JP4804993B2 - 酸化物超電導導体 - Google Patents
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Description
このハステロイC276のようにMoの量が多いNi基合金は熱処理が難しく、熱処理によってMoに富む化合物が析出してしまうことが多い(応用金属学大系6 128〜145頁)。さらに、その析出物近傍は、Moが欠乏してしまう組成変化を生じる。Moに富む化合物は貴であり、析出物近傍のMoが欠乏した基質部は卑である。そのため電解研磨のような、酸性溶液中で金属を溶解させ、平滑化させる方法を用いると、貴である部位と卑である部位における溶出の速度が異なり、平滑化できず、成膜用の基板として良好な成膜表面を得ることができない。したがって、Moに富む化合物の析出を防ぐために、Moの含有量の少ない合金を基板として用いることが好ましい。
金属基材として、ハステロイC22(Cr22%、Mo13%、Fe4%、W3%,Ni55%)を用いた。圧延上がりの基板に電解研磨を施した。この電解研磨は、リン酸と硫酸を主成分とする混合液を電解液として用い、参照電極を銀−塩化銀として、1.2V以上の電位を印加する条件とした。
電解研磨前と電解研磨後の金属基材(厚さ100μm)について、パシフィックナノテクノロジー社製の原子間力顕微鏡を用い、JIS 0601に記載された平均表面粗さRaを測定した。
この金属基材上に、厚さ1μmのGd2Zr2O7からなる第1の多結晶中間薄膜をIBAD法によって成膜し、その上に厚さ0.5μmのCeO2からなる第2の多結晶中間薄膜をレーザ蒸着法によって形成し、その上に厚さ1μmのY1Ba2Cu3Ox超電導層、及び厚さ10μmのAg保護層を順に成膜し、図1に示す構成の酸化物超電導導体を製造した。得られた酸化物超電導導体の臨界電流密度(Jc)を測定した。結果を表1に示す。
金属基材として、Haynes Alloy No.230(Ni57.0%、Cr22.0%、Mo2.0%、W14.0%、Al0.3%、C0.10%)を用いた以外は、実施例1と同様にして、酸化物超電導導体を製造した。得られた酸化物超電導導体の臨界電流密度(Jc)を測定した。結果を表1に示す。
金属基材として、ハステロイC276(Cr14.5〜16.5%、Mo15〜17%、Fe4〜7%、W3〜4.5%、Ni残部)を用いた以外は、実施例1と同様にして、酸化物超電導導体を製造した。得られた酸化物超電導導体の臨界電流密度(Jc)を測定した。結果を表1に示す。
金属基材として、インコネル600(Ni76%、Cr15.5%、Fe8.0%、C0.08%)を用いた以外は、実施例1と同様にして、酸化物超電導導体を製造した。得られた酸化物超電導導体の臨界電流密度(Jc)を測定した。結果を表1に示す。
金属基材として、インコネルNi−Cr系合金690(Ni60.0%、Cr30.0%、Fe9.5%、C0.03%)を用いた以外は、実施例1と同様にして、酸化物超電導導体を製造した。得られた酸化物超電導導体の臨界電流密度(Jc)を測定した。結果を表1に示す。
金属基材として、NFC610(Ni71.0%、Cr15.5%、Fe9.0%,C0.20%)を用いた以外は、実施例1と同様にして、酸化物超電導導体を製造した。得られた酸化物超電導導体の臨界電流密度(Jc)を測定した。結果を表1に示す。
また、Moを含まない合金からなる金属基材を用いた比較例2〜4は、電解研磨後の表面粗さは実施例1,2に近いものの、金属基材の線膨張係数がY1Ba2Cu3Ox系酸化物超電導体の線膨張係数よりも大きかったため、これらの金属基材を用いて製造した酸化物超電導導体は、臨界電流密度(Jc)が実施例1,2よりも低くなった。
Claims (2)
- Mo含有量が2〜13質量%であるNi−Cr−Mo系合金からなる金属基材上に多結晶中間薄膜が設けられ、該多結晶中間薄膜上に酸化物超電導体薄膜が設けられてなることを特徴とする酸化物超電導導体。
- 金属基材の表面が電解研磨された金属基材の平均表面粗さRa(JIS B0601)が9nm以下であることを特徴とする請求項1に記載の酸化物超電導導体。
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