JP4818907B2 - より均一なプラズマ/プロセスを作り出すための方法及びその装置 - Google Patents
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Description
<方位角密度の調整>
図1については上述したので、他の図面を参照して以下に説明する。これらのさまざまな図面を通じて同様の参照番号は同様の構成要素を示すために用いられている。さらにこれらの図面は、読み手の理解を深めるために概略的に示されており、限定する意図を持たない。さらにこれらの図の尺度は一律ではなく、また、例えば上、下、右、左、頂部、底部などの用語は、説明のためだけに利用され、動作方向に関して限定する意図を持たない。
<半径方向密度の調整>
あるクラスのスロット変更は、プラズマの半径方向不均一性を低減させ、場合によってはこれを自動的に実施する。一実施形態では、これが、スロットが切られた静電シールドに隣接してコイルが配置されたプラズマ源に適用される。半径方向の密度調整を達成する方法は一般に2つある。1つには、スロットを一端又は他端を長く又は短くすることができ、2つには、スロットの一端又はその近くのスロットの幅を他端に比べて変化させ、あるいはスロットの幅をスロットの長さ全体に沿って変化させることができる。
Claims (38)
- 処理チャンバ中の処理物体の処理表面を横切る半径方向変動特性を有するプラズマ密度を静電シールドを使用して生み出す誘導結合プラズマ源を使用する処理チャンバに、間隔を置いて配置されたスロットを有するスロット付き静電シールドを使用して、より均一なプラズマ/プロセスを作り出すための方法であって、
前記スロットの下端/外側端に、より多くの磁場侵入を可能にするための開口部を形成し、
前記半径方向変動特性とは異なる前記処理表面を横切る変更された半径方向変動特性を生み出すような方法で前記静電シールドに取って代わるように静電シールド配置を構成するステップを有し、
前記誘導結合プラズマ源が対称軸を形成し、前記静電シールド配置が、前記対称軸についてある半径の範囲にわたって広がる形状を有する側壁配置を少なくとも含むように構成され、
前記変更された半径方向変動特性を生み出すためにそれぞれが前記半径の範囲の少なくとも一部分にわたって延びる長さを前記側壁内に含み、それぞれが前記長さに沿って少なくとも部分的に変化する幅を含む細長い複数の変更されたスロットからなる変更されたスロット配置を含むように、前記静電シールド配置を形成することを特徴とする方法。 - 前記静電シールド配置を使用して、前記半径方向変動特性よりも一定した前記処理表面を横切る前記変更された半径方向変動特性を生み出すステップを有することを特徴とする請求項1に記載の方法。
- 前記静電シールド配置の外形が、少なくとも円錐形であることを特徴とする請求項1に記載の方法。
- 前記静電シールド配置の外形が、少なくとも円錐台形であることを特徴とする請求項1に記載の方法。
- 前記静電シールド配置の外形が、少なくともドーム形であることを特徴とする請求項1に記載の方法。
- 前記静電シールド配置が、前記対称軸と交差するように配置されたプレート状の上面を含むことを特徴とする請求項1に記載の方法。
- 第1の開口パターンを有する第1の内側シールド部材と第2の開口パターンを有する第2の外側シールド部材とを少なくとも含むように前記静電シールド配置を構成し、前記内側シールド部材の外側に前記内側シールド部材に隣接して前記外側シールド部材を支持し、前記内側シールド部材に対して前記外側シールド部材を回転させて、前記処理表面を横切る前記変更された半径方向の変動特性の範囲を提供する方法で、前記第1の開口パターンが前記第2の開口パターンと協力するようにすることを特徴とする請求項1に記載の方法。
- 前記変更された半径方向変動特性を感知し、前記変更された半径方向変動特性の感知された値に応じて前記内側シールド部材と前記外側シールド部材のうちの一方を回転させる回転配置を有することを特徴とする請求項7に記載の方法。
- 前記静電シールド配置が、前記内側シールド部材及び前記外側シールド部材の外形がそれぞれ円錐台形になるように構成され、前記内側シールド部材が内側シールド側壁を含み、前記外側シールド部材が外側シールド側壁を含み、前記内側シールド側壁と前記外側シールド側壁が互いに隣接することを特徴とする請求項7に記載の方法。
- 第1の開口パターンを有する第1のシールド部材と第2のシールド部材とを少なくとも含むように前記静電シールド配置を構成し、前記処理表面を横切る前記変更された半径方向変動特性の範囲を生み出す方法で前記第1のシールド部材に対して直線運動するように前記第2のシールド部材を前記第1のシールド部材の外側に支持することを特徴とする請求項1に記載の方法。
- 前記第1のシールド部材が、細くなった端部を有する円錐台形の外形を有し、前記第2のシールド部材が、前記第1のシールド部材の前記細くなった端部に向かって移動し、前記第1のシールド部材の前記細くなった端部から遠ざかるように移動するように支持されることを特徴とする請求項10に記載の方法。
- 貫通開口部を有する前記細くなった端部を形成することを含み、前記第2のシールド部材が前記貫通開口部に向かって移動するとともに、前記貫通開口部から遠ざかるように移動することを特徴とする請求項11に記載の方法。
- 前記第1のシールド部材の前記円錐台形の外形が、上部周縁を有する円錐形の側壁と、前記円錐形の側壁の前記上部周縁に接続された外周縁を有する上壁とを含むことを特徴とする請求項11に記載の方法。
- 前記円錐形の側壁と前記上壁が協力して、前記円錐形の側壁から前記上壁まで連続して延びる全体開口パターンを形成することを特徴とする請求項13に記載の方法。
- 前記全体開口パターンを、前記円錐形の側壁に底辺を有するとともに、前記上壁に頂点を有するようにそれぞれ形成されたくさび形開口の円周配置として形成することを特徴とする請求項14に記載の方法。
- 構成することが、第1の開口パターンを有する第1のシールド部材と第2の開口パターンを有する第2のシールド部材とを少なくとも含むように前記静電シールド配置を構成し、前記第1のシールド部材に対して前記第2のシールド部材を回転させることによって前記処理表面を横切る前記変更された半径方向変動特性の範囲を生み出す方法で前記対称軸を中心に前記第1のシールド部材に対して回転運動するように、前記第2のシールド部材を前記第1のシールド部材の外側に支持することを特徴とする請求項1に記載の方法。
- 前記第1のシールド部材の外形が、円錐形の側壁と上面によって閉じられた細くなった端部とを有する円錐台形であり、前記円錐形の側壁と前記上面が協力して、前記第1の開口パターンを、前記円錐形の側壁から前記上面まで連続して延びる間隔を置いて配置された複数の開口部として形成し、前記第2のシールド部材が、前記第1のシールド部材の前記上面と向かい合う関係に配置された大きな表面を含むように形成され、前記大きな表面が、前記第2の開口パターンとして複数のスロットを形成し、前記第1のシールド部材の前記上面に形成された前記間隔を置いて配置された開口部を補完し、前記第1のシールド部材に対する前記第2のシールド部材の回転が前記半径方向変動特性を変更するように前記対称軸を中心に回転するように前記第2のシールド部材を配置することを特徴とする請求項16に記載の方法。
- 前記第1の開口パターンの前記間隔を置いて配置された開口部及び前記第2の開口パターンの前記スロットがそれぞれくさび形として構成されており、前記第1のシールド部材の前記開口部がそれぞれ前記円錐形の側壁に底辺を含み、前記上面に頂点を含むことを特徴とする請求項17に記載の方法。
- 前記第1のシールド部材の前記円錐形の側壁と向かい合った関係で前記大きな表面の最外縁から延びるスカートを含むように前記第2のシールド部材を形成することを含み、前記第2の開口のパターンの少なくとも一部が前記スカートに形成されることを特徴とする請求項17に記載の方法。
- 処理チャンバ中の処理物体の処理表面を横切る半径方向変動特性を有するプラズマ密度を静電シールドを使用して生み出す誘導結合プラズマ源を使用する処理チャンバに、間隔を置いて配置されたスロットを有するスロット付き静電シールドを使用して、より均一なプラズマ/プロセスを作り出すための装置であって、
前記スロットの下端/外側端に、より多くの磁場侵入を可能にするための開口部を構成し、
前記半径方向変動特性とは異なる前記処理表面を横切る変更された半径方向変動特性を生み出す、前記静電シールドに代わる静電シールド配置を有し、
前記誘導結合プラズマ源が対称軸を形成し、前記静電シールド配置が、前記対称軸についてある半径の範囲にわたって広がる形状を有する側壁配置を少なくとも有し、
前記変更された半径方向変動特性を生み出すために、それぞれが前記半径の範囲の少なくとも一部分にわたって延びる長さを前記側壁内に有し、それぞれが前記長さに沿って少なくとも部分的に変化する幅を含む細長い複数の変更されたスロットからなる変更されたスロット配置を有するように、前記静電シールド配置が形成されていることを特徴とする装置。 - 前記静電シールド配置が、前記半径方向変動特性よりも一定した前記処理表面を横切る変更された半径方向変動特性を生み出すように構成されていることを特徴とする請求項20に記載の装置。
- 前記調整可能な静電シールド配置の外形が、少なくとも円錐形であることを特徴とする請求項20に記載の装置。
- 前記調整可能な静電シールド配置の外形が、少なくとも円錐台形であることを特徴とする請求項20に記載の装置。
- 前記調整可能な静電シールド配置の外形が、少なくともドーム形であることを特徴とする請求項20に記載の装置。
- 前記調整可能な静電シールド配置が、前記対称軸と交差するように配置されたプレート状の上面を有することを特徴とする請求項20に記載の装置。
- 前記静電シールド配置が、第1の開口パターンを有する第1の内側シールド部材と第2の開口パターンを有する第2の外側シールド部材とを少なくとも備え、前記外側シールド部材が前記外側シールド部材に隣接してこれと重なり合い、前記内側シールド部材及び前記外側シールド部材が、互いに対して回転して、前記処理表面を横切る前記変更された半径方向変動特性の範囲を提供する方法で前記第1の開口パターンが前記第2の開口パターンと協力するように支持されていることを特徴とする請求項20に記載の装置。
- 前記変更された半径方向変動特性を感知し、前記変更された半径方向変動特性の感知された値に応じて前記内側シールド部材と前記外側シールド部材のうちの一方を回転させる回転配置を有することを特徴とする請求項26に記載の装置。
- 前記静電シールド配置が、前記内側シールド部材及び前記外側シールド部材の外形がそれぞれ円錐台形になるように構成され、前記内側シールド部材が内側シールド側壁を有し、前記外側シールド部材が外側シールド側壁を有し、前記内側シールド側壁と前記外側シールド側壁が互いに隣接することを特徴とする請求項26に記載の装置。
- 前記静電シールド配置が、第1の開口パターンを有する第1のシールド部材と第2のシールド部材とを少なくとも備え、前記第2のシールド部材が、前記処理表面を横切る前記変更された半径方向変動特性の範囲を生み出す方法で前記第1のシールド部材に対して直線運動するように支持されていることを特徴とする請求項20に記載の装置。
- 前記第1のシールド部材が、細くなった端部を有する円錐台形の外形を有し、前記第2のシールド部材が、前記第1のシールド部材の前記細くなった端部に向かって移動するとともに、前記第1のシールド部材の前記細くなった端部から遠ざかるように移動するように支持されていることを特徴とする請求項29に記載の装置。
- 前記細くなった端部が、貫通開口部を有し、前記第2のシールド部材が前記貫通開口部に向かって移動するとともに、前記貫通開口部から遠ざかるように移動することを特徴とする請求項30に記載の装置。
- 前記第1のシールド部材の前記円錐台形の外形が、上部周縁を有する円錐形の側壁と、前記円錐形の側壁の前記上部周縁に接続された外周縁を有する上壁とを有することを特徴とする請求項30に記載の装置。
- 前記円錐形の側壁と前記上壁が協力して、前記円錐形の側壁から前記上壁まで連続して延びる全体開口パターンを構成していることを特徴とする請求項32に記載の装置。
- 前記全体開口パターンが、前記円錐形の側壁に底辺を有するとともに、前記上壁に頂点を有するようにそれぞれ形成されたくさび形開口の円周配置として構成されていることを特徴とする請求項33に記載の装置。
- 第1の開口パターンを有する第1のシールド部材と第2の開口パターンを有する第2のシールド部材とを少なくとも備えるように前記静電シールド配置が構成されており、前記第1のシールド部材に対して前記第2のシールド部材を回転させることによって前記処理表面を横切る前記変更された半径方向変動特性の範囲を生み出す方法で前記対称軸を中心に前記第1のシールド部材に対して回転運動するように、前記第2のシールド部材を前記第1のシールド部材の外側に支持することを特徴とする請求項20に記載の装置。
- 前記第1のシールド部材の外形が、円錐形の側壁と上面によって閉じられた細くなった端部とを有する円錐台形であり、前記円錐形の側壁と前記上面が協力して、前記第1の開口パターンを、前記円錐形の側壁から前記上面まで連続して延びる間隔を置いて配置された複数の開口部として構成し、前記第2のシールド部材が、前記第1のシールド部材の前記上面と向かい合う関係に配置された大きな表面を有するように構成され、前記大きな表面が、前記第2の開口パターンとして複数のスロットを構成し、前記第1のシールド部材に対する前記第2のシールド部材の回転が前記変更された半径方向変動特性を生み出すように、前記第1のシールド部材の前記上面に設けられた前記間隔を置いて配置された開口部を補完することを特徴とする請求項35に記載の装置。
- 前記開口及び前記スロットがくさび形として構成されており、前記第1のシールド部材の前記開口がそれぞれ前記円錐形の側壁に底辺を有するとともに、前記上面に頂点を有することを特徴とする請求項36に記載の装置。
- 前記第2のシールド部材が、前記第1のシールド部材の前記円錐形の側壁と向かい合った関係で前記大きな表面の最外縁から延びるスカートを有し、前記第2の開口パターンの少なくとも一部が前記スカートに構成されていることを特徴とする請求項36に記載の装置。
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