JP4821415B2 - カラー撮像素子製造方法 - Google Patents
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Description
次に、この発明の一実施の形態に従ったカラー撮像素子製造方法により撮像素子にカラーフィルターが形成されて、この発明の一実施の形態に従ったカラー撮像素子が製造される様子を図1の(A)〜(D),及び図2の(A)及び(B)を参照しながら詳細に説明する。
次に、図3の(A)及び(B)を参照しながら、図1の(A)〜(D)及び図2の(A)及び(B)を参照しながら前述したこの発明の一実施の形態に従ったカラー撮像素子製造方法より製造されたカラー撮像素子の第1乃至第3のカラーフィルター24,26の上にさらにマイクロレンズを形成する、一実施の形態のカラー撮像素子製造方法の第1の変形例を説明する。
次に、図4の(A)乃至(C)を参照しながら、図1の(A)〜(D)及び図2の(A)及び(B)を参照しながら前述したこの発明の一実施の形態に従ったカラー撮像素子製造方法より製造されたカラー撮像素子の第1乃至第3のカラーフィルター24,26の上にさらにマイクロレンズを形成する、一実施の形態のカラー撮像素子製造方法の第2の変形例を説明する。
次に、図1の(A)〜(D)及び図2の(A)及び(B)を参照しながら前述したこの発明の一実施の形態に従ったカラー撮像素子製造方法より製造されたカラー撮像素子の第1乃至第3のカラーフィルター24,26の上にさらにマイクロレンズを形成する、一実施の形態のカラー撮像素子製造方法の第3の変形例を説明する。
Claims (9)
- 撮像素子の半導体基板の光電変換素子上に紫外線吸収層を形成する紫外線吸収層形成工程と、
紫外線吸収層の上に所望の色のカラーレジスト層を形成するカラーレジスト層形成工程と、
カラーレジスト層を現像後に、半導体基板に対し垂直な側面を有するとともに半導体基板から遠い側で前記側面に連続し、且つ、カラーレジスト層の表面に接近するにつれてカラーレジスト層の中央方向に向かうよう傾斜した斜面が形成されるようパターン露光する露光工程と、
カラーレジスト層を現像し、半導体基板に対し垂直な側面を有するとともに半導体基板から遠い側で前記側面に連続し、且つ、カラーレジスト層の表面に接近するにつれてカラーレジスト層の中央方向に向かうよう傾斜した斜面を形成する現像工程と、
現像工程終了後のカラーレジスト層に硬膜処理を行ないカラーフィルターとする硬膜処理工程と、
を備えたことを特徴としているカラー撮像素子製造方法。 - 前記側面の高さが0.4μm〜0.9μmの範囲であり、前記表面から前記側面までの前記斜面の深さが0.6μm〜0.1μmの範囲である、ことを特徴とする請求項1に記載のカラー撮像素子製造方法。
- カラーフィルターの表面上に透明樹脂により平坦化層を形成する平坦化層形成工程と、
平坦化層を加工してマイクロレンズを形成するマイクロレンズ形成工程と、
をさらに更に備えていることを特徴とする請求項1又は2に記載のカラー撮像素子製造法。 - マイクロレンズ形成工程は、平坦化層の上にマイクロレンズ母型を形成するマイクロレンズ母型形成工程と、マイクロレンズ母型をマスクとしてドライエッチングし平坦化層にマイクロレンズ母型の形状を転写することにより平坦化層によりマイクロレンズを形成するドライエッチング工程と、を備えていることを特徴とする請求項3に記載のカラー撮像素子製造方法。
- カラーフィルターの表面上に透明樹脂により平坦化層を形成する平坦化層形成工程と、
平坦化層の上にマイクロレンズを形成するマイクロレンズ形成工程と、
を更に備えていることを特徴とする請求項1又は2に記載のカラー撮像素子製造方法。 - マイクロレンズ形成工程は、平坦化層の上にエッチング制御層を形成するエッチング制御層形成工程と、エッチング制御層の上にマイクロレンズ母型を形成するマイクロレンズ母型形成工程と、マイクロレンズ母型をマスクとしてドライエッチングしエッチング制御層にマイクロレンズ母型の形状を転写することによりエッチング制御層により中間レンズを形成する中間レンズ形成工程と、中間レンズをマスクとして更にドライエッチングを行ない平坦化層に中間レンズの形状を転写することにより平坦化層によりマイクロレンズを形成する工程と、を備えたことを特徴とする請求項5に記載のカラー撮像素子製造方法。
- カラーフィルターの表面上に透明なポジ型感光性レジスト層を形成する工程と、
ハーフトーンマスクを使用して現像後にマイクロレンズの形状になるパターンをポジ型感光性レジスト層にパターン露光する露光工程と、
パターン露光されたポジ型感光性レジスト層を現像しカラーフィルターの表面上にマイクロレンズを形成するマイクロレンズ形成工程と、
を更に備えていることを特徴とする請求項1又は2に記載のカラー撮像素子製造方法。 - カラーレジスト層の露光工程では、現像後に半導体基板に対し垂直な側面を有するとともに半導体基板から遠い側で前記側面に連続し、且つ、カラーレジスト層の表面に接近するにつれてカラーレジスト層の中央方向に向かうよう傾斜した斜面が形成されるようなパターンの階調性を有したハーフトーンマスクを使用してパターン露光する、ことを特徴とする請求項1乃至7のいずれか1項に記載のカラー撮像素子製造方法。
- 前記カラーレジスト層がポジ型カラーレジスト層である、ことを特徴とする請求項1乃至8のいずれか1項に記載のカラー撮像素子製造方法。
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