JP4802770B2 - 吸収型多層膜ndフィルター及びその製造方法 - Google Patents
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Description
上記の切断した吸収型多層膜NDフィルターに、波長532nm、平均出力3W、パルス幅100nsのYAG第2高調波パルスレーザーを用いて、レーザー照射時間10秒のレーザートリートメントを行った。その後、再度、自記分光光度計により400〜700nmの分光透過特性を測定したところ、波長400〜700nmの平均透過率が約0.5%増加していた。
上記の切断した吸収型多層膜NDフィルターに、波長532nm、平均出力3W、パルス幅100nsのYAG第2高調波パルスレーザーを用いて、レーザー照射時間5秒のレーザートリートメントを行った。その後、再度、自記分光光度計により400〜700nmの分光透過特性を測定したところ、波長400〜700nmの平均透過率が約0.3%増加していた。
上記の切断した吸収型多層膜NDフィルターに、波長532nm、平均出力3W、パルス幅100nsのYAG第2高調波パルスレーザーを用いて、レーザー照射時間1秒のレーザートリートメントを行った。その後、再度、自記分光光度計により400〜700nmの分光透過特性を測定したところ、波長400〜700nmの平均透過率の増加は自記分光光度計の測定精度以下の約0.2%未満であった。
上記の切断した吸収型多層膜NDフィルターに、レーザートリートメントを実施せず、110℃のオーブン内に1時間放置するアニール処理を行った。その後、再度、自記分光光度計により400〜700nmの分光透過特性を測定したところ、波長400〜700nmの平均透過率は約0.3%増加していた。
Claims (6)
- 透過光を減衰させる吸収型多層膜が樹脂フィルムの少なくとも片面に設けられている吸収型多層膜NDフィルターにおいて、該吸収型多層膜が酸化物誘電体膜層と金属膜層とを交互に積層させた多層膜からなり、各金属膜層の全ての界面付近にのみ、該多層膜の形成後にレーザートリートメントによって得られた酸化膜が形成されていることを特徴とする吸収型多層膜NDフィルター。
- 前記各金属膜層の全ての界面付近にのみ酸化膜が形成された吸収型多層膜の平均透過率が、該酸化膜が形成される前の吸収型多層膜に比べ0.2%以上増加していることを特徴とする、請求項1に記載の吸収型多層膜NDフィルター。
- 前記各金属膜層の膜厚が2〜50nmであることを特徴とする、請求項1又は2に記載の吸収型多層膜NDフィルター。
- 透過光を減衰させる吸収型多層膜が樹脂フィルムの少なくとも片面に設けられている吸収型多層膜NDフィルターの製造方法において、該吸収型多層膜として酸化物誘電体膜層と金属膜層とを交互に積層させた多層膜を樹脂フィルムの少なくとも片面に成膜した後、該金属膜層の吸収波長帯の波長のレーザーであって、全金属膜中の最薄層の厚さにおいて吸収率が20%以上であり、且つ全酸化物誘電体膜中の最厚層の厚さにおいて吸収率が5%以下である波長のレーザーを照射するレーザートリートメントを行い、各金属膜層の全ての界面付近のみを酸化させることを特徴とする吸収型多層膜NDフィルターの製造方法。
- 前記レーザートリートメントにより、吸収型多層膜の平均透過率をレーザートリートメント前に比べ0.2%以上増加させることを特徴とする、請求項4に記載の吸収型多層膜NDフィルターの製造方法。
- 前記吸収型多層膜を構成する酸化物誘電体膜層及び金属膜層は、真空蒸着法、イオンビームスパッタリング法、マグネトロンスパッタリング法、若しくはイオンプレーティング法から選択された成膜法により形成されることを特徴とする、請求項4〜5のいずれかに記載の吸収型多層膜NDフィルターの製造方法。
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