Aをそれぞれ前後方向へ移動させるY軸移動機構64A、65A、66A,67Aと、Z軸移動機構60A〜63AおよびY軸移動機構64A〜67Aとともに樹脂塗布ヘッド49A〜52Aをそれぞれ搬送方向へ移動させるX軸移動機構68A、69A、70A、71Aとを備えている。   As shown in FIG. 4 and the like, the moving mechanism 53A includes Z-axis moving mechanisms 60A, 61A, 62A, and 63A that move the resin coating heads 49A to 52A in the vertical direction, and the Z-axis moving mechanisms 60A to 63A. Along with Y-axis moving mechanisms 64A, 65A, 66A, 67A for moving 49A-52A in the front-rear direction, Z-axis moving mechanisms 60A-63A and Y-axis moving mechanisms 64A-67A, respectively, resin coating heads 49A-52A are moved in the transport direction. X-axis moving mechanisms 68A, 69A, 70A, 71A to be moved are provided.

Z軸移動機構60A〜63Aはそれぞれ、図5および図6に示すように、樹脂塗布ヘッド49A〜52Aが前面側端に固定されたアーム73Aを上下方向へ移動させる送りネジ(図示省略)と、この送りネジを回転駆動させるモータ74Aとを備えている。アーム73Aの後面側には、送りネジに螺合する送りナット(図示省略)が固定されている。送りネジは、箱状に形成された収納ケース75Aの中に収納されている。また、モータ74Aは収納ケース75Aの上端面に固定されている。   As shown in FIGS. 5 and 6, the Z-axis moving mechanisms 60 </ b> A to 63 </ b> A are each provided with a feed screw (not shown) that moves the arm 73 </ b> A with the resin coating heads 49 </ b> A to 52 </ b> A fixed to the front side end in the vertical direction And a motor 74A for rotating the feed screw. A feed nut (not shown) that is screwed to the feed screw is fixed to the rear surface side of the arm 73A. The feed screw is stored in a storage case 75A formed in a box shape. The motor 74A is fixed to the upper end surface of the storage case 75A.

Y軸移動機構64A〜67Aはそれぞれ、図5等に示すように、収納ケース75Aが固定される固定ブラケット76Aと、固定ブラケット76Aが載置されて固定される固定板77Aと、固定ブラケット76Aおよび固定板77Aを前後方向へ移動させる送りネジ78Aと、送りネジ78Aを回転駆動させるモータ79Aと、送りネジ78Aに螺合する送りナット80Aとを備えている。送りネジ78Aは、収納ケース81Aに収納され、モータ79Aは、収納ケース81Aの後面側端に固定されている。なお、図6では、送りネジ78Aの図示を省略している。   As shown in FIG. 5 and the like, each of the Y-axis moving mechanisms 64A to 67A includes a fixing bracket 76A to which the storage case 75A is fixed, a fixing plate 77A on which the fixing bracket 76A is mounted and fixed, a fixing bracket 76A, A feed screw 78A for moving the fixing plate 77A in the front-rear direction, a motor 79A for rotationally driving the feed screw 78A, and a feed nut 80A screwed to the feed screw 78A are provided. The feed screw 78A is stored in the storage case 81A, and the motor 79A is fixed to the rear surface side end of the storage case 81A. In FIG. 6, the feed screw 78A is not shown.

固定ブラケット76Aは、図5に示すように、搬送方向から見た形状が略L型となるように形成されており、搬送路48Aよりも後面側に配置されている。固定ブラケット76Aの上端には、前面側に突出する収納ケース75Aの取付部761Aが形成されている。また、固定ブラケット76Aの下端は、固定板77Aの後面側の上面に載置されて固定されている。すなわち、樹脂塗布ヘッド49A〜52Aは、固定板77Aへの固定ブラケット76Aの固定部に対して前面側にオーバーハングした状態で配置されている。   As shown in FIG. 5, the fixed bracket 76 </ b> A is formed so that the shape viewed from the transport direction is substantially L-shaped, and is disposed on the rear side of the transport path 48 </ b> A. At the upper end of the fixed bracket 76A, a mounting portion 761A of the storage case 75A protruding to the front side is formed. The lower end of the fixing bracket 76A is placed and fixed on the upper surface on the rear surface side of the fixing plate 77A. That is, the resin application heads 49A to 52A are arranged in an overhanging state on the front side with respect to the fixing portion of the fixing bracket 76A to the fixing plate 77A.

図5に示すように、固定板77Aの前面側は、載置板54Aの下方に配置されている。送りナット80Aは、固定板77Aの前面側の下面に固定されている。送りネジ78Aおよび収納ケース81Aは、載置板54Aの下方で、かつ、前後方向で搬送路48Aを横切るように配置されている。すなわち、Y軸移動機構64A〜67Aの一部が、搬送路48Aの下方に配置されている。   As shown in FIG. 5, the front surface side of the fixing plate 77A is disposed below the mounting plate 54A. The feed nut 80A is fixed to the lower surface on the front surface side of the fixing plate 77A. The feed screw 78A and the storage case 81A are arranged below the placement plate 54A and across the transport path 48A in the front-rear direction. That is, some of the Y-axis moving mechanisms 64A to 67A are arranged below the transport path 48A.

収納ケース81Aの上面には、図6等に示すように、送りナット80Aが通過するための開口部811Aが形成されている。また、収納ケース81Aの内部には、送りナット80Aを前後方向へ案内するためのガイド(図示省略)が取り付けられている。   As shown in FIG. 6 and the like, an opening 811A through which the feed nut 80A passes is formed on the upper surface of the storage case 81A. In addition, a guide (not shown) for guiding the feed nut 80A in the front-rear direction is attached to the inside of the storage case 81A.

X軸移動機構68A〜71Aはそれぞれ、図5等に示すように、収納ケース81Aを搬送方向へ移動させる送りネジ83Aと、送りネジ83Aを回転駆動させるモータ84Aと、送りネジ83Aに螺合する送りナット85Aとを備えている。送りネジ83Aは収納ケース86Aに収納され、モータ84Aは、図6に示すように、収納ケース86Aの搬送方向の外側端に固定されている。なお、図6では、送りネジ83Aの図示は省略している。   As shown in FIG. 5 and the like, the X-axis moving mechanisms 68A to 71A are screwed into a feed screw 83A that moves the storage case 81A in the transport direction, a motor 84A that rotationally drives the feed screw 83A, and the feed screw 83A. A feed nut 85A. The feed screw 83A is stored in the storage case 86A, and the motor 84A is fixed to the outer end of the storage case 86A in the transport direction, as shown in FIG. In FIG. 6, the feed screw 83A is not shown.

また、X軸移動機構68A〜71Aはそれぞれ、収納ケース81Aを搬送方向へ案内するための2個のガイドブロック87A、87Aを備えている。さらに、4つのX軸移動機構68A〜71Aに共通の構成として、ガイドブロック87A、87Aが係合する2本のガイドレール88A、88Aが設けられている。   Each of the X-axis moving mechanisms 68A to 71A includes two guide blocks 87A and 87A for guiding the storage case 81A in the transport direction. Further, two guide rails 88A and 88A with which the guide blocks 87A and 87A are engaged are provided as a configuration common to the four X-axis moving mechanisms 68A to 71A.

本形態では、巻取側かつ後面側に配置されるX軸移動機構70Aによって、樹脂塗布ヘッド52Aの搬送方向への移動が行われる。すなわち、図8等に示すように、Y軸移動機構67Aを構成する収納ケース81Aの下面に、X軸移動機構70Aを構成する送りネジ83Aに螺合する送りナット85Aが固定されている。また、巻取側かつ前面側に配置されるX軸移動機構71Aによって、樹脂塗布ヘッド51Aの搬送方向への移動が行われる。すなわち、図8等に示すように、Y軸移動機構66Aを構成する収納ケース81Aの下面に、X軸移動機構71Aを構成する送りネジ83Aに螺合する送りナット85Aが固定されている。   In this embodiment, the resin coating head 52A is moved in the transport direction by the X-axis moving mechanism 70A disposed on the winding side and the rear side. That is, as shown in FIG. 8 and the like, a feed nut 85A that is screwed to a feed screw 83A that constitutes the X-axis movement mechanism 70A is fixed to the lower surface of the storage case 81A that constitutes the Y-axis movement mechanism 67A. Further, the X-axis moving mechanism 71A disposed on the winding side and the front side moves the resin coating head 51A in the transport direction. That is, as shown in FIG. 8 and the like, a feed nut 85A that is screwed to a feed screw 83A that constitutes the X-axis movement mechanism 71A is fixed to the lower surface of the storage case 81A that constitutes the Y-axis movement mechanism 66A.

同様に、供給側かつ後面側に配置されるX軸移動機構68Aによって、樹脂塗布ヘッド49Aの搬送方向への移動が行われるため、Y軸移動機構64Aを構成する収納ケース81Aの下面に、X軸移動機構68Aを構成する送りネジ83Aに螺合する送りナット85Aが固定されている。また、供給側かつ前面側に配置されるX軸移動機構69Aによって、樹脂塗布ヘッド50Aの搬送方向への移動が行われるため、Y軸移動機構65Aを構成する収納ケース81Aの下面に、X軸移動機構69Aを構成する送りネジ83Aに螺合する送りナット85Aが固定されている。   Similarly, since the X-axis movement mechanism 68A disposed on the supply side and the rear surface side moves the resin coating head 49A in the transport direction, the X-axis movement mechanism 68A is arranged on the lower surface of the storage case 81A constituting the Y-axis movement mechanism 64A. A feed nut 85A that is screwed into a feed screw 83A constituting the shaft moving mechanism 68A is fixed. Further, since the X-axis moving mechanism 69A disposed on the supply side and the front side moves the resin coating head 50A in the transport direction, the X-axis moving mechanism 69A has an X-axis on the lower surface of the storage case 81A constituting the Y-axis moving mechanism 65A. A feed nut 85A that is screwed into a feed screw 83A that constitutes the moving mechanism 69A is fixed.

2本のガイドレール88A、88Aは、前後方向に所定の間隔をあけた状態で、収納部44の上面44aに固定されている。ガイドブロック87A、87Aは、ガイドレール88A、88Aにそれぞれ係合するように、収納ケース81Aの下面に固定されている。また、収納ケース86Aは、上面44aに固定されている。収納ケース86Aの上面には、図6等に示すように、送りナット85Aが通過するための開口部861Aが形成されている。   The two guide rails 88 </ b> A and 88 </ b> A are fixed to the upper surface 44 a of the storage portion 44 with a predetermined interval in the front-rear direction. The guide blocks 87A and 87A are fixed to the lower surface of the storage case 81A so as to engage with the guide rails 88A and 88A, respectively. The storage case 86A is fixed to the upper surface 44a. As shown in FIG. 6 and the like, an opening 861A through which the feed nut 85A passes is formed on the upper surface of the storage case 86A.

図4に示すように、X軸移動機構68A〜71Aは載置板54Aの下方に配置されている。すなわち、X軸移動機構68A〜71Aは搬送路48Aの下方に配置されている。   As shown in FIG. 4, the X-axis moving mechanisms 68A to 71A are disposed below the mounting plate 54A. That is, the X-axis moving mechanisms 68A to 71A are arranged below the transport path 48A.

第2樹脂塗布部45Bは、上述のように、第1樹脂塗布部45Aと同一の構成が鉛直面Pに関して対称に配置されることで構成されている。そのため、第2樹脂塗布部45Bの詳細な説明は省略する。なお、図2および図4では、上述した第1樹脂塗布部45Aの構成に対応する第2樹脂塗布部45Bの構成には、第1樹脂塗布部45Aの構成に付された符号中の「A」の部分を「B」に代えた符号が付されている。また、本形態では、搬送路48A、樹脂塗布ヘッド49A〜52A、移動機構53Aおよび載置板54Aのそれぞれに対応する搬送路48B、樹脂塗布ヘッド49B〜52B、移動機構53Bおよび載置板54Bはそれぞれ、第2処理レーン8Bを構成する第2搬送路、第2樹脂塗布機構、第2移動機構および第2載置板となっている。   As described above, the second resin application unit 45B is configured by arranging the same configuration as the first resin application unit 45A symmetrically with respect to the vertical plane P. Therefore, detailed description of the second resin application part 45B is omitted. 2 and 4, the configuration of the second resin coating portion 45B corresponding to the configuration of the first resin coating portion 45A described above has “A” in the reference numerals attached to the configuration of the first resin coating portion 45A. "Is replaced by" B ". In this embodiment, the conveyance path 48B, the resin application heads 49B to 52B, the movement mechanism 53B, and the placement plate 54B corresponding to the conveyance path 48A, the resin application heads 49A to 52A, the movement mechanism 53A, and the placement board 54A, respectively. These are the second transport path, the second resin coating mechanism, the second moving mechanism, and the second placement plate, respectively, that constitute the second processing lane 8B.

(樹脂硬化装置の構成)
図9は、図2のH−H断面を拡大して示す拡大断面図である。
(Configuration of resin curing device)
9 is an enlarged cross-sectional view showing the HH cross section of FIG. 2 in an enlarged manner.

以下、樹脂硬化装置5の構成を図1、図2および図9に基づいて説明する。   Hereinafter, the configuration of the resin curing device 5 will be described with reference to FIGS. 1, 2, and 9.

樹脂硬化装置5は、樹脂塗布装置4から搬出された基板2を加熱して、基板2に塗布された樹脂を硬化させる加熱炉である。この樹脂硬化装置5は、図2に示すように、前面側に配置される第1処理レーン8Aを構成する第1搬送レーン90Aと、後面側に配置される第2処理レーン8Bを構成する第2搬送レーン90Bとから構成されている。すなわち、樹脂硬化装置5では、同一の構成を有する第1搬送レーン90Aと第2搬送レーン90Bとが、鉛直面Pに関して対称に配置されている。なお、樹脂硬化装置5の前面および後面の両面には、開閉可能な扉(図示省略)が取り付けられている。   The resin curing device 5 is a heating furnace that heats the substrate 2 carried out from the resin coating device 4 and cures the resin applied to the substrate 2. As shown in FIG. 2, the resin curing device 5 includes a first transport lane 90A constituting the first processing lane 8A arranged on the front side and a second processing lane 8B constituting the second processing lane 8B arranged on the rear side. 2 transport lanes 90B. That is, in the resin curing device 5, the first transport lane 90A and the second transport lane 90B having the same configuration are arranged symmetrically with respect to the vertical plane P. In addition, doors (not shown) that can be opened and closed are attached to both the front and rear surfaces of the resin curing device 5.

また、第1搬送レーン90Aと第2搬送レーン90Bは、図1に示すように、樹脂硬化装置5の制御基板等の制御機器(図示省略)が収納される箱状の収納部91の上面に配置されている。さらに、樹脂硬化装置5は、図2に示すように、第1搬送レーン90Aと第2搬送レーン90Bとの間を仕切る仕切壁92を備えている。   Further, as shown in FIG. 1, the first transport lane 90 </ b> A and the second transport lane 90 </ b> B are provided on the upper surface of a box-shaped storage unit 91 in which control equipment (not shown) such as a control board of the resin curing device 5 is stored. Is arranged. Furthermore, as shown in FIG. 2, the resin curing device 5 includes a partition wall 92 that partitions between the first transport lane 90A and the second transport lane 90B.

第1搬送レーン90Aは、第1基板2Aが搬送される第1搬送路LA1、第2搬送路LA2および第3搬送路LA3の3つの搬送路を備えている。また、第1搬送レーン90Aは、第1から第3搬送路LA1〜LA3のそれぞれの間を仕切る仕切板93A、93Aと、第1基板2Aの表裏を反転させるとともに第1基板2Aの搬送方向を反転させる第1反転ローラ94Aおよび第2反転ローラ95Aと、第1基板2Aに塗布された樹脂を加熱して硬化させるための加熱機構96Aと、第1から第3搬送路LA1〜LA3に配設され、第1基板2Aの両端を搬送方向へ案内する基板ガイド97Aとを備えている。なお、図1では、基板ガイド97Aの図示を省略している。また、図2では、便宜上、第1搬送路LA1に配置される基板ガイド97Aの一部(供給側の一部)、第3搬送路LA3に配置される基板ガイド97Aおよび第2反転ローラ95Aのみを図示している。   The first transport lane 90A includes three transport paths, a first transport path LA1, a second transport path LA2, and a third transport path LA3 through which the first substrate 2A is transported. In addition, the first transport lane 90A reverses the front and back of the first substrate 2A and the partition plates 93A and 93A that partition between the first to third transport paths LA1 to LA3 and changes the transport direction of the first substrate 2A. The first reverse roller 94A and the second reverse roller 95A to be reversed, the heating mechanism 96A for heating and curing the resin applied to the first substrate 2A, and the first to third transport paths LA1 to LA3. And a substrate guide 97A for guiding both ends of the first substrate 2A in the transport direction. In FIG. 1, the substrate guide 97A is not shown. In FIG. 2, for the sake of convenience, only part of the substrate guide 97A (part on the supply side) disposed on the first transport path LA1, only the substrate guide 97A and the second reverse roller 95A disposed on the third transport path LA3. Is illustrated.

第1から第3搬送路LA1〜LA3は、第1搬送レーン90Aにおいて、下側からこの順番で配置されている。第1搬送レーン90Aでは、第1樹脂塗布部45Aから搬出された第1基板2Aは、まず、供給側から巻取側へ向かって第1搬送路LA1を通過して搬送され、その後、第1反転ドラム94Aで反転される。反転された第1基板2Aは、巻取側から供給側へ向かって第2搬送路LA2を通過して搬送され、その後、第2反転ドラム95Aで再び反転される。反転された第1基板2Aは、供給側から巻取側へ向かって第3搬送路LA3を通過して搬送され、第1搬出口98Aから搬出される。   The first to third transport paths LA1 to LA3 are arranged in this order from the lower side in the first transport lane 90A. In the first transport lane 90A, the first substrate 2A unloaded from the first resin coating unit 45A is first transported through the first transport path LA1 from the supply side to the winding side, and then the first It is reversed by the reversing drum 94A. The inverted first substrate 2A is transported through the second transport path LA2 from the winding side to the supply side, and then reversed again by the second reversing drum 95A. The inverted first substrate 2A is transported through the third transport path LA3 from the supply side to the take-up side, and unloaded from the first carry-out port 98A.

また、第1基板2Aの種類によっては、供給側から巻取側へ向かって第1搬送路LA1を通過して搬送された第1基板2Aがそのまま、第2搬出口99Aから搬出される。すなわち、本形態の樹脂硬化装置5では、第1から第3搬送路LA1〜LA3を使った第1基板2Aの搬送と、第1搬送路LA1のみを使った第1基板2Aの搬送との切替が可能になっている。   Further, depending on the type of the first substrate 2A, the first substrate 2A transported through the first transport path LA1 from the supply side to the winding side is unloaded from the second carry-out port 99A as it is. That is, in the resin curing device 5 of this embodiment, switching between the conveyance of the first substrate 2A using the first to third conveyance paths LA1 to LA3 and the conveyance of the first substrate 2A using only the first conveyance path LA1. Is possible.

加熱機構96Aは、セラミックヒータ等の赤外線ヒータからなる発熱体(図示省略)と、熱伝導性に優れた金属板等で形成されるとともに発熱体と第1基板2Aとの間に配置され、発熱体からの熱を拡散する熱拡散板(図示省略)とから構成されている。図1に示すように、第1搬送路LA1および第3搬送路LA3では、搬送される第1基板2Aの上方に、加熱機構96Aが配置されている。第2搬送路LA2では、搬送される第1基板2Aの下方に、加熱機構96Aが配置されている。   The heating mechanism 96A is formed of a heating element (not shown) made of an infrared heater such as a ceramic heater and a metal plate having excellent thermal conductivity, and is disposed between the heating element and the first substrate 2A. And a heat diffusion plate (not shown) for diffusing heat from the body. As shown in FIG. 1, in the first transport path LA1 and the third transport path LA3, a heating mechanism 96A is disposed above the transported first substrate 2A. In the second transport path LA2, a heating mechanism 96A is disposed below the first substrate 2A to be transported.

基板ガイド97Aは、搬送方向を長手方向とする細長いブロック状の部材であり、第1から第3搬送路LA1〜LA3において、第1基板2Aの両端部分に対応する位置に配置されている。   The substrate guide 97A is an elongated block-like member whose longitudinal direction is the transport direction, and is disposed at positions corresponding to both end portions of the first substrate 2A in the first to third transport paths LA1 to LA3.

第2搬送レーン90Bは、上述のように、第1搬送レーン90Aと同一の構成が鉛直面Pに関して対称に配置されることで構成されている。そのため、第2搬送レーン90Bの詳細な説明は省略する。なお、図2では、上述した第1搬送レーン90Aの構成に対応する第2搬送レーン90Bの構成には、第1搬送レーン90Aの構成に付された符号中の「A」の部分を「B」に代えた符号が付されている。   As described above, the second transport lane 90B is configured by arranging the same configuration as the first transport lane 90A symmetrically with respect to the vertical plane P. Therefore, detailed description of the second transport lane 90B is omitted. In FIG. 2, in the configuration of the second transport lane 90B corresponding to the configuration of the first transport lane 90A described above, the part “A” in the reference numerals attached to the configuration of the first transport lane 90A is “B”. The reference numerals in place of “

仕切壁92は、樹脂硬化装置5の前後方向の略中心位置に配置されている。また、仕切壁92は、第1搬送レーン90Aと第2搬送レーン90Bとの間を完全に仕切っている。すなわち、仕切壁92の高さおよび搬送方向の幅は、第1搬送レーン90Aの高さおよび搬送方向の幅とほぼ同じになっている。なお、仕切壁92が、収納部91の内部まで仕切るように形成されても良い。   The partition wall 92 is disposed at a substantially central position in the front-rear direction of the resin curing device 5. The partition wall 92 completely partitions the first transport lane 90A and the second transport lane 90B. That is, the height of the partition wall 92 and the width in the transport direction are substantially the same as the height of the first transport lane 90A and the width in the transport direction. The partition wall 92 may be formed so as to partition to the inside of the storage portion 91.

本形態の仕切壁92は、図9に示すように、2枚の薄い板材92a、92bによって構成されている。すなわち、2枚の板材92a、92bが前後方向に所定方向の間隔をあけて配置されることで、仕切壁92が構成されている。板材92a、92bはたとえば、ステンレスの薄板である。   As shown in FIG. 9, the partition wall 92 of this embodiment is configured by two thin plate members 92a and 92b. That is, the partition wall 92 is configured by arranging the two plate members 92a and 92b with a predetermined interval in the front-rear direction. The plate members 92a and 92b are, for example, stainless thin plates.

また、本形態では、板材92a、92bの間には、空間92cが形成されている。この空間92cには、図9に示すように、何も配置されずに空気層が形成さても良いし、断熱材が配置されても良い。また、この空間92cを利用して所定の配管や配線の引き回しをしても良い。さらに、板材92a、92bに所定の開口部を形成して、空間92cを空気の流路として利用しても良い。   In this embodiment, a space 92c is formed between the plate materials 92a and 92b. In this space 92c, as shown in FIG. 9, an air layer may be formed without arranging anything, and a heat insulating material may be arranged. In addition, predetermined piping and wiring may be routed using this space 92c. Furthermore, a predetermined opening may be formed in the plate members 92a and 92b, and the space 92c may be used as an air flow path.

本形態の樹脂硬化装置5では、第1搬送レーン90Aと第2搬送レーン90Bとの各レーンごと個別に温度制御が可能となっている。すなわち、第1搬送レーン90Aに設けられた温度センサ(図示省略)に基づいて第1搬送レーン90Aの温度が制御され、第2搬送レーン90Bに設けられた温度センサ(図示省略)に基づいて第2搬送レーン90Bの温度が制御される。   In the resin curing device 5 of this embodiment, temperature control is possible for each of the first transport lane 90A and the second transport lane 90B. That is, the temperature of the first transfer lane 90A is controlled based on a temperature sensor (not shown) provided in the first transfer lane 90A, and the first is set based on the temperature sensor (not shown) provided in the second transfer lane 90B. The temperature of the second transport lane 90B is controlled.

なお、第1搬送レーン90Aと第2搬送レーン90Bとの各搬送レーンごと個別に適切な温度制御を行うことができるのであれば、第1搬送レーン90Aと第2搬送レーン90Bとは、仕切壁92によって完全に仕切られる必要はない。すなわち、第1搬送レーン90Aと第2搬送レーン90Bとの各搬送レーンごとの温度制御を適切に行うことができるのであれば、第1搬送レーン90Aと第2搬送レーン90Bとが一部分で連通していても良い。   If appropriate temperature control can be performed for each of the first transport lane 90A and the second transport lane 90B, the first transport lane 90A and the second transport lane 90B are separated from each other. It need not be completely partitioned by 92. That is, if the temperature control for each transport lane of the first transport lane 90A and the second transport lane 90B can be appropriately performed, the first transport lane 90A and the second transport lane 90B are partially communicated. May be.

(本形態の主な効果)
以上説明したように、本形態の樹脂塗布システム1では、第1処理レーン8Aと第2処理レーン8Bとが、鉛直面Pに対して対称に配置されている。そのため、樹脂塗布システム1では、前面側と後面側との両面で基板2を処理できる。したがって、たとえば、図10に示すように、樹脂塗布システム1の前面側と後面側とが対向するように、樹脂塗布システム1が複数配列され、各処理レーン8A、8Bでオペレータの作業が必要となる場合であっても、オペレータは振り返るだけで、第1処理レーン8Aと第2処理レーン8Bとの2つの処理レーンでの作業を行うことができる。また、第1処理レーン8Aと第2処理レーン8Bとでは、基板2の搬送方向が同じである。すなわち、第1処理レーン8Aにおける基板2の供給側、巻取側と、第2処理レーン8Bにおける基板2の供給側、巻取側とが一致する。その結果、本形態の樹脂塗布システム1では、オペレータの作業性を向上させることができる。
(Main effects of this form)
As described above, in the resin coating system 1 of this embodiment, the first processing lane 8A and the second processing lane 8B are arranged symmetrically with respect to the vertical plane P. Therefore, in the resin coating system 1, the substrate 2 can be processed on both the front side and the rear side. Therefore, for example, as shown in FIG. 10, a plurality of resin coating systems 1 are arranged so that the front side and the rear side of the resin coating system 1 face each other, and an operator's work is required in each processing lane 8A, 8B. Even in this case, the operator can perform work in the two processing lanes of the first processing lane 8A and the second processing lane 8B only by looking back. Further, the transport direction of the substrate 2 is the same in the first processing lane 8A and the second processing lane 8B. That is, the supply side and winding side of the substrate 2 in the first processing lane 8A coincide with the supply side and winding side of the substrate 2 in the second processing lane 8B. As a result, in the resin coating system 1 of this embodiment, the operator's workability can be improved.

また、本形態の樹脂システム1は、第1処理レーン8Aと第2処理レーン8Bとの2つの処理レーンによって構成されている。そのため、第1基板2Aと第2基板2Bとが異なる場合であっても、各処理レーンごとに、異なる基板2に対して樹脂の塗布および硬化を行うことができる。すなわち、多品種少量生産への対応が可能になる。特に、本形態の樹脂塗布システム1では、樹脂硬化装置5が、第1搬送レーン90Aと第2搬送レーン90Bとの間を仕切る仕切壁92を備えている。そのため、樹脂硬化装置5では、樹脂を硬化させるための温度制御を各搬送レーンごとに行うことができる。したがって、樹脂塗布システム1では、多品種少量生産への適切な対応が可能になる。   Moreover, the resin system 1 of this embodiment is configured by two processing lanes, that is, a first processing lane 8A and a second processing lane 8B. Therefore, even if the first substrate 2A and the second substrate 2B are different, the resin can be applied and cured on the different substrates 2 for each processing lane. That is, it is possible to cope with a large variety and small quantity production. In particular, in the resin coating system 1 of the present embodiment, the resin curing device 5 includes a partition wall 92 that partitions the first transport lane 90A and the second transport lane 90B. Therefore, in the resin curing device 5, temperature control for curing the resin can be performed for each conveyance lane. Therefore, the resin coating system 1 can appropriately cope with a variety of small-quantity production.

なお、本形態の樹脂塗布システム1では、第1処理レーン8Aおよび第2処理レーン8Bで同一の基板2(すなわち、同一の電子部品が実装された同一の基板2)を処理することで、大量生産への対応も可能になる。   In the resin coating system 1 of the present embodiment, a large amount is obtained by processing the same substrate 2 (that is, the same substrate 2 on which the same electronic component is mounted) in the first processing lane 8A and the second processing lane 8B. It is also possible to respond to production.

さらに、本形態の樹脂塗布システム1では、樹脂塗布ヘッド49A〜52A、49B〜52Bを移動させるY軸移動機構64A〜67A、64B〜67BおよびX軸移動機構68A〜71A、68B〜71Bが、搬送路48A、48Bの下方に配置されている。そのため、樹脂塗布ヘッド49A〜52A、49B〜52Bを3軸方向へ移動させるための複雑な移動機構53A、53Bを備える樹脂塗布装置4であっても、前後方向で小型化することができる。その結果、第1処理レーン8Aと第2処理レーン8Bとの2つの処理レーンから構成される樹脂塗布システム1であっても、前後方向での小型化が可能になり、樹脂塗布システム1の設置面積を減少させることができる。   Furthermore, in the resin coating system 1 of this embodiment, the Y-axis movement mechanisms 64A to 67A and 64B to 67B and the X-axis movement mechanisms 68A to 71A and 68B to 71B that move the resin coating heads 49A to 52A and 49B to 52B are transported. It arrange | positions under the path 48A, 48B. Therefore, even the resin coating apparatus 4 including the complicated moving mechanisms 53A and 53B for moving the resin coating heads 49A to 52A and 49B to 52B in the three-axis directions can be reduced in size in the front-rear direction. As a result, even in the resin coating system 1 composed of the two processing lanes of the first processing lane 8A and the second processing lane 8B, the size can be reduced in the front-rear direction, and the resin coating system 1 is installed. The area can be reduced.

本形態の樹脂塗布装置4では、Y軸移動機構64A〜67A、64B〜67BおよびX軸移動機構68A〜71A、68B〜71Bが載置板54A、54Bの下方に配置されている。そのため、基板2が搬送される搬送路48A、48Bと、塵埃の発生源となりうるY軸移動機構64A〜67A、64B〜67BおよびX軸移動機構68A〜71A、68B〜71Bとの間を載置板54A、54Bで仕切ることができる。その結果、クリーン度が要求される基板2のクリーン度を維持することが可能になる。   In the resin coating apparatus 4 of this embodiment, Y-axis moving mechanisms 64A to 67A and 64B to 67B and X-axis moving mechanisms 68A to 71A and 68B to 71B are arranged below the mounting plates 54A and 54B. Therefore, it is placed between the transport paths 48A and 48B through which the substrate 2 is transported and the Y-axis moving mechanisms 64A to 67A and 64B to 67B and the X-axis moving mechanisms 68A to 71A and 68B to 71B that can be dust generation sources. It can be partitioned by plates 54A and 54B. As a result, it is possible to maintain the cleanness of the substrate 2 that requires cleanliness.

また、本形態の樹脂塗布装置4では、基板ガイド57A、57Bが取付ブラケット58A、58Bを介して載置板54A、54Bに取り付けられている。そのため、収納部44の上面44aに、所定のブラケットを介して、基板ガイド57A、57Bを取り付ける場合と比較して、取付ブラケット58A、58Bの高さを低くできる。したがって、基板ガイド57A、57Bの取付精度を高めることができ、その結果、基板2の適切な搬送が可能になる。   In the resin coating apparatus 4 of this embodiment, the substrate guides 57A and 57B are attached to the placement plates 54A and 54B via the attachment brackets 58A and 58B. Therefore, the height of the mounting brackets 58A and 58B can be reduced compared to the case where the board guides 57A and 57B are attached to the upper surface 44a of the storage portion 44 via a predetermined bracket. Therefore, the mounting accuracy of the substrate guides 57A and 57B can be increased, and as a result, the substrate 2 can be appropriately conveyed.

本形態では、同一の構成を有する第1処理レーン8Aと第2処理レーン8Bとが、鉛直面Pに対して面対称に配置されている。そのため、樹脂塗布装置4、樹脂硬化装置5、基板供給装置6および基板巻取装置7では、同じ制御定数を用いれば、同じ制御が可能になる。すなわち、各処理レーン8A、8Bごとに制御定数を設定する必要がなくなり、樹脂塗布システム1の制御が簡素化される。また、第1処理レーン8Aと第2処理レーン8Bとの構成が同一であるため、2つの処理レーン8A、8Bから構成される樹脂塗布システム1であっても、構成を簡素化できる。   In the present embodiment, the first processing lane 8A and the second processing lane 8B having the same configuration are arranged symmetrically with respect to the vertical plane P. Therefore, in the resin coating device 4, the resin curing device 5, the substrate supply device 6, and the substrate winding device 7, the same control can be performed by using the same control constant. That is, it is not necessary to set a control constant for each processing lane 8A, 8B, and the control of the resin coating system 1 is simplified. Since the first processing lane 8A and the second processing lane 8B have the same configuration, the configuration can be simplified even with the resin coating system 1 including the two processing lanes 8A and 8B.

(他の実施の形態)
上述した形態は、本発明の好適な形態の一例ではあるが、これに限定されるものではなく本発明の要旨を変更しない範囲において種々変形可能である。たとえば、上述した形態では、移動機構53A、53Bは、送りネジと送りナットとから構成されているが、移動機構53A、53Bは、リニアモータやリニアガイド等から構成されるリニアテーブルであっても良い。
(Other embodiments)
The above-described embodiment is an example of a preferred embodiment of the present invention, but is not limited thereto, and various modifications can be made without departing from the scope of the present invention. For example, in the embodiment described above, the moving mechanisms 53A and 53B are configured by feed screws and feed nuts, but the moving mechanisms 53A and 53B may be linear tables configured by linear motors, linear guides, or the like. good.

また、図4等に示すように上述した形態では、上面側から見たとき、X軸移動機構68A〜71A、68B〜71Bは載置板54A、54Bによって完全には覆われていないが、X軸移動機構68A〜71A、68B〜71Bの全部が載置板54A、54Bによって覆われるように、X軸移動機構68A〜71A、68B〜71Bを配置しても良い。また、X軸移動機構68A〜71A、68B〜71Bの全部が載置板54A、54Bによって覆われるように、載置板54A、54Bを大きく形成しても良い。さらに、上述した形態では、樹脂硬化装置4は、載置板54A、54Bを備えているが、樹脂硬化装置4は、載置板54A、54Bを備えていなくても良い。   4 and the like, the X-axis moving mechanisms 68A to 71A and 68B to 71B are not completely covered by the mounting plates 54A and 54B when viewed from the upper surface side. The X axis moving mechanisms 68A to 71A and 68B to 71B may be arranged so that all of the axis moving mechanisms 68A to 71A and 68B to 71B are covered with the mounting plates 54A and 54B. Moreover, the mounting plates 54A and 54B may be formed large so that all of the X-axis moving mechanisms 68A to 71A and 68B to 71B are covered with the mounting plates 54A and 54B. Furthermore, in the form mentioned above, although the resin hardening apparatus 4 is provided with mounting board 54A, 54B, the resin hardening apparatus 4 does not need to be provided with mounting board 54A, 54B.

さらに、上述した形態では、第1処理レーン8Aと第2処理レーン8Bとが鉛直面Pに対して面対称に配置されているが、第1処理レーン8Aと第2処理レーン8Bとが鉛直面Pに対して、上面から見たときに対称となるように配置されても良い。すなわち、第1処理レーン8Aの構成と、この構成に対応する第2処理レーン8Bの構成とが、異なる高さで配置されていても良い。また、第1処理レーン8Aと第2処理レーン8Bとの境界面は基板2の搬送方向に平行な鉛直面Pには限定されない。さらに、第1処理レーン8Aと第2処理レーン8Bとは、境界面に対して対称に配置されていなくても良い。   Furthermore, in the embodiment described above, the first processing lane 8A and the second processing lane 8B are arranged symmetrically with respect to the vertical plane P, but the first processing lane 8A and the second processing lane 8B are vertical planes. You may arrange | position so that it may become symmetrical when it sees from the upper surface with respect to P. That is, the configuration of the first processing lane 8A and the configuration of the second processing lane 8B corresponding to this configuration may be arranged at different heights. Further, the boundary surface between the first processing lane 8 </ b> A and the second processing lane 8 </ b> B is not limited to the vertical surface P parallel to the transport direction of the substrate 2. Further, the first processing lane 8A and the second processing lane 8B may not be arranged symmetrically with respect to the boundary surface.

また、上述した形態では、第1基板2Aと第2基板2Bとは、同一の方向に搬送されているが、第1基板2Aの搬送方向と第2基板2Bの搬送方向とが逆であっても良い。   In the embodiment described above, the first substrate 2A and the second substrate 2B are transported in the same direction, but the transport direction of the first substrate 2A is opposite to the transport direction of the second substrate 2B. Also good.

さらに、上述した形態の樹脂塗布システム1は、第1処理レーン8Aと第2処理レーン8Bとの2つの処理レーンから構成されているが、第1処理レーン8Aまたは第2処理レーン8Bのいずれか一方の1つの処理レーンのみで樹脂塗布システムを構成しても良い。この場合であっても、樹脂塗布装置を前後方向で小型化でき、その結果、樹脂塗布システムを前後方向で小型化できる。   Furthermore, although the resin coating system 1 of the form mentioned above is comprised from two process lanes, the 1st process lane 8A and the 2nd process lane 8B, either the 1st process lane 8A or the 2nd process lane 8B is comprised. The resin coating system may be configured with only one processing lane. Even in this case, the resin coating apparatus can be downsized in the front-rear direction, and as a result, the resin coating system can be downsized in the front-rear direction.

本発明の実施の形態にかかる樹脂塗布システムの概略構成を正面(前面)から示す概略図である。It is the schematic which shows schematic structure of the resin coating system concerning embodiment of this invention from the front (front surface). 図1に示す樹脂塗布システムの概略構成を上面から示す概略図である。It is the schematic which shows schematic structure of the resin coating system shown in FIG. 1 from the upper surface. 図1に示す基板供給装置の駆動部分の構成を説明するための図である。It is a figure for demonstrating the structure of the drive part of the board | substrate supply apparatus shown in FIG. 図1に示す樹脂塗布装置の概略構成を上面から示す概略図である。It is the schematic which shows schematic structure of the resin coating apparatus shown in FIG. 1 from an upper surface. 図4のF−F断面を示す断面図である。It is sectional drawing which shows the FF cross section of FIG. 図4に示す移動機構の概略構成を上面から示す概略図である。It is the schematic which shows schematic structure of the moving mechanism shown in FIG. 4 from an upper surface. 図4のG−G方向からY軸移動機構、X軸移動機構および搬送路の概略構成を示す概略図である。FIG. 5 is a schematic diagram illustrating a schematic configuration of a Y-axis moving mechanism, an X-axis moving mechanism, and a conveyance path from the GG direction of FIG. 図6に示すX軸移動機構の構成を説明するための図である。It is a figure for demonstrating the structure of the X-axis moving mechanism shown in FIG. 図2のH−H断面を拡大して示す拡大断面図である。It is an expanded sectional view which expands and shows the HH cross section of FIG. 図1に示す樹脂塗布システムが複数配列された状態を上面から示す図である。It is a figure which shows the state by which multiple resin application systems shown in FIG. 1 were arranged from the upper surface.

符号の説明Explanation of symbols

1 樹脂塗布システム
2 基板
2A 第1基板
2B 第2基板
4 樹脂塗布装置
5 樹脂硬化装置
8A 第1処理レーン
8B 第2処理レーン
45A 第1樹脂塗布部
45B 第2樹脂塗布部
48A 搬送路(第1搬送路)
48B 搬送路(第2搬送路)
49A〜52A 樹脂塗布ヘッド(樹脂塗布機構、第1樹脂塗布機構)
49B〜52B 樹脂塗布ヘッド(樹脂塗布機構、第2樹脂塗布機構)
53A 移動機構(第1移動機構)
53B 移動機構(第2移動機構)
54A 載置板(第1載置板)
54B 載置板(第2載置板)
P 鉛直面(境界面)
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Resin coating system 2 Board | substrate 2A 1st board | substrate 2B 2nd board | substrate 4 Resin coating apparatus 5 Resin hardening apparatus 8A 1st process lane 8B 2nd process lane 45A 1st resin application part 45B 2nd resin application part 48A A conveyance path (1st Transport path)
48B transport path (second transport path)
49A-52A resin coating head (resin coating mechanism, first resin coating mechanism)
49B to 52B Resin coating head (resin coating mechanism, second resin coating mechanism)
53A Movement mechanism (first movement mechanism)
53B Movement mechanism (second movement mechanism)
54A mounting plate (first mounting plate)
54B Mounting plate (second mounting plate)
P Vertical surface (boundary surface)

Claims (6)

所定方向へ搬送される基板に樹脂を塗布する樹脂塗布装置と、上記基板に塗布された樹脂を硬化させる樹脂硬化装置とを備える樹脂塗布システムにおいて、
上記樹脂塗布装置は、上記基板が搬送される搬送路と、上記基板へ樹脂を塗布する樹脂塗布機構と、該樹脂塗布機構を移動させるX軸移動機構とY軸移動機構とZ軸移動機構とを備え、
上記Y軸移動機構は少なくとも上記樹脂塗布機構を前後方向に移動させるものであり、
上記Y軸移動機構の少なくとも一部が上記搬送路の下方に配置されていることを特徴とする樹脂塗布システム。
In a resin coating system comprising a resin coating device that applies a resin to a substrate conveyed in a predetermined direction, and a resin curing device that cures the resin applied to the substrate,
The resin coating apparatus includes a transport path through which the substrate is transported, a resin coating mechanism that applies resin to the substrate, an X-axis movement mechanism, a Y-axis movement mechanism, and a Z-axis movement mechanism that move the resin coating mechanism. With
The Y-axis moving mechanism moves at least the resin coating mechanism in the front-rear direction,
A resin coating system, wherein at least a part of the Y-axis moving mechanism is disposed below the transport path.
前記Y軸移動機構が、前後方向で前記搬送路を横切るように配置されていることを特徴とする請求項1に記載の樹脂塗布システム。The resin coating system according to claim 1, wherein the Y-axis moving mechanism is disposed so as to cross the transport path in the front-rear direction. 所定方向へ搬送される第1基板、および、該第1基板と同方向へ搬送される第2基板への樹脂の塗布および塗布された樹脂の硬化を行う樹脂塗布システムであって、
上記第1基板への樹脂の塗布を行う第1樹脂塗布部を有する第1処理レーンと、上記第2基板への樹脂の塗布を行う第2樹脂塗布部を有し、上記第1処理レーンとの境界面に対して上記第1処理レーンと対称配置される第2処理レーンとから構成されるとともに、
上記第1樹脂塗布部は、上記第1基板が搬送される第1搬送路と、上記第1基板へ樹脂を塗布する第1樹脂塗布機構と、上記第1樹脂塗布機構を移動させる第1X軸移動機構と第1Y軸移動機構と第1Z軸移動機構とを備え、
上記第2樹脂塗布部は、上記第2基板が搬送される第2搬送路と、上記第2基板へ樹脂を塗布する第2樹脂塗布機構と、上記第2樹脂塗布機構を移動させる第2X軸移動機構と第2Y軸移動機構と第2Z軸移動機構とを備え、
上記第1Y軸移動機構は少なくとも上記第1樹脂塗布機構を前後方向に移動させるものであり、
上記第2Y軸移動機構は少なくとも上記第2樹脂塗布機構を前後方向に移動させるものであり、
上記第1Y軸移動機構の少なくとも一部が上記第1搬送路の下方に配置され、上記第2Y軸移動機構の少なくとも一部が上記第2搬送路の下方に配置されていることを特徴とする樹脂塗布システム。
A resin coating system that applies a resin to a first substrate transported in a predetermined direction and a second substrate transported in the same direction as the first substrate and cures the applied resin,
A first processing lane having a first resin application portion for applying resin to the first substrate; a second resin application portion for applying resin to the second substrate; and the first processing lane; A first processing lane and a second processing lane arranged symmetrically with respect to the boundary surface,
The first resin application unit includes a first conveyance path through which the first substrate is conveyed, a first resin application mechanism that applies resin to the first substrate, and a first X axis that moves the first resin application mechanism. A moving mechanism, a first Y-axis moving mechanism, and a first Z-axis moving mechanism;
The second resin application unit includes a second conveyance path through which the second substrate is conveyed, a second resin application mechanism that applies resin to the second substrate, and a second X axis that moves the second resin application mechanism. A moving mechanism, a second Y-axis moving mechanism, and a second Z-axis moving mechanism;
The first Y-axis moving mechanism moves at least the first resin coating mechanism in the front-rear direction,
The second Y-axis moving mechanism moves at least the second resin coating mechanism in the front-rear direction,
At least a part of the first Y-axis movement mechanism is disposed below the first conveyance path, and at least a part of the second Y-axis movement mechanism is disposed below the second conveyance path. Resin coating system.
前記第1Y軸移動機構が、前後方向で前記搬送路を横切るように配置され、The first Y-axis moving mechanism is disposed so as to cross the transport path in the front-rear direction;
前記第2Y軸移動機構が、前後方向で前記搬送路を横切るように配置されていることを特徴とする請求項3に記載の樹脂塗布システム。The resin coating system according to claim 3, wherein the second Y-axis moving mechanism is disposed so as to cross the transport path in the front-rear direction.
前記樹脂塗布装置は、前記第1搬送路が載置される第1載置板と、前記第2搬送路が載置される第2載置板とを備え、
前記第1Y軸移動機構の少なくとも一部が上記第1載置板の下方に配置され、前記第2Y軸移動機構の少なくとも一部が上記第2載置板の下方に配置されていることを特徴とする請求項3または4記載の樹脂塗布システム。
The resin coating apparatus includes a first placement plate on which the first transport path is placed, and a second placement plate on which the second transport path is placed,
At least a part of the first Y-axis moving mechanism is disposed below the first mounting plate, and at least a part of the second Y-axis moving mechanism is disposed below the second mounting plate. The resin coating system according to claim 3 or 4 , characterized in that:
前記境界面は、前記基板の搬送方向に平行な鉛直面であり、前記第1処理レーンと前記第2処理レーンとは、上記鉛直面に面対称に配置されていることを特徴とする請求項3〜5のいずれか1つに記載の樹脂塗布システム。 The boundary surface is a vertical surface parallel to a transport direction of the substrate, and the first processing lane and the second processing lane are arranged symmetrically with respect to the vertical surface. The resin coating system as described in any one of 3-5 .
JP2006157412A 2006-06-06 2006-06-06 Resin coating system Expired - Fee Related JP4832963B2 (en)

Priority Applications (4)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2006157412A JP4832963B2 (en) 2006-06-06 2006-06-06 Resin coating system
KR1020060074262A KR20070116705A (en) 2006-06-06 2006-08-07 System for coating resin
CN2006101281385A CN101085436B (en) 2006-06-06 2006-09-05 Resin coating system
TW095132997A TW200746945A (en) 2006-06-06 2006-09-07 Resin applying system

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2006157412A JP4832963B2 (en) 2006-06-06 2006-06-06 Resin coating system

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2007325992A JP2007325992A (en) 2007-12-20
JP4832963B2 true JP4832963B2 (en) 2011-12-07

Family

ID=38926855

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2006157412A Expired - Fee Related JP4832963B2 (en) 2006-06-06 2006-06-06 Resin coating system

Country Status (4)

Country Link
JP (1) JP4832963B2 (en)
KR (1) KR20070116705A (en)
CN (1) CN101085436B (en)
TW (1) TW200746945A (en)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2007326092A (en) * 2006-08-03 2007-12-20 Athlete Fa Kk Resin applying system

Families Citing this family (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP5201261B2 (en) * 2009-03-30 2013-06-05 トヨタ自動車株式会社 Coating die and coating device comprising the same
CN106015229B (en) * 2016-06-06 2018-06-26 正信光电科技股份有限公司 Photovoltaic module adhesive supplier
CN109590147B (en) * 2019-01-04 2023-11-21 福耀集团长春有限公司 Automatic feeding and gluing system for automobile glass brackets

Family Cites Families (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH05104051A (en) * 1991-10-14 1993-04-27 Toshiba Corp Liquid substance coating device
JP2745207B2 (en) * 1995-02-14 1998-04-28 東レエンジニアリング株式会社 Resin sealing device
JP3386655B2 (en) * 1996-04-24 2003-03-17 大日本スクリーン製造株式会社 Coating device
JP2001029869A (en) * 1999-07-21 2001-02-06 Kansai Paint Co Ltd Method for coating plate-shaped material to be coated
KR100605312B1 (en) * 1999-09-17 2006-07-31 삼성전자주식회사 Resin molder for semiconductor chip package
KR100454583B1 (en) * 2001-09-18 2004-10-28 보임테크놀러지 주식회사 Apparatus for manufacturing semiconductor package
JP2003093946A (en) * 2001-09-25 2003-04-02 Shimadzu Corp Liquid coating device
JP2004128400A (en) * 2002-10-07 2004-04-22 Fuji Mach Mfg Co Ltd Component mounting apparatus, program for controlling operation of the same apparatus, and component mounting system

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2007326092A (en) * 2006-08-03 2007-12-20 Athlete Fa Kk Resin applying system

Also Published As

Publication number Publication date
KR20070116705A (en) 2007-12-11
CN101085436A (en) 2007-12-12
JP2007325992A (en) 2007-12-20
TW200746945A (en) 2007-12-16
CN101085436B (en) 2013-03-20

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR102215964B1 (en) Transport path correction techniques and related systems, methods and devices
JP4832963B2 (en) Resin coating system
TWI604553B (en) A processing apparatus for processing devices, particularly devices including organic materials therein, and method for transferring an evaporation source from a processing vacuum chamber to a maintenance vacuum chamber or from the maintenance vacuum cha
KR102375722B1 (en) Substrate conveyance method
CN101920235B (en) Coating device and coating method
US10170348B2 (en) Production system for printing electronic devices
JP2009147240A (en) Substrate supporting apparatus, substrate supporting method, substrate processing apparatus, substrate processing method, and method of manufacturing display apparatus constitutional member
JP4451385B2 (en) Coating processing apparatus and coating processing method
JP5735047B2 (en) Coating apparatus and coating method
JP2008028078A (en) Substrate transfer device comprising dust-proof mechanism
US7452197B2 (en) Resin application method on panel, manufacturing method of panel for display and resin applying apparatus thereof
JP5172117B2 (en) Resin coating system
JP2017176988A (en) Coating device and coating method
JP2008053284A (en) Resin coating system
JP2008016791A (en) Resin applying system
KR200491734Y1 (en) Environmental maintenance system and method for precision production
WO2012081607A1 (en) Substrate processing system and method for producing display elements
KR20070116704A (en) System for coating resin
JP6065954B2 (en) Manufacturing system
US6576288B2 (en) Resin film forming method and resin film forming apparatus employing said method
JP2008060482A (en) Substrate feeder, substrate take-up device, and substrate treatment system
KR102611339B1 (en) Adhesive layer forming apparatus and display device manufacturing system including the same
JP3602624B2 (en) Method and apparatus for applying adhesive
JP2007208168A (en) Resin coating system
JP2018076599A (en) Production mechanism and production method

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20090424

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20110527

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20110705

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20110819

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20110906

A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20110921

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20140930

Year of fee payment: 3

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees