JP4797834B2 - Hologram transfer foil - Google Patents

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Description

本発明は、ホログラム転写箔に関し、さらに詳しくは、耐擦傷性などの高耐久性や、意匠性及び/又はセキュリティ性に優れるホログラムを転写性よく転写することができるホログラム転写箔に関するものである。   The present invention relates to a hologram transfer foil, and more particularly to a hologram transfer foil capable of transferring a hologram having excellent durability such as scratch resistance, design and / or security with good transferability.

本明細書において、配合を示す「比」、「部」、「%」などは特に断わらない限り質量基準であり、「/」印は一体的に積層されていることを示す。
また、「PET」は「ポリエチレンテレフタレート」の略語、同意語、機能的表現、通称、又は業界用語である。
In the present specification, “ratio”, “part”, “%” and the like indicating the composition are based on mass unless otherwise specified, and the “/” mark indicates that they are integrally laminated.
“PET” is an abbreviation, synonym, functional expression, common name, or industry term for “polyethylene terephthalate”.

(主なる用途)本発明のホログラム転写箔を用いて転写した製品の主なる用途としては、社員証、会員証、学生証などのIDカード、ギフト券、入場証、通行証、サービスポイントなどの、一定の金額を払い込んだ(プリペイドという)権利や資格などを証明する媒体が適用できる。しかしながら、意匠性及びセキュリティ性に優れ、かつ、耐擦擦性などの耐久性が要求される用途であれば、特に限定されるものではない。   (Main applications) Main applications of products transferred using the hologram transfer foil of the present invention include ID cards such as employee cards, membership cards, student cards, gift certificates, admission cards, pass cards, service points, Media that proves the rights and qualifications that paid a certain amount of money (called prepaid) can be applied. However, it is not particularly limited as long as it is excellent in design and security, and is required to have durability such as abrasion resistance.

(背景技術)従来、金券類、カード類、及び各種証明書類などのは、資格証明や一定の経済的価値や効果を持つため、不正に偽造、変造、不正使用することが絶えない。特に、カラーコピー機の精度向上が著しく、各種の媒体類の偽造を容易にしている。
これを防止するため各種の偽造防止手段が施されている。光輝性、特にホログラム、回折格子などのレリーフ形状を有する転写箔は、特異な装飾像や立体像を表現できる意匠性と、これらホログラムや回折格子は高度な製造技術を要し、容易に製造できないことから、偽造防止としてセキュリティー性の向上に利用されている。
上記の如きカ−ド類などは意匠性、セキュリティ性に優れているが、繰り返し使用することにより、外力などで摩擦されて、傷が付いたり、剥れたりすることが多く、その結果、カ−ド全体としての意匠性やセキュリティ性が損われるという問題が生じる。該問題は、保護層(ハ−ドコ−ト層、OP層ともいう)を厚くしたり、硬化樹脂とすることによって解決されるが、転写時の箔キレが悪く、転写性が著しく低下するという問題点もある。
従って、ホログラム転写箔は、別途保護層を設けなくても、意匠性及び/又はセキュリティ性に優れるホログラム層のみでも充分な耐擦傷性などの高耐久性を有し、カードなどの媒体へ転写する際の箔キレなどの転写性よく転写することができることが求められている。また、耐擦傷性などの高耐久性のあるホログラム層とすることも考えられるが、賦型性が著しく悪くなるので、このような高耐久性(ハードコート機能)のホログラム層でもホログラム機能を発現する微細な凹凸を賦型し易いこともも求められている。
(Background Art) Conventionally, gold vouchers, cards, and various certificates have qualifications and certain economic values and effects, so that they are constantly counterfeited, altered, and used illegally. In particular, the accuracy of color copiers is remarkably improved, making it easy to forge various media.
In order to prevent this, various forgery prevention means are provided. Transfer foils with relief, especially holograms and diffraction gratings, have a design that can express unique decorative images and three-dimensional images, and these holograms and diffraction gratings require advanced manufacturing techniques and cannot be easily manufactured. Therefore, it is used to improve security to prevent forgery.
Cards such as those described above are excellent in design and security, but they are often rubbed or peeled off by repeated use due to repeated use. -There arises a problem that the design and security as a whole are impaired. This problem can be solved by increasing the thickness of the protective layer (also referred to as a hard coat layer or OP layer) or by using a cured resin, but the foil sharpness at the time of transfer is poor and the transferability is significantly reduced. There are also problems.
Accordingly, the hologram transfer foil has high durability such as sufficient scratch resistance even with only a hologram layer excellent in design and / or security without providing a separate protective layer, and is transferred to a medium such as a card. It is required that the film can be transferred with good transferability, such as foil cracks. In addition, a hologram layer with high durability such as scratch resistance can be considered, but since the formability is remarkably deteriorated, the hologram layer also exhibits the hologram function with such a high durability (hard coat function). It is also demanded that fine irregularities to be easily formed.

(先行技術)従来、ホログラム転写箔のホログラム層の表面側に保護層を設け、ベースフィルムとホログラム形成層との間に剥離性を与え、しかも転写後の表面のホログラム形成層の保護等を与えるための役割を果たし、その材質としてはアクリル系樹脂、セルロース系樹脂、ビニル系樹脂、ポリエステル系樹脂、ウレタン系樹脂、オレフィン系樹脂、アミド系樹脂、エボキン系樹脂等が知られている(例えば、特許文献1〜2参照。)。
しかしながら、これらの保護層は、ホログラム層とは別個にもう1層を設けるために、生産性が悪く、高コストとなるという欠点がある。
(Prior Art) Conventionally, a protective layer is provided on the surface side of the hologram layer of the hologram transfer foil to provide peelability between the base film and the hologram forming layer, and also to protect the hologram forming layer on the surface after transfer. As the material, acrylic resin, cellulose resin, vinyl resin, polyester resin, urethane resin, olefin resin, amide resin, ebokine resin and the like are known (for example, (See Patent Documents 1 and 2.)
However, since these protective layers are provided separately from the hologram layer, there is a disadvantage that the productivity is low and the cost is high.

特開昭61−160481号公報JP-A-61-160481 特開2004−188799号公報JP 2004-188799 A

そこで、本発明はこのような問題点を解消するためになされたものである。その目的は、別途保護層を設けなくても、意匠性及び/又はセキュリティ性に優れるホログラム層のみでも充分な耐擦傷性などの高耐久性を有し、カードなどの媒体へ転写する際の箔キレなどの転写性よく転写することができ、かつ、耐擦傷性などの高耐久性のホログラム層は賦型性が悪いが、このような高耐久性のホログラム層でもホログラム機能の微細な凹凸を賦型し易いホログラム転写箔を提供することである。   Accordingly, the present invention has been made to solve such problems. Its purpose is to provide a high durability such as scratch resistance even with a hologram layer that is excellent in design and / or security without providing a separate protective layer, and is a foil for transfer to a medium such as a card. A hologram layer with high transferability, such as sharpness, and high durability, such as scratch resistance, has poor formability. It is to provide a hologram transfer foil that is easy to mold.

上記の課題を解決するために、請求項1の発明に係わるホログラム転写箔は、基材と、該基材の一方の面へ少なくとも離型層、ホログラム層、反射層及び接着層を設けてなるホログラム転写箔において、前記離型層がメラミン系樹脂であり、前記ホログラム層が電離放射線硬化性樹脂及び反応性シリコーンの硬化物、並びにポリエチレンワックスを含み、前記電離放射線硬化性樹脂が(1)分子中にイソシアネート基を3個以上有するイソシアネート類、(2)分子中に水酸基を少なくとも1個と(メタ)アクリロイルオキシ基を少なくとも2個有する多官能(メタ)アクリレート類、又は(3)分子中に水酸基を少なくとも2個有する多価アルコール類の反応生成物であるウレタン(メタ)アクリレートオリゴマーを含有し、前記ホログラム層がJIS−K5400に準拠した鉛筆硬度がH以上を有するハードコート機能を兼ねていることを特徴とするものである。
請求項2の発明に係わるホログラム転写箔は、上記ホログラム層のポリエチレンワックスの含有が質量基準で、電離放射線硬化樹脂:ポリエチレンワックス=100:0.01〜10であるように、したものである。
In order to solve the above problems, a hologram transfer foil according to the invention of claim 1 is provided with a base material and at least a release layer, a hologram layer, a reflective layer and an adhesive layer on one surface of the base material. In the hologram transfer foil, the release layer is a melamine resin, the hologram layer contains a cured product of an ionizing radiation curable resin and a reactive silicone, and polyethylene wax, and the ionizing radiation curable resin is (1) molecule. Isocyanates having 3 or more isocyanate groups, (2) Polyfunctional (meth) acrylates having at least one hydroxyl group and at least two (meth) acryloyloxy groups in the molecule, or (3) In the molecule hydroxyl containing the reaction products of polyhydric alcohols are urethane (meth) acrylate oligomer having at least two, said hologram Layers in which pencil hardness conforming to JIS-K5400 is characterized in that it also serves as a hard coat function having the above H.
The hologram transfer foil according to the invention of claim 2 is such that the content of polyethylene wax in the hologram layer is based on mass and ionizing radiation curable resin: polyethylene wax = 100: 0.01-10.

請求項1の本発明によれば、別途保護層を設けなくても、意匠性及び/又はセキュリティ性に優れるホログラム層のみでも充分な耐擦傷性などの高耐久性を有し、カードなどの媒体へ転写する際の箔キレなどの転写性よく転写することができ、ホログラム層へホログラム機能の微細な凹凸を賦型し易いホログラム転写箔が提供される。
請求項2の本発明によれば、請求項1効果に加えて、カードなどの媒体へ転写する際の箔キレなどの転写性よく転写することができるホログラム転写箔が提供される。
According to the first aspect of the present invention, a medium such as a card having high durability such as sufficient scratch resistance even with a hologram layer excellent in design and / or security without providing a separate protective layer. to be able to transfer good transferability, such as foil sharp when transferring easily hologram transfer foil embossing fine irregularities hologram functions are provided to holograms layer.
According to the second aspect of the present invention, in addition to the effect of the first aspect , there is provided a hologram transfer foil that can be transferred with good transferability such as a foil sharpness when transferring to a medium such as a card.

以下、本発明の実施形態について、図面を参照しながら、詳細に説明する。
図1は、本発明の1実施例を示すホログラム転写箔の断面図である。
図2は、本発明のホログラム転写箔を用いて転写した被転写物である。
Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the drawings.
FIG. 1 is a sectional view of a hologram transfer foil showing one embodiment of the present invention.
FIG. 2 shows a transfer object transferred using the hologram transfer foil of the present invention.

(転写箔)本発明のホログラム転写箔は、図1に示すように、基材11と、該基材11の一方の面へ少なくとも離型層13、ホログラム層15、反射層17及び接着層19を設ける。さらに、必要に応じて他の層を設けてもよい。例えば、基材11/離型層13/ホログラム層15/反射層17/他の機能層(必要に応じて)/接着層19の層構成としてもよい。なお、他の機能層の構成位置は、基材11/離型層12/剥離層13の層間以外であれば任意でよい。他の機能層としては、特に限定されないが、例えば、剥離層、印刷絵柄層、紫外線吸収層などが例示できる。   (Transfer foil) As shown in FIG. 1, the hologram transfer foil of the present invention comprises a base material 11 and at least a release layer 13, a hologram layer 15, a reflective layer 17 and an adhesive layer 19 on one surface of the base material 11. Is provided. Furthermore, you may provide another layer as needed. For example, the layer configuration may be substrate 11 / release layer 13 / hologram layer 15 / reflection layer 17 / other functional layers (if necessary) / adhesion layer 19. The other functional layers may be arranged at any positions other than the base material 11 / release layer 12 / release layer 13 layer. Although it does not specifically limit as another functional layer, For example, a peeling layer, a printing pattern layer, an ultraviolet absorption layer etc. can be illustrated.

離型層13はメラミン系樹脂であり、ホログラム層15が電離放射線硬化性樹脂及び反応性シリコーンの硬化物、並びにポリエチレンワックスを含み、ハードコート機能を兼ねさせる。該ホログラム層15は、耐擦傷性(耐スクラッチ性ともいう)や耐摩耗性などの高耐久性(即ち、ハードコート層を兼ねる)のホログラム層15であるが、ホログラム機能を発現する微細な凹凸を容易に賦型できるので、別途、耐久性の保護層を設けなくても、意匠性及び/又はセキュリティ性に優れるホログラム転写箔とすることができる。
表面に保護層を有しないホログラム層15のみを転写しても、充分な耐擦傷性、耐摩耗性、耐スクラッチ性などの高耐久性を有し、しかも、カードなどの媒体へ転写する際には、箔キレがよいので転写性よく転写することができる。
The release layer 13 is a melamine resin, and the hologram layer 15 includes an ionizing radiation curable resin and a cured product of reactive silicone, and polyethylene wax, and also has a hard coat function. The hologram layer 15 is a hologram layer 15 having high durability such as scratch resistance (also referred to as scratch resistance) and wear resistance (that is, also serving as a hard coat layer). Therefore, a hologram transfer foil having excellent design and / or security can be obtained without providing a separate durable protective layer.
Even when only the hologram layer 15 having no protective layer on the surface is transferred, the hologram layer 15 has sufficient durability such as scratch resistance, abrasion resistance, scratch resistance and the like, and is transferred to a medium such as a card. Can be transferred with good transferability due to good foil sharpness.

(基材)基材11としては、耐熱性、機械的強度、製造に耐える機械的強度、耐溶剤性などがあれば、用途に応じて種々の材料が適用できる。例えば、ポリエチレンテレフタレート・ポリブチレンテレフタレート・ポリエチレンナフタレートなどのポリエステル系樹脂、ポリアミド系樹脂、ポリ塩化ビニルなどのビニル系樹脂、アクリル系樹脂、イミド系樹脂、ポリアリレートなどのエンジニアリング樹脂、ポリカーボネート、セロファンなどのセルロース系フィルムなどがある。該基材は、これら樹脂を主成分とする共重合樹脂、または、混合体(アロイでを含む)、若しくは複数層からなる積層体であっても良い。通常は、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等のポリエステル系のフィルムが、耐熱性、機械的強度がよいため好適に使用され、ポリエチレンテレフタレートが最適である。   (Substrate) As the substrate 11, various materials can be applied depending on the use as long as the substrate 11 has heat resistance, mechanical strength, mechanical strength to withstand manufacturing, solvent resistance, and the like. For example, polyester resins such as polyethylene terephthalate / polybutylene terephthalate / polyethylene naphthalate, polyamide resins, vinyl resins such as polyvinyl chloride, acrylic resins, imide resins, engineering resins such as polyarylate, polycarbonate, cellophane, etc. Cellulosic film. The substrate may be a copolymer resin containing these resins as a main component, a mixture (including an alloy), or a laminate composed of a plurality of layers. Usually, polyester films such as polyethylene terephthalate and polyethylene naphthalate are preferably used because of their good heat resistance and mechanical strength, and polyethylene terephthalate is most suitable.

また、該基材11は、延伸フィルムでも、未延伸フィルムでも良いが、強度を向上させる目的で、一軸方向または二軸方向に延伸したフィルムが好ましい。該基材の厚さは、通常、2.5〜50μm程度が適用できるが、2.5〜12μmが好適で、4〜6μmが最適である。該基材11は、塗布に先立って塗布面へ、コロナ放電処理、プラズマ処理、オゾン処理、フレーム処理、プライマー(アンカーコート、接着促進剤、易接着剤とも呼ばれる)塗布処理、予熱処理、除塵埃処理、蒸着処理、アルカリ処理、などの易接着処理を行ってもよい。また、必要に応じて、充填剤、可塑剤、着色剤、帯電防止剤などの添加剤を加えても良い。   The substrate 11 may be a stretched film or an unstretched film, but a film stretched in a uniaxial direction or a biaxial direction is preferable for the purpose of improving the strength. The thickness of the base material is usually about 2.5 to 50 μm, preferably 2.5 to 12 μm, and most preferably 4 to 6 μm. Prior to coating, the substrate 11 is applied to the coated surface by corona discharge treatment, plasma treatment, ozone treatment, flame treatment, primer (also called anchor coat, adhesion promoter, or easy adhesive) coating treatment, pre-heat treatment, dust removal. Easy adhesion treatment such as treatment, vapor deposition treatment, and alkali treatment may be performed. Moreover, you may add additives, such as a filler, a plasticizer, a coloring agent, and an antistatic agent, as needed.

(離型層、剥離層)転写時の剥離性を向上させるために、離型層13を設け、必要に応じて、剥離層14も設けてもよく、離型層13及び剥離層14の両方を設けるとより転写性をより向上できる。   (Release layer, release layer) In order to improve the releasability at the time of transfer, a release layer 13 may be provided, and if necessary, a release layer 14 may be provided. Both of the release layer 13 and the release layer 14 The transferability can be further improved by providing.

(離型層)離型層13としては、通常、離型性樹脂、離型剤を含んだ樹脂、電離放射線で架橋する硬化性樹脂などがあるが、本発明ではメラミン系樹脂を用い、後述するハードコート層15と組合わせることで、離型層13とハードコート層15と間の剥離が安定し、転写時の箔切れ性を著しく向上させることができる。   (Release layer) The release layer 13 usually includes a release resin, a resin containing a release agent, a curable resin that is cross-linked by ionizing radiation, etc. In the present invention, a melamine resin is used, which will be described later. By combining with the hard coat layer 15 to be peeled off, the separation between the release layer 13 and the hard coat layer 15 is stabilized, and the foil breakage during transfer can be remarkably improved.

離型層13の形成は、該樹脂を溶媒へ分散又は溶解して、ロールコート、グラビアコートなどの公知のコーティング方法で、塗布し乾燥して、温度150℃〜200℃程度で焼き付ける。離型層13の厚さとしては、通常は0.01μm〜5.0μm程度、好ましくは0.5μm〜3.0μm程度である。   The release layer 13 is formed by dispersing or dissolving the resin in a solvent, applying and drying the resin by a known coating method such as roll coating or gravure coating, and baking at a temperature of about 150 ° C to 200 ° C. The thickness of the release layer 13 is usually about 0.01 μm to 5.0 μm, preferably about 0.5 μm to 3.0 μm.

(剥離層)剥離層14としては、弗素系樹脂、シリコーン、各種のワックスなどの離型剤を添加または共重合させたアクリル系樹脂、ビニル系樹脂、ポリエステル樹脂、繊維素系樹脂、ワックス、メラミン系樹脂等が例示でき、離型層13及び剥離層14の両方を設ける場合には、適宜組み合わせて用いればよく、この場合には、剥離層14は転写後に保護層としての機能を合わせ持つ。   (Peeling layer) As the peeling layer 14, an acrylic resin, vinyl resin, polyester resin, fiber resin, wax, melamine to which a release agent such as fluorine resin, silicone, various waxes is added or copolymerized is used. In the case where both the release layer 13 and the release layer 14 are provided, they may be used in appropriate combination. In this case, the release layer 14 also has a function as a protective layer after transfer.

(ホログラム層)ホログラム層15としては、少なくとも電離放射線硬化性樹脂及び反応性シリコーンの硬化物、並びにポリエチレンワックスを含ませる。
また、好ましくは、ホログラム層15の材料としては、(1)分子中にイソシアネート基を3個以上有するイソシアネート類、(2)分子中に水酸基を少なくとも1個と(メタ)アクリロイルオキシ基を少なくとも2個有する多官能(メタ)アクリレート類、又は(3)分子中に水酸基を少なくとも2個有する多価アルコール類の反応生成物であるウレタン(メタ)アクリレートオリゴマーを含有する電離放射線硬化性樹脂(本明細書では「電離放射線硬化性樹脂組成物M」と呼称する)と及び反応性シリコーンの硬化物、並びにポリエチレンワックスを含むようにする。さらに好ましくは、(メタ)アクリレートオリゴマーも含ませて硬化させる。該組成物を塗布し乾燥して、ホログラム機能を発現する微細な凹凸レリーフを賦型した後に、電離放射線で硬化させればよい。
(Hologram Layer) The hologram layer 15 includes at least an ionizing radiation curable resin and a cured product of reactive silicone, and polyethylene wax.
Preferably, the material of the hologram layer 15 includes (1) an isocyanate having three or more isocyanate groups in the molecule, and (2) at least one hydroxyl group and at least two (meth) acryloyloxy groups in the molecule. Ionizing radiation curable resin containing urethane (meth) acrylate oligomer which is a reaction product of polyfunctional (meth) acrylates having one or polyhydric alcohols having at least two hydroxyl groups in the molecule (this specification) The term “ionizing radiation curable resin composition M”) and a cured product of reactive silicone, and polyethylene wax are included. More preferably, a (meth) acrylate oligomer is also included and cured. What is necessary is just to harden with ionizing radiation, after apply | coating this composition and drying and shaping | molding the fine unevenness | corrugation relief which expresses a hologram function.

(電離放射線硬化性樹脂組成物M)「電離放射線硬化性樹脂組成物M」としては、ウレタン(メタ)アクリレートオリゴマーを含有する電離放射線硬化性樹脂の硬化物、具体的には、特開2001−329031号公報で開示されている光硬化性樹脂などが例示でき、実施例でも述べる。
即ち、「電離放射線硬化性樹脂組成物M」(1)分子中にイソシアネート基を3個以上有するイソシアネート類、(2)分子中に水酸基を少なくとも1個と(メタ)アクリロイルオキシ基を少なくとも2個有する多官能(メタ)アクリレート類、又は(3)分子中に水酸基を少なくとも2個有する多価アルコール類の反応生成物である。
(Ionizing radiation curable resin composition M) The “ionizing radiation curable resin composition M” is a cured product of an ionizing radiation curable resin containing a urethane (meth) acrylate oligomer. The photocurable resin etc. which are indicated by 329031 gazette can be illustrated, and it mentions also in an example.
That is, “ionizing radiation curable resin composition M” (1) isocyanates having 3 or more isocyanate groups in the molecule, (2) at least one hydroxyl group and at least two (meth) acryloyloxy groups in the molecule Reaction product of polyfunctional (meth) acrylates having, or (3) polyhydric alcohols having at least two hydroxyl groups in the molecule.

((メタ)アクリレートオリゴマー)(メタ)アクリレートオリゴマーとしては、耐熱性のあるオリゴマーであればよく、例えば、日本合成化学社の商品名;紫光6630B、7510B、7630Bなどが例示できる。   ((Meth) acrylate oligomer) The (meth) acrylate oligomer may be a heat-resistant oligomer, and examples thereof include trade names of Nippon Synthetic Chemical Co., Ltd .; Purple light 6630B, 7510B, 7630B and the like.

(ポリエチレンワックス)ポリエチレンワックスとしては、ポリエチレン系樹脂の粒子やビーズが挙げられるが、好ましくは球状ビーズである。但し、ポリエチレンワックスを添加すると、箔切れ性は低下するので、その添加量は、電離放射線硬化樹脂100質量部に対して、0.01〜10質量部程度、好ましくは0.1〜5質量部とする。   (Polyethylene wax) Polyethylene wax includes polyethylene resin particles and beads, and is preferably spherical beads. However, when polyethylene wax is added, the foil breakage is reduced, so the amount added is about 0.01 to 10 parts by weight, preferably 0.1 to 5 parts by weight, with respect to 100 parts by weight of ionizing radiation curable resin. And

(反応性シリコーン)反応性シリコーンとしては、電離放射線で硬化時に樹脂と反応し結合して一体化するもので、アクリル変性、メタクリル変性、又はエポキシ変性などで変性した反応性シリコーンで、該反応性シリコーンを含有させる質量基準での割合としては「電離放射線硬化性樹脂組成物M」100に対して、0.1〜10部程度、好ましくは0.3〜5部である。この範囲未満ではレリーフの賦型時にプレススタンパとの剥離が不十分であり、プレススタンパの汚染を防止することが困難で賦型性が悪い。また、この範囲を超えてはホログラム層面への反射層の密着性が低く、ホログラム層と反射層との間で剥離し商品価値を失ってしまう。従来のシリコーンオイルの添加では、反射層との密着性が悪い。   (Reactive silicone) Reactive silicone is a reactive silicone that reacts with and binds with resin when cured with ionizing radiation, and is modified by acrylic, methacrylic, or epoxy modification. The ratio on the basis of mass containing silicone is about 0.1 to 10 parts, preferably 0.3 to 5 parts relative to “ionizing radiation curable resin composition M” 100. If it is less than this range, peeling from the press stamper is insufficient at the time of relief molding, and it is difficult to prevent contamination of the press stamper and the moldability is poor. Further, beyond this range, the adhesiveness of the reflective layer to the hologram layer surface is low, and the commercial value is lost by peeling between the hologram layer and the reflective layer. Addition of conventional silicone oil has poor adhesion to the reflective layer.

このように、ホログラム層15には、「電離放射線硬化性樹脂組成物M」、必要に応じて(メタ)アクリレートオリゴマー、及び反応性シリコーンの硬化物、並びにポリエチレンワックスを含ませることで、レリーフの賦型性がよく光回折効果が高く、かつ、ハードコート機能を兼ねさせることができる。   In this way, the hologram layer 15 includes “ionizing radiation curable resin composition M”, (meth) acrylate oligomer and a cured product of reactive silicone, and polyethylene wax as necessary. Good formability, high optical diffraction effect, and can also serve as a hard coat function.

(1)電離放射線硬化前の塗布状態のホログラム層15の塗膜は指乾状態でべとつかず、ブロッキングせずに巻き取ることができるので、ロールツーロール加工ができる。
(2)ホログラム層15へは反応性シリコーンを含ませることで、賦型性がよいので、レリーフ構造を容易に賦型でき、賦型後に電離放射線で硬化できる。
(3)ポリエチレンワックスを含ませることで、転写後にはホログラム層15が最表面層となるが、極めて過酷な環境での使用、長期間にわたる使用、及び/又は多数回の繰り返し使用などでも、溶剤、機械的な摩擦、及び摩耗から支持体に設けられた画像を保護し、傷付きにくく耐久性に優れる。
(4)ホログラム層15はメラミン系樹脂を用いた離型層13と界面を接しているので、ホログラム層15と離型層13との間で剥離し、安定した剥離性を有するので、転写時には箔切れがよく、バリなどの発生も極めて少なくすることができる。
(1) Since the coated film of the hologram layer 15 in a coated state before ionizing radiation curing is not sticky in a finger dry state and can be wound up without blocking, roll-to-roll processing can be performed.
(2) The reactive silicone is included in the hologram layer 15 so that the moldability is good, so that the relief structure can be easily molded and cured with ionizing radiation after molding.
(3) By including polyethylene wax, the hologram layer 15 becomes the outermost surface layer after transfer, but the solvent can be used even in extremely harsh environments, for a long period of time, and / or for many repeated uses. It protects the image provided on the support from mechanical friction and abrasion, and is resistant to scratches and has excellent durability.
(4) Since the hologram layer 15 is in contact with the release layer 13 using the melamine-based resin, it peels between the hologram layer 15 and the release layer 13 and has a stable release property. The foil breakage is good and the occurrence of burrs can be extremely reduced.

(ホログラム層の形成)ホログラム層15は、上記の電離放射線硬化性樹脂、必要に応じて(メタ)アクリレートオリゴマー、反応性シリコーン、及びポリエチレンワックスを含ませ、さらに必要に応じて光重合開始剤、可塑剤、安定剤、界面活性剤等を加え、溶媒へ分散または溶解して、ロールコート、グラビアコート、コンマコート、ダイコートなどの公知のコーティング方法で塗布し乾燥して塗膜を形成したりすれば良い。ホログラム層15の厚さとしては、通常は0.5μm〜20μm程度、好ましくは1μm〜10m程度であり、複数回の塗布でもよい。   (Formation of hologram layer) The hologram layer 15 contains the above-mentioned ionizing radiation curable resin, (meth) acrylate oligomer, reactive silicone, and polyethylene wax as required, and further, if necessary, a photopolymerization initiator, A plasticizer, stabilizer, surfactant, etc. are added, dispersed or dissolved in a solvent, applied by a known coating method such as roll coating, gravure coating, comma coating, die coating, and dried to form a coating film. It ’s fine. The thickness of the hologram layer 15 is usually about 0.5 μm to 20 μm, preferably about 1 μm to 10 m, and may be applied multiple times.

(ホログラム)次に、ホログラム層15の表面には、ホログラムなどの光回折効果の発現する所定のレリーフ構造を賦型し、硬化させる。ホログラムは物体光と参照光との光の干渉による干渉縞を凹凸のレリーフ形状で記録されたもので、例えば、フレネルホログラム等のレーザ再生ホログラム、及びレインボーホログラム等の白色光再生ホログラム、さらに、それらの原理を利用したカラーホログラム、コンピュータジェネレーティッドホログラム(CGH)、ホログラフィック回折格子などがある。レリーフ形状は凹凸形状であり、特に限定されるものではなく、微細な凹凸形状を有する光拡散、光散乱、光反射、光回折などの機能を発現するものでもよく、例えば、フーリエ変換やレンチキュラーレンズ、光回折パターン、モスアイ、が形成されたものである。また、光回折機能はないが、特異な光輝性を発現するヘアライン柄、マット柄、万線柄、干渉パターンなどでもよい。   (Hologram) Next, on the surface of the hologram layer 15, a predetermined relief structure such as a hologram that exhibits a light diffraction effect is formed and cured. A hologram is a recording of interference fringes due to the interference of light between object light and reference light in an uneven relief shape, such as a laser reproduction hologram such as a Fresnel hologram, a white light reproduction hologram such as a rainbow hologram, There are color holograms utilizing the above principle, computer generated holograms (CGH), holographic diffraction gratings and the like. The relief shape is a concavo-convex shape, and is not particularly limited, and may have a fine concavo-convex shape such as light diffusion, light scattering, light reflection, light diffraction, etc., such as Fourier transform or lenticular lens. , A light diffraction pattern, and a moth eye. Further, although it does not have a light diffraction function, it may be a hairline pattern, a mat pattern, a line pattern, an interference pattern, or the like that expresses a unique glitter.

これらのレリーフ形状の作製方法としてはホログラム撮影記録手段を利用して作製されたホログラムや回折格子の他に、干渉や回折という光学計算に基づいて電子線描画装置等を用いて作製されたホログラムや回折格子をあげることもできる。また、ヘアライン柄や万線柄のような比較的大きなパターンなどは機械切削法でもよい。これらのホログラム及び/又は回折格子の単一若しくは多重に記録しても、組み合わせて記録しても良い。これらの原版は公知の材料、方法で作成することができ、通常、感光性材料を塗布したガラス板を用いたレーザ光干渉法、電子線レジスト材料を塗布したガラス板に電子線描画装置を用いてパターン作製する電子線描画法をなどが適用できる。   As a method for producing these relief shapes, in addition to holograms and diffraction gratings produced using hologram photographing and recording means, holograms produced using an electron beam drawing device based on optical calculations such as interference and diffraction, A diffraction grating can also be mentioned. Also, a relatively large pattern such as a hairline pattern or a line pattern may be a machine cutting method. These holograms and / or diffraction gratings may be recorded single or multiple, or may be recorded in combination. These original plates can be prepared by known materials and methods, and usually, laser beam interference using a glass plate coated with a photosensitive material, using an electron beam drawing apparatus on a glass plate coated with an electron beam resist material. An electron beam drawing method for patterning can be applied.

(レリーフの賦型)ホログラム層15面へ、上記のレリーフ形状を賦形(複製ともいう)する。ホログラムの賦型は、公知の方法によって形成でき、例えば、回折格子やホログラムの干渉縞を表面凹凸のレリーフとして記録する場合には、回折格子や干渉縞が凹凸の形で記録された原版をプレス型(スタンパという)として用い、上記樹脂層上に前記原版を重ねて加熱ロールなどの適宜手段により、両者を加熱圧着することにより、原版の凹凸模様を複製することができる。   (Relief shaping) The relief shape is shaped (also referred to as replication) on the surface of the hologram layer 15. Hologram shaping can be formed by a known method. For example, when recording diffraction gratings or interference fringes of holograms as reliefs of surface irregularities, a master plate on which the diffraction gratings or interference fringes are recorded in irregularities is pressed. The concave / convex pattern of the original can be duplicated by using it as a mold (referred to as a stamper) and by superimposing the original on the resin layer and heat-pressing both of them with an appropriate means such as a heating roll.

(レリーフの硬化)ホログラム層15は、スタンパでエンボス中、又はエンボス後に、電離放射線を照射して、電離放射線硬化性樹脂を硬化させる。上記の電離放射線硬化性樹脂は、レリーフを形成後に、電離放射線を照射して硬化(反応)させると電離放射線硬化樹脂(ホログラム層15)となる。電離放射線としては、電磁波が有する量子エネルギーで区分する場合もあるが、本明細書では、すべての紫外線(UV‐A、UV‐B、UV‐C)、可視光線、ガンマー線、X線、電子線を包含するものと定義する。従って、電離放射線としては、紫外線(UV)、可視光線、ガンマー線、X線、または電子線などが適用できるが、紫外線(UV)が好適である。電離放射線で硬化する電離放射線硬化性樹脂は、紫外線硬化の場合は光重合開始剤、及び/又は光重合促進剤を添加し、エネルギーの高い電子線硬化の場合は添加しないで良く、また、適正な触媒が存在すれば、熱エネルギーでも硬化できる。   (Relief Curing) The hologram layer 15 is irradiated with ionizing radiation during or after embossing with a stamper to cure the ionizing radiation curable resin. The ionizing radiation curable resin becomes an ionizing radiation curable resin (hologram layer 15) when cured (reacted) by irradiation with ionizing radiation after the relief is formed. The ionizing radiation may be classified according to the quantum energy of the electromagnetic wave, but in this specification, all ultraviolet rays (UV-A, UV-B, UV-C), visible rays, gamma rays, X-rays, electrons It is defined as including a line. Accordingly, ultraviolet (UV), visible light, gamma rays, X-rays, or electron beams can be applied as ionizing radiation, but ultraviolet (UV) is preferred. An ionizing radiation curable resin that is cured by ionizing radiation may contain a photopolymerization initiator and / or a photopolymerization accelerator in the case of ultraviolet curing, and may not be added in the case of high energy electron beam curing. Can be cured even with thermal energy.

(レリーフの絵柄)ホログラム層15の絵柄は、特に限定されないが、擬似連続絵柄とすることが好ましい。擬似連続絵柄はプレス型(スタンパという)を作成する際に、小さなレリーフ版の複数を、精度よく突合せてつなぎ目を目立たなくしたり、つなぎ目を樹脂で埋めたりすればよい。このように、擬似連続絵柄とすることで、できるだけ大きな面積、又は好ましくは全面とすることもできる。   (Relief pattern) The pattern of the hologram layer 15 is not particularly limited, but is preferably a pseudo-continuous pattern. When creating a press mold (referred to as a stamper) for the pseudo continuous pattern, it is only necessary to match a plurality of small relief plates with high accuracy to make the joints inconspicuous, or to fill the joints with resin. In this way, by using a quasi-continuous pattern, the area can be as large as possible, or preferably the entire surface.

(反射層)反射層17は、所定のレリーフ構造を設けたホログラム層15面のレリーフ面へ、反射層17へ設けることにより、レリーフの反射及び/又は回折効果を高めるので、ホログラム層15の反射率のより高れば、特に限定されなず、例えば金属薄膜が適用できる。該反射層17としては、通常、金属層や透明層が適用できるが、IDカードなどのように、支持体101に画像105を有する場合には、画像105を観察できる透明層が好ましい。支持体101に画像105を有しない場合や、支持体101の1部分へ転写する場合には、不透明な金属層でもよい。   (Reflection layer) Since the reflection layer 17 is provided on the reflection layer 17 on the relief surface of the hologram layer 15 provided with a predetermined relief structure, the reflection reflection and / or diffraction effect is enhanced. If a rate is higher, it will not specifically limit, For example, a metal thin film can be applied. As the reflective layer 17, a metal layer or a transparent layer can be usually applied, but when the support 101 has the image 105 such as an ID card, a transparent layer capable of observing the image 105 is preferable. When the image 105 is not provided on the support 101 or when transferring to a part of the support 101, an opaque metal layer may be used.

該反射層17に用いる金属としては、金属光沢を有し光を反射する金属元素の薄膜で、Cr、Ni、Ag、Au、Al等の金属、及びその酸化物、硫化物、窒化物等の薄膜を単独又は複数を組み合わせてもよい。上記の光反射性の金属薄膜の形成は、いずれも10〜2000nm程度、好ましくは20〜1000nmの厚さになるよう、真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法などの真空薄膜法で得られるが、その他、メッキなどによっても形成できる。反射層17の厚さがこの範囲未満では、光がある程度透過して効果が減じ、また、それ以上では、反射効果は変わらないので、コスト的に無駄である。   The metal used for the reflective layer 17 is a metal element thin film that has a metallic luster and reflects light, such as Cr, Ni, Ag, Au, Al, etc., and oxides, sulfides, nitrides thereof, etc. A thin film may be used alone or in combination. The formation of the light-reflective metal thin film can be obtained by a vacuum thin film method such as a vacuum deposition method, a sputtering method, or an ion plating method so as to have a thickness of about 10 to 2000 nm, preferably 20 to 1000 nm. However, it can also be formed by plating. If the thickness of the reflective layer 17 is less than this range, the light is transmitted to some extent and the effect is reduced, and if it is more than that, the reflective effect is not changed, which is wasteful in cost.

また、反射層17として、ほぼ無色透明な色相で、その光学的な屈折率がホログラム層のそれとは異なることにより、金属光沢が無いにもかかわらず、ホログラムなどの光輝性を視認できるから、透明なホログラムを作製することができる。例えば、ホログラム層15よりも光屈折率の高い薄膜、および光屈折率の低い薄膜とがあり、前者の例としては、ZnS、TiO2、Al23、Sb23、SiO、SnO2、ITO等があり、後者の例としては、LiF、MgF2、AlF3がある。好ましくは、金属酸化物又は窒化物であり、具体的には、Be、Mg、Ca、Cr、Mn、Cu、Ag、Al、Sn、In、Te、Fe、Co、Zn、Ge、Pb、Cd、Bi、Se、Ga、Rb、Sb、Pb、Ni、Sr、Ba、La、Ce、Au等の酸化物又は窒化物他はそれらを2種以上を混合したもの等が挙げられる。またアルミニウム等の一般的な光反射性の金属薄膜も、厚みが200Å以下になると、透明性が出て使用できる。 Further, the reflective layer 17 has a substantially colorless and transparent hue, and its optical refractive index is different from that of the hologram layer. A simple hologram can be produced. For example, there are a thin film having a higher refractive index than the hologram layer 15 and a thin film having a lower refractive index. Examples of the former include ZnS, TiO 2 , Al 2 O 3 , Sb 2 S 3 , SiO, SnO 2. ITO, etc., and examples of the latter include LiF, MgF 2 , and AlF 3 . Preferably, it is a metal oxide or nitride, specifically, Be, Mg, Ca, Cr, Mn, Cu, Ag, Al, Sn, In, Te, Fe, Co, Zn, Ge, Pb, Cd , Bi, Se, Ga, Rb, Sb, Pb, Ni, Sr, Ba, La, Ce, Au, and other oxides or nitrides, and the like may be a mixture of two or more thereof. Also, a general light-reflective metal thin film such as aluminum can be used when it has a thickness of 200 mm or less.

透明金属化合物の形成は、金属の薄膜と同様、ホログラム層15のレリーフ面に、10〜2000nm程度、好ましくは20〜1000nmの厚さになるよう、蒸着、スパッタリング、イオンプレーティング、CVDなどの真空薄膜法などにより設ければよい。さらには、ホログラム層15と光の屈折率の異なる透明な合成樹脂を使用してもよく、接着層19材料とホログラム層15材料の屈折率が十分に異なる場合には、接着層19が反射層19を兼ねることもできる。   The transparent metal compound is formed on the relief surface of the hologram layer 15 by vacuum such as vapor deposition, sputtering, ion plating, and CVD so that the thickness of the relief layer of the hologram layer 15 is about 10 to 2000 nm, preferably 20 to 1000 nm. It may be provided by a thin film method or the like. Furthermore, a transparent synthetic resin having a refractive index different from that of the hologram layer 15 may be used. When the refractive index of the adhesive layer 19 material and the hologram layer 15 material is sufficiently different, the adhesive layer 19 is a reflective layer. 19 can also be used.

(接着層)接着層19としては、公知の加熱されると溶融または軟化して接着効果を発揮する感熱接着剤が適用でき、具体的には、塩化ビニル系樹脂、酢酸ビニル系樹脂、塩化ビニル酢酸ビニル共重合樹脂、アクリル系樹脂、ポリエステル系樹脂などが挙げられる。該接着層19には、マイクロシリカなどのフィラーを含むことが、箔切れ性の点で好ましい。また、接着層19の樹脂としては、95℃程度の低温で溶融接着し、60℃程度になると固化して接着する融点が60〜95℃ものが好ましい。融点が上記範囲未満であると、支持体との接着性が不十分であり、形成された画像を使用する温度が制限される。また、融点が上記範囲を越えるとサーマルヘッドによる加熱では転写性が不十分となり、又、ハードコート層の箔切れ性が低下し、解像性の良い転写が困難となる。
該材料樹脂を溶剤に溶解または分散させて、適宜顔料などの添加剤を添加して、公知のロールコーティング、グラビアコーティング、コンマコーティングなどの方法で塗布し乾燥させて、厚さ1〜30μmの層を得る。
(Adhesive layer) As the adhesive layer 19, a heat-sensitive adhesive that melts or softens when heated and exhibits an adhesive effect can be applied. Specifically, a vinyl chloride resin, a vinyl acetate resin, or vinyl chloride. Examples thereof include vinyl acetate copolymer resins, acrylic resins, and polyester resins. The adhesive layer 19 preferably contains a filler such as microsilica in terms of the ability to break the foil. Further, the resin of the adhesive layer 19 is preferably one having a melting point of 60 to 95 ° C. which melts and adheres at a low temperature of about 95 ° C. and solidifies and adheres at about 60 ° C. When the melting point is less than the above range, the adhesion to the support is insufficient, and the temperature at which the formed image is used is limited. On the other hand, if the melting point exceeds the above range, the transferability becomes insufficient by heating with a thermal head, the foil breakability of the hard coat layer is lowered, and transfer with good resolution becomes difficult.
The material resin is dissolved or dispersed in a solvent, an additive such as a pigment is added as appropriate, and the layer is applied and dried by a known method such as roll coating, gravure coating, or comma coating, and a layer having a thickness of 1 to 30 μm Get.

(転写)このようにして得られた本発明のホログラム転写箔10を用いて、図2のように、ホログラム層15、及び接着層19を、支持体101に形成された画像105の表面へ転写する。なお、転写時には離型層13とホログラム層15との間で剥離するが、若干離型層13の1部がホログラム層15へ移行する場合もあるが、本発明の範囲内である。   (Transfer) Using the hologram transfer foil 10 of the present invention thus obtained, the hologram layer 15 and the adhesive layer 19 are transferred to the surface of the image 105 formed on the support 101 as shown in FIG. To do. In addition, although it peels between the mold release layer 13 and the hologram layer 15 at the time of transcription | transfer, a part of mold release layer 13 may transfer to the hologram layer 15 slightly, but it is in the scope of the present invention.

(転写法)支持体101への形成方法としては、公知の転写法でよく、例えば、熱刻印によるホットスタンプ(箔押)、熱ロールによる全面又はストライプ転写、サーマルヘッド(感熱印画ヘッド)によるサーマルプリンタ(熱転写プリンタともいう)などの公知の方法が適用できる。スポット状、文字、数字、イラストなどの任意の形状を転写してもよい。異なる任意の形状である顔写真などの可変情報を連続操作できたり、オンデマンドで印画できるサーマルプリンタが好ましい。   (Transfer method) As a method for forming the support 101, a known transfer method may be used. For example, hot stamping by hot stamping (foil stamping), whole surface or stripe transfer by a heat roll, thermal by a thermal head (thermal printing head). A known method such as a printer (also referred to as a thermal transfer printer) can be applied. Any shape such as a spot shape, letters, numbers, and illustrations may be transferred. A thermal printer capable of continuously operating variable information such as a face photograph having a different arbitrary shape or printing on demand is preferable.

また、背景技術で説明したように、極めて過酷な環境での使用、長期にわたる使用期限、及び/又は多数回の繰り返し使用などでは、未だ充分な耐久性が得られていなかったので、保護層(ハードコート層、本発明のホログラム層が兼ねている)を厚くすればよいが、厚くすると箔切れが著しく悪くなるので、別途、保護層を重ねて2回転写していた。本発明のホログラム転写箔10によれば、画像の保護性が高く、セキュリティー性もあるホログラム層15を、剥離性及び箔切れ性がよく、1回のみでで転写することができる。
該ホログラム層15が最表面に位置するようになり、溶剤、機械的な摩擦、及び摩耗から支持体に設けられた画像を保護し、傷付きにくく耐久性が高まる。
このように、機械的化学的な損傷から長期間にわたって保護できるので、極めて過酷な環境で使用されるガソリンスタンドカードや工事現場カード、及び、使用期限がなかったり、長期にわたる入退室カードやポイントカード、金融機関などの多数のセキュリティ管理された部屋への入退室を繰り返す入退室カードなどにも好適に使用することができる。
In addition, as described in the background art, sufficient durability has not yet been obtained in use in extremely harsh environments, long-term expiration dates, and / or many repeated uses. The hard coat layer and the hologram layer of the present invention may also be thickened. However, since the foil breakage is remarkably deteriorated when the thickness is thickened, a protective layer is separately stacked and transferred twice. According to the hologram transfer foil 10 of the present invention, the hologram layer 15 having high image protection and security is excellent in peelability and foil breakability, and can be transferred only once.
The hologram layer 15 comes to be positioned on the outermost surface, protects the image provided on the support from solvent, mechanical friction, and abrasion, and is hard to be damaged, and durability is increased.
In this way, because it can be protected from mechanical and chemical damage for a long period of time, gas station cards and construction site cards that are used in extremely harsh environments, long-term entry / exit cards and point cards It can also be suitably used for an entrance / exit card that repeatedly enters and exits a number of security-controlled rooms such as financial institutions.

(支持体)支持体101としては、特に限定されず、例えば天燃繊維紙、コート紙、トレーシングペーパー、転写時の熱で変形しないプラスチックフイルム、ガラス、金属、セラミックス、木材、布あるいは染料受容性のある媒体等いずれのものでもよく、用途によって、適宜選択すればよい。また、支持体101の媒体はその少なくとも1部が、画像、着色、印刷、その他の加飾が施されていてもよい。なお、図2では昇華転写タイプの熱転写方法による画像で、受像層103へ形成した画像を例示しているが、受像層103の有無には限定されない。   (Support) The support 101 is not particularly limited. For example, natural fiber paper, coated paper, tracing paper, plastic film that is not deformed by heat during transfer, glass, metal, ceramics, wood, cloth, or dye acceptance Any medium may be used, and it may be appropriately selected depending on the application. Further, at least a part of the medium of the support 101 may be subjected to image, coloring, printing, or other decoration. Although FIG. 2 illustrates an image formed on the image receiving layer 103 by an image formed by a sublimation transfer type thermal transfer method, it is not limited to the presence or absence of the image receiving layer 103.

(画像)特に好ましい画像105としては、耐久性に劣る画像で、例えば、イエロー、マゼンダ及びシアン(更に必要に応じてブラック)の着色熱転写層を面順次に繰返し多数設けた長尺熱転写フイルムを用いる、溶融転写タイプ、昇華転写タイプの熱転写方法による画像である。該画像は、身分証明書等のIDカードを作成する場合、溶融転写タイプの場合は、文字や数字等の如き画像の形成は容易であるが、これらの画像は耐久性、特に耐摩擦性が劣るという欠点がある。一方、昇華転写タイプの場合には、顔写真等の階調性画像を形成することが出来るが、形成された画像は通常の印刷インキとは異なり、ビヒクルが無い為、耐光性、耐候性、耐摩擦性等の耐久性に劣るという問題がある。
該画像は、本発明のホログラム転写箔10を用いて表面へ転写することで、ハードコート層を兼ねるホログラム層15が最表面に位置し、画像を保護し、耐久性を高め、かつ、ホログラムの持つ高意匠性とセキュリティ性をも兼ねることとなる。
(Image) A particularly preferable image 105 is an image having inferior durability, for example, a long thermal transfer film in which a large number of colored thermal transfer layers of yellow, magenta, and cyan (and black if necessary) are repeatedly provided in the surface order. 3 is an image obtained by a thermal transfer method of a melt transfer type or a sublimation transfer type. In the case of creating an ID card such as an ID card, in the case of the melt transfer type, it is easy to form images such as letters and numbers, but these images have durability, particularly friction resistance. There is a disadvantage of being inferior. On the other hand, in the case of the sublimation transfer type, it is possible to form a gradation image such as a facial photograph, but unlike the normal printing ink, the formed image has no vehicle, so light resistance, weather resistance, There is a problem that durability such as friction resistance is inferior.
The image is transferred to the surface using the hologram transfer foil 10 of the present invention, so that the hologram layer 15 serving also as a hard coat layer is located on the outermost surface, protecting the image, enhancing the durability, and It also has both high design and security.

(耐久性)ホログラム層15の鉛筆硬度試験は、JIS−K5400に準拠して測定し、H以上の硬度を有していた。
また、ホログラム層15のスクラッチ強度は、表面の充分な耐摩擦性の点から、サファイア150g以上、好ましくは200g以上である。
なお、スクラッチ強度の測定方法は、23℃、55%RHの条件下で24時間調湿した試料に対して、耐摩耗性試験機(HEIDON−18)を用い、0.8mmφサファイア針を直角にあてがい、サファイア針に掛かる荷重を0gから200gまで徐々に増加させ、60cm/minで試料表面を摺動して移動させながら、表面に傷が付き始める時の荷重の測定を行った。荷重が大きいほど良好であることを表す。
(Durability) The pencil hardness test of the hologram layer 15 was measured according to JIS-K5400 and had a hardness of H or higher.
In addition, the scratch strength of the hologram layer 15 is 150 g or more, preferably 200 g or more, from the viewpoint of sufficient friction resistance on the surface.
The scratch strength was measured using a wear resistance tester (HEIDON-18) on a sample conditioned at 23 ° C. and 55% RH for 24 hours, with a 0.8 mmφ sapphire needle at a right angle. As a result, the load applied to the sapphire needle was gradually increased from 0 g to 200 g, and the load when the surface began to be scratched was measured while sliding and moving the sample surface at 60 cm / min. The larger the load, the better.

以下、実施例及び比較例により、本発明を更に詳細に説明するが、これに限定されるものではない。   EXAMPLES Hereinafter, although an Example and a comparative example demonstrate this invention further in detail, it is not limited to this.

(実施例1)基材11として厚さ25μmのPETフィルムを用い、該基材11の一方の面へ、グラビアコート法で、TCM01メジューム(大日本インキ社製、メラミン樹脂商品名)塗工液を乾燥後2μmになるように塗布し乾燥して、080℃20秒間焼き付けて、離型層13を形成した。
該離型層13面へ、下記の電離放射線硬化性樹脂組成物をグラビアリバースコーターで乾燥後の厚さが2μmになるように、塗工し100℃で乾燥させた。
・<電離放射線硬化性樹脂組成物の作製手順>
まず、「電離放射線硬化性樹脂組成物M」は以下の手順で、生成した。撹拌機、還流冷却器、滴下漏斗及び温度計を取り付けた反応器に、酢酸エチル206.1g及びイソホロンジイソシアネートの三量体(HULS社製品、VESTANAT T1890、融点110℃)133.5gを仕込み、80℃に昇温して溶解させた。溶液中に空気を吹き込んだのち、ハイドロキノンモノメチルエーテル0.38g、ペンタエリスリトールトリアクリレート(大阪有機化学工業社製品、ビスコート300)249.3g及びジブチル錫ジラウレート0.38gを仕込んだ。80℃で5時間反応させたのち酢酸エチル688.9gを添加して冷却した。
該「電離放射線硬化性樹脂組成物M」と、造膜性樹脂(アクリル系オリゴマー)、反応性シリコーン、ポリエチレンワックス、光重合開始剤、及び溶媒を下記の組成で配合して電離放射線硬化性樹脂組成物を調製した。
・<ホログラム層の電離放射線硬化性樹脂組成物>
「電離放射線硬化性樹脂組成物M」 25質量部
メタアクリレートオリゴマー(日本合成化学社製、商品名紫光6630B)5質量部
反応性シリコーン(信越化学社製、商品名X−22−2445) 0.2質量部
ポリエチレンワックス(平均粒径2.0μm) 0.3質量部
光重合開始剤(チバ社製、商品名イルガキュア907) 0.9質量部
酢酸エチル 70質量部
次に、該層面へ、2光束干渉法による回折格子から2P法で複製した擬似連続絵柄としたスタンパを複製装置のエンボスローラーに貼着して、相対するローラーと間で加熱プレス(エンボス)して、微細な凹凸パターンからなるレリーフを賦形させた。賦形後直ちに、高圧水銀灯を用いて紫外線を照射して硬化させた。
該ホログラム層15のレリーフ面へ真空蒸着法で厚さが50nmの酸化チタン薄膜を形成して反射層17を形成した。
該反射層17面へ、下記の接着層組成物をグラビアコーターで乾燥後の塗布量が1μmになるように、塗工し100℃で乾燥させて、接着層19を形成して、実施例1のホログラム転写箔10を得た。
・<接着層組成物>
ポリエステル樹脂P−170(日本合成化学社製、商品名) 20質量部
マイクロシリカ(平均粒子径0.5μ) 10質量部
溶媒(MEK:トルエン=1:1) 70質量部
Example 1 Using a PET film having a thickness of 25 μm as the base material 11, a TCM01 medium (manufactured by Dainippon Ink Co., Ltd., melamine resin product name) coating liquid is applied to one surface of the base material 11 by a gravure coating method. After being dried, it was applied to a thickness of 2 μm, dried, and baked at 080 ° C. for 20 seconds to form a release layer 13.
The surface of the release layer 13 was coated with the following ionizing radiation curable resin composition with a gravure reverse coater so that the thickness after drying was 2 μm and dried at 100 ° C.
・ <Procedure for producing ionizing radiation curable resin composition>
First, “ionizing radiation curable resin composition M” was produced by the following procedure. A reactor equipped with a stirrer, reflux condenser, dropping funnel and thermometer was charged with 206.1 g of ethyl acetate and 133.5 g of isophorone diisocyanate trimer (HULS product, VESTANAT T1890, melting point 110 ° C.), 80 The solution was heated to 0 ° C. and dissolved. After blowing air into the solution, 0.38 g of hydroquinone monomethyl ether, 249.3 g of pentaerythritol triacrylate (product of Osaka Organic Chemical Industry Co., Ltd., Viscoat 300) and 0.38 g of dibutyltin dilaurate were charged. After reacting at 80 ° C. for 5 hours, 688.9 g of ethyl acetate was added and cooled.
The “ionizing radiation curable resin composition M”, a film-forming resin (acrylic oligomer), a reactive silicone, a polyethylene wax, a photopolymerization initiator, and a solvent are blended in the following composition to form an ionizing radiation curable resin. A composition was prepared.
・ <Ionizing radiation curable resin composition of hologram layer>
“Ionizing radiation curable resin composition M” 25 parts by mass Methacrylate oligomer (manufactured by Nippon Synthetic Chemical Co., Ltd., trade name Murasaki 6630B) 5 parts by weight of reactive silicone (manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd., trade name X-22-2445) 0. 2 parts by mass Polyethylene wax (average particle size 2.0 μm) 0.3 parts by mass Photopolymerization initiator (Ciba, trade name Irgacure 907) 0.9 parts by mass Ethyl acetate 70 parts by mass Next, to the layer surface, 2 A stamper with a quasi-continuous pattern duplicated from the diffraction grating by the beam interference method by the 2P method is attached to the embossing roller of the duplicating apparatus, and is heated and pressed (embossed) with the opposing roller to form a fine uneven pattern. The relief was shaped. Immediately after shaping, it was cured by irradiating with ultraviolet rays using a high-pressure mercury lamp.
A reflective layer 17 was formed by forming a 50 nm thick titanium oxide thin film on the relief surface of the hologram layer 15 by vacuum deposition.
The following adhesive layer composition was applied to the surface of the reflective layer 17 with a gravure coater so that the coating amount after drying was 1 μm, and dried at 100 ° C. to form an adhesive layer 19. The hologram transfer foil 10 was obtained.
・ <Adhesive layer composition>
Polyester resin P-170 (manufactured by Nippon Synthetic Chemical Co., Ltd., trade name) 20 parts by mass Microsilica (average particle size 0.5 μm) 10 parts by mass Solvent (MEK: toluene = 1: 1) 70 parts by mass

(実施例2)ホログラム層15の電離放射線硬化性樹脂組成物として、下記の電離放射線硬化性樹脂組成物を用いる以外は、実施例1と同様にして、実施例2のホログラム転写箔10を得た。
・<ホログラム層の電離放射線硬化性樹脂組成物>
「電離放射線硬化性樹脂組成物M」 25質量部
メタアクリレートオリゴマー(日本合成化学社製、商品名紫光7510B)5質量部
反応性シリコーン(信越化学社製、商品名X−22−1602) 0.2質量部
ポリエチレンワックス(平均粒径2.0μm) 2質量部
光重合開始剤(チバ社製、商品名イルガキュア907) 0.9質量部
酢酸エチル 70質量部
Example 2 A hologram transfer foil 10 of Example 2 is obtained in the same manner as Example 1 except that the ionizing radiation curable resin composition described below is used as the ionizing radiation curable resin composition of the hologram layer 15. It was.
・ <Ionizing radiation curable resin composition of hologram layer>
“Ionizing radiation curable resin composition M” 25 parts by mass Methacrylate oligomer (manufactured by Nippon Synthetic Chemical Co., Ltd., trade name: Murasakimitsu 7510B) 5 parts by mass of reactive silicone (manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd., trade name: X-22-1602) 2 parts by mass Polyethylene wax (average particle size 2.0 μm) 2 parts by mass Photopolymerization initiator (Ciba, trade name Irgacure 907) 0.9 parts by mass Ethyl acetate 70 parts by mass

(比較例1)ホログラム層15の電離放射線硬化性樹脂組成物として、下記の電離放射線硬化性樹脂組成物を用いる以外は、実施例1と同様にして、比較例1のホログラム転写箔を得た。
・<ホログラム層の電離放射線硬化性樹脂組成物>
「電離放射線硬化性樹脂組成物M」 25質量部
メタアクリレートオリゴマー(日本合成化学社製、商品名紫光6630B)5質量部
反応性シリコーン(信越化学社製、商品名X−22−2445) 0.2質量部
光重合開始剤(チバ社製、商品名イルガキュア907) 0.9質量部
酢酸エチル 70質量部
(Comparative Example 1) A hologram transfer foil of Comparative Example 1 was obtained in the same manner as in Example 1 except that the following ionizing radiation curable resin composition was used as the ionizing radiation curable resin composition of the hologram layer 15. .
・ <Ionizing radiation curable resin composition of hologram layer>
“Ionizing radiation curable resin composition M” 25 parts by mass Methacrylate oligomer (manufactured by Nippon Synthetic Chemical Co., Ltd., trade name Murasaki 6630B) 5 parts by weight of reactive silicone (manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd., trade name X-22-2445) 0. 2 parts by weight Photopolymerization initiator (Ciba, trade name Irgacure 907) 0.9 parts by weight Ethyl acetate 70 parts by weight

(比較例2)ホログラム層15の電離放射線硬化性樹脂組成物として、下記の電離放射線硬化性樹脂組成物を用いる以外は、実施例1と同様にして、比較例2のホログラム転写箔を得た。
・<ホログラム層の電離放射線硬化性樹脂組成物>
「電離放射線硬化性樹脂組成物M」 25質量部
メタアクリレートオリゴマー(日本合成化学社製、商品名紫光6630B)5質量部
反応性シリコーン(信越化学社製、商品名X−22−2445) 0.2質量部
ポリエチレンワックス(平均粒径2.0μm) 5質量部
光重合開始剤(チバ社製、商品名イルガキュア907) 0.9質量部
酢酸エチル 70質量部
(Comparative Example 2) A hologram transfer foil of Comparative Example 2 was obtained in the same manner as in Example 1 except that the following ionizing radiation curable resin composition was used as the ionizing radiation curable resin composition of the hologram layer 15. .
・ <Ionizing radiation curable resin composition of hologram layer>
“Ionizing radiation curable resin composition M” 25 parts by mass Methacrylate oligomer (manufactured by Nippon Synthetic Chemical Co., Ltd., trade name Murasaki 6630B) 5 parts by weight of reactive silicone (manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd., trade name X-22-2445) 0. 2 parts by mass Polyethylene wax (average particle size 2.0 μm) 5 parts by mass Photopolymerization initiator (Ciba, trade name Irgacure 907) 0.9 parts by mass Ethyl acetate 70 parts by mass

(評価)評価は支持体への転写試験で行った。転写試験は、支持体101としてポリ塩化ビニール製のクレジットカード仕様のカードを用い、該支持体101の表面へ、FARGO製のカード用プリンタHDP820で、カラー昇華性インクリボンを用いて顔写真を印画した後に、同じくFARGO製のカード用プリンタHDP820で、実施例及び比較例のハードコート層転写箔10の接着層19面を重ねて熱転写し、カードへの転写状況を観察した。   (Evaluation) Evaluation was performed by a transfer test to a support. In the transfer test, a credit card card made of polyvinyl chloride is used as the support 101, and a face photograph is printed on the surface of the support 101 using a color sublimable ink ribbon with a card printer HDP820 made by FARGO. After that, the surface of the adhesive layer 19 of the hard coat layer transfer foil 10 of the example and the comparative example was overlapped and thermally transferred with the card printer HDP820 manufactured by FARGO, and the transfer state to the card was observed.

(評価結果)実施例1〜3では、転写時の剥離性もよく、箔切れ性もよく、正常に転写できた。しかしながら、比較例1では剥離性が悪く剥離しにくく、転写時にバリが発生して正常に転写できなかった。比較例2ではホログラムの賦型性が悪く、光回折効果が得られなかった。なお、実施例1〜3及び比較例1のホログラム層に賦型された回折格子模様は充分な光回折効果が発現されており、意匠性とセキュリティ性に優れていた。
また、実施例1〜3の第1ハードコート層15面の鉛筆硬度試験を、JIS−K−5400に準拠して測定したところ、2H以上の硬度を有し、さらに、実施例1〜3の第1ハードコート層15面のスクラッチ強度はサファイア200g以上であり、充分な耐久性を有していた。しかしながら、比較例1ではスクラッチ強度が悪く、充分な耐久性を有していなかった。
(Evaluation results) In Examples 1 to 3, the peelability at the time of transfer was good, the foil breakage was good, and transfer was normally performed. However, Comparative Example 1 had poor peelability and was difficult to peel off, and burrs were generated during transfer, and transfer could not be performed normally. In Comparative Example 2, the formability of the hologram was poor, and the light diffraction effect was not obtained. The diffraction grating patterns formed on the hologram layers of Examples 1 to 3 and Comparative Example 1 exhibited a sufficient light diffraction effect, and were excellent in design and security.
Moreover, when the pencil hardness test of the 1st hard-coat layer 15 surface of Examples 1-3 was measured based on JIS-K-5400, it has hardness of 2H or more, and also of Examples 1-3. The scratch strength of the first hard coat layer 15 surface was 200 g or more of sapphire and had sufficient durability. However, in Comparative Example 1, the scratch strength was poor and the durability was not sufficient.

本発明の1実施例を示すホログラム転写箔の断面図である。It is sectional drawing of the hologram transfer foil which shows one Example of this invention. 本発明のホログラム転写箔を用いて転写した被転写物である。It is the transferred material transferred using the hologram transfer foil of the present invention.

符号の説明Explanation of symbols

10:ハードコート層転写箔
11:基材
13:離型層
15:ホログラム層
17:反射層
19:接着層
21:紫外線吸収層
100:媒体
101:支持体
103:受像層
105:画像
10: Hard coat layer transfer foil 11: Base material 13: Release layer 15: Hologram layer 17: Reflective layer 19: Adhesive layer 21: Ultraviolet absorption layer 100: Medium 101: Support body 103: Image receiving layer 105: Image

Claims (2)

基材と、該基材の一方の面へ少なくとも離型層、ホログラム層、反射層及び接着層を設けてなるホログラム転写箔において、
前記離型層がメラミン系樹脂であり、
前記ホログラム層が電離放射線硬化性樹脂及び反応性シリコーンの硬化物、並びにポリエチレンワックスを含み、
前記電離放射線硬化性樹脂が(1)分子中にイソシアネート基を3個以上有するイソシアネート類、(2)分子中に水酸基を少なくとも1個と(メタ)アクリロイルオキシ基を少なくとも2個有する多官能(メタ)アクリレート類、又は(3)分子中に水酸基を少なくとも2個有する多価アルコール類の反応生成物であるウレタン(メタ)アクリレートオリゴマーを含有し、
前記ホログラム層がJIS−K5400に準拠した鉛筆硬度がH以上を有するハードコート機能を兼ねていることを特徴とするホログラム転写箔。
In a hologram transfer foil comprising a substrate and at least a release layer, a hologram layer, a reflective layer and an adhesive layer on one surface of the substrate,
The release layer is a melamine resin;
The hologram layer includes a cured product of ionizing radiation curable resin and reactive silicone, and polyethylene wax,
The ionizing radiation curable resin is (1) an isocyanate having three or more isocyanate groups in the molecule, (2) a polyfunctional (meta) having at least one hydroxyl group and at least two (meth) acryloyloxy groups in the molecule. ) Acrylates, or (3) a urethane (meth) acrylate oligomer that is a reaction product of polyhydric alcohols having at least two hydroxyl groups in the molecule ,
The hologram transfer foil, wherein the hologram layer also serves as a hard coat function having a pencil hardness of H or more in accordance with JIS-K5400 .
上記ホログラム層のポリエチレンワックスの含有が質量基準で、電離放射線硬化樹脂:ポリエチレンワックス=100:0.01〜10であることを特徴とする請求項1記載のホログラム転写箔。 2. The hologram transfer foil according to claim 1 , wherein the content of the polyethylene wax in the hologram layer is, on a mass basis, ionizing radiation curable resin: polyethylene wax = 100: 0.01-10.
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