JP4832160B2 - 有機el素子形成用マスク,アライメント方法並びに有機el素子形成装置 - Google Patents
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Description
2 マスク
2a マスク本体
3 金属層
4 領域
5 マスク側アライメントマーク
6 基板側アライメントマーク
7 基板搬入室
8 搬送装置
9 搬送室
10 アライメント専用室
17 マスクパターン部
Claims (6)
- 有機EL素子が形成される基板に重合せしめられる有機EL素子形成用のマスクにおいて、マスク本体と、このマスク本体に形成されるマスクパターン部の外周縁部に接着により一体化せしめられる補強用枠体とから成り、表面にメッキ法により金属層が設けられた有機EL素子形成用マスクであって、この金属層を設けたマスク表面の一部に、マスク側アライメントマークを囲むように前記金属層を有しない画定された領域を設けて、このマスク側アライメントマークと、前記基板に設けた基板側アライメントマークとを用いてアライメント調整を行えるように構成したことを特徴とする有機EL素子形成用マスク。
- 前記マスク側アライメントマークは平面視略環状に形成し、平面視において、このマスク側アライメントマーク内に前記基板側アライメントマークが位置せしめられるようにこのマスク側アライメントマークと基板側アライメントマークとを重合せしめることで、アライメント調整を行うように構成したことを特徴とする請求項1記載の有機EL素子形成用マスク。
- 前記基板より小さい面積に設定され、前記基板に複数並設状態に重合せしめることで基板表面を覆うように構成したことを特徴とする請求項1,2のいずれか1項に記載の有機EL素子形成用マスク。
- 請求項3記載の有機EL素子形成用マスクを、基板に複数並設状態に重合せしめる際、各マスクを、夫々別個に前記基板とアライメント調整を行うことを特徴とするアライメント方法。
- 前記マスクに設けたマスク側アライメントマークと前記基板に設けた基板側アライメントマークとを、光学的な手段により画像に変換して、この画像に基づいて前記基板と前記マスクとを相対的に移動させることでアライメント調整を行うことを特徴とする請求項4記載のアライメント方法。
- 基板搬入室と、この基板搬入室から搬入された基板を搬送する搬送装置を備えた搬送室とを有し、この搬送室の周囲に1以上の蒸着室をクラスター状に連結して成り、前記基板上に有機EL素子を形成する有機EL素子形成装置であって、前記搬送室に、請求項1〜3のいずれか1項に記載のマスクと前記基板とのアライメント調整を行う少なくとも1以上のアライメント専用室を連結し、このアライメント専用室に、前記マスクに設けたマスク側アライメントマークと前記基板に設けた基板側アライメントマークとを画像に変換する光学手段と、この光学手段による画像に基づいて前記基板と前記マスクとを相対的に移動させる移動手段とを設けたことを特徴とする有機EL素子形成装置。
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