JP2008155441A - In-mold transfer foil and molding using the foil - Google Patents

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JP2008155441A JP2006345339A JP2006345339A JP2008155441A JP 2008155441 A JP2008155441 A JP 2008155441A JP 2006345339 A JP2006345339 A JP 2006345339A JP 2006345339 A JP2006345339 A JP 2006345339A JP 2008155441 A JP2008155441 A JP 2008155441A
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Shinji Tajima
真治 田島
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Dai Nippon Printing Co Ltd
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide in-mold transfer foil which is good in heat resistance preventing heat whitening and followability to elongation/shrinkage and can transfer a hologram excellent in decorative appearance with suppressed breaking and whitening to a three-dimensional surface. <P>SOLUTION: A substrate 11, mold release layer 13, hologram layer 15, reflection layer 17, high brightness ink layer 18, and adhesive layer 19 are provided. The mold release layer 13 is made of a melamine resin. The hologram layer 15 contains a cured ionizing radiation curable resin, a reactive silicone, and polyethylene wax. The high brightness ink layer contains at least metal vapor deposition film splits surface-treated with methyl silyl isocyanate or a cellulose derivative. The ionizing radiation-cured hologram layer has an elongation at break at 23°C of at least 5% and a heat resistance preventing whitening even when allowed to stand at 150°C for one hour in an in-mold transfer foil state. <P>COPYRIGHT: (C)2008,JPO&INPIT

Description

本発明は、インモールド用転写箔に関し、さらに詳しくは、成形用金型内へ挿入し成形することで、成形品の立体面への追従性がよく、白化せずにホログラムを転写することのできるインモールド用転写箔、及び成形品に関するものである。   The present invention relates to an in-mold transfer foil, and more specifically, by inserting into a molding die and molding, the followability to a three-dimensional surface of a molded product is good, and a hologram can be transferred without whitening. The present invention relates to an in-mold transfer foil and a molded product.

本明細書において、配合を示す「比」、「部」、「%」などは特に断わらない限り質量基準であり、「/」印は一体的に積層されていることを示す。また、「PET」は「ポリエチレンテレフタレート」の略語、同意語、機能的表現、通称、又は業界用語である。   In the present specification, “ratio”, “part”, “%” and the like indicating the composition are based on mass unless otherwise specified, and the “/” mark indicates that they are integrally laminated. “PET” is an abbreviation, synonym, functional expression, common name, or industry term for “polyethylene terephthalate”.

(主なる用途)本発明のインモールド用転写箔を用いた成形品の主なる用途としては、日用品や生活用品などの機器本体、食品や各種物品の容器類、電子機器や事務用品などの筐体類など立体成形品で、成形品の表面にホログラムによる特異な意匠性を向上させたもので、成形品の形状や内容物は任意である。しかしながら、高意匠化のために、成形品の表面にホログラムを転写した用途であれば、特に限定されるものではない。   (Main applications) The main applications of the molded product using the in-mold transfer foil of the present invention include equipment bodies such as daily necessities and daily necessities, containers for food and various articles, housings such as electronic equipment and office supplies. A three-dimensional molded product such as a body, which has a unique design improved by a hologram on the surface of the molded product, and the shape and contents of the molded product are arbitrary. However, there is no particular limitation as long as it is an application in which a hologram is transferred to the surface of a molded product for high design.

(背景技術)従来、射出成形などによる成形品は、また、成形時に、ホログラム転写箔を金型内へ挿入して、射出成形と同時にホログラムを転写することが行われている。
さらなる高意匠化のために、成形品の立体部分へもホログラムを転写することが求められている。しかしながら、該転写は平面又は1方向の曲面に制限される。立体部分は溶融した高温の射出成形樹脂の流れによって、ホログラム転写箔が伸張しシワや破れが発生し、また伸張及び/又は収縮によって、割れ、伸縮ジワによって光輝性が変化し、特に反射層がアルミニウム薄膜のみの場合には、本来の金属光沢が伸縮によって白化し全く金属光沢が失われ、ホログラムも消失してしまう。従来は伸縮の影響を最小に押えようと、伸縮の少ない部分へホログラムを貼着又は転写したり、小さい面積のホログラムとしたりすることで、伸縮の影響を最小に押えなければならなかった。
そこで、熱で白化しない耐熱性と、伸縮率が大きくても伸縮へ追従性がよく、割れや白化などのホログラム効果の低下が少ない意匠性に優れたホログラム付きの成形品を得るため、立体面へ転写することのできるホログラム付きの成形品を得るためのインモールド用転写箔が求められている。
(Background Art) Conventionally, in a molded product by injection molding or the like, a hologram transfer foil is inserted into a mold at the time of molding, and a hologram is transferred simultaneously with injection molding.
In order to further increase the design, it is required to transfer a hologram to a three-dimensional part of a molded product. However, the transfer is limited to a flat surface or a curved surface in one direction. In the three-dimensional part, the hologram transfer foil stretches and wrinkles and tears due to the flow of the molten high-temperature injection molding resin, and the glittering property changes due to cracks and expansion / contraction wrinkles due to stretching and / or shrinkage. In the case of only an aluminum thin film, the original metallic luster becomes white due to expansion and contraction, and the metallic luster is completely lost, and the hologram is also lost. Conventionally, in order to suppress the influence of expansion and contraction to the minimum, it has been necessary to suppress the influence of expansion and contraction to a minimum by attaching or transferring a hologram to a portion with little expansion and contraction, or making a hologram with a small area.
Therefore, in order to obtain a molded product with a hologram with excellent heat resistance that does not whiten by heat, good followability to expansion and contraction even if the expansion ratio is large, and less deterioration of hologram effect such as cracking and whitening, etc. There is a need for an in-mold transfer foil for obtaining a molded article with a hologram that can be transferred to a substrate.

(先行技術)従来、基材、印刷層、光回折構造層(本発明のホログラム層に相当する)及び熱接着性樹脂層とを含む積層シートで作製したラベルを、インモールドラベリング方式の射出成形により一体化成形するカップ状容器が知られている(例えば、特許文献1参照。)。しかしながら、ホログラム層が成形される周壁は平面であり立体面ではない。
また、加飾転写層(本発明のホログラム層を含む)を伸縮性材料に転写した後に、少なくとも表面の一部に凹凸又は曲面を有する成形品本体の表面の一部分に加熱加圧により転写した表面装飾成形品が知られている(例えば、特許文献2参照。)。しかしながら、加飾転写層を直接成形品へ転写はできないという欠点がある。
さらに、ベースフィルム、保護層、金属薄膜(本発明のホログラム層と反射層に相当する)、接着層とからなる転写フィルムを作製し、この転写フィルムを挟んで一対の金型を型締めし、該金型内に溶融樹脂を射出して金属薄膜をつけ爪本体の表面に転写するつけ爪の製法が知られている(例えば、特許文献3参照。)。しかしながら、つけ爪は1方向の大きな曲面で、転写フィルム自身は平面を巻き付けた状況であり、立体とは言い難い、また、転写フィルムを構成する保護層、金属薄膜、及び接着層の材料についても、極く一般的なものであり、立体物への転写で最大の問題点であある材料の伸縮性については記載も示唆もされていない。
さらにまた、本出願人も立体成形品を成形する際に微細な凹凸を予め形成しておいてから、該微細な凹凸面へ反射層を設けてホログラムとするものを開示している(例えば、特許文献4〜5参照。)。しかしながら、微細な凹凸を予め形成せるために微細な凹凸を賦型する専用の賦型フィルムを作成せねばならず、またそれを用いたインモールド成形方法も煩雑であり、さらに形成した微細な凹凸へ反射層を設ける工程が必要で、高コストとなるという問題点がある。
(Prior Art) Conventionally, an in-mold labeling type injection molding of a label made of a laminated sheet including a base material, a printing layer, a light diffraction structure layer (corresponding to the hologram layer of the present invention) and a thermoadhesive resin layer There is known a cup-shaped container that is integrally molded by the above-described method (for example, see Patent Document 1). However, the peripheral wall on which the hologram layer is formed is a flat surface and not a solid surface.
Further, after the decorative transfer layer (including the hologram layer of the present invention) is transferred to the stretchable material, the surface is transferred to a part of the surface of the molded article body having at least a part of the surface by unevenness or a curved surface by heating and pressing. A decorative molded product is known (for example, refer to Patent Document 2). However, there is a drawback that the decorative transfer layer cannot be directly transferred to a molded product.
Furthermore, a transfer film composed of a base film, a protective layer, a metal thin film (corresponding to the hologram layer and the reflective layer of the present invention), and an adhesive layer is produced, and a pair of molds are clamped with the transfer film interposed therebetween, There is known a method for manufacturing a false nail in which a molten resin is injected into the mold and a metal thin film is applied to the surface of the nail body (see, for example, Patent Document 3). However, the false nail is a large curved surface in one direction, and the transfer film itself is wound around a flat surface, and it is difficult to say that it is three-dimensional. Also, the materials of the protective layer, metal thin film, and adhesive layer constituting the transfer film However, there is no description or suggestion about the stretchability of the material, which is extremely general and is the biggest problem in transfer to a three-dimensional object.
Furthermore, the present applicant has also disclosed a method of forming a hologram by previously forming a fine unevenness when forming a three-dimensional molded product, and then providing a reflective layer on the fine uneven surface (for example, (See Patent Documents 4 to 5.) However, in order to form the fine irregularities in advance, a dedicated shaping film for shaping the fine irregularities must be created, and the in-mold molding method using the film is complicated, and the fine irregularities formed There is a problem that a step of providing a reflective layer is required, resulting in high cost.

特開2005−7647号公報JP 2005-7647 A 特開2004−58599号公報JP 2004-58599 A 特開2003−9941号公報Japanese Patent Laid-Open No. 2003-9941 特開2004−163482号公報JP 2004-163482 A 特開2004−284178号公報JP 2004-284178 A

そこで、本発明はこのような問題点を解消するためになされたものである。その目的は、熱で白化しない耐熱性と、伸縮率が大きくても伸縮へ追従性がよく、割れや白化などのホログラム効果の低下が少ない意匠性に優れたホログラムを立体面へ転写することのできるインモールド用転写箔を提供することである。   Accordingly, the present invention has been made to solve such problems. The purpose is to transfer a hologram with excellent heat resistance that does not whiten by heat, good conformity to expansion and contraction even when the expansion ratio is large, and less deterioration of hologram effects such as cracking and whitening to a three-dimensional surface. It is to provide a transfer foil for in-mold.

上記の課題を解決するために、
請求項1の発明に係わるインモールド用転写箔は、基材と、該基材の一方の面へ離型層、ホログラム層、反射層、高輝度インキ層及び接着層を設けてなるインモールド用転写箔において、前記離型層がメラミン系樹脂であり、前記ホログラム層が電離放射線硬化性樹脂の硬化物、反応性シリコーン及びポリエチレンワックスを含み、前記高輝度インキ層が少なくとも有機脂肪酸、メチルシリルイソシアネート又はセルロース誘導体で表面処理した金属蒸着膜細片を含んでいるように、したものである。
請求項2の発明に係わるインモールド用転写箔は、上記ホログラム層が(1)電離放射線硬化前の塗膜が指乾状態で、(2)電離放射線硬化後の23℃における破断伸度が5%以上で、かつ、(3)基材、離型層、ホログラム層、反射層、高輝度インキ層及び接着層を設けたインモールド用転写箔状態で、150℃雰囲気中に1時間放置しても白化しない耐熱性を有するように、したものである。
請求項3の発明に係わる成形品は、請求項1〜2のいずれかに記載のインモールド用転写箔を用いて、インモールド射出成形法で製造されてなるように、したものである。
To solve the above problem,
The transfer foil for in-mold according to the invention of claim 1 is for in-mold, comprising a base material and a release layer, a hologram layer, a reflective layer, a high-brightness ink layer, and an adhesive layer on one surface of the base material. In the transfer foil, the release layer is a melamine resin, the hologram layer contains a cured product of ionizing radiation curable resin, reactive silicone, and polyethylene wax, and the high-brightness ink layer is at least an organic fatty acid, methylsilyl isocyanate Or it is made to contain the metal vapor deposition film | membrane piece surface-treated with the cellulose derivative.
In the transfer foil for in-mold according to the invention of claim 2, the hologram layer is (1) the coating film before ionizing radiation curing is finger-dried, and (2) the breaking elongation at 23 ° C. after ionizing radiation curing is 5 %, And (3) left in a 150 ° C. atmosphere for 1 hour in an in-mold transfer foil with a substrate, a release layer, a hologram layer, a reflective layer, a high-brightness ink layer and an adhesive layer. Also, it is made to have heat resistance that does not whiten.
The molded product according to the invention of claim 3 is manufactured by the in-mold injection molding method using the transfer foil for in-mold according to any one of claims 1 to 2.

請求項1の本発明によれば、熱で白化しない耐熱性と、伸縮へ追従性がよく、割れや白化などのホログラム効果の低下が少ない意匠性に優れたホログラムを立体面へ転写することのできるインモールド用転写箔が提供される。
請求項2の本発明によれば、請求項1の効果に加えて、巻取り状で効率的に加工でき、、伸縮率が大きくても伸縮へ追従性がよく、割れや白化などのホログラム効果の低下が少ないインモールド用転写箔が提供される。
請求項3の本発明によれば、割れや白化などのホログラム効果の低下が少ない意匠性に優れたホログラムが転写されたインモールド用転写箔を用いたホログラム付きの成形品が提供される。
According to the first aspect of the present invention, it is possible to transfer a heat-resistant material that is not whitened by heat, a good conformability to expansion and contraction, and a low design effect of hologram effects such as cracking and whitening to a three-dimensional surface. An in-mold transfer foil is provided.
According to the second aspect of the present invention, in addition to the effect of the first aspect, it can be efficiently processed in a winding shape, has good followability to expansion / contraction even if the expansion / contraction ratio is large, and has hologram effects such as cracking and whitening. An in-mold transfer foil is provided in which there is little decrease in the thickness.
According to the third aspect of the present invention, there is provided a molded article with a hologram using a transfer foil for in-mold onto which a hologram having excellent design properties with little reduction in hologram effect such as cracking and whitening is transferred.

以下、本発明の実施形態について、図面を参照しながら、詳細に説明する。
図1は、本発明の1実施例を示すインモールド用転写箔の断面図である。
図2は、本発明の1実施例を示すインモールド用転写箔の断面図である。
図3は、本発明のインモールド用転写箔を用いて、転写した成形品の断面図である。
Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the drawings.
FIG. 1 is a cross-sectional view of an in-mold transfer foil showing one embodiment of the present invention.
FIG. 2 is a cross-sectional view of an in-mold transfer foil showing one embodiment of the present invention.
FIG. 3 is a cross-sectional view of a molded product transferred using the in-mold transfer foil of the present invention.

(インモールド射出成形法)まず、インモールド射出成形法とは、(1)インモールド用転写箔10を準備する工程と、(2)該インモールド用転写箔10を射出成形用金型内へ挿入する工程と、(3)該射出成形用金型へ樹脂を射出成形し密着させることで、該樹脂の表面へインモールド用転写箔10のホログラム層15、反射層17、高輝度インキ層18及び接着層19を転写する工程と、(4)冷却後、金型を解放し、インモールド用転写箔10の基材11及び離型層13を剥離して成形品を取り出す工程と、からなる射出成形法で、立体面へホログラムが転写された成形品100を製造できる。   (In-mold injection molding method) First, the in-mold injection molding method is (1) a step of preparing an in-mold transfer foil 10 and (2) the in-mold transfer foil 10 into an injection mold. (3) The resin layer is injection-molded and brought into close contact with the injection mold, whereby the hologram layer 15, the reflective layer 17, and the high-brightness ink layer 18 of the in-mold transfer foil 10 are adhered to the surface of the resin. And the step of transferring the adhesive layer 19 and (4) the step of releasing the mold after cooling, peeling the base material 11 and the release layer 13 of the in-mold transfer foil 10 and taking out the molded product. A molded product 100 in which a hologram is transferred to a three-dimensional surface can be manufactured by an injection molding method.

(インモールド用転写箔)本発明のインモールド用転写箔10は、図1に示すように、基材11と、該基材の一方の面へ離型層13、ホログラム層15、反射層17、高輝度インキ層18及び接着層19の層構成において、ホログラム層15及び離型層13が特定の材料からなる。好ましくは、ホログラム層15が(1)電離放射線硬化前の塗膜が指乾状態で、(2)電離放射線硬化後の23℃における破断伸度が5%以上で、かつ、(3)基材11、離型層13、ホログラム層15、反射層17、高輝度インキ層18及び接着層19を設けたインモールド用転写箔10状態で、150℃雰囲気中に1時間放置しても白化しない耐熱性を有する。反射層17は透明反射層が好ましいが、不透明な金属の薄膜でも同様の効果がある。
また、図2に示すように、離型層13とホログラム層15との間へハードコート層12を設けたり、反射層17と高輝度インキ層18との間へ印刷層16を設けたり、層間へプライマ層などの他の層を設けてもよいが、ホログラム層15と反射層17とは隣接させる。
本発明のインモールド用転写箔10は、基材11/離型層13/ハードコート層12(必要に応じて)/ホログラム層15/反射層17/印刷層16(必要に応じて)/高輝度インキ層18/接着層19の層構成からなる。
本発明のインモールド用転写箔10は、インモールド射出成形法で、立体成形品へのホログラムの転写に好ましく使用でき、ホログラムを転写した成形品を図3に示す。なお、図3は作図の都合上、成形品は平面に描いているが、立体状である。
(In-mold transfer foil) As shown in FIG. 1, the in-mold transfer foil 10 of the present invention comprises a base material 11, a release layer 13, a hologram layer 15, and a reflective layer 17 on one surface of the base material. In the layer configuration of the high-brightness ink layer 18 and the adhesive layer 19, the hologram layer 15 and the release layer 13 are made of a specific material. Preferably, the hologram layer 15 is (1) the coating film before ionizing radiation curing is finger-dried, (2) the elongation at break at 23 ° C. after ionizing radiation curing is 5% or more, and (3) the substrate 11. Heat resistance that does not whiten even when left in a 150 ° C. atmosphere for 1 hour in the state of the in-mold transfer foil 10 provided with the release layer 13, the hologram layer 15, the reflection layer 17, the high-brightness ink layer 18, and the adhesive layer 19. Have sex. The reflective layer 17 is preferably a transparent reflective layer, but an opaque metal thin film has the same effect.
Further, as shown in FIG. 2, a hard coat layer 12 is provided between the release layer 13 and the hologram layer 15, a print layer 16 is provided between the reflective layer 17 and the high brightness ink layer 18, Although other layers such as a primer layer may be provided, the hologram layer 15 and the reflective layer 17 are adjacent to each other.
The in-mold transfer foil 10 of the present invention comprises a base material 11 / a release layer 13 / a hard coat layer 12 (if necessary) / a hologram layer 15 / a reflective layer 17 / a printing layer 16 (if necessary) / high. It consists of a layer structure of luminance ink layer 18 / adhesive layer 19.
The in-mold transfer foil 10 of the present invention can be preferably used for transferring a hologram to a three-dimensional molded product by an in-mold injection molding method. FIG. 3 shows a molded product to which a hologram is transferred. Note that FIG. 3 is a three-dimensional shape, although the molded product is drawn on a plane for convenience of drawing.

(基材)基材11としては、耐熱性、機械的強度、製造に耐える機械的強度、耐溶剤性などがあれば、用途に応じて種々の材料が適用できる。例えば、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレートなどのポリエステル系樹脂、ナイロン6などのポリアミド系樹脂、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリメチルペンテンなどのポリオレフィン系樹脂、ポリ塩化ビニルなどのビニル系樹脂、ポリメチルメタアクリレートなどのアクリル系樹脂、ポリカーボネート、セロファン、セルロースアセテートなどのセルロース系フィルム、などがある。好ましくは、耐熱性、機械的強度の点で、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレートなどのポリエステル系樹脂のフィルムで、ポリエチレンテレフタレートが最適である。該基材の厚さは、通常、2.5〜50μm程度が適用できるが、4〜25μmが転写性の点で好ましい。   (Substrate) As the substrate 11, various materials can be applied depending on the use as long as the substrate 11 has heat resistance, mechanical strength, mechanical strength to withstand manufacturing, solvent resistance, and the like. For example, polyester resins such as polyethylene terephthalate and polyethylene naphthalate, polyamide resins such as nylon 6, polyolefin resins such as polyethylene, polypropylene and polymethylpentene, vinyl resins such as polyvinyl chloride, polymethyl methacrylate, etc. Examples include acrylic resins, polycarbonate, cellophane, and cellulose films such as cellulose acetate. Preferably, in terms of heat resistance and mechanical strength, polyethylene terephthalate is the most suitable for polyester resin films such as polyethylene terephthalate and polyethylene naphthalate. The thickness of the substrate is usually about 2.5 to 50 μm, but 4 to 25 μm is preferable in terms of transferability.

該基材は、これら樹脂を主成分とする共重合樹脂、または、混合体(アロイを含む)、若しくは複数層からなる積層体であっても良い。また、該基材は、延伸フィルムでも、未延伸フィルムでも良いが、強度を向上させる目的で、一軸方向または二軸方向に延伸したフィルムが好ましい。該基材は、これら樹脂の少なくとも1層からなるフィルム、シート、ボード状として使用する。該基材は、塗布に先立って塗布面へ、コロナ放電処理、プラズマ処理、オゾン処理、フレーム処理、プライマー(アンカーコート、接着促進剤、易接着剤とも呼ばれる)塗布処理、予熱処理、除塵埃処理、蒸着処理、アルカリ処理、などの易接着処理を行ってもよい。また、必要に応じて、充填剤、可塑剤、着色剤、帯電防止剤などの添加剤を加えても良い。   The substrate may be a copolymer resin containing these resins as a main component, a mixture (including an alloy), or a laminate composed of a plurality of layers. The substrate may be a stretched film or an unstretched film, but a film stretched in a uniaxial direction or a biaxial direction is preferable for the purpose of improving the strength. The substrate is used as a film, sheet or board formed of at least one layer of these resins. Prior to application, the substrate is subjected to corona discharge treatment, plasma treatment, ozone treatment, flame treatment, primer (also called an anchor coat, adhesion promoter, or easy adhesive) application treatment, pre-heat treatment, dust removal treatment. Alternatively, easy adhesion treatment such as vapor deposition treatment or alkali treatment may be performed. Moreover, you may add additives, such as a filler, a plasticizer, a coloring agent, and an antistatic agent, as needed.

(離型層)離型層13としては、離型性樹脂、離型剤を含んだ樹脂、電離放射線で架橋する硬化性樹脂などがあるが、本発明ではメラミン系樹脂を用いる。該メラミン系樹脂を用いることで、後述する保護層保護層14との組合わせで安定した剥離性を発揮する。離型層13の形成は、該樹脂を溶媒へ分散又は溶解して、ロールコート、グラビアコート、コンマコート、プレーコートなどの印刷又はコーティング方法で、少なくとも1部に塗布し乾燥して塗膜を形成する。また、要すれば、温度30℃〜120℃で加熱乾燥、あるいはエージングしてもよい。離型層13の厚さとしては、通常は0.01μm〜5μm程度、好ましくは0.5μm〜3μm程度である。該厚さは薄ければ薄い程良いが、0.1μm以上であればより良い成膜が得られて剥離力が安定する。   (Release layer) The release layer 13 includes a release resin, a resin containing a release agent, and a curable resin that is cross-linked by ionizing radiation. In the present invention, a melamine resin is used. By using the melamine resin, stable releasability is exhibited in combination with a protective layer protective layer 14 described later. The release layer 13 is formed by dispersing or dissolving the resin in a solvent and applying it to at least one part by a printing or coating method such as roll coating, gravure coating, comma coating, or pre-coating and drying to form a coating film. Form. Further, if necessary, it may be heat-dried or aged at a temperature of 30 ° C. to 120 ° C. The thickness of the release layer 13 is usually about 0.01 μm to 5 μm, preferably about 0.5 μm to 3 μm. The thinner the thickness is, the better. However, when the thickness is 0.1 μm or more, better film formation is obtained and the peeling force is stabilized.

(ホログラム層)ホログラム層15としては、電離放射線硬化性樹脂の硬化物、反応性シリコーン及びポリエチレンワックスを含ませる。このようにすることで、電離放射線硬化後でも熱で白化しない耐熱性と、伸縮へ追従性がよく、割れや白化などのホログラム効果の低下が少ない意匠性に優れたホログラムを立体面へ転写することができる。電離放射線硬化性樹脂としては、例えば、エポキシ変性アクリレート樹脂、ウレタン変性アクリレート樹脂、アクリル変性ポリエステル等が適用でき、好ましくはウレタン変性アクリレート樹脂である。   (Hologram Layer) The hologram layer 15 includes a cured product of ionizing radiation curable resin, reactive silicone, and polyethylene wax. This makes it possible to transfer a hologram with excellent heat resistance that does not whiten by heat even after ionizing radiation curing, excellent conformability to expansion and contraction, and less deterioration of hologram effects such as cracking and whitening to a three-dimensional surface. be able to. As the ionizing radiation curable resin, for example, an epoxy-modified acrylate resin, a urethane-modified acrylate resin, an acrylic-modified polyester, and the like can be applied, and a urethane-modified acrylate resin is preferable.

(電離放射線硬化性樹脂組成物M)好ましいウレタン変性アクリレート樹脂としては、「電離放射線硬化性樹脂組成物M」である。該「電離放射線硬化性樹脂組成物M」としては、ウレタン(メタ)アクリレートオリゴマーを含有する電離放射線硬化性樹脂の硬化物、具体的には、特開2001−329031号公報で開示されている光硬化性樹脂が好ましい。即ち、「電離放射線硬化性樹脂組成物M」(1)分子中にイソシアネート基を3個以上有するイソシアネート類、(2)分子中に水酸基を少なくとも1個と(メタ)アクリロイルオキシ基を少なくとも2個有する多官能(メタ)アクリレート類、又は(3)分子中に水酸基を少なくとも2個有する多価アルコール類の反応生成物であるウレタン(メタ)アクリレートオリゴマーを含有する電離放射線硬化性樹脂と(メタ)アクリレートオリゴマーの硬化物、及び滑剤を含み、かつ、ホログラム層は(1)分子中にイソシアネート基を3個以上有するイソシアネート類、(2)分子中に水酸基を少なくとも1個と(メタ)アクリロイルオキシ基を少なくとも2個有する多官能(メタ)アクリレート類、又は(3)分子中に水酸基を少なくとも2個有する多価アルコール類の反応生成物であるウレタン(メタ)アクリレートオリゴマーを含有する電離放射線硬化性樹脂(本明細書では「電離放射線硬化性樹脂組成物M」と呼称する)である。また、必要に応じて、(メタ)アクリレートオリゴマーなどを含ませてもよい。   (Ionizing radiation curable resin composition M) A preferable urethane-modified acrylate resin is "ionizing radiation curable resin composition M". As the “ionizing radiation curable resin composition M”, a cured product of an ionizing radiation curable resin containing a urethane (meth) acrylate oligomer, specifically, light disclosed in JP-A-2001-329031. A curable resin is preferred. That is, “ionizing radiation curable resin composition M” (1) isocyanates having 3 or more isocyanate groups in the molecule, (2) at least one hydroxyl group and at least two (meth) acryloyloxy groups in the molecule An ionizing radiation curable resin containing a urethane (meth) acrylate oligomer which is a reaction product of a polyfunctional (meth) acrylate having, or (3) a polyhydric alcohol having at least two hydroxyl groups in the molecule, and (meth) The hologram layer contains a cured product of an acrylate oligomer and a lubricant, and the hologram layer is (1) an isocyanate having three or more isocyanate groups in the molecule, and (2) at least one hydroxyl group in the molecule and a (meth) acryloyloxy group. Polyfunctional (meth) acrylates having at least 2 or (3) at least 2 hydroxyl groups in the molecule A urethane which is the reaction product of a polyhydric alcohol (meth) (herein referred to as "ionizing radiation-curable resin composition M") ionizing radiation curable resin containing an acrylate oligomer having. Moreover, you may include a (meth) acrylate oligomer etc. as needed.

((メタ)アクリレートオリゴマー)(メタ)アクリレートオリゴマーとしては、耐熱性のあるオリゴマーであればよく、例えば、日本合成化学社の商品名;紫光6630B、7510B、7630Bなどが例示できる。含有させる質量基準での割合としては、「電離放射線硬化性樹脂組成物M」100部に対して10〜30部程度、好ましくは15〜25部である。この範囲未満では耐熱性が不足し、この範囲を超えては耐熱性はよいが、ヒビ割れしやすい。   ((Meth) acrylate oligomer) The (meth) acrylate oligomer may be a heat-resistant oligomer, and examples thereof include trade names of Nippon Synthetic Chemical Co., Ltd .; Purple light 6630B, 7510B, 7630B and the like. The ratio on the basis of mass to be contained is about 10 to 30 parts, preferably 15 to 25 parts with respect to 100 parts of “ionizing radiation curable resin composition M”. If it is less than this range, the heat resistance is insufficient, and if this range is exceeded, the heat resistance is good, but cracking tends to occur.

(反応性シリコーン)反応性シリコーンとしては、電離放射線で硬化時に樹脂と反応し結合して一体化したり、1部は残留するものもある。該反応性シリコーンとしてはアクリル変性、メタクリル変性、又はエポキシ変性などで変性した反応性シリコーンで、該反応性シリコーンを含有させる質量基準での割合としては「電離放射線硬化性樹脂組成物M」100に対して、0.1〜10部程度、好ましくは0.3〜5部である。この範囲未満ではレリーフの賦型時にプレススタンパとの剥離が不十分であり、プレススタンパの汚染を防止することが困難で賦型性が悪い。また、この範囲を超えてはホログラム層面への反射層の密着性が低く、ホログラム層と反射層との間で剥離し商品価値を失ってしまう。従来のシリコーンオイルの添加では、反射層との密着性が悪い。   (Reactive silicone) As the reactive silicone, there is a reactive silicone that reacts with the resin at the time of curing with ionizing radiation to bond and integrate, or a part of the reactive silicone remains. The reactive silicone is a reactive silicone modified by acrylic modification, methacryl modification, epoxy modification, or the like, and the ratio on a mass basis to contain the reactive silicone is “ionizing radiation curable resin composition M” 100. On the other hand, it is about 0.1 to 10 parts, preferably 0.3 to 5 parts. If it is less than this range, peeling from the press stamper is insufficient at the time of relief molding, and it is difficult to prevent contamination of the press stamper and the moldability is poor. Further, beyond this range, the adhesiveness of the reflective layer to the hologram layer surface is low, and the commercial value is lost by peeling between the hologram layer and the reflective layer. Addition of conventional silicone oil has poor adhesion to the reflective layer.

(ポリエチレンワックス)ポリエチレンワックスとしては、ポリエチレン系樹脂の粒子やビーズが挙げられるが、好ましくは球状ビーズである。但し、ポリエチレンワックスを添加すると、箔切れ性は低下するので、その添加量は、電離放射線硬化樹脂100質量部に対して、0.01〜10質量部程度、好ましくは0.1〜5質量部とする。   (Polyethylene wax) Polyethylene wax includes polyethylene resin particles and beads, and is preferably spherical beads. However, when polyethylene wax is added, the foil breakage is reduced, so the amount added is about 0.01 to 10 parts by weight, preferably 0.1 to 5 parts by weight, with respect to 100 parts by weight of ionizing radiation curable resin. And

このように、ホログラム層15へ電離放射線硬化性樹脂の硬化物、反応性シリコーン及びポリエチレンワックスを含ませることで、次の作用効果を兼ねさせることができる。
(1)電離放射線硬化前の塗布状態のホログラム層15の塗膜は指乾状態でべとつかず、ブロッキングせずに巻き取ることができるので、ロールツーロール加工ができる。(2)ホログラム層15へは反応性シリコーンを含ませることで、賦型性がよいので、レリーフ構造を容易に賦型でき、賦型後に電離放射線で硬化できる。また、ホログラム層15は伸縮が大きな立体的な成形品へ転写しても、伸縮へ追従性がよく、割れや白化などのホログラム効果の低下が少ない意匠性に優れたホログラムを立体面へ転写することのできる。電離放射線硬化後の23℃における破断伸度を5%以上、好ましくは7%以上とすることができる。5%未満では伸縮時にヒビ割れたり白化したりする。7%以上であると、伸縮率が高くても伸縮時にヒビ割れたり白化したりしない。(3)基材11、離型層13、ホログラム層15、反射層17、高輝度インキ層18、及び接着層19を設けたインモールド用転写箔状態で、150℃、好ましくは170℃雰囲気中に1時間放置しても白化しない耐熱性を有するので、通常の射出成形での樹脂温度である150〜200℃の熱でもホログラムが劣化しない。200℃の熱でも瞬間的なために、ホログラム像が劣化しないのである。なお、耐熱性は接着層19を設けても設けなくとも同じである。
In this way, by including the cured product of ionizing radiation curable resin, reactive silicone, and polyethylene wax in the hologram layer 15, the following effects can be achieved.
(1) Since the coated film of the hologram layer 15 in a coated state before ionizing radiation curing is not sticky in a finger dry state and can be wound up without blocking, roll-to-roll processing can be performed. (2) The reactive silicone is included in the hologram layer 15 so that the moldability is good, so that the relief structure can be easily molded and cured with ionizing radiation after molding. In addition, even if the hologram layer 15 is transferred to a three-dimensional molded product having a large expansion and contraction, the hologram layer 15 has a good followability to the expansion and contraction, and transfers a hologram excellent in design with little deterioration of the hologram effect such as cracking and whitening to a three-dimensional surface. I can do it. The breaking elongation at 23 ° C. after ionizing radiation curing can be 5% or more, preferably 7% or more. If it is less than 5%, it cracks or whitens during expansion and contraction. When it is 7% or more, even if the expansion / contraction ratio is high, it does not crack or whiten during expansion / contraction. (3) In an in-mold transfer foil state in which a substrate 11, a release layer 13, a hologram layer 15, a reflection layer 17, a high-brightness ink layer 18, and an adhesive layer 19 are provided, in an atmosphere of 150 ° C., preferably 170 ° C. Therefore, the hologram does not deteriorate even with heat of 150 to 200 ° C. which is a resin temperature in normal injection molding. The hologram image does not deteriorate because it is instantaneous even at 200 ° C. heat. The heat resistance is the same whether or not the adhesive layer 19 is provided.

さらに、次の作用効果もある。
(4)転写後のホログラム層15は最表面層となり、極めて過酷な環境での使用、長期間にわたる使用、及び/又は多数回の繰り返し使用などでも、溶剤、機械的な摩擦、及び摩耗からホログラムを保護し、傷付きにくく耐久性に優れる。(5)ホログラム層15はメラミン系樹脂を用いた離型層13と界面を接しているので、安定した剥離性を有し、転写時には箔切れがよく、バリなどの発生も極めて少なくすることができる。
Furthermore, there are the following effects.
(4) The hologram layer 15 after the transfer becomes the outermost surface layer, and the hologram can be removed from the solvent, mechanical friction, and wear even when used in extremely severe environments, used for a long period of time, and / or repeatedly used many times. Protects against damage and has excellent durability. (5) Since the hologram layer 15 is in contact with the release layer 13 using a melamine-based resin, the hologram layer 15 has stable releasability, good foil breakage during transfer, and extremely low occurrence of burrs. it can.

(破断伸度)保護層14及び/又はホログラム層15の伸縮性を破断伸度で表し、該層の破断伸度(%)の測定方法は、23℃55%RHの条件下でUV硬化後樹脂層を24時間以上放置した後、株式会社オリエンテックテンシロン万能試験機RTA−100を用いデータ処理は、テンシロン多機能型データ処理TYPE MP−100/200S Ver.44を用い測定を行なった。試料幅10mm、チャック間距離50mm、RANGEは20%、荷重は100kgの条件で、引っ張り速度10mm/minで引っ張り、破断伸度は、引っ張り時の破断または亀裂が入ったときの破断点伸びの自長に対する伸び率とした。ハードコート層12及び/又はホログラム層15の破断伸度の測定では、ハードコート層12及び/又はホログラム層15膜のみを作成するのは難しいため、25μm剥離PETに10μmのハードコート層12及び/又はホログラム層15を形成し、メタルハライドランプにて積算露光量250mjで露光した後に剥離して試料とした。   (Breaking elongation) The stretchability of the protective layer 14 and / or the hologram layer 15 is expressed by breaking elongation, and the method for measuring the breaking elongation (%) of the layer is after UV curing under conditions of 23 ° C. and 55% RH. After allowing the resin layer to stand for 24 hours or more, data processing was performed using the Tensilon multi-function data processing TYPE MP-100 / 200S Ver. Measurement was performed using No. 44. The sample is 10 mm wide, the distance between chucks is 50 mm, the RANGE is 20%, the load is 100 kg, and the tensile speed is 10 mm / min. The elongation with respect to the length was used. In the measurement of the elongation at break of the hard coat layer 12 and / or the hologram layer 15, it is difficult to produce only the hard coat layer 12 and / or the hologram layer 15 film, so that the 10 μm hard coat layer 12 and / or Alternatively, the hologram layer 15 was formed, exposed with a metal halide lamp at an integrated exposure amount of 250 mj, and then peeled off to obtain a sample.

(耐熱性)ホログラム層の耐熱性は、基材、離型層、ホログラム層、及びアルミニウム反射層を設けてなるインモールド用転写箔状態で、150℃から170℃のオーブン中に1時間放置して、目視によりヒビ割れ及び/又は白化しないものを合格とした。   (Heat resistance) The heat resistance of the hologram layer is determined by leaving it in an oven at 150 ° C. to 170 ° C. for 1 hour in the state of a transfer foil for in-mold comprising a substrate, a release layer, a hologram layer, and an aluminum reflective layer. Then, those that did not crack and / or whiten by visual inspection were regarded as acceptable.

(ホログラム層の形成)ホログラム層15は、上記の樹脂及び必要に応じて添加剤を、溶媒へ分散又は溶解して、ロールコート、リバースロールコート、グラビアコート、コンマコートなどの公知のコーティング方法で、少なくとも1部に塗布し乾燥して塗膜を形成したりすれば良い。ホログラム層15の厚さとしては、通常は1μm〜30μm程度、好ましくは2μm〜20μm程度である。複数回の塗布でもよい。   (Hologram Layer Formation) The hologram layer 15 is formed by dispersing or dissolving the above resin and, if necessary, the solvent in a solvent, and using a known coating method such as roll coating, reverse roll coating, gravure coating, comma coating, etc. It may be applied to at least one part and dried to form a coating film. The thickness of the hologram layer 15 is usually about 1 μm to 30 μm, preferably about 2 μm to 20 μm. It may be applied several times.

(ホログラム)次に、ホログラム層15の表面には、ホログラムなどの光回折効果の発現する所定のレリーフ構造を賦型し、硬化させる。ホログラムは物体光と参照光との光の干渉による干渉縞を凹凸のレリーフ形状で記録されたもので、例えば、フレネルホログラム等のレーザ再生ホログラム、及びレインボーホログラム等の白色光再生ホログラム、さらに、それらの原理を利用したカラーホログラム、コンピュータジェネレーティッドホログラム(CGH)、ホログラフィック回折格子などがある。レリーフ形状は凹凸形状であり、特に限定されるものではなく、微細な凹凸形状を有する光拡散、光散乱、光反射、光回折などの機能を発現するものでもよく、例えば、フーリエ変換やレンチキュラーレンズ、光回折パターン、モスアイ、が形成されたものである。また、光回折機能はないが、特異な光輝性を発現するヘアライン柄、マット柄、万線柄、干渉パターンなどでもよい。   (Hologram) Next, on the surface of the hologram layer 15, a predetermined relief structure such as a hologram that exhibits a light diffraction effect is formed and cured. A hologram is a recording of interference fringes due to the interference of light between object light and reference light in an uneven relief shape, such as a laser reproduction hologram such as a Fresnel hologram, a white light reproduction hologram such as a rainbow hologram, There are color holograms utilizing the above principle, computer generated holograms (CGH), holographic diffraction gratings and the like. The relief shape is a concavo-convex shape, and is not particularly limited, and may have a fine concavo-convex shape such as light diffusion, light scattering, light reflection, light diffraction, etc., such as Fourier transform or lenticular lens. , A light diffraction pattern, and a moth eye. Further, although it does not have a light diffraction function, it may be a hairline pattern, a mat pattern, a line pattern, an interference pattern, or the like that expresses a unique glitter.

これらのレリーフ形状の作製方法としてはホログラム撮影記録手段を利用して作製されたホログラムや回折格子の他に、干渉や回折という光学計算に基づいて電子線描画装置等を用いて作製されたホログラムや回折格子をあげることもできる。また、ヘアライン柄や万線柄のような比較的大きなパターンなどは機械切削法でもよい。これらのホログラム及び/又は回折格子の単一若しくは多重に記録しても、組み合わせて記録しても良い。これらの原版は公知の材料、方法で作成することができ、通常、感光性材料を塗布したガラス板を用いたレーザ光干渉法、電子線レジスト材料を塗布したガラス板に電子線描画装置を用いてパターン作製する電子線描画法をなどが適用できる。   As a method for producing these relief shapes, in addition to holograms and diffraction gratings produced using hologram photographing and recording means, holograms produced using an electron beam drawing device based on optical calculations such as interference and diffraction, A diffraction grating can also be mentioned. Also, a relatively large pattern such as a hairline pattern or a line pattern may be a machine cutting method. These holograms and / or diffraction gratings may be recorded single or multiple, or may be recorded in combination. These original plates can be prepared by known materials and methods, and usually, laser beam interference using a glass plate coated with a photosensitive material, using an electron beam drawing apparatus on a glass plate coated with an electron beam resist material. An electron beam drawing method for patterning can be applied.

(レリーフの賦型)ホログラム層15面へ、上記のレリーフ形状を賦形(複製ともいう)する。ホログラムの賦型は、公知の方法によって形成でき、例えば、回折格子やホログラムの干渉縞を表面凹凸のレリーフとして記録する場合には、回折格子や干渉縞が凹凸の形で記録された原版をプレス型(スタンパという)として用い、上記樹脂層上に前記原版を重ねて加熱ロールなどの適宜手段により、両者を加熱圧着することにより、原版の凹凸模様を複製することができる。   (Relief shaping) The relief shape is shaped (also referred to as replication) on the surface of the hologram layer 15. Hologram shaping can be formed by a known method. For example, when recording diffraction gratings or interference fringes of holograms as reliefs of surface irregularities, a master on which the diffraction gratings or interference fringes are recorded in irregularities is pressed. The concave / convex pattern of the original can be duplicated by using it as a mold (referred to as a stamper) and by superimposing the original on the resin layer and heat-pressing both of them with an appropriate means such as a heating roll.

(レリーフの硬化)ホログラム層15は、スタンパでエンボス中、又はエンボス後に、電離放射線を照射して、電離放射線硬化性樹脂を硬化させる。上記の電離放射線硬化性樹脂は、レリーフを形成後に、電離放射線を照射して硬化(反応)させると電離放射線硬化樹脂(ホログラム層15)となる。電離放射線としては、電磁波が有する量子エネルギーで区分する場合もあるが、本明細書では、すべての紫外線(UV−A、UV−B、UV−C)、可視光線、ガンマー線、X線、電子線を包含するものと定義する。従って、電離放射線としては、紫外線(UV)、可視光線、ガンマー線、X線、または電子線などが適用できるが、紫外線(UV)が好適である。電離放射線で硬化する電離放射線硬化性樹脂は、紫外線硬化の場合は光重合開始剤、及び/又は光重合促進剤を添加し、エネルギーの高い電子線硬化の場合は添加しないで良く、また、適正な触媒が存在すれば、熱エネルギーでも硬化できる。ホログラム層15として、熱硬化性樹脂を用いた場合には、使用する熱硬化性樹脂の硬化条件に応じた温湿度環境下で、エージングを行い硬化させればよい。なお、保護層14の硬化はホログラム層15と同時でもよく、予め硬化させておいてもよい。   (Relief Curing) The hologram layer 15 is irradiated with ionizing radiation during or after embossing with a stamper to cure the ionizing radiation curable resin. The ionizing radiation curable resin becomes an ionizing radiation curable resin (hologram layer 15) when cured (reacted) by irradiation with ionizing radiation after the relief is formed. The ionizing radiation may be classified according to the quantum energy of the electromagnetic wave, but in this specification, all ultraviolet rays (UV-A, UV-B, UV-C), visible light, gamma rays, X-rays, electrons It is defined as including a line. Accordingly, ultraviolet (UV), visible light, gamma ray, X-ray, electron beam, or the like can be applied as ionizing radiation, but ultraviolet (UV) is preferable. An ionizing radiation curable resin that cures with ionizing radiation may contain a photopolymerization initiator and / or photopolymerization accelerator in the case of ultraviolet curing, and may not be added in the case of high energy electron beam curing. Can be cured even with thermal energy. When a thermosetting resin is used as the hologram layer 15, it may be cured by aging in a temperature and humidity environment according to the curing conditions of the thermosetting resin to be used. The protective layer 14 may be cured at the same time as the hologram layer 15 or may be cured in advance.

(レリーフの絵柄)ホログラム層15の絵柄を擬似連続絵柄とすることが好ましい。擬似連続絵柄はプレス型(スタンパという)を作成する際に、小さなレリーフ版の複数を、精度よく突合せてつなぎ目を目立たなくしたり、つなぎ目を樹脂で埋めたりすればよい。このように、擬似連続絵柄とすることで、できるだけ大きな面積、又は好ましくは全面とすることもできる。大面積又は全面のホログラム絵柄を背景とし他の任意な印刷絵柄と、同調させたり、合わせたりして、さらなる特異な意匠性を向上させることができる。印刷絵柄は、層間又は層表面に、公知の印刷法などで適宜設ければよく、印刷絵柄はインモールド用転写箔、及び/又は収縮フィルムのいずれへ設けてもよい。   (Relief pattern) The pattern of the hologram layer 15 is preferably a quasi-continuous pattern. When creating a press mold (referred to as a stamper) for the pseudo continuous pattern, it is only necessary to match a plurality of small relief plates with high accuracy to make the joints inconspicuous, or to fill the joints with resin. In this way, by using a quasi-continuous pattern, the area can be as large as possible, or preferably the entire surface. Further unique design can be improved by synchronizing or matching with any other printed pattern against a large area or entire surface of the hologram pattern. The printed pattern may be appropriately provided on the interlayer or the layer surface by a known printing method or the like, and the printed pattern may be provided on either the in-mold transfer foil and / or the shrink film.

(反射層)反射層17は、所定のレリーフ構造を設けたホログラム層15面のレリーフ面へ、反射層17へ設けることにより、レリーフの反射及び/又は回折効果を高めるので、ホログラム層15の反射率のより高れば、特に限定されず、例えば金属薄膜が適用できる。該反射層17としては、通常、金属層や透明層が適用できる。該反射層17に用いる金属としては、金属光沢を有し光を反射する金属元素の薄膜で、Cr、Ni、Ag、Au、Al等の金属、及びその酸化物、硫化物、窒化物等の薄膜を単独又は複数を組み合わせてもよい。上記の光反射性の金属薄膜の形成は、いずれも10〜2000nm程度、好ましくは20〜1000nmの厚さになるよう、真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法などの真空薄膜法で得られるが、その他、メッキなどによっても形成できる。反射層17の厚さがこの範囲未満では、光がある程度透過して効果が減じ、また、それ以上では、反射効果は変わらないので、コスト的に無駄である。   (Reflection layer) Since the reflection layer 17 is provided on the reflection layer 17 on the relief surface of the hologram layer 15 provided with a predetermined relief structure, the reflection reflection and / or diffraction effect is enhanced. If a rate is higher, it will not specifically limit, For example, a metal thin film can be applied. As the reflective layer 17, a metal layer or a transparent layer is usually applicable. The metal used for the reflective layer 17 is a metal element thin film that has a metallic luster and reflects light, such as Cr, Ni, Ag, Au, Al, etc., and oxides, sulfides, nitrides thereof, etc. A thin film may be used alone or in combination. The formation of the light-reflective metal thin film can be obtained by a vacuum thin film method such as a vacuum deposition method, a sputtering method, or an ion plating method so as to have a thickness of about 10 to 2000 nm, preferably 20 to 1000 nm. However, it can also be formed by plating. If the thickness of the reflective layer 17 is less than this range, the light is transmitted to some extent and the effect is reduced, and if it is more than that, the reflective effect is not changed, which is wasteful in cost.

また、透明な反射層17として、ほぼ無色透明な色相で、その光学的な屈折率がホログラム層のそれとは異なることにより、金属光沢が無いにもかかわらず、ホログラムなどの光輝性を視認できるから、透明なホログラムを作製することができる。例えば、ホログラム層15よりも光屈折率の高い薄膜、および光屈折率の低い薄膜とがあり、前者の例としては、ZnS、TiO2、Al23、Sb23、SiO、SnO2、ITO等があり、後者の例としては、LiF、MgF2、AlF3がある。好ましくは、金属酸化物又は窒化物であり、具体的には、Be、Mg、Ca、Cr、Mn、Cu、Ag、Al、Sn、In、Te、Fe、Co、Zn、Ge、Pb、Cd、Bi、Se、Ga、Rb、Sb、Pb、Ni、Sr、Ba、La、Ce、Au等の酸化物又は窒化物他はそれらを2種以上を混合したもの等が例示できる。またアルミニウム等の一般的な光反射性の金属薄膜も、厚みが200Å以下になると、透明性が出て使用できる。透明金属化合物の形成は、金属の薄膜と同様、ホログラム層15のレリーフ面に、10〜2000nm程度、好ましくは20〜1000nmの厚さになるよう、蒸着、スパッタリング、イオンプレーティング、CVDなどの真空薄膜法などにより設ければよい。 Further, since the transparent reflecting layer 17 has a substantially colorless and transparent hue and its optical refractive index is different from that of the hologram layer, it is possible to visually recognize the brightness of the hologram or the like even though there is no metallic luster. A transparent hologram can be produced. For example, there are a thin film having a higher refractive index than the hologram layer 15 and a thin film having a lower refractive index. Examples of the former include ZnS, TiO 2 , Al 2 O 3 , Sb 2 S 3 , SiO, SnO 2. ITO, etc., and examples of the latter include LiF, MgF 2 , and AlF 3 . Preferably, it is a metal oxide or nitride, specifically, Be, Mg, Ca, Cr, Mn, Cu, Ag, Al, Sn, In, Te, Fe, Co, Zn, Ge, Pb, Cd , Bi, Se, Ga, Rb, Sb, Pb, Ni, Sr, Ba, La, Ce, Au, and other oxides or nitrides, and the like can be exemplified by a mixture of two or more thereof. Also, a general light-reflective metal thin film such as aluminum can be used when it has a thickness of 200 mm or less. The transparent metal compound is formed on the relief surface of the hologram layer 15 by vacuum such as vapor deposition, sputtering, ion plating, and CVD so that the thickness of the relief layer of the hologram layer 15 is about 10 to 2000 nm, preferably 20 to 1000 nm. It may be provided by a thin film method or the like.

(高輝度インキ層)高輝度インキ層18を反射層17面へ設けることにより、ホログラムの再生像および/または回折格子が明瞭に視認できるようになる。従来、金属光沢の反射層としては、通常、特殊機能を発揮させるものを除いては、真空蒸着法で形成したアルミニウムの金属薄膜が用いられてきた。他の、例えば、圧延法のアルミニウム箔では、真空薄膜法の金属薄膜ほどの金属光沢が、得られなかった。また、他の金属では、色調を帯びていたり、高コストためである。このように、真空蒸着法のアルミニウム薄膜が、実際に実用されている汎用用途では、全てと言って良いほどに、また、長期間にわたって用いられてきた。また、従来からも、金属光沢を付与する印刷インキがあったが、該インキはアルミニウムペーストやアルミニウム粉等の金属顔料を用いた、シルバーまたはゴールド等のメタリック調印刷インキである。アルミニウムペーストには、リーフィングタイプとノンリーフィングタイプがあるが、いずれを用いても、真空薄膜法の金属薄膜の金属光沢には、はるかに及ばなかった。さらにまた、蒸着アルミニウム薄膜を粉砕した粉末を用いたインキがあったが、表面処理が異なり分散性が悪く、十分な高輝度が得られなかった。   (High-Brightness Ink Layer) By providing the high-brightness ink layer 18 on the surface of the reflection layer 17, the reproduced image of the hologram and / or the diffraction grating can be clearly seen. Conventionally, an aluminum metal thin film formed by a vacuum deposition method has been used as a metallic glossy reflection layer, except for a layer that exhibits a special function. In other aluminum foils, for example, rolled, metal gloss as high as that obtained by vacuum thin film method was not obtained. In addition, other metals have a color tone or are expensive. Thus, vacuum-deposited aluminum thin films have been used over a long period of time for a wide range of practical applications. Conventionally, there has been a printing ink that imparts a metallic luster. The ink is a metallic printing ink such as silver or gold using a metal pigment such as aluminum paste or aluminum powder. The aluminum paste has a leafing type and a non-leafing type, but using either of them did not reach the metallic luster of the metal thin film by the vacuum thin film method. Furthermore, although there was an ink using a powder obtained by pulverizing a vapor-deposited aluminum thin film, the surface treatment was different and the dispersibility was poor, and sufficient high luminance could not be obtained.

該メタリックインキ層は、金属光沢様(メタリック調)を付与する印刷インキを用いた印刷層であり、少なくとも有機脂肪酸、メチルシリルイソシアネート、又はセルロース誘導体で表面処理されている蒸着金属膜を粉砕した蒸着金属膜細片を含有させた高輝度インキを用いた印刷層である。印刷法なので、部分的に設けてもよく、高輝度インキ反射層を既存の印刷設備で安価に製造することができる。金属薄膜片とバインダとからなる高輝度インキを用いたメタリック印刷層17を反射層15面へ印刷することで、よりメタリック調の高輝度を発揮でき、光回折画像の反射層とする。また、意匠性が高く、かつ、目視で容易に真偽が判定できてセキュリティ性も高まり、小ロット生産にも対応でき、また、コストも低くできるという著しい効果を発揮する。また、高輝度インキ層18とは印刷法なので、他の印刷層があればこの印刷絵柄に同調させて、高輝度インキ層を設けることが容易である。印刷絵柄と同調するように設けることで、より一層意匠効果が高まる。部分的とは、文字、数字、記号、イラスト、模様、写真などのすべての絵柄が使用できる。   The metallic ink layer is a printing layer using a printing ink imparting a metallic luster-like appearance (metallic tone), and is a vapor deposition obtained by pulverizing a vapor-deposited metal film surface-treated with at least an organic fatty acid, methylsilyl isocyanate, or a cellulose derivative. It is a printing layer using the high brightness ink containing the metal film strip. Since it is a printing method, it may be provided partially, and a high-brightness ink reflecting layer can be manufactured at low cost with existing printing equipment. By printing the metallic print layer 17 using a high-brightness ink composed of a metal thin film piece and a binder on the surface of the reflective layer 15, it is possible to exhibit a higher metallic tone and to provide a reflective layer for a light diffraction image. In addition, it is highly designable, and it is possible to easily determine whether it is true or false by visual inspection, so that security is enhanced, small lot production can be handled, and cost can be reduced. In addition, since the high-brightness ink layer 18 is a printing method, if there is another print layer, it is easy to provide a high-brightness ink layer in synchronization with this print pattern. The design effect is further enhanced by providing the printed pattern so as to be synchronized. The term “partial” refers to all patterns such as letters, numbers, symbols, illustrations, patterns, and photographs.

また、従来の真空蒸着法で形成したアルミニウムの金属薄膜は、十分な金属光沢が得られる。しかしながら、意匠的に高めるために、部分的なアルミニウムの金属薄膜を設けるには、一旦、真空成膜法でアルミニウム金属薄膜を全面に設けた後に、別工程で、レジストを印刷しエッチングするので、コストが非常に高く、また、製造工程が多くなって小ロット生産に向かない。しかも、高温や曲げられると、白化するという欠点がある。立体面へインモールド射出成形すると、平面状の転写箔は射出された高温の溶融樹脂で立体面に沿って引き伸ばされると、金属反射層では細かいヒビ割れ(クラック)が発生して、輝度が低下したり、白化してホログラムが観察できなくなるという欠点がある。   In addition, an aluminum metal thin film formed by a conventional vacuum deposition method can provide a sufficient metallic luster. However, in order to enhance the design, in order to provide a partial aluminum metal thin film, once the aluminum metal thin film is provided on the entire surface by a vacuum film forming method, a resist is printed and etched in a separate process. The cost is very high, and the number of manufacturing processes increases, making it unsuitable for small lot production. In addition, there is a drawback of whitening when bent at high temperatures. When in-mold injection molding is performed on a three-dimensional surface, the flat transfer foil is stretched along the three-dimensional surface with the injected high-temperature molten resin, and a fine crack is generated in the metal reflective layer, resulting in a decrease in luminance. Or whitening and the hologram cannot be observed.

ところが、本発明のインモールド用転写箔10を用いると、反射層15及び高輝度インキ層18とを併用することで、金属反射層を持つホログラムと同等の輝度を有しながら、高温で引き伸ばされても白化しにくく、明るいホログラムを立体面へ転写できるインモールド用転写箔10となる。反射層15は立体面に沿って引き伸ばされてクラックが発生するが、目立たず、またそのクラック部分は高輝度インキ層18の高輝度メタリック反射層で補助されて、輝度が維持されるのである。高輝度インキ層18は金属反射層のように1層の薄膜ではなく、表面処理された金属蒸着膜細片の分散層であり、立体面に沿って引き伸ばされても、クラックが発生せず、メタリック光沢が維持される。もちろん、ホログラム層15も立体面に沿って引き伸ばされるが、破断伸度が5%以上と大きくクラックは発生しない。ホログラムのレリーフも引き伸ばされるが、光回折効果を維持できる程度の伸びであるし、又は推定伸度に応じて、微細の程度をあげておいてもよい。基材11も立体面に沿って引き伸ばされるが、充分に追従できる伸度を持っているので問題はない。   However, when the in-mold transfer foil 10 of the present invention is used, the reflective layer 15 and the high-brightness ink layer 18 are used in combination, so that the in-mold transfer foil 10 is stretched at a high temperature while having the same brightness as a hologram having a metal reflective layer. Even in this case, the in-mold transfer foil 10 is difficult to whiten and can transfer a bright hologram onto a three-dimensional surface. The reflective layer 15 is stretched along the three-dimensional surface and cracks are generated. However, the reflective layer 15 is not conspicuous, and the crack portion is assisted by the high-brightness metallic reflection layer of the high-brightness ink layer 18 to maintain the brightness. The high-brightness ink layer 18 is not a thin film like a metal reflection layer, but is a dispersion layer of surface-treated metal vapor-deposited film strips, and even when stretched along a three-dimensional surface, cracks do not occur, Metallic gloss is maintained. Of course, the hologram layer 15 is also stretched along the three-dimensional surface, but the breaking elongation is as large as 5% or more, and no crack is generated. The relief of the hologram is also stretched, but the elongation is such that the light diffraction effect can be maintained, or the fineness may be increased according to the estimated elongation. The substrate 11 is also stretched along the three-dimensional surface, but there is no problem because it has an elongation that can be sufficiently followed.

(高輝度インキ)反射層15、及び高輝度インキ層18の2層とすることで、明るいホログラム転写箔層15部分の光回折画像が視認できるようになる。該高輝度インキとしては、金属蒸着膜に匹敵する金属光沢を有する高輝度インキで、金属蒸着膜細片の表面を有機脂肪酸、メチルシリルイソシアネート、又はセルロース誘導体で処理して、インキ中への分散性を向上させて、インキ塗膜の金属光沢を高輝度としたものである。該インキは、有機脂肪酸、メチルシリルイソシアネート、またはセルロース誘導体で表面処理した金属蒸着膜細片、バインダ、添加剤、及び溶剤からなり、必要に応じてグラビアインキ、スクリーンインキ、又はフレキソインキ化すればよい。   (High-brightness ink) By using two layers of the reflective layer 15 and the high-brightness ink layer 18, the light diffraction image of the bright hologram transfer foil layer 15 can be visually recognized. The high-brightness ink is a high-brightness ink having a metallic luster comparable to a metal vapor-deposited film. The surface of the metal vapor-deposited film strip is treated with an organic fatty acid, methylsilyl isocyanate, or a cellulose derivative, and dispersed in the ink. The metallic luster of the ink coating film is made high brightness. The ink is composed of a metal vapor-deposited film strip treated with an organic fatty acid, methylsilyl isocyanate, or a cellulose derivative, a binder, an additive, and a solvent. If necessary, it can be converted into a gravure ink, a screen ink, or a flexo ink. Good.

金属蒸着膜細片の金属としては、アルミニウムが適用できるが、必要に応じて、金、銀、銅、真鍮、チタン、クロム、ニッケル、ニッケルクロム、ステンレス等も使用できる。金属蒸着膜の厚さは、0.01〜0.1μmが好ましく、さらに好ましくは0.03〜0.08μmであり、インキ中に分散させた金属蒸着膜細片の大きさは、5〜25μmが好ましく、さらに好ましくは10〜15μmである。大きさが、この範囲未満の場合はインキ塗膜の輝度が不十分となり、この範囲を超えると、グラビア版のセルに入りにくく、またスクリーン版が目詰まりし易く、印刷塗膜の光沢が低下する。   As the metal of the metal vapor deposited film strip, aluminum can be applied, but gold, silver, copper, brass, titanium, chromium, nickel, nickel chromium, stainless steel, etc. can also be used as necessary. The thickness of the metal vapor deposition film is preferably 0.01 to 0.1 μm, more preferably 0.03 to 0.08 μm, and the size of the metal vapor deposition film dispersed in the ink is 5 to 25 μm. Is more preferable, and it is 10-15 micrometers more preferably. If the size is less than this range, the brightness of the ink coating will be insufficient, and if it exceeds this range, it will be difficult to enter the gravure plate cell, the screen plate will be clogged easily, and the gloss of the printed coating will decrease. To do.

金属蒸着膜細片は、まず、ポリエステルフィルム/剥離層/蒸着膜/表面の酸化防止トップコート層からなる蒸着フィルムを作成する。剥離層、トップコート層は、特に限定されないが、例えば、セルロース誘導体、アクリル樹脂、塩素化ポリプロピレンなどが適用できる。上記蒸着フィルムを、溶剤中に浸積して、金属蒸着膜を剥離、撹拌、濾別、乾燥して、金属蒸着膜細片を得る。該金属蒸着膜細片を温度10〜35℃、30分程度、撹拌しながら、有機脂肪酸、メチルシリルイソシアネート、又はセルロース誘導体溶液を加え、金属蒸着膜細片の表面に有機脂肪酸、メチルシリルイソシアネート、又はセルロース誘導体を吸着させて、金属蒸着膜細片の表面処理を行う。セルロース誘導体としては、ニトロセルロース、セルロースアセテートプロピオネート、セルロースアセテートブチレート、エチルセルロース等が適用できる。セルロース誘導体の添加量は、金属がアルミニウムの場合は、蒸着膜細片に対して1〜20質量%が好ましい。   The metal vapor deposited film strip is first prepared as a vapor deposited film consisting of polyester film / release layer / deposited film / antioxidation top coat layer on the surface. The release layer and the topcoat layer are not particularly limited, and for example, cellulose derivatives, acrylic resins, chlorinated polypropylene, and the like can be applied. The vapor deposition film is immersed in a solvent, and the metal vapor deposition film is peeled, stirred, filtered and dried to obtain metal vapor deposition film strips. While stirring the metal vapor-deposited film strip at a temperature of 10 to 35 ° C. for about 30 minutes, an organic fatty acid, methylsilyl isocyanate, or a cellulose derivative solution is added, and an organic fatty acid, methylsilyl isocyanate, Or a cellulose derivative is made to adsorb | suck and a metal vapor deposition film strip is surface-treated. As the cellulose derivative, nitrocellulose, cellulose acetate propionate, cellulose acetate butyrate, ethyl cellulose and the like can be applied. When the metal is aluminum, the addition amount of the cellulose derivative is preferably 1 to 20% by mass with respect to the deposited film strip.

該表面処理の後、金属蒸着膜細片を分離、又は金属蒸着膜細片スラリーをそのまま、バインダ及び溶剤へ配合、分散させてインキ化する。該バインダとしては、公知のインキ使われているものでよく、例えば、(メタ)アクリル樹脂、ポリエステル、ポリアミド、ポリウレタン、セラック、アルキッド樹脂等がある。該インキには、必要に応じて、着色用顔料、染料、ワックス、可塑剤、レベリング剤、界面活性剤、分散剤、消泡剤、キレート化剤などの添加剤を添加してもよい。インキの溶剤は、公知のインキ用溶剤を使用することができ、例えば、トルエン、キシレン等の芳香族系炭化水素、n−ヘキサン、シクロヘキサン等の脂肪族または脂環式炭化水素、酢酸エチル、酢酸プロピル等のエステル類、メタノール、エタノール、IPA等のアルコール類、アセトン、MEK等のケトン類、エチレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル等のアルキレングリコールモノアルキルエーテル等がある。   After the surface treatment, the metal vapor-deposited film strips are separated, or the metal vapor-deposited film strip slurry is blended and dispersed in a binder and a solvent as they are to make an ink. As the binder, known inks may be used, and examples thereof include (meth) acrylic resin, polyester, polyamide, polyurethane, shellac, and alkyd resin. If necessary, additives such as coloring pigments, dyes, waxes, plasticizers, leveling agents, surfactants, dispersants, antifoaming agents, and chelating agents may be added to the ink. As the ink solvent, known ink solvents can be used, for example, aromatic hydrocarbons such as toluene and xylene, aliphatic or alicyclic hydrocarbons such as n-hexane and cyclohexane, ethyl acetate, acetic acid, and the like. Examples thereof include esters such as propyl, alcohols such as methanol, ethanol and IPA, ketones such as acetone and MEK, alkylene glycol monoalkyl ethers such as ethylene glycol monoethyl ether and propylene glycol monomethyl ether.

また、通常のインキは、ロールミル、ボールミルなどで混練して、顔料た添加剤をサブミクロンまで微粒子化し高度に分散させて、印刷適性を持たせる。しかしながら、本発明で使用する高輝度インキは、混練工程を必要とせず、攪拌機で混合するだけでよく分散し、金属光沢が損なわれない。即ち、高輝度の金属光沢を発現させるためには、金属蒸着膜細片の大きさが5〜25μm程度が必要で、上記混練工程を行うと金属光沢が極端に低下してしまう。   Ordinary inks are kneaded by a roll mill, a ball mill, or the like, and the pigment additive is finely dispersed to sub-micron and highly dispersed to give printability. However, the high-intensity ink used in the present invention does not require a kneading step, and can be dispersed only by mixing with a stirrer, and the metallic luster is not impaired. That is, in order to develop a high-brightness metallic luster, the metal vapor-deposited film strip needs to have a size of about 5 to 25 μm, and when the kneading step is performed, the metallic luster is extremely lowered.

(高輝度インキ印刷)以上のようにして得られたインキを、公知のグラビア印刷、スクリーン印刷、又はフレキソ印刷で、所要の絵柄を製版して、印刷し、乾燥、必要に応じて硬化すればよい。   (High-brightness ink printing) If the ink obtained as described above is made by known gravure printing, screen printing, or flexographic printing, the required pattern is made, printed, dried, and cured if necessary. Good.

(接着層)高輝度インキ層18面、即ち被転写体と相対する面へ接着層19を設ける。該接着層19の材料としては、公知の加熱されると溶融または軟化して接着効果を発揮する感熱接着剤が適用でき、具体的には、塩化ビニール酢酸ビニール共重合樹脂、アクリル系樹脂、ポリエステル系樹脂などが挙げられる。該材料樹脂を溶剤に溶解または分散させて、適宜顔料などの添加剤を添加して、公知のロールコーティング、グラビアコーティングなどの方法で塗布し乾燥させて、厚さ0.1〜30μm程度、好ましくは0.5〜10μmの層とする。接着層19の材料としては、公知の加熱されると溶融または軟化して接着効果を発揮する感熱接着剤が適用でき、具体的には、塩化ビニール酢酸ビニール共重合樹脂、アクリル系樹脂、ポリエステル系樹脂などが挙げられる。該材料樹脂を溶剤に溶解または分散させて、適宜顔料などの添加剤を添加して、公知のロールコーティング、グラビアコーティングなどの方法で塗布し乾燥させて、厚さ0.1μmから30μmの層を得る。   (Adhesive layer) The adhesive layer 19 is provided on the surface of the high-brightness ink layer 18, that is, the surface facing the transfer target. As the material of the adhesive layer 19, a known heat-sensitive adhesive which melts or softens when heated and exhibits an adhesive effect can be applied. Specifically, vinyl chloride vinyl acetate copolymer resin, acrylic resin, polyester Based resins and the like. The material resin is dissolved or dispersed in a solvent, an additive such as a pigment is added as appropriate, and it is applied by a method such as known roll coating or gravure coating and dried to have a thickness of about 0.1 to 30 μm, preferably Is a layer of 0.5 to 10 μm. As the material of the adhesive layer 19, a known heat-sensitive adhesive that melts or softens when heated and exhibits an adhesive effect can be applied. Specifically, a vinyl chloride vinyl acetate copolymer resin, an acrylic resin, a polyester-based resin can be used. Resin etc. are mentioned. The material resin is dissolved or dispersed in a solvent, an additive such as a pigment is added as appropriate, and it is applied and dried by a known method such as roll coating or gravure coating to form a layer having a thickness of 0.1 μm to 30 μm. obtain.

(ハードコート層)図2に示すように、必要に応じて、ハードコート層12及び/又は印刷層16を設けてもよい。該ハードコート層12は、離型層13とホログラム層15との間に設け、転写後にはホログラム層15の表面を覆って保護層となって、極めて過酷な環境での使用、使用期限がなかったり、長期にわたる使用、及び/又は多数回の繰り返し使用などでも、溶剤や機械的な摩擦及び摩耗、特に引掻きから保護し、傷付きにくい耐久性を付与する。   (Hard Coat Layer) As shown in FIG. 2, a hard coat layer 12 and / or a print layer 16 may be provided as necessary. The hard coat layer 12 is provided between the release layer 13 and the hologram layer 15, and after the transfer, covers the surface of the hologram layer 15 to become a protective layer, and has no use or expiration date in extremely harsh environments. Even when used for a long time, and / or repeatedly used many times, it is protected from solvents and mechanical friction and abrasion, particularly scratching, and imparts durability that is not easily damaged.

(ハードコート層)ハードコート層12は、電離放射線硬化性樹脂の硬化物及びポリエチレンワックスを含むようにする。該電離放射線硬化性樹脂及びポリエチレンワックスとしては、ホログラム層15に用いた材料が好ましく使用できる。即ち、(1)分子中にイソシアネート基を3個以上有するイソシアネート類、(2)分子中に水酸基を少なくとも1個と(メタ)アクリロイルオキシ基を少なくとも2個有する多官能(メタ)アクリレート類、又は(3)分子中に水酸基を少なくとも2個有する多価アルコール類の反応生成物であるウレタン(メタ)アクリレートオリゴマーを含有する電離放射線硬化性樹脂を用い、ポリエチレンワックスを含ませて、塗布し乾燥して電離放射線で硬化させればよい。ポリエチレンワックスとしては、ポリエチレン系樹脂の粒子やビーズが挙げられるが、好ましくは球状ビーズである。但し、ポリエチレンワックスを添加すると、箔切れ性は低下するので、その添加量は、電離放射線硬化樹脂100質量部に対して、0.01〜10質量部程度、好ましくは0.1〜5質量部とする。   (Hard Coat Layer) The hard coat layer 12 contains a cured product of ionizing radiation curable resin and polyethylene wax. As the ionizing radiation curable resin and polyethylene wax, the material used for the hologram layer 15 can be preferably used. (1) isocyanates having 3 or more isocyanate groups in the molecule, (2) polyfunctional (meth) acrylates having at least one hydroxyl group and at least two (meth) acryloyloxy groups in the molecule, or (3) Using an ionizing radiation curable resin containing a urethane (meth) acrylate oligomer that is a reaction product of a polyhydric alcohol having at least two hydroxyl groups in the molecule, including polyethylene wax, coating and drying. And curing with ionizing radiation. Examples of the polyethylene wax include polyethylene resin particles and beads, and spherical beads are preferable. However, when polyethylene wax is added, the foil breakage is reduced, so the amount added is about 0.01 to 10 parts by weight, preferably 0.1 to 5 parts by weight, with respect to 100 parts by weight of ionizing radiation curable resin. And

(ハードコート層の形成)ハードコート層12の形成は、上記の電離放射線硬化性樹脂にポリエチレンワックス、必要に応じて光重合開始剤、可塑剤、安定剤、界面活性剤等を加え、溶媒へ分散または溶解して、ロールコート、グラビアコート、コンマコート、ダイコートなどの公知のコーティング方法で塗布し乾燥して、電離放射線で反応(硬化)させればよい。また、ハードコート層12の厚味が厚いときには、複数回に分けて形成してもよい。   (Formation of hard coat layer) The hard coat layer 12 is formed by adding polyethylene wax to the above-mentioned ionizing radiation curable resin, and if necessary, adding a photopolymerization initiator, a plasticizer, a stabilizer, a surfactant and the like to the solvent. It may be dispersed or dissolved, applied by a known coating method such as roll coating, gravure coating, comma coating or die coating, dried, and reacted (cured) with ionizing radiation. Further, when the hard coat layer 12 is thick, it may be formed in a plurality of times.

(ハードコート層の厚味)ハードコート層12の厚さは、通常、1〜10μm程度であるが、本発明では、極めて過酷な環境での使用、使用期限がなかったり、長期にわたる使用、及び/又は多数回の繰り返し使用などでも、溶剤や機械的な摩擦及び摩耗、特に引掻きから保護し、傷付きにくい耐久性を付与するために、好ましくは10μm以上で、好ましくは15μm以上とする。上限は特に限定されないが、価格や箔切れ性から30μm以下程度である。なお、ハードコート層12を設けた場合には、最表面にポリエチレンワックスを含むハードコート層12が形成されているので、ホログラム層15にはポリエチレンワックスを含ませなくてもよい。ハードコート層12及び/又はホログラム層15は透明に着色してもよい。   (Thickness of hard coat layer) The thickness of the hard coat layer 12 is usually about 1 to 10 μm. However, in the present invention, the use in an extremely harsh environment, the expiration date is not used, and the use is performed for a long time. In order to protect from solvent and mechanical friction and wear, especially scratching, and to impart durability that is difficult to be scratched even when used repeatedly many times, it is preferably 10 μm or more, and preferably 15 μm or more. The upper limit is not particularly limited, but is about 30 μm or less in view of price and foil breakability. When the hard coat layer 12 is provided, since the hard coat layer 12 containing polyethylene wax is formed on the outermost surface, the hologram layer 15 may not contain polyethylene wax. The hard coat layer 12 and / or the hologram layer 15 may be colored transparently.

ハードコート層12を設けた場合では、ハードコート層12/ホログラム層15の2層で、電離放射線硬化後の23℃における破断伸度が5%以上で、かつ、基材、離型層、ハードコート層、ホログラム層、反射層、高輝度インキ層及び接着層を設けたインモールド用転写箔状態で、150℃雰囲気中に1時間放置しても白化しない耐熱性を有しているようにする。   In the case where the hard coat layer 12 is provided, the hard coat layer 12 / the hologram layer 15 are two layers, the breaking elongation at 23 ° C. after ionizing radiation curing is 5% or more, and the base material, release layer, hard In-mold transfer foil provided with a coat layer, hologram layer, reflection layer, high-brightness ink layer, and adhesive layer so as to have heat resistance that does not whiten even if left in an atmosphere at 150 ° C. for 1 hour. .

該印刷層16は反射層17と高輝度インキ層18との間に設け、全面に透明着色したり、絵柄印刷したりすることができる。また、ホログラム図柄や高輝度インキ層18の絵柄へ、文字、数字、記号、イラスト、模様、写真などの印刷絵柄を同調させて印刷すれば、より一層意匠効果が高まる。このようにして、基材11/離型層13/ハードコート層12(必要に応じて)/ホログラム層15/反射層17/印刷層16(必要に応じて)/高輝度インキ層18/接着層19の層構成からなる本発明のインモールド用転写箔10が得られる。   The print layer 16 is provided between the reflective layer 17 and the high-brightness ink layer 18, and can be transparently colored on the entire surface or printed with a pattern. In addition, the design effect can be further enhanced if the printed pattern such as letters, numbers, symbols, illustrations, patterns, and photographs is printed on the hologram pattern or the pattern of the high-brightness ink layer 18 in synchronization. In this way, substrate 11 / release layer 13 / hard coat layer 12 (if necessary) / hologram layer 15 / reflection layer 17 / printing layer 16 (if necessary) / high brightness ink layer 18 / adhesion The in-mold transfer foil 10 of the present invention having the layer structure of the layer 19 is obtained.

(変形形態)本発明は、次のように変形して実施することを含むものである。
ホログラム層15にホログラムなどの光回折効果の発現する所定のレリーフ構造を賦型せず、かつ、必要に応じて、反射層17及び/又は高輝度インキ層18を設けないように構成すると、単にハードコート転写箔とすることもできる。該ハードコート転写箔は、インモールド射出成形法して、立体面へハードコート層が転写された成形品を製造することができる。熱で白化しない耐熱性と、伸縮へ追従性がよく、表面性に優れたハードコート層を立体面へ転写でき、極めて過酷な環境での使用、使用期限がなかったり、長期にわたる使用、及び/又は多数回の繰り返し使用などでも、溶剤や機械的な摩擦及び摩耗、特に引掻きから保護し、傷付きにくい耐久性を付与できる。
(Modification) The present invention includes the following modifications.
If the hologram layer 15 is not formed with a predetermined relief structure that produces a light diffraction effect such as a hologram, and if necessary, the reflection layer 17 and / or the high-brightness ink layer 18 is not provided, It can also be a hard coat transfer foil. The hard coat transfer foil can be produced by an in-mold injection molding method in which a hard coat layer is transferred to a three-dimensional surface. Heat resistance that does not whiten by heat, good conformity to expansion and contraction, and can transfer a hard coat layer with excellent surface properties to a three-dimensional surface, use in extremely harsh environments, no expiration date, long-term use, and / or Or, it can be protected from solvent and mechanical friction and abrasion, especially scratching, and can be given durability that is hard to be damaged even when used repeatedly many times.

(インモールド射出成形)このようにして本発明のインモールド用転写箔10が準備できる。該インモールド用転写箔10を用いて、インモールド射出成形法して、立体面へホログラムが転写された成形品を製造することができる。まず、(2)該インモールド用転写箔10を射出成形用金型内へ挿入し、(3)該射出成形用金型へ樹脂を射出成形し密着させ、該樹脂の表面へインモールド用転写箔10のホログラムを転写し、(4)冷却後、金型を解放し、インモールド用転写箔の基材11及び離型層13を剥離して成形品を取り出す公知の方法でよい。なお、離型層13の1部がホログラム層15側に残る場合もあるが、剥離に支障はなく、本発明の範囲内である。   (In-mold injection molding) Thus, the in-mold transfer foil 10 of the present invention can be prepared. Using the in-mold transfer foil 10, a molded product in which a hologram is transferred to a three-dimensional surface can be manufactured by an in-mold injection molding method. First, (2) the in-mold transfer foil 10 is inserted into an injection mold, and (3) a resin is injection-molded and brought into close contact with the injection mold, and the in-mold transfer onto the surface of the resin. A known method may be used in which the hologram of the foil 10 is transferred, (4) after cooling, the mold is released, the base material 11 and the release layer 13 of the in-mold transfer foil are peeled off, and the molded product is taken out. Although a part of the release layer 13 may remain on the hologram layer 15 side, there is no hindrance to peeling, and it is within the scope of the present invention.

(ホログラム付き射出成形品)このように、離型層13、及びホログラム層15を特定の材料を用いたインモールド用転写箔10とし、インモールド射出成形法で立体面へ、ホログラム自身の熱で白化しない耐熱性、及び伸縮へ追従性がよく、割れや白化などが極めて少ない意匠性に優れたホログラムが転写されたホログラム付き成形品を製造できる。また、インモールド用転写箔10には、ホログラム絵柄を背景とし他の任意な印刷絵柄と合わせて、さらなる特異な意匠性も向上させることができる。   (Injection Molded Product with Hologram) In this way, the release layer 13 and the hologram layer 15 are used as the in-mold transfer foil 10 using a specific material, and the in-mold injection molding method is applied to the three-dimensional surface, and the hologram itself is heated. It is possible to manufacture a molded article with a hologram to which a hologram having excellent design properties with excellent heat resistance that does not whiten and excellent conformability to expansion and contraction, and extremely little cracking or whitening. In addition, the in-mold transfer foil 10 can be further improved in unique design characteristics in combination with other arbitrary printed patterns with the hologram pattern as a background.

(射出成形品)射出樹脂の材料は特に限定されず、ポリスチレン、ポリエチレンテレフタレート、ポリプロピレン、アクリル系樹脂などの射出樹脂のできる公知の樹脂でよい。
該射出成形品の形状としては、特に限定されず、少なくとも1部分に立体部があれば、適用できる。立体部とは二次面、三次面でもよく、波状、曲面状、多面体状、円又は角錐状、球状などがあり、これらの1、又は複数の組合わせ、若しくはランダム形状でもよい。射出成形による成形品は、日用品や生活用品などの機器本体、食品や各種物品の容器類、携帯電話などの電子機器や事務用品などの筐体類などに使用できる。
(Injection Molded Product) The material of the injection resin is not particularly limited, and may be a known resin that can be an injection resin such as polystyrene, polyethylene terephthalate, polypropylene, and acrylic resin.
The shape of the injection-molded product is not particularly limited, and can be applied as long as at least one part has a three-dimensional part. The three-dimensional portion may be a secondary surface or a tertiary surface, and includes a wave shape, a curved surface shape, a polyhedron shape, a circle or a pyramid shape, a spherical shape, and the like, or a combination of these, or a random shape. The molded product by injection molding can be used for equipment bodies such as daily necessities and daily necessities, containers for food and various articles, electronic equipment such as mobile phones, and housings such as office supplies.

以下、実施例及び比較例により、本発明を更に詳細に説明するが、これに限定されるものではない。なお、溶媒を除き、各層の各組成物は固形分換算の質量部である。   EXAMPLES Hereinafter, although an Example and a comparative example demonstrate this invention further in detail, it is not limited to this. In addition, except a solvent, each composition of each layer is a mass part of solid content conversion.

(実施例1)基材11として厚さ25μmのPETフィルムを用い、該基材11の一方の面へ、グラビアコート法で、TCM01メジューム(大日本インキ社製、メラミン樹脂商品名)塗工液を乾燥後2μmになるように塗布し乾燥して、180℃20秒間焼き付けて、離型層13を形成した。
該離型層13面へ、下記の電離放射線硬化性樹脂組成物をグラビアリバースコーターで乾燥後の厚さが2μmになるように、塗工し100℃で乾燥させた。
・<電離放射線硬化性樹脂組成物の作製手順>
まず、「電離放射線硬化性樹脂組成物M」は以下の手順で、生成した。撹拌機、還流冷却器、滴下漏斗及び温度計を取り付けた反応器に、酢酸エチル206.1g及びイソホロンジイソシアネートの三量体(HULS社製品、VESTANAT T1890、融点110℃)133.5gを仕込み、80℃に昇温して溶解させた。溶液中に空気を吹き込んだのち、ハイドロキノンモノメチルエーテル0.38g、ペンタエリスリトールトリアクリレート(大阪有機化学工業社製品、ビスコート300)249.3g及びジブチル錫ジラウレート0.38gを仕込んだ。80℃で5時間反応させたのち酢酸エチル688.9gを添加して冷却した。
該「電離放射線硬化性樹脂組成物M」と、造膜性樹脂(アクリル系オリゴマー)、反応性シリコーン、ポリエチレンワックス、光重合開始剤、及び溶媒を下記の組成で配合して電離放射線硬化性樹脂組成物を調製した。
・<ホログラム層の電離放射線硬化性樹脂組成物>
「電離放射線硬化性樹脂組成物M」 25質量部
メタアクリレートオリゴマー(日本合成化学社製、商品名紫光6630B)5質量部
反応性シリコーン(信越化学社製、商品名X−22−2445) 0.15質量部
ポリエチレンワックス(平均粒径3μm、球状) 0.6質量部
光重合開始剤(チバ社製、商品名イルガキュア184) 1.5質量部
酢酸エチル 70質量部
次に、該層面へ、2光束干渉法による回折格子から2P法で複製した擬似連続絵柄としたプレス型を複製装置のエンボスローラーに貼着して、相対するローラーと間で加熱プレス(エンボス)して、微細な凹凸パターンからなるレリーフを賦形させた。賦形後直ちに、高圧水銀灯を用いて紫外線を照射して硬化させて、ホログラム層15を形成した。
該ホログラム層15のレリーフ面へ、厚さ50nmの酸化チタンを真空蒸着法で形成して、反射層17とした。
該反射層17面へ、ファインラップスーパーメタリックシルバーインキ(大日本インキ化学工業社製、高輝度インキ商品名)を用いて、グラビア印刷法で、乾燥後の厚さが2μmになるように印刷して、高輝度インキ層18を形成した。
該高輝度インキ層18面へ、接着層組成物としてTM−A1HS(大日精化社製、商品名)をグラビアコーターで乾燥後の塗布量が1μmになるように、塗工し100℃で乾燥させて、接着層19を形成して、基材11/剥離層13/ホログラム層15/反射層17/高輝度インキ層18/接着層19の層構成からなる実施例1のインモールド用転写箔10を得た。
Example 1 Using a PET film having a thickness of 25 μm as the base material 11, a TCM01 medium (manufactured by Dainippon Ink Co., Ltd., melamine resin product name) coating liquid is applied to one surface of the base material 11 by a gravure coating method. After being dried, it was applied to a thickness of 2 μm, dried, and baked at 180 ° C. for 20 seconds to form a release layer 13.
The surface of the release layer 13 was coated with the following ionizing radiation curable resin composition with a gravure reverse coater so that the thickness after drying was 2 μm and dried at 100 ° C.
・ <Procedure for producing ionizing radiation curable resin composition>
First, “ionizing radiation curable resin composition M” was produced by the following procedure. A reactor equipped with a stirrer, reflux condenser, dropping funnel and thermometer was charged with 206.1 g of ethyl acetate and 133.5 g of isophorone diisocyanate trimer (HULS product, VESTANAT T1890, melting point 110 ° C.), 80 The solution was heated to 0 ° C. and dissolved. After air was blown into the solution, 0.38 g of hydroquinone monomethyl ether, 249.3 g of pentaerythritol triacrylate (product of Osaka Organic Chemical Industry Co., Ltd., Biscoat 300) and 0.38 g of dibutyltin dilaurate were charged. After reacting at 80 ° C. for 5 hours, 688.9 g of ethyl acetate was added and cooled.
The “ionizing radiation curable resin composition M”, a film-forming resin (acrylic oligomer), a reactive silicone, a polyethylene wax, a photopolymerization initiator, and a solvent are blended in the following composition to form an ionizing radiation curable resin. A composition was prepared.
・ <Ionizing radiation curable resin composition of hologram layer>
“Ionizing radiation curable resin composition M” 25 parts by mass Methacrylate oligomer (manufactured by Nippon Synthetic Chemical Co., Ltd., trade name Murasaki 6630B) 5 parts by weight of reactive silicone (manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd., trade name X-22-2445) 0. 15 parts by mass Polyethylene wax (average particle size 3 μm, spherical) 0.6 parts by mass Photopolymerization initiator (Ciba, trade name Irgacure 184) 1.5 parts by mass Ethyl acetate 70 parts by mass Next, to the layer surface, 2 From a fine concavo-convex pattern, a press die with a pseudo-continuous pattern duplicated by a 2P method from a diffraction grating by the beam interference method is attached to an embossing roller of a duplicating apparatus, and heated and pressed (embossed) with an opposing roller. A relief was formed. Immediately after the shaping, the hologram layer 15 was formed by irradiating and curing with ultraviolet rays using a high-pressure mercury lamp.
On the relief surface of the hologram layer 15, titanium oxide having a thickness of 50 nm was formed by a vacuum vapor deposition method to obtain a reflective layer 17.
Using a fine wrap super metallic silver ink (manufactured by Dainippon Ink & Chemicals, Inc., trade name of high-brightness ink), printed on the surface of the reflective layer 17 by gravure printing so that the thickness after drying is 2 μm. A high-brightness ink layer 18 was formed.
The surface of the high-brightness ink layer 18 was coated with TM-A1HS (trade name, manufactured by Dainichi Seika Co., Ltd.) as a bonding layer composition using a gravure coater so that the coating amount after drying was 1 μm, and dried at 100 ° C. Then, the adhesive layer 19 is formed, and the transfer foil for in-mold of Example 1 having the layer structure of the base material 11 / the release layer 13 / the hologram layer 15 / the reflective layer 17 / the high brightness ink layer 18 / the adhesive layer 19 is formed. 10 was obtained.

(実施例2)基材11として厚さ25μmのPETフィルムを用い、該基材11の一方の面へ、グラビアコート法で、メラミン樹脂塗工液を乾燥の厚さが2μmになるように塗布し乾燥して離型層13を形成した。
該離型層13面へ、下記の電離放射線硬化性樹脂組成物をグラビアリバースコーターで乾燥後の厚さが4μmになるように、塗工し100℃で乾燥させて、高圧水銀灯を用いて紫外線を照射して硬化させて、ハードコート層12を形成した。
・<ハードコート層の電離放射線硬化性樹脂組成物>
「電離放射線硬化性樹脂組成物M」 30質量部
メタアクリレートオリゴマー(日本合成化学社製、商品名紫光7510B)5質量部
ポリエチレンワックス(平均粒径5μm、球状) 0.7質量部
光重合開始剤(チバ社製、商品名イルガキュア907) 1.75質量部
溶媒(酢酸エチル:メチルイソブチルケトン=1:1) 70質量部
該ハードコート層12面へ、下記の電離放射線硬化性樹脂組成物をグラビアリバースコーターで乾燥後の厚さが2μmになるように、塗工し100℃で乾燥させて、ホログラム層15を形成した。
・<ホログラム層の電離放射線硬化性樹脂組成物>
「電離放射線硬化性樹脂組成物M」 25質量部
メタアクリレートオリゴマー(日本合成化学社製、商品名紫光7510B)5質量部
反応性シリコーン(信越化学社製、商品名X−22−1602) 0.2質量部
光重合開始剤(チバ社製、商品名イルガキュア907) 1.75質量部
酢酸エチル 70質量部
次に、該ホログラム層15面へ、2光束干渉法による回折格子から2P法で複製した擬似連続絵柄としたスタンパを複製装置のエンボスローラーに貼着して、相対するローラーと間で加熱プレス(エンボス)して、微細な凹凸パターンからなるレリーフを賦形させた。賦形後直ちに、高圧水銀灯を用いて紫外線を照射して硬化させた。
該ホログラム層15のレリーフ面へ真空蒸着法で厚さが50nmの酸化チタン薄膜を形成して反射層17を形成した。
該反射層17面へ、公知の透明黄色インキを用いて、公知のグラビア印刷法で全面ベタ状に印刷して、印刷層16を形成した。
該印刷層16面へ、ファインラップスーパーメタリックシルバーインキ(大日本インキ化学工業社製、高輝度インキ商品名)を用いて、グラビア印刷法で、乾燥後の厚さが2μmになるように印刷して、高輝度インキ層18を形成した。
該高輝度インキ層18面へ、接着層組成物としてTM−A1HS(大日精化社製、商品名)をグラビアコーターで乾燥後の塗布量が1μmになるように、塗工し100℃で乾燥させて、接着層19を形成して、基材11/剥離層13/ハードコート層12/ホログラム層15/反射層17/印刷層16/高輝度インキ層18/接着層19の層構成からなる実施例2のインモールド用転写箔10を得た。
(Example 2) A PET film having a thickness of 25 μm was used as the base material 11, and a melamine resin coating solution was applied to one surface of the base material 11 by a gravure coating method so that the dry thickness was 2 μm. Then, the release layer 13 was formed by drying.
The surface of the release layer 13 is coated with the following ionizing radiation curable resin composition with a gravure reverse coater so that the thickness after drying is 4 μm, dried at 100 ° C., and then irradiated with ultraviolet light using a high-pressure mercury lamp. Was hardened by irradiation to form a hard coat layer 12.
・ <Ionizing radiation curable resin composition of hard coat layer>
“Ionizing radiation curable resin composition M” 30 parts by mass Methacrylate oligomer (manufactured by Nippon Synthetic Chemical Co., Ltd., trade name: Purple Light 7510B) 5 parts by mass Polyethylene wax (average particle size 5 μm, spherical) 0.7 parts by mass Photopolymerization initiator (Ciba, trade name Irgacure 907) 1.75 parts by mass Solvent (ethyl acetate: methyl isobutyl ketone = 1: 1) 70 parts by mass Gravure the following ionizing radiation curable resin composition onto the 12 surface of the hard coat layer. The hologram layer 15 was formed by coating and drying at 100 ° C. so that the thickness after drying with a reverse coater was 2 μm.
・ <Ionizing radiation curable resin composition of hologram layer>
“Ionizing radiation curable resin composition M” 25 parts by mass Methacrylate oligomer (manufactured by Nippon Synthetic Chemical Co., Ltd., trade name: Murasakimitsu 7510B) 5 parts by mass of reactive silicone (manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd., trade name: X-22-1602) 2 parts by mass Photopolymerization initiator (trade name Irgacure 907, manufactured by Ciba) 1.75 parts by mass Ethyl acetate 70 parts by mass Next, the hologram layer 15 was duplicated from the diffraction grating by the two-beam interference method by the 2P method. A stamper having a quasi-continuous pattern was attached to an embossing roller of a duplicating apparatus, and heated and pressed (embossed) with an opposing roller to form a relief having a fine uneven pattern. Immediately after shaping, it was cured by irradiating with ultraviolet rays using a high-pressure mercury lamp.
A reflective layer 17 was formed by forming a 50 nm thick titanium oxide thin film on the relief surface of the hologram layer 15 by vacuum deposition.
A printing layer 16 was formed on the surface of the reflective layer 17 by using a known transparent yellow ink and printing on the entire surface by a known gravure printing method.
Using a fine wrap super metallic silver ink (manufactured by Dainippon Ink & Chemicals, Inc., trade name of high-brightness ink) on the surface of the printing layer 16, printing is performed by a gravure printing method so that the thickness after drying becomes 2 μm. A high-brightness ink layer 18 was formed.
The surface of the high-brightness ink layer 18 was coated with TM-A1HS (trade name, manufactured by Dainichi Seika Co., Ltd.) as a bonding layer composition using a gravure coater so that the coating amount after drying was 1 μm, and dried at 100 ° C. Then, the adhesive layer 19 is formed, and is composed of the base material 11 / peeling layer 13 / hard coat layer 12 / hologram layer 15 / reflective layer 17 / printing layer 16 / high brightness ink layer 18 / adhesive layer 19 In-mold transfer foil 10 of Example 2 was obtained.

(評価)実施例1〜2の硬化前のホログラム層はいずれも指乾状態であり、巻取りができ、以降の工程もロールツーロール加工ができた。
実施例1のホログラム層15の破断伸度は31%、実施例2がハードコート層12及びホログラム層15の破断伸度は31%であった。
インモールド用転写箔10の耐熱性としては、実施例1が170℃、実施例2が170℃であった。
(Evaluation) The hologram layers before curing in Examples 1 and 2 were all in a finger dry state and could be wound up, and the subsequent steps could be rolled to roll.
The breaking elongation of the hologram layer 15 of Example 1 was 31%, and in Example 2, the breaking elongation of the hard coat layer 12 and the hologram layer 15 was 31%.
The heat resistance of the in-mold transfer foil 10 was 170 ° C. in Example 1 and 170 ° C. in Example 2.

(実施例3〜4)
<射出成形>実施例1〜2のインモールド用転写箔10を射出成形装置の自動箔送り装置に、接着層面が成形樹脂側になるように挿入(インサート)し、スミペックスSTH−55(住友化学社製、アクリル樹脂商品名)を、溶融温度250℃、金型温度80℃の通常条件で射出成形を行った。冷却後、金型を解放し、基材11を剥離して取り出して、実施例3〜4のインモールド用転写箔を用いたホログラム付き成形品を得た。
なお、該射出成形は成形サイクル12秒で連続的に成形した。得られた成形品は3次元形状(周囲に5mmの縁取りがあり、中央部が球面状に盛り上った直径150mmのCDプレイヤーの部材)を有しており、実施例3〜4のいずれの成形品も球面部及び縁取り部分にもインモールド用転写箔10は追随し、アクリル樹脂表面にホログラムが転写されていた。該ホログラムは、射出成形の熱でも白化せず、球面部への追従性もよく、割れや白化などもなく、意匠性に優れたホログラムが立体面へ転写されていた。
(Examples 3 to 4)
<Injection molding> The in-mold transfer foil 10 of Examples 1 and 2 was inserted (inserted) into the automatic foil feeder of the injection molding apparatus so that the adhesive layer surface was on the molding resin side, and Sumipex STH-55 (Sumitomo Chemical) Acrylic resin product name, manufactured by the company, was injection molded under normal conditions of a melting temperature of 250 ° C and a mold temperature of 80 ° C. After cooling, the mold was released, the substrate 11 was peeled off, and the molded article with hologram using the in-mold transfer foil of Examples 3 to 4 was obtained.
The injection molding was continuously performed with a molding cycle of 12 seconds. The obtained molded article has a three-dimensional shape (a member of a CD player having a diameter of 150 mm with a 5 mm border and a central portion raised in a spherical shape). The in-mold transfer foil 10 followed the molded product as well as the spherical surface portion and the edge portion, and the hologram was transferred onto the surface of the acrylic resin. The hologram was not whitened by the heat of injection molding, had good followability to the spherical surface portion, was free of cracks and whitening, and was transferred to a three-dimensional surface with excellent design.

本発明の1実施例を示すインモールド用転写箔の断面図である。It is sectional drawing of the transfer foil for in-mold which shows one Example of this invention. 本発明の1実施例を示すインモールド用転写箔の断面図である。It is sectional drawing of the transfer foil for in-mold which shows one Example of this invention. 本発明のインモールド用転写箔を用いて、転写した成形品の断面図である。It is sectional drawing of the molded article transcribe | transferred using the transfer foil for in-mold of this invention.

符号の説明Explanation of symbols

10:インモールド用転写箔
11:基材
12:ハードコート層
13:離型層
15:ホログラム層
17:反射層
18:高輝度インキ層
19:接着層
100:成形品
10: Transfer foil for in-mold 11: Base material 12: Hard coat layer 13: Release layer 15: Hologram layer 17: Reflective layer 18: High brightness ink layer 19: Adhesive layer 100: Molded product

Claims (3)

基材と、該基材の一方の面へ離型層、ホログラム層、反射層、高輝度インキ層及び接着層を設けてなるインモールド用転写箔において、前記離型層がメラミン系樹脂であり、前記ホログラム層が電離放射線硬化性樹脂の硬化物、反応性シリコーン及びポリエチレンワックスを含み、前記高輝度インキ層が少なくとも有機脂肪酸、メチルシリルイソシアネート又はセルロース誘導体で表面処理した金属蒸着膜細片を含んでいることを特徴とするインモールド用転写箔。 In a transfer foil for in-mold, in which a release layer, a hologram layer, a reflection layer, a high-brightness ink layer, and an adhesive layer are provided on one surface of the base material and the base material, the release layer is a melamine resin The hologram layer includes a cured product of ionizing radiation curable resin, reactive silicone, and polyethylene wax, and the high-brightness ink layer includes a metal vapor-deposited thin film surface-treated with at least an organic fatty acid, methylsilyl isocyanate, or a cellulose derivative. A transfer foil for in-mold, characterized by 上記ホログラム層が(1)電離放射線硬化前の塗膜が指乾状態で、(2)電離放射線硬化後の23℃における破断伸度が5%以上で、かつ、(3)基材、離型層、ホログラム層、反射層、高輝度インキ層及び接着層を設けたインモールド用転写箔状態で、150℃雰囲気中に1時間放置しても白化しない耐熱性を有することを特徴とする請求項1に記載のインモールド用転写箔。 The hologram layer is (1) the coating film before ionizing radiation curing is in a finger-dried state, (2) the elongation at break at 23 ° C. after ionizing radiation curing is 5% or more, and (3) the substrate and mold release A heat resistance that does not cause whitening even when left in a 150 ° C. atmosphere in an in-mold transfer foil state in which a layer, a hologram layer, a reflective layer, a high-brightness ink layer, and an adhesive layer are provided. The transfer foil for in-mold according to 1. 請求項1〜2のいずれかに記載のインモールド用転写箔を用いて、インモールド射出成形法で製造されてなることを特徴とする成形品。 A molded product produced by an in-mold injection molding method using the in-mold transfer foil according to claim 1.
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