JP4946209B2 - Hologram transfer foil and molded product with hologram using the same - Google Patents

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Description

本発明は、ホログラム転写箔に関し、さらに詳しくは、成形用金型内へ挿入し成形することで、成形品の立体面への追従性がよく、白化せずにホログラムを転写することのできるホログラム転写箔、及びそれを用いたホログラム付き成形品に関するものである。   The present invention relates to a hologram transfer foil, and more specifically, a hologram that can be transferred into a molding die without being whitened by being inserted into a mold for molding and having good followability to a three-dimensional surface. The present invention relates to a transfer foil and a molded article with a hologram using the transfer foil.

本明細書において、配合を示す「比」、「部」、「%」などは特に断わらない限り質量基準であり、「/」印は一体的に積層されていることを示す。また、「PET」は「ポリエチレンテレフタレート」の略語、同意語、機能的表現、通称、又は業界用語である。   In the present specification, “ratio”, “part”, “%” and the like indicating the composition are based on mass unless otherwise specified, and the “/” mark indicates that they are integrally laminated. “PET” is an abbreviation, synonym, functional expression, common name, or industry term for “polyethylene terephthalate”.

(主なる用途)本発明のホログラム転写箔を用いたホログラム付き成形品の主なる用途としては、日用品や生活用品などの機器本体、食品や各種物品の容器類、電子機器や事務用品などの筐体類など立体成形品で、成形品の表面にホログラムによる特異な意匠性を向上させたもので、成形品の形状や内容物は任意である。しかしながら、高意匠化のために、成形品の表面にホログラムを転写した用途であれば、特に限定されるものではない。   (Main applications) The main applications of the molded article with a hologram using the hologram transfer foil of the present invention include equipment bodies such as daily necessities and daily necessities, containers for food and various articles, housings such as electronic equipment and office supplies. A three-dimensional molded product such as a body, which has a unique design improved by a hologram on the surface of the molded product, and the shape and contents of the molded product are arbitrary. However, there is no particular limitation as long as it is an application in which a hologram is transferred to the surface of a molded product for high design.

(背景技術)従来、射出成形などによる成形品は、また、成形時に、ホログラム転写箔を金型内へ挿入して、射出成形と同時にホログラムを転写することが行われている。さらなる高意匠化のために、成形品の立体部分へもホログラムを転写することが求められている。しかしながら、該転写は平面又は1方向の曲面に制限される。立体部分は溶融した高温の射出成形樹脂の流れによって、ホログラム転写箔が伸張しシワや破れが発生し、また伸張及び/又は収縮によって、割れ、伸縮ジワによって光輝性が変化し、特に反射層がアルミニウムの場合には、本来の金属光沢が伸縮によって白化し全く金属光沢が失われ、ホログラムも消失してしまう。従来は伸縮の影響を最小に押えようと、伸縮の少ない部分へホログラムを貼着又は転写したり、小さい面積のホログラムとしたりすることで、伸縮の影響を最小に押えなければならなかった。そこで、熱で白化しない耐熱性と、伸縮率が大きくても伸縮へ追従性がよく、割れや白化などのホログラム効果の低下が少ない意匠性に優れたホログラムを立体面へ転写することのできるホログラム付き成形品を得るためのホログラム転写箔が求められている。   (Background Art) Conventionally, in a molded product by injection molding or the like, a hologram transfer foil is inserted into a mold at the time of molding, and a hologram is transferred simultaneously with injection molding. In order to further increase the design, it is required to transfer a hologram to a three-dimensional part of a molded product. However, the transfer is limited to a flat surface or a curved surface in one direction. In the three-dimensional part, the hologram transfer foil stretches and wrinkles and tears due to the flow of the molten high-temperature injection molding resin, and the glittering property changes due to cracking and expansion and contraction due to stretching and / or shrinkage. In the case of aluminum, the original metallic luster becomes white due to expansion and contraction, and the metallic luster is completely lost, and the hologram is also lost. Conventionally, in order to suppress the influence of expansion and contraction to the minimum, it has been necessary to suppress the influence of expansion and contraction to a minimum by attaching or transferring a hologram to a portion with little expansion and contraction, or making a hologram with a small area. Therefore, a hologram that can transfer a hologram with excellent heat resistance that does not whiten by heat, good followability to expansion and contraction even if the expansion ratio is large, and less deterioration of hologram effects such as cracking and whitening to a three-dimensional surface. There is a need for a hologram transfer foil for obtaining a molded article with a patch.

(先行技術)従来、基材、印刷層、光回折構造層(本発明のホログラム層に相当する)及び熱接着性樹脂層とを含む積層シートで作製したラベルを、インモールドラベリング方式の射出成形により一体化成形するカップ状容器が知られている(例えば、特許文献1参照。)。しかしながら、ホログラム層が成形される周壁は平面であり立体面ではない。
また、加飾転写層(本発明のホログラム層を含む)を伸縮性材料に転写した後に、少なくとも表面の一部に凹凸又は曲面を有する成形品本体の表面の一部分に加熱加圧により転写した表面装飾成形品が知られている(例えば、特許文献2参照。)。しかしながら、加飾転写層を直接成形品へ転写はできないという欠点がある。
さらに、ベースフィルム、保護層、金属薄膜(本発明のホログラム層と反射層に相当する)、接着層とからなる転写フィルムを作製し、この転写フィルムを挟んで一対の金型を型締めし、該金型内に溶融樹脂を射出して金属薄膜をつけ爪本体の表面に転写するつけ爪の製法が知られている(例えば、特許文献3参照。)。しかしながら、つけ爪は1方向の大きな曲面で、転写フィルム自身は平面を巻き付けた状況であり、立体とは言い難い、また、転写フィルムを構成する保護層、金属薄膜、及び接着層の材料についても、極く一般的なものであり、立体物への転写で最大の問題点であある材料の伸縮性については記載も示唆もされていない。
(Prior Art) Conventionally, an in-mold labeling type injection molding of a label made of a laminated sheet including a base material, a printing layer, a light diffraction structure layer (corresponding to the hologram layer of the present invention) and a thermoadhesive resin layer There is known a cup-shaped container that is integrally molded by the above-described method (for example, see Patent Document 1). However, the peripheral wall on which the hologram layer is formed is a flat surface and not a solid surface.
Further, after the decorative transfer layer (including the hologram layer of the present invention) is transferred to the stretchable material, the surface is transferred to a part of the surface of the molded article body having at least a part of the surface by unevenness or a curved surface by heating and pressing. A decorative molded product is known (for example, refer to Patent Document 2). However, there is a drawback that the decorative transfer layer cannot be directly transferred to a molded product.
Furthermore, a transfer film composed of a base film, a protective layer, a metal thin film (corresponding to the hologram layer and the reflective layer of the present invention), and an adhesive layer is produced, and a pair of molds are clamped with the transfer film interposed therebetween, There is known a method for manufacturing a false nail in which a molten resin is injected into the mold and a metal thin film is applied to the surface of the nail body (see, for example, Patent Document 3). However, the false nail is a large curved surface in one direction, and the transfer film itself is wound around a flat surface, and it is difficult to say that it is three-dimensional. Also, the materials of the protective layer, metal thin film, and adhesive layer constituting the transfer film However, there is no description or suggestion about the stretchability of the material, which is extremely general and is the biggest problem in transfer to a three-dimensional object.

特開2005−7647号公報JP 2005-7647 A 特開2004−58599号公報JP 2004-58599 A 特開2003−9941号公報Japanese Patent Laid-Open No. 2003-9941

そこで、本発明はこのような問題点を解消するためになされたものである。その目的は、熱で白化しない耐熱性と、伸縮率が大きくても伸縮へ追従性がよく、割れや白化などのホログラム効果の低下が少ない意匠性に優れたホログラムを立体面へ転写することのできるホログラム転写箔、及びそれを用いたホログラム付き成形品を提供することである。   Accordingly, the present invention has been made to solve such problems. The purpose is to transfer a hologram with excellent heat resistance that does not whiten by heat, good conformity to expansion and contraction even when the expansion ratio is large, and less deterioration of hologram effects such as cracking and whitening to a three-dimensional surface. It is to provide a hologram transfer foil that can be formed, and a molded article with a hologram using the same.

上記の課題を解決するために、請求項1の発明に係わるホログラム転写箔は、基材と、該基材の一方の面へ離型層、ホログラム層、反射層及び接着層を設けてなるホログラム転写箔において、前記離型層がメラミン系樹脂であり、前記ホログラム層が電離放射線硬化性樹脂及び反応性シリコーンの硬化物、並びにポリエチレンワックスを含み、前記電離放射線硬化性樹脂が(1)分子中にイソシアネート基を3個以上有するイソシアネート類、(2)分子中に水酸基を少なくとも1個と(メタ)アクリロイルオキシ基を少なくとも2個有する多官能(メタ)アクリレート類、又は(3)分子中に水酸基を少なくとも2個有する多価アルコール類の反応生成物であるウレタン(メタ)アクリレートオリゴマーを含有し、前記ホログラム層のポリエチレンワックスの含有が質量基準で、電離放射線硬化樹脂:ポリエチレンワックス=100:0.01〜10であり、前記ホログラム層が(1)電離放射線硬化前の塗膜が指乾状態で、(2)電離放射線硬化後の23℃における破断伸度が5%以上で、かつ、(3)基材、離型層、ホログラム層及び反射層を設けたホログラム転写箔状態で、150℃雰囲気中に1時間放置しても白化しない耐熱性を有し、立体面へホログラムを転写できることを特徴とするホログラム転写箔である。
請求項2の発明に係わるホログラム転写箔を用いたホログラム付き成形品は、請求項1に記載のホログラム転写箔を用いて、インモールド射出成形法で、立体面へホログラムが転写されてなることを特徴とするホログラム付き成形品である。
In order to solve the above problems, a hologram transfer foil according to the invention of claim 1 is a hologram in which a base material and a release layer, a hologram layer, a reflective layer, and an adhesive layer are provided on one surface of the base material. in the transfer foil, the a release layer melamine resin, a cured product of the hologram layer is ionizing radiation-curable resin and reactive silicones, and polyethylene wax seen including, the ionizing radiation-curable resin (1) molecule Isocyanates having 3 or more isocyanate groups, (2) Polyfunctional (meth) acrylates having at least one hydroxyl group and at least two (meth) acryloyloxy groups in the molecule, or (3) In the molecule Containing a urethane (meth) acrylate oligomer which is a reaction product of a polyhydric alcohol having at least two hydroxyl groups, The content of tyrene wax is based on mass, ionizing radiation curable resin: polyethylene wax = 100: 0.01-10, the hologram layer is (1) the coating film before ionizing radiation curing is in a finger-dried state, (2) Breaking elongation at 23 ° C. after ionizing radiation curing is 5% or more and (3) 1 hour in a 150 ° C. atmosphere in a hologram transfer foil state in which a substrate, a release layer, a hologram layer and a reflective layer are provided The hologram transfer foil is characterized in that it has heat resistance that does not whiten even if left to stand and can transfer a hologram to a three-dimensional surface .
A molded article with a hologram using the hologram transfer foil according to the invention of claim 2 is obtained by transferring a hologram to a three-dimensional surface by an in-mold injection molding method using the hologram transfer foil of claim 1. This is a molded product with a hologram.

請求項1の本発明によれば、巻取り状で効率的に加工でき、熱で白化しない耐熱性と、伸縮へ追従性がよく、割れや白化などのホログラム効果の低下が少ない意匠性に優れたホログラムを立体面へ転写することのできるホログラム転写箔が提供される。
請求項2の本発明によれば、割れや白化などのホログラム効果の低下が少ない意匠性に優れたホログラムが転写され、極めて過酷な環境、長期にわたる使用、及び/又は多数回の繰り返し使用でも、画像を保護し耐久性に優れるホログラム転写箔を用いたホログラム付き成形品が提供される。
According to the first aspect of the present invention, it can be efficiently processed in the form of a winding, has heat resistance that does not whiten by heat, good followability to expansion and contraction, and has excellent design properties with less deterioration of hologram effects such as cracking and whitening. A hologram transfer foil capable of transferring a hologram to a three-dimensional surface is provided.
According to the present invention of claim 2 , a hologram having excellent design properties with little reduction in hologram effect such as cracking and whitening is transferred, and even in extremely harsh environments, long-term use, and / or repeated use many times, A molded article with a hologram using a hologram transfer foil that protects an image and has excellent durability is provided.

以下、本発明の実施形態について、図面を参照しながら、詳細に説明する。
図1は、本発明の1実施例を示すホログラム転写箔の断面図である。
図2は、本発明のホログラム転写箔を用いて、転写した成形品の断面図である。
Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the drawings.
FIG. 1 is a sectional view of a hologram transfer foil showing one embodiment of the present invention.
FIG. 2 is a cross-sectional view of a molded product transferred using the hologram transfer foil of the present invention.

(インモールド射出成形法)まず、インモールド射出成形法とは、(1)ホログラム転写箔を準備する工程と、(2)該ホログラム転写箔を射出成形用金型内へ挿入する工程と、(3)該射出成形用金型へ樹脂を射出成形し密着させることで、該樹脂の表面へホログラム転写箔のホログラム層を転写する工程と、(4)冷却後、金型を解放し、ホログラム転写箔の基材を剥離して成形品を取り出す工程と、からなる射出成形法で、立体面へホログラムが転写された成形品を製造できる。   (In-mold injection molding method) First, the in-mold injection molding method includes (1) a step of preparing a hologram transfer foil, (2) a step of inserting the hologram transfer foil into an injection mold, 3) A step of transferring the hologram layer of the hologram transfer foil onto the surface of the resin by injection molding and adhering the resin to the injection mold, and (4) releasing the mold after cooling and transferring the hologram A molded product in which a hologram is transferred to a three-dimensional surface can be manufactured by an injection molding method comprising a step of peeling a foil base material and taking out a molded product.

(ホログラム転写箔)本発明のホログラム転写箔10は、図1に示すように、基材11と、該基材の一方の面へ離型層13、ホログラム層15、反射層17及び接着層19の層構成である。さらに、必要に応じて他の層を設けてもよい。例えば、基材11/離型層13/ホログラム層15/反射層17/他の機能層21(必要に応じて)/接着層19の層構成としてもよい。なお、他の機能層21の構成位置は、基材11/離型層12/剥離層13の層間以外であれば任意でよい。他の機能層21としては、例えば、剥離層、印刷絵柄層、紫外線吸収層などが例示できる。   (Hologram Transfer Foil) As shown in FIG. 1, the hologram transfer foil 10 of the present invention has a base material 11 and a release layer 13, a hologram layer 15, a reflective layer 17 and an adhesive layer 19 on one surface of the base material. It is a layer structure. Furthermore, you may provide another layer as needed. For example, the layer configuration may be substrate 11 / release layer 13 / hologram layer 15 / reflection layer 17 / other functional layer 21 (if necessary) / adhesion layer 19. The other functional layer 21 may be arranged at any position other than the base material 11 / release layer 12 / release layer 13 layer. Examples of the other functional layer 21 include a release layer, a printed pattern layer, and an ultraviolet absorption layer.

(基材)基材11としては、耐熱性、機械的強度、製造に耐える機械的強度、耐溶剤性などがあれば、用途に応じて種々の材料が適用できる。例えば、ポリエチレンテレフタレート・ポリブチレンテレフタレート・ポリエチレンナフタレートなどのポリエステル系樹脂、ポリアミド系樹脂、ポリ塩化ビニルなどのビニル系樹脂、アクリル系樹脂、イミド系樹脂、ポリアリレートなどのエンジニアリング樹脂、ポリカーボネート、セロファンなどのセルロース系フィルムなどがある。該基材は、これら樹脂を主成分とする共重合樹脂、または、混合体(アロイでを含む)、若しくは複数層からなる積層体であっても良い。通常は、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等のポリエステル系のフィルムが、耐熱性、機械的強度がよいため好適に使用され、ポリエチレンテレフタレートが最適である。   (Substrate) As the substrate 11, various materials can be applied depending on the use as long as the substrate 11 has heat resistance, mechanical strength, mechanical strength to withstand manufacturing, solvent resistance, and the like. For example, polyester resins such as polyethylene terephthalate / polybutylene terephthalate / polyethylene naphthalate, polyamide resins, vinyl resins such as polyvinyl chloride, acrylic resins, imide resins, engineering resins such as polyarylate, polycarbonate, cellophane, etc. Cellulosic film. The substrate may be a copolymer resin containing these resins as a main component, a mixture (including an alloy), or a laminate composed of a plurality of layers. Usually, polyester films such as polyethylene terephthalate and polyethylene naphthalate are preferably used because of their good heat resistance and mechanical strength, and polyethylene terephthalate is most suitable.

また、該基材11は、延伸フィルムでも、未延伸フィルムでも良いが、強度を向上させる目的で、一軸方向または二軸方向に延伸したフィルムが好ましい。該基材の厚さは、通常、2.5〜50μm程度が適用できるが、2.5〜12μmが好適で、4〜6μmが最適である。該基材11は、塗布に先立って塗布面へ、コロナ放電処理、プラズマ処理、オゾン処理、フレーム処理、プライマー(アンカーコート、接着促進剤、易接着剤とも呼ばれる)塗布処理、予熱処理、除塵埃処理、蒸着処理、アルカリ処理、などの易接着処理を行ってもよい。また、必要に応じて、充填剤、可塑剤、着色剤、帯電防止剤などの添加剤を加えても良い。   The substrate 11 may be a stretched film or an unstretched film, but a film stretched in a uniaxial direction or a biaxial direction is preferable for the purpose of improving the strength. The thickness of the base material is usually about 2.5 to 50 μm, preferably 2.5 to 12 μm, and most preferably 4 to 6 μm. Prior to coating, the substrate 11 is applied to the coated surface by corona discharge treatment, plasma treatment, ozone treatment, flame treatment, primer (also called anchor coat, adhesion promoter, or easy adhesive) coating treatment, pre-heat treatment, dust removal. Easy adhesion treatment such as treatment, vapor deposition treatment, and alkali treatment may be performed. Moreover, you may add additives, such as a filler, a plasticizer, a coloring agent, and an antistatic agent, as needed.

(離型層、剥離層)転写時の剥離性を向上させるために、離型層13を設け、必要に応じて、剥離層14も設けてもよく、離型層13及び剥離層14の両方を設けるとより転写性をより向上できる。   (Release layer, release layer) In order to improve the releasability at the time of transfer, a release layer 13 may be provided, and if necessary, a release layer 14 may be provided. Both of the release layer 13 and the release layer 14 The transferability can be further improved by providing.

(離型層)離型層13としては、通常、離型性樹脂、離型剤を含んだ樹脂、電離放射線で架橋する硬化性樹脂などがあるが、本発明ではメラミン系樹脂を用い、後述するハードコート層15と組合わせることで、離型層13とハードコート層15と間の剥離が安定し、転写時の箔切れ性を著しく向上させることができる。   (Release layer) The release layer 13 usually includes a release resin, a resin containing a release agent, a curable resin that is cross-linked by ionizing radiation, etc. In the present invention, a melamine resin is used, which will be described later. By combining with the hard coat layer 15 to be peeled off, the separation between the release layer 13 and the hard coat layer 15 is stabilized, and the foil breakage during transfer can be remarkably improved.

離型層13の形成は、該樹脂を溶媒へ分散又は溶解して、ロールコート、グラビアコートなどの公知のコーティング方法で、塗布し乾燥して、温度150℃〜200℃程度で焼き付ける。離型層13の厚さとしては、通常は0.01μm〜5.0μm程度、好ましくは0.5μm〜3.0μm程度である。   The release layer 13 is formed by dispersing or dissolving the resin in a solvent, applying and drying the resin by a known coating method such as roll coating or gravure coating, and baking at a temperature of about 150 ° C to 200 ° C. The thickness of the release layer 13 is usually about 0.01 μm to 5.0 μm, preferably about 0.5 μm to 3.0 μm.

(剥離層)剥離層14としては、弗素系樹脂、シリコーン、各種のワックスなどの離型剤を添加または共重合させたアクリル系樹脂、ビニル系樹脂、ポリエステル樹脂、繊維素系樹脂、ワックス、メラミン系樹脂等が例示でき、離型層13及び剥離層14の両方を設ける場合には、適宜組み合わせて用いればよく、この場合には、剥離層14は転写後に保護層としての機能を合わせ持つ。   (Peeling layer) As the peeling layer 14, an acrylic resin, vinyl resin, polyester resin, fiber resin, wax, melamine to which a release agent such as fluorine resin, silicone, various waxes is added or copolymerized is used. In the case where both the release layer 13 and the release layer 14 are provided, they may be used in appropriate combination. In this case, the release layer 14 also has a function as a protective layer after transfer.

(ホログラム層)ホログラム層15としては、少なくとも電離放射線硬化性樹脂及び反応性シリコーンの硬化物、並びにポリエチレンワックスを含ませる。また、好ましくは、ホログラム層15の材料としては、(1)分子中にイソシアネート基を3個以上有するイソシアネート類、(2)分子中に水酸基を少なくとも1個と(メタ)アクリロイルオキシ基を少なくとも2個有する多官能(メタ)アクリレート類、又は(3)分子中に水酸基を少なくとも2個有する多価アルコール類の反応生成物であるウレタン(メタ)アクリレートオリゴマーを含有する電離放射線硬化性樹脂(本明細書では「電離放射線硬化性樹脂組成物M」と呼称する)と及び反応性シリコーンの硬化物、並びにポリエチレンワックスを含むようにする。さらに好ましくは、(メタ)アクリレートオリゴマーも含ませて硬化させる。該組成物を塗布し乾燥して、ホログラム機能を発現する微細な凹凸レリーフを賦型した後に、電離放射線で硬化させればよい。   (Hologram Layer) The hologram layer 15 includes at least an ionizing radiation curable resin and a cured product of reactive silicone, and polyethylene wax. Preferably, the material of the hologram layer 15 includes (1) an isocyanate having three or more isocyanate groups in the molecule, and (2) at least one hydroxyl group and at least two (meth) acryloyloxy groups in the molecule. Ionizing radiation curable resin containing urethane (meth) acrylate oligomer which is a reaction product of polyfunctional (meth) acrylates having one or polyhydric alcohols having at least two hydroxyl groups in the molecule (this specification) The term “ionizing radiation curable resin composition M”) and a cured product of reactive silicone, and polyethylene wax are included. More preferably, a (meth) acrylate oligomer is also included and cured. What is necessary is just to harden with ionizing radiation, after apply | coating this composition and drying and shaping | molding the fine unevenness | corrugation relief which expresses a hologram function.

(電離放射線硬化性樹脂組成物M)「電離放射線硬化性樹脂組成物M」としては、ウレタン(メタ)アクリレートオリゴマーを含有する電離放射線硬化性樹脂の硬化物、具体的には、特開2001−329031号公報で開示されている光硬化性樹脂などが例示でき、実施例でも述べる。即ち、「電離放射線硬化性樹脂組成物M」(1)分子中にイソシアネート基を3個以上有するイソシアネート類、(2)分子中に水酸基を少なくとも1個と(メタ)アクリロイルオキシ基を少なくとも2個有する多官能(メタ)アクリレート類、又は(3)分子中に水酸基を少なくとも2個有する多価アルコール類の反応生成物である。   (Ionizing radiation curable resin composition M) The “ionizing radiation curable resin composition M” is a cured product of an ionizing radiation curable resin containing a urethane (meth) acrylate oligomer. The photocurable resin etc. which are indicated by 329031 gazette can be illustrated, and it mentions also in an example. That is, “ionizing radiation curable resin composition M” (1) isocyanates having 3 or more isocyanate groups in the molecule, (2) at least one hydroxyl group and at least two (meth) acryloyloxy groups in the molecule Reaction product of polyfunctional (meth) acrylates having, or (3) polyhydric alcohols having at least two hydroxyl groups in the molecule.

((メタ)アクリレートオリゴマー)(メタ)アクリレートオリゴマーとしては、耐熱性のあるオリゴマーであればよく、例えば、日本合成化学社の商品名;紫光6630B、7510B、7630Bなどが例示できる。含有させる質量基準での割合としては、「電離放射線硬化性樹脂組成物M」100部に対して10〜30部程度、好ましくは15〜25部である。この範囲未満では耐熱性が不足し、この範囲を超えては耐熱性はよいが、ヒビ割れしやすい。   ((Meth) acrylate oligomer) The (meth) acrylate oligomer may be a heat-resistant oligomer, and examples thereof include trade names of Nippon Synthetic Chemical Co., Ltd .; Purple light 6630B, 7510B, 7630B and the like. The ratio on the basis of mass to be contained is about 10 to 30 parts, preferably 15 to 25 parts with respect to 100 parts of “ionizing radiation curable resin composition M”. If it is less than this range, the heat resistance is insufficient, and if this range is exceeded, the heat resistance is good, but cracking tends to occur.

(ポリエチレンワックス)ポリエチレンワックスとしては、ポリエチレン系樹脂の粒子やビーズが挙げられるが、好ましくは球状ビーズである。但し、ポリエチレンワックスを添加すると、箔切れ性は低下するので、その添加量は、電離放射線硬化樹脂100質量部に対して、0.01〜10質量部程度、好ましくは0.1〜5質量部とする。   (Polyethylene wax) Polyethylene wax includes polyethylene resin particles and beads, and is preferably spherical beads. However, when polyethylene wax is added, the foil breakage is reduced, so the amount added is about 0.01 to 10 parts by weight, preferably 0.1 to 5 parts by weight, with respect to 100 parts by weight of ionizing radiation curable resin. And

(反応性シリコーン)反応性シリコーンとしては、電離放射線で硬化時に樹脂と反応し結合して一体化するもので、アクリル変性、メタクリル変性、又はエポキシ変性などで変性した反応性シリコーンで、該反応性シリコーンを含有させる質量基準での割合としては「電離放射線硬化性樹脂組成物M」100に対して、0.1〜10部程度、好ましくは0.3〜5部である。この範囲未満ではレリーフの賦型時にプレススタンパとの剥離が不十分であり、プレススタンパの汚染を防止することが困難で賦型性が悪い。また、この範囲を超えてはホログラム層面への反射層の密着性が低く、ホログラム層と反射層との間で剥離し商品価値を失ってしまう。従来のシリコーンオイルの添加では、反射層との密着性が悪い。   (Reactive silicone) Reactive silicone is a reactive silicone that reacts with and binds with resin when cured with ionizing radiation, and is modified by acrylic, methacrylic, or epoxy modification. The ratio on the basis of mass containing silicone is about 0.1 to 10 parts, preferably 0.3 to 5 parts relative to “ionizing radiation curable resin composition M” 100. If it is less than this range, peeling from the press stamper is insufficient at the time of relief molding, and it is difficult to prevent contamination of the press stamper and the moldability is poor. Further, beyond this range, the adhesiveness of the reflective layer to the hologram layer surface is low, and the commercial value is lost by peeling between the hologram layer and the reflective layer. Addition of conventional silicone oil has poor adhesion to the reflective layer.

離型層13をメラミン系樹脂とし、ホログラム層15を電離放射線硬化性樹脂及び反応性シリコーンの硬化物、並びにポリエチレンワックスを含ませる。このようにすることで、ホログラム層15は(1)電離放射線硬化前の塗膜が指乾状態でべとつかず、ブロッキングせずに巻き取ることができるので、ロールツーロール加工ができ、加工性がよい。
(2)電離放射線で硬化後の23℃における破断伸度を5%以上、好ましくは7%以上とすることができる。5%未満では伸縮時にヒビ割れたり白化したりする。7%以上であると、伸縮率が高くても伸縮時にヒビ割れたり白化したりしない。(3)基材11/離型層13/ホログラム層15/反射層17/接着層19のホログラム転写箔10状態で、150℃雰囲気中に1時間放置しても白化しない耐熱性を有する。なお、耐熱性は接着層19を設けても設けなくとも同じである。(4)ホログラム層15へは反応性シリコーンを含ませることで、賦型性がよいので、ホログラム機能を発現する微細な凹凸なレリーフ構造を容易に賦型でき、賦型後に電離放射線で硬化できる。(5)カードなどの媒体への転写後は、ホログラム層15は最表面層となるが、該ホログラム層15はハードコート機能も兼ねているので、極めて過酷な環境での使用、長期間にわたる使用、及び/又は多数回の繰り返し使用などでも、溶剤、機械的な摩擦、摩耗、スクラッチから支持体の画像を保護し、傷付きにくく耐久性に優れる。(6)ホログラム層15はメラミン系樹脂を用いた離型層13と界面を接しているので、安定した剥離性を有し、転写時には箔切れがよく、バリなどの発生も極めて少ないので、転写性よく転写することができる。
The release layer 13 is made of melamine resin, and the hologram layer 15 is made to contain an ionizing radiation curable resin and a cured product of reactive silicone, and polyethylene wax. By doing in this way, the hologram layer 15 (1) the coating film before ionizing radiation curing is not sticky in a finger-dried state and can be wound up without blocking, so that roll-to-roll processing can be performed and workability is improved. Good.
(2) The breaking elongation at 23 ° C. after curing with ionizing radiation can be 5% or more, preferably 7% or more. If it is less than 5%, it cracks or whitens during expansion and contraction. When it is 7% or more, even if the expansion / contraction ratio is high, it does not crack or whiten during expansion / contraction. (3) The substrate 11 / release layer 13 / hologram layer 15 / reflective layer 17 / adhesive layer 19 have heat resistance that does not whiten even when left in a 150 ° C. atmosphere in the hologram transfer foil 10 state. The heat resistance is the same whether or not the adhesive layer 19 is provided. (4) Since the formability is good by including reactive silicone in the hologram layer 15, a fine uneven relief structure that exhibits a hologram function can be easily shaped, and can be cured with ionizing radiation after shaping. . (5) After transfer to a medium such as a card, the hologram layer 15 becomes the outermost layer, but since the hologram layer 15 also has a hard coat function, it can be used in extremely harsh environments and used for a long period of time. , And / or even when used repeatedly many times, the image of the support is protected from solvents, mechanical friction, abrasion and scratches, and is not easily scratched and has excellent durability. (6) Since the hologram layer 15 is in contact with the release layer 13 using a melamine resin, the hologram layer 15 has a stable releasability, has a good foil breakage during transfer, and generates very few burrs. Transfer with good quality.

本発明のホログラム転写箔10は、インモールド射出成形法で、立体成形品へのホログラムの転写に好ましく使用でき、該ホログラム転写箔10を用いてホログラムを転写した成形品の断面を図2に示す。なお、図2は作図の都合上、成形品は平面に描いているが立体状であり、溶融樹脂の熱で白化しない耐熱性と、立体部分ではホログラム層15が伸ばされるが、伸縮率が大きくても伸縮へ追従性がよく、割れや白化などのホログラム効果の低下が少ない意匠性に優れたホログラムを立体面へ転写することのできるホログラム付き成形品が得られる。   The hologram transfer foil 10 of the present invention can be preferably used for transferring a hologram to a three-dimensional molded product by an in-mold injection molding method. FIG. 2 shows a cross section of a molded product to which a hologram is transferred using the hologram transfer foil 10. . In FIG. 2, for the convenience of drawing, the molded product is drawn in a plane but is three-dimensional, heat resistance that does not whiten with the heat of the molten resin, and the hologram layer 15 is stretched in the three-dimensional portion, but the expansion ratio is large. However, it is possible to obtain a molded article with a hologram that can transfer a hologram having excellent design properties with good conformability to expansion and contraction and less deterioration of hologram effects such as cracking and whitening to a three-dimensional surface.

(破断伸度)ホログラム層15の伸縮性を破断伸度で表し、該層の破断伸度(%)の測定方法は、23℃55%RHの条件下でUV硬化後樹脂層を24時間以上放置した後、株式会社オリエンテックテンシロン万能試験機RTA−100を用いデータ処理は、テンシロン多機能型データ処理TYPE MP−100/200S Ver.44を用い測定を行なった。試料幅10mm、チャック間距離50mm、RANGEは20%、荷重は100kgの条件で、引っ張り速度10mm/minで引っ張り、破断伸度は、引っ張り時の破断または亀裂が入ったときの破断点伸びの自長に対する伸び率とした。ホログラム層15の破断伸度の測定では、ホログラム層15膜のみを作成するのは難しいため、25μm剥離PETに10μmのホログラム層15を形成し、メタルハライドランプにて積算露光量250mjで露光した後に剥離して試料とした。   (Breaking elongation) The stretchability of the hologram layer 15 is expressed in terms of breaking elongation, and the method for measuring the breaking elongation (%) of the layer is that the resin layer after UV curing under conditions of 23 ° C. and 55% RH for 24 hours or more. After being allowed to stand, the data processing was performed using the Tensilon multifunctional data processing TYPE MP-100 / 200S Ver. Measurement was performed using No. 44. The sample is 10 mm wide, the distance between chucks is 50 mm, the RANGE is 20%, the load is 100 kg, and the tensile speed is 10 mm / min. The elongation with respect to the length was used. In the measurement of the elongation at break of the hologram layer 15, it is difficult to produce only the hologram layer 15 film. Therefore, the 10 μm hologram layer 15 is formed on the 25 μm peeled PET, and then peeled after exposure with a metal halide lamp at an integrated exposure amount of 250 mj. And used as a sample.

(耐熱性)ホログラム層の耐熱性は、基材、離型層、ホログラム層、及びアルミニウム反射層を設けてなるホログラム転写箔状態で、150℃から170℃のオーブン中に1時間放置して、目視によりヒビ割れ及び/又は白化しないものを合格とした。   (Heat resistance) The heat resistance of the hologram layer is determined by leaving it in an oven at 150 ° C. to 170 ° C. for 1 hour in a hologram transfer foil state in which a substrate, a release layer, a hologram layer, and an aluminum reflective layer are provided. Those that were not cracked and / or whitened by visual inspection were regarded as acceptable.

(ホログラム層の形成)ホログラム層15は、上記の電離放射線硬化性樹脂、必要に応じて(メタ)アクリレートオリゴマー、反応性シリコーン、及びポリエチレンワックスを含ませ、さらに必要に応じて光重合開始剤、可塑剤、安定剤、界面活性剤等を加え、溶媒へ分散または溶解して、ロールコート、グラビアコート、コンマコート、ダイコートなどの公知のコーティング方法で塗布し乾燥して塗膜を形成したりすれば良い。ホログラム層15の厚さとしては、通常は0.5μm〜20μm程度、好ましくは1μm〜10m程度であり、複数回の塗布でもよい。   (Formation of hologram layer) The hologram layer 15 contains the above-mentioned ionizing radiation curable resin, (meth) acrylate oligomer, reactive silicone, and polyethylene wax as required, and further, if necessary, a photopolymerization initiator, A plasticizer, stabilizer, surfactant, etc. are added, dispersed or dissolved in a solvent, applied by a known coating method such as roll coating, gravure coating, comma coating, die coating, and dried to form a coating film. It ’s fine. The thickness of the hologram layer 15 is usually about 0.5 μm to 20 μm, preferably about 1 μm to 10 m, and may be applied multiple times.

(ホログラム)次に、ホログラム層15の表面には、ホログラムなどの光回折効果の発現する所定のレリーフ構造を賦型し、硬化させる。ホログラムは物体光と参照光との光の干渉による干渉縞を凹凸のレリーフ形状で記録されたもので、例えば、フレネルホログラム等のレーザ再生ホログラム、及びレインボーホログラム等の白色光再生ホログラム、さらに、それらの原理を利用したカラーホログラム、コンピュータジェネレーティッドホログラム(CGH)、ホログラフィック回折格子などがある。レリーフ形状は凹凸形状であり、特に限定されるものではなく、微細な凹凸形状を有する光拡散、光散乱、光反射、光回折などの機能を発現するものでもよく、例えば、フーリエ変換やレンチキュラーレンズ、光回折パターン、モスアイ、が形成されたものである。また、光回折機能はないが、特異な光輝性を発現するヘアライン柄、マット柄、万線柄、干渉パターンなどでもよい。   (Hologram) Next, on the surface of the hologram layer 15, a predetermined relief structure such as a hologram that exhibits a light diffraction effect is formed and cured. A hologram is a recording of interference fringes due to the interference of light between object light and reference light in an uneven relief shape, such as a laser reproduction hologram such as a Fresnel hologram, a white light reproduction hologram such as a rainbow hologram, There are color holograms utilizing the above principle, computer generated holograms (CGH), holographic diffraction gratings and the like. The relief shape is a concavo-convex shape, and is not particularly limited, and may have a fine concavo-convex shape such as light diffusion, light scattering, light reflection, light diffraction, etc., such as Fourier transform or lenticular lens. , A light diffraction pattern, and a moth eye. Further, although it does not have a light diffraction function, it may be a hairline pattern, a mat pattern, a line pattern, an interference pattern, or the like that expresses a unique glitter.

これらのレリーフ形状の作製方法としてはホログラム撮影記録手段を利用して作製されたホログラムや回折格子の他に、干渉や回折という光学計算に基づいて電子線描画装置等を用いて作製されたホログラムや回折格子をあげることもできる。また、ヘアライン柄や万線柄のような比較的大きなパターンなどは機械切削法でもよい。これらのホログラム及び/又は回折格子の単一若しくは多重に記録しても、組み合わせて記録しても良い。これらの原版は公知の材料、方法で作成することができ、通常、感光性材料を塗布したガラス板を用いたレーザ光干渉法、電子線レジスト材料を塗布したガラス板に電子線描画装置を用いてパターン作製する電子線描画法をなどが適用できる。   As a method for producing these relief shapes, in addition to holograms and diffraction gratings produced using hologram photographing and recording means, holograms produced using an electron beam drawing device based on optical calculations such as interference and diffraction, A diffraction grating can also be mentioned. Also, a relatively large pattern such as a hairline pattern or a line pattern may be a machine cutting method. These holograms and / or diffraction gratings may be recorded single or multiple, or may be recorded in combination. These original plates can be prepared by known materials and methods, and usually, laser beam interference using a glass plate coated with a photosensitive material, using an electron beam drawing apparatus on a glass plate coated with an electron beam resist material. An electron beam drawing method for patterning can be applied.

(レリーフの賦型)ホログラム層15面へ、上記のレリーフ形状を賦形(複製ともいう)する。ホログラムの賦型は、公知の方法によって形成でき、例えば、回折格子やホログラムの干渉縞を表面凹凸のレリーフとして記録する場合には、回折格子や干渉縞が凹凸の形で記録された原版をプレス型(スタンパという)として用い、上記樹脂層上に前記原版を重ねて加熱ロールなどの適宜手段により、両者を加熱圧着することにより、原版の凹凸模様を複製することができる。   (Relief shaping) The relief shape is shaped (also referred to as replication) on the surface of the hologram layer 15. Hologram shaping can be formed by a known method. For example, when recording diffraction gratings or interference fringes of holograms as reliefs of surface irregularities, a master on which the diffraction gratings or interference fringes are recorded in irregularities is pressed. The concave / convex pattern of the original can be duplicated by using it as a mold (referred to as a stamper) and by superimposing the original on the resin layer and heat-pressing both of them with an appropriate means such as a heating roll.

(レリーフの硬化)ホログラム層15は、スタンパでエンボス中、又はエンボス後に、電離放射線を照射して、電離放射線硬化性樹脂を硬化させる。上記の電離放射線硬化性樹脂は、レリーフを形成後に、電離放射線を照射して硬化(反応)させると電離放射線硬化樹脂(ホログラム層15)となる。電離放射線としては、電磁波が有する量子エネルギーで区分する場合もあるが、本明細書では、すべての紫外線(UV‐A、UV‐B、UV‐C)、可視光線、ガンマー線、X線、電子線を包含するものと定義する。従って、電離放射線としては、紫外線(UV)、可視光線、ガンマー線、X線、または電子線などが適用できるが、紫外線(UV)が好適である。電離放射線で硬化する電離放射線硬化性樹脂は、紫外線硬化の場合は光重合開始剤、及び/又は光重合促進剤を添加し、エネルギーの高い電子線硬化の場合は添加しないで良く、また、適正な触媒が存在すれば、熱エネルギーでも硬化できる。   (Relief Curing) The hologram layer 15 is irradiated with ionizing radiation during or after embossing with a stamper to cure the ionizing radiation curable resin. The ionizing radiation curable resin becomes an ionizing radiation curable resin (hologram layer 15) when cured (reacted) by irradiation with ionizing radiation after the relief is formed. The ionizing radiation may be classified according to the quantum energy of the electromagnetic wave, but in this specification, all ultraviolet rays (UV-A, UV-B, UV-C), visible rays, gamma rays, X-rays, electrons It is defined as including a line. Accordingly, ultraviolet (UV), visible light, gamma rays, X-rays, or electron beams can be applied as ionizing radiation, but ultraviolet (UV) is preferred. An ionizing radiation curable resin that is cured by ionizing radiation may contain a photopolymerization initiator and / or a photopolymerization accelerator in the case of ultraviolet curing, and may not be added in the case of high energy electron beam curing. Can be cured even with thermal energy.

(レリーフの絵柄)ホログラム層15の絵柄は、特に限定されないが、擬似連続絵柄とすることが好ましい。擬似連続絵柄はプレス型(スタンパという)を作成する際に、小さなレリーフ版の複数を、精度よく突合せてつなぎ目を目立たなくしたり、つなぎ目を樹脂で埋めたりすればよい。このように、擬似連続絵柄とすることで、できるだけ大きな面積、又は好ましくは全面とすることもできる。   (Relief pattern) The pattern of the hologram layer 15 is not particularly limited, but is preferably a pseudo-continuous pattern. When creating a press mold (referred to as a stamper) for the pseudo continuous pattern, it is only necessary to match a plurality of small relief plates with high accuracy to make the joints inconspicuous, or to fill the joints with resin. In this way, by using a quasi-continuous pattern, the area can be as large as possible, or preferably the entire surface.

(反射層)反射層17は、所定のレリーフ構造を設けたホログラム層15面のレリーフ面へ、反射層17へ設けることにより、レリーフの反射及び/又は回折効果を高めるので、ホログラム層15の反射率のより高れば、特に限定されなず、例えば金属薄膜が適用できる。該反射層17としては、通常、金属層や透明層が適用できるが、IDカードなどのように、支持体101に画像105を有する場合には、画像105を観察できる透明層が好ましい。支持体101に画像105を有しない場合や、支持体101の1部分へ転写する場合には、不透明な金属層でもよい。   (Reflection layer) Since the reflection layer 17 is provided on the reflection layer 17 on the relief surface of the hologram layer 15 provided with a predetermined relief structure, the reflection reflection and / or diffraction effect is enhanced. If a rate is higher, it will not specifically limit, For example, a metal thin film can be applied. As the reflective layer 17, a metal layer or a transparent layer can be usually applied, but when the support 101 has the image 105 such as an ID card, a transparent layer capable of observing the image 105 is preferable. When the image 105 is not provided on the support 101 or when transferring to a part of the support 101, an opaque metal layer may be used.

該反射層17に用いる金属としては、金属光沢を有し光を反射する金属元素の薄膜で、Cr、Ni、Ag、Au、Al等の金属、及びその酸化物、硫化物、窒化物等の薄膜を単独又は複数を組み合わせてもよい。上記の光反射性の金属薄膜の形成は、いずれも10〜2000nm程度、好ましくは20〜1000nmの厚さになるよう、真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法などの真空薄膜法で得られるが、その他、メッキなどによっても形成できる。反射層17の厚さがこの範囲未満では、光がある程度透過して効果が減じ、また、それ以上では、反射効果は変わらないので、コスト的に無駄である。   The metal used for the reflective layer 17 is a metal element thin film that has a metallic luster and reflects light, such as Cr, Ni, Ag, Au, Al, etc., and oxides, sulfides, nitrides thereof, etc. A thin film may be used alone or in combination. The formation of the light-reflective metal thin film can be obtained by a vacuum thin film method such as a vacuum deposition method, a sputtering method, or an ion plating method so as to have a thickness of about 10 to 2000 nm, preferably 20 to 1000 nm. However, it can also be formed by plating. If the thickness of the reflective layer 17 is less than this range, the light is transmitted to some extent and the effect is reduced, and if it is more than that, the reflective effect is not changed, which is wasteful in cost.

また、反射層17として、ほぼ無色透明な色相で、その光学的な屈折率がホログラム層のそれとは異なることにより、金属光沢が無いにもかかわらず、ホログラムなどの光輝性を視認できるから、透明なホログラムを作製することができる。例えば、ホログラム層15よりも光屈折率の高い薄膜、および光屈折率の低い薄膜とがあり、前者の例としては、ZnS、TiO2、Al23、Sb23、SiO、SnO2、ITO等があり、後者の例としては、LiF、MgF2、AlF3がある。好ましくは、金属酸化物又は窒化物であり、具体的には、Be、Mg、Ca、Cr、Mn、Cu、Ag、Al、Sn、In、Te、Fe、Co、Zn、Ge、Pb、Cd、Bi、Se、Ga、Rb、Sb、Pb、Ni、Sr、Ba、La、Ce、Au等の酸化物又は窒化物他はそれらを2種以上を混合したもの等が挙げられる。またアルミニウム等の一般的な光反射性の金属薄膜も、厚みが200Å以下になると、透明性が出て使用できる。 Further, the reflective layer 17 has a substantially colorless and transparent hue, and its optical refractive index is different from that of the hologram layer. A simple hologram can be produced. For example, there are a thin film having a higher refractive index than the hologram layer 15 and a thin film having a lower refractive index. Examples of the former include ZnS, TiO 2 , Al 2 O 3 , Sb 2 S 3 , SiO, SnO 2. ITO, etc., and examples of the latter include LiF, MgF 2 , and AlF 3 . Preferably, it is a metal oxide or nitride, specifically, Be, Mg, Ca, Cr, Mn, Cu, Ag, Al, Sn, In, Te, Fe, Co, Zn, Ge, Pb, Cd , Bi, Se, Ga, Rb, Sb, Pb, Ni, Sr, Ba, La, Ce, Au, and other oxides or nitrides, and the like may be a mixture of two or more thereof. Also, a general light-reflective metal thin film such as aluminum can be used when it has a thickness of 200 mm or less.

透明金属化合物の形成は、金属の薄膜と同様、ホログラム層15のレリーフ面に、10〜2000nm程度、好ましくは20〜1000nmの厚さになるよう、蒸着、スパッタリング、イオンプレーティング、CVDなどの真空薄膜法などにより設ければよい。さらには、ホログラム層15と光の屈折率の異なる透明な合成樹脂を使用してもよく、接着層19材料とホログラム層15材料の屈折率が十分に異なる場合には、接着層19が反射層19を兼ねることもできる。   The transparent metal compound is formed on the relief surface of the hologram layer 15 by vacuum such as vapor deposition, sputtering, ion plating, and CVD so that the thickness of the relief layer of the hologram layer 15 is about 10 to 2000 nm, preferably 20 to 1000 nm. It may be provided by a thin film method or the like. Furthermore, a transparent synthetic resin having a refractive index different from that of the hologram layer 15 may be used. When the refractive index of the adhesive layer 19 material and the hologram layer 15 material is sufficiently different, the adhesive layer 19 is a reflective layer. 19 can also be used.

(接着層)接着層19としては、公知の加熱されると溶融または軟化して接着効果を発揮する感熱接着剤が適用でき、具体的には、塩化ビニル系樹脂、酢酸ビニル系樹脂、塩化ビニル酢酸ビニル共重合樹脂、アクリル系樹脂、ポリエステル系樹脂などが挙げられる。該接着層19には、マイクロシリカなどのフィラーを含むことが、箔切れ性の点で好ましい。また、接着層19の樹脂としては、95℃程度の低温で溶融接着し、60℃程度になると固化して接着する融点が60〜95℃ものが好ましい。融点が上記範囲未満であると、支持体との接着性が不十分であり、形成された画像を使用する温度が制限される。また、融点が上記範囲を越えるとサーマルヘッドによる加熱では転写性が不十分となり、又、ハードコート層の箔切れ性が低下し、解像性の良い転写が困難となる。該材料樹脂を溶剤に溶解または分散させて、適宜顔料などの添加剤を添加して、公知のロールコーティング、グラビアコーティング、コンマコーティングなどの方法で塗布し乾燥させて、厚さ1〜30μmの層を得る。   (Adhesive layer) As the adhesive layer 19, a heat-sensitive adhesive that melts or softens when heated and exhibits an adhesive effect can be applied. Specifically, a vinyl chloride resin, a vinyl acetate resin, or vinyl chloride. Examples thereof include vinyl acetate copolymer resins, acrylic resins, and polyester resins. The adhesive layer 19 preferably contains a filler such as microsilica in terms of the ability to break the foil. Further, the resin of the adhesive layer 19 is preferably one having a melting point of 60 to 95 ° C. which melts and adheres at a low temperature of about 95 ° C. and solidifies and adheres at about 60 ° C. When the melting point is less than the above range, the adhesion to the support is insufficient, and the temperature at which the formed image is used is limited. On the other hand, if the melting point exceeds the above range, the transferability becomes insufficient by heating with a thermal head, the foil breakability of the hard coat layer is lowered, and transfer with good resolution becomes difficult. The material resin is dissolved or dispersed in a solvent, an additive such as a pigment is added as appropriate, and the layer is applied and dried by a known method such as roll coating, gravure coating, or comma coating, and a layer having a thickness of 1 to 30 μm Get.

(インモールド射出成形)このようにして本発明のホログラム転写箔10が準備できる。該ホログラム転写箔10を用いて、インモールド射出成形法して、立体面へホログラムが転写された成形品を製造することができる。まず、(2)該ホログラム転写箔10を射出成形用金型内へ挿入し、(3)該射出成形用金型へ樹脂を射出成形し密着させ、該樹脂の表面へホログラム転写箔10のホログラムを転写し、(4)冷却後、金型を解放し、ホログラム転写箔の基材11を離型層13とともに剥離して成形品を取り出す公知の方法でよい。なお、離型層13の1部がホログラム層15側に残る場合もあるが、剥離に支障はなく、本発明の範囲内である。   (In-mold injection molding) Thus, the hologram transfer foil 10 of the present invention can be prepared. Using the hologram transfer foil 10, a molded product in which a hologram is transferred to a three-dimensional surface can be manufactured by an in-mold injection molding method. First, (2) the hologram transfer foil 10 is inserted into an injection mold, and (3) a resin is injection-molded and brought into close contact with the injection mold, and the hologram of the hologram transfer foil 10 is attached to the surface of the resin. (4) After cooling, the mold may be released, and the hologram transfer foil base 11 may be peeled off together with the release layer 13 to take out the molded product. Although a part of the release layer 13 may remain on the hologram layer 15 side, there is no hindrance to peeling, and it is within the scope of the present invention.

(ホログラム付き射出成形品)このように、離型層13及びホログラム層15を特定の材料を用いたホログラム転写箔10とし、インモールド射出成形法で立体面へ、ホログラム自身の熱で白化しない耐熱性、及び伸縮へ追従性がよく、割れや白化などが極めて少ない意匠性に優れたホログラムが転写されたホログラム付き成形品を製造できる。また、ホログラム転写箔10には、ホログラム絵柄を背景とし他の任意な印刷絵柄と合わせて、さらなる特異な意匠性も向上させることができる。   (Injection molded product with hologram) As described above, the release layer 13 and the hologram layer 15 are formed as a hologram transfer foil 10 using a specific material, and the heat is not whitened to the three-dimensional surface by the in-mold injection molding method by the heat of the hologram itself. And a good conformability to expansion and contraction, and a molded article with a hologram to which a hologram excellent in design properties with very little cracking or whitening can be produced. In addition, the hologram transfer foil 10 can be further improved in unique design characteristics in combination with other arbitrary printed patterns with the hologram pattern as a background.

(射出成形品)射出樹脂の材料は特に限定されず、ポリスチレン、ポリエチレンテレフタレート、ポリプロピレン、アクリル系樹脂などの公知の樹脂でよい。該射出成形品の形状としては、特に限定されず、少なくとも1部分に立体部があれば、適用できる。立体部とは二次面、三次面でもよく、波状、曲面状、多面体状、円又は角錐状、球状などがあり、これらの1、又は複数の組合わせ、若しくはランダム形状でもよい。射出成形による成形品は、日用品や生活用品などの機器本体、食品や各種物品の容器類、携帯電話などの電子機器や事務用品などの筐体類などに使用できる。   (Injection molded product) The material of the injection resin is not particularly limited, and may be a known resin such as polystyrene, polyethylene terephthalate, polypropylene, and acrylic resin. The shape of the injection-molded product is not particularly limited, and can be applied as long as at least one part has a three-dimensional part. The three-dimensional portion may be a secondary surface or a tertiary surface, and includes a wave shape, a curved surface shape, a polyhedron shape, a circle or a pyramid shape, a spherical shape, and the like, or a combination of these, or a random shape. The molded product by injection molding can be used for equipment bodies such as daily necessities and daily necessities, containers for food and various articles, electronic equipment such as mobile phones, and housings such as office supplies.

(耐久性)ホログラム層15の鉛筆硬度試験は、JIS−K5400に準拠して測定し、H以上の硬度を有していた。また、ホログラム層15のスクラッチ強度は、表面の充分な耐摩擦性の点から、サファイア150g以上、好ましくは200g以上である。なお、スクラッチ強度の測定方法は、23℃、55%RHの条件下で24時間調湿した試料に対して、耐摩耗性試験機(HEIDON−18)を用い、0.8mmφサファイア針を直角にあてがい、サファイア針に掛かる荷重を0gから200gまで徐々に増加させ、60cm/minで試料表面を摺動して移動させながら、表面に傷が付き始める時の荷重の測定を行った。荷重が大きいほど良好であることを表す。   (Durability) The pencil hardness test of the hologram layer 15 was measured according to JIS-K5400 and had a hardness of H or higher. In addition, the scratch strength of the hologram layer 15 is 150 g or more, preferably 200 g or more, from the viewpoint of sufficient friction resistance on the surface. The scratch strength was measured using a wear resistance tester (HEIDON-18) on a sample conditioned at 23 ° C. and 55% RH for 24 hours, with a 0.8 mmφ sapphire needle at a right angle. As a result, the load applied to the sapphire needle was gradually increased from 0 g to 200 g, and the load when the surface began to be scratched was measured while sliding and moving the sample surface at 60 cm / min. The larger the load, the better.

以下、実施例及び比較例により、本発明を更に詳細に説明するが、これに限定されるものではない。   EXAMPLES Hereinafter, although an Example and a comparative example demonstrate this invention further in detail, it is not limited to this.

(実施例1)基材11として厚さ25μmのPETフィルムを用い、該基材11の一方の面へ、グラビアコート法で、TCM01メジューム(大日本インキ社製、メラミン樹脂商品名)塗工液を乾燥後2μmになるように塗布し乾燥して、080℃20秒間焼き付けて、離型層13を形成した。
該離型層13面へ、下記の電離放射線硬化性樹脂組成物をグラビアリバースコーターで乾燥後の厚さが2μmになるように、塗工し100℃で乾燥させた。
・<電離放射線硬化性樹脂組成物の作製手順>
まず、「電離放射線硬化性樹脂組成物M」は以下の手順で、生成した。撹拌機、還流冷却器、滴下漏斗及び温度計を取り付けた反応器に、酢酸エチル206.1g及びイソホロンジイソシアネートの三量体(HULS社製品、VESTANAT T1890、融点110℃)133.5gを仕込み、80℃に昇温して溶解させた。溶液中に空気を吹き込んだのち、ハイドロキノンモノメチルエーテル0.38g、ペンタエリスリトールトリアクリレート(大阪有機化学工業社製品、ビスコート300)249.3g及びジブチル錫ジラウレート0.38gを仕込んだ。80℃で5時間反応させたのち酢酸エチル688.9gを添加して冷却した。
該「電離放射線硬化性樹脂組成物M」と、造膜性樹脂(アクリル系オリゴマー)、反応性シリコーン、ポリエチレンワックス、光重合開始剤、及び溶媒を下記の組成で配合して電離放射線硬化性樹脂組成物を調製した。
・<ホログラム層の電離放射線硬化性樹脂組成物>
「電離放射線硬化性樹脂組成物M」 25質量部
メタアクリレートオリゴマー(日本合成化学社製、商品名紫光6630B)5質量部
反応性シリコーン(信越化学社製、商品名X−22−2445) 0.2質量部
ポリエチレンワックス(平均粒径2.0m) 0.3質量部
光重合開始剤(チバ社製、商品名イルガキュア907) 0.9質量部
酢酸エチル 70質量部
次に、該層面へ、2光束干渉法による回折格子から2P法で複製した擬似連続絵柄としたスタンパを複製装置のエンボスローラーに貼着して、相対するローラーと間で加熱プレス(エンボス)して、微細な凹凸パターンからなるレリーフを賦形させた。賦形後直ちに、高圧水銀灯を用いて紫外線を照射して硬化させた。
該ホログラム層15のレリーフ面へ真空蒸着法で厚さが100nmのアルミニウム薄膜を形成して反射層17を形成した。
該反射層17面へ、下記の接着層組成物をグラビアコーターで乾燥後の塗布量が1μmになるように、塗工し100℃で乾燥させて、接着層19を形成して、実施例1のホログラム転写箔10を得た。
・<接着層組成物>
ポリエステル樹脂P−170(日本合成化学社製、商品名) 20質量部
マイクロシリカ(平均粒子径0.5μ) 10質量部
溶媒(MEK:トルエン=1:1) 70質量部
Example 1 Using a PET film having a thickness of 25 μm as the base material 11, a TCM01 medium (manufactured by Dainippon Ink Co., Ltd., melamine resin product name) coating liquid is applied to one surface of the base material 11 by a gravure coating method. After being dried, it was applied to a thickness of 2 μm, dried, and baked at 080 ° C. for 20 seconds to form a release layer 13.
The surface of the release layer 13 was coated with the following ionizing radiation curable resin composition with a gravure reverse coater so that the thickness after drying was 2 μm and dried at 100 ° C.
・ <Procedure for producing ionizing radiation curable resin composition>
First, “ionizing radiation curable resin composition M” was produced by the following procedure. A reactor equipped with a stirrer, reflux condenser, dropping funnel and thermometer was charged with 206.1 g of ethyl acetate and 133.5 g of isophorone diisocyanate trimer (HULS product, VESTANAT T1890, melting point 110 ° C.), 80 The solution was heated to 0 ° C. and dissolved. After air was blown into the solution, 0.38 g of hydroquinone monomethyl ether, 249.3 g of pentaerythritol triacrylate (product of Osaka Organic Chemical Industry Co., Ltd., Viscoat 300) and 0.38 g of dibutyltin dilaurate were charged. After reacting at 80 ° C. for 5 hours, 688.9 g of ethyl acetate was added and cooled.
The “ionizing radiation curable resin composition M”, a film-forming resin (acrylic oligomer), a reactive silicone, a polyethylene wax, a photopolymerization initiator, and a solvent are blended in the following composition to form an ionizing radiation curable resin. A composition was prepared.
・ <Ionizing radiation curable resin composition of hologram layer>
“Ionizing radiation curable resin composition M” 25 parts by mass Methacrylate oligomer (manufactured by Nippon Synthetic Chemical Co., Ltd., trade name Murasaki 6630B) 5 parts by mass of reactive silicone (manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd., trade name X-22-2445) 2 parts by mass Polyethylene wax (average particle size 2.0 m) 0.3 parts by mass Photopolymerization initiator (trade name Irgacure 907, manufactured by Ciba) 0.9 parts by mass Ethyl acetate 70 parts by mass A stamper with a quasi-continuous pattern duplicated from the diffraction grating by the beam interference method by the 2P method is attached to the embossing roller of the duplicating apparatus, and is heated and pressed (embossed) with the opposing roller to form a fine uneven pattern. The relief was shaped. Immediately after shaping, it was cured by irradiating with ultraviolet rays using a high-pressure mercury lamp.
A reflective layer 17 was formed by forming a 100 nm thick aluminum thin film on the relief surface of the hologram layer 15 by vacuum deposition.
The following adhesive layer composition was applied to the surface of the reflective layer 17 with a gravure coater so that the coating amount after drying was 1 μm, and dried at 100 ° C. to form an adhesive layer 19. The hologram transfer foil 10 was obtained.
・ <Adhesive layer composition>
Polyester resin P-170 (manufactured by Nippon Synthetic Chemical Co., Ltd., trade name) 20 parts by mass Microsilica (average particle size 0.5 μm) 10 parts by mass Solvent (MEK: toluene = 1: 1) 70 parts by mass

(実施例2)ホログラム層15の電離放射線硬化性樹脂組成物として、下記の電離放射線硬化性樹脂組成物を用い、反射層17として真空蒸着法で厚さが50nmの酸化チタン薄膜を形成する以外は、実施例1と同様にして、実施例2のホログラム転写箔10を得た。
・<ホログラム層の電離放射線硬化性樹脂組成物>
「電離放射線硬化性樹脂組成物M」 25質量部
メタアクリレートオリゴマー(日本合成化学社製、商品名紫光7510B)5質量部
反応性シリコーン(信越化学社製、商品名X−22−1602) 0.2質量部
ポリエチレンワックス(平均粒径2.0μm) 2質量部
光重合開始剤(チバ社製、商品名イルガキュア907) 0.9質量部
酢酸エチル 70質量部
(Example 2) The following ionizing radiation curable resin composition was used as the ionizing radiation curable resin composition of the hologram layer 15, and a titanium oxide thin film having a thickness of 50 nm was formed as the reflective layer 17 by vacuum deposition. In the same manner as in Example 1, a hologram transfer foil 10 of Example 2 was obtained.
・ <Ionizing radiation curable resin composition of hologram layer>
“Ionizing radiation curable resin composition M” 25 parts by mass Methacrylate oligomer (manufactured by Nippon Synthetic Chemical Co., Ltd., trade name: Murasakimitsu 7510B) 5 parts by mass 2 parts by mass Polyethylene wax (average particle size 2.0 μm) 2 parts by mass Photopolymerization initiator (Ciba, trade name Irgacure 907) 0.9 parts by mass Ethyl acetate 70 parts by mass

(実施例3)ホログラム層15の電離放射線硬化性樹脂組成物として、下記の電離放射線硬化性樹脂組成物を用いる以外は、実施例1と同様にして、実施例3のホログラム転写箔10を得た。
・<ホログラム層の電離放射線硬化性樹脂組成物>
「電離放射線硬化性樹脂組成物M」 24質量部
メタアクリレートオリゴマー(クラレ社製、商品名パラペットGF) 6重量部
反応性シリコーン(信越化学社製、商品名X−22−1602) 0.1質量部
ポリエチレンワックス(平均粒径2.0μm) 0.3質量部
光重合開始剤(チバ社製、商品名イルガキュア184) 0.9重量部
酢酸エチル 70重量部
(Example 3) The hologram transfer foil 10 of Example 3 is obtained in the same manner as in Example 1 except that the ionizing radiation curable resin composition described below is used as the ionizing radiation curable resin composition of the hologram layer 15. It was.
・ <Ionizing radiation curable resin composition of hologram layer>
"Ionizing radiation curable resin composition M" 24 parts by weight Methacrylate oligomer (Kuraray Co., Ltd., trade name Parapet GF) 6 parts by weight Reactive silicone (Shin-Etsu Chemical Co., trade name X-22-1602) 0.1 mass Part Polyethylene wax (average particle size 2.0 μm) 0.3 part by weight Photopolymerization initiator (Ciba, trade name Irgacure 184) 0.9 part by weight Ethyl acetate 70 part by weight

(比較例1)ホログラム層15の電離放射線硬化性樹脂組成物として、下記の電離放射線硬化性樹脂組成物を用いる以外は、実施例1と同様にして、比較例1のホログラム転写箔を得た。
・<ホログラム層の電離放射線硬化性樹脂組成物>
「電離放射線硬化性樹脂組成物M」 25質量部
メタアクリレートオリゴマー(日本合成化学社製、商品名紫光6630B)5質量部
反応性シリコーン(信越化学社製、商品名X−22−2445) 0.2質量部
光重合開始剤(チバ社製、商品名イルガキュア907) 0.9質量部
酢酸エチル 70質量部
(Comparative Example 1) A hologram transfer foil of Comparative Example 1 was obtained in the same manner as in Example 1 except that the following ionizing radiation curable resin composition was used as the ionizing radiation curable resin composition of the hologram layer 15. .
・ <Ionizing radiation curable resin composition of hologram layer>
“Ionizing radiation curable resin composition M” 25 parts by mass Methacrylate oligomer (manufactured by Nippon Synthetic Chemical Co., Ltd., trade name Murasaki 6630B) 5 parts by mass of reactive silicone (manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd., trade name X-22-2445) 2 parts by weight Photopolymerization initiator (Ciba, trade name Irgacure 907) 0.9 parts by weight Ethyl acetate 70 parts by weight

(比較例2)ホログラム層15の電離放射線硬化性樹脂組成物として、下記の電離放射線硬化性樹脂組成物を用いる以外は、実施例1と同様にして、比較例2のホログラム転写箔を得た。
・<ホログラム層の電離放射線硬化性樹脂組成物>
「電離放射線硬化性樹脂組成物M」 25質量部
メタアクリレートオリゴマー(日本合成化学社製、商品名紫光6630B)5質量部
反応性シリコーン(信越化学社製、商品名X−22−2445) 0.2質量部
ポリエチレンワックス(平均粒径2.0μm) 5質量部
光重合開始剤(チバ社製、商品名イルガキュア907) 0.9質量部
酢酸エチル 70質量部
(Comparative Example 2) A hologram transfer foil of Comparative Example 2 was obtained in the same manner as in Example 1 except that the following ionizing radiation curable resin composition was used as the ionizing radiation curable resin composition of the hologram layer 15. .
・ <Ionizing radiation curable resin composition of hologram layer>
“Ionizing radiation curable resin composition M” 25 parts by mass Methacrylate oligomer (manufactured by Nippon Synthetic Chemical Co., Ltd., trade name Murasaki 6630B) 5 parts by mass of reactive silicone (manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd., trade name X-22-2445) 2 parts by mass Polyethylene wax (average particle size 2.0 μm) 5 parts by mass Photopolymerization initiator (Ciba, trade name Irgacure 907) 0.9 parts by mass Ethyl acetate 70 parts by mass

(実施例4〜6)<射出成形>実施例1〜3及び比較例1のホログラム転写箔10を射出成形装置の自動箔送り装置に、接着層面が成形樹脂側になるように挿入(インサート)し、スミペックスSTH−55(住友化学社製、アクリル樹脂商品名)を、溶融温度250℃、金型温度80℃の通常条件で射出成形を行った。冷却後、金型を解放し、基材11を剥離して取り出して、実施例4〜6及び比較例2のホログラム転写箔を用いたホログラム付き成形品を得た。
なお、該射出成形は成形サイクル12秒で連続的に成形した。得られる成形品は3次元形状(周囲に5mmの縁取りがあり、中央部が球面状に盛り上った直径150mmのCDプレイヤーの部材)とした。
(Examples 4 to 6) <Injection molding> The hologram transfer foils 10 of Examples 1 to 3 and Comparative Example 1 are inserted into an automatic foil feeder of an injection molding apparatus so that the adhesive layer surface is on the molding resin side (insert). Then, Sumipex STH-55 (manufactured by Sumitomo Chemical Co., Ltd., trade name of acrylic resin) was injection molded under normal conditions of a melting temperature of 250 ° C. and a mold temperature of 80 ° C. After cooling, the mold was released, the substrate 11 was peeled off, and the molded article with holograms using the hologram transfer foils of Examples 4 to 6 and Comparative Example 2 was obtained.
The injection molding was continuously performed with a molding cycle of 12 seconds. The obtained molded product was a three-dimensional shape (a member of a CD player having a diameter of 150 mm with a 5 mm border on the periphery and a central portion raised to a spherical shape).

(比較例3)比較例1のホログラム転写箔10を用いる以外は、実施例4〜6と同様にして、比較例2のホログラム転写箔を用いたホログラム付き成形品を得た。   Comparative Example 3 A molded article with a hologram using the hologram transfer foil of Comparative Example 2 was obtained in the same manner as in Examples 4 to 6 except that the hologram transfer foil 10 of Comparative Example 1 was used.

(評価)実施例4〜6のいずれの成形品も球面部及び縁取り部分にもホログラム転写箔10は追随し、アクリル樹脂表面にホログラムが転写されていた。該ホログラムは、射出成形の熱でも白化せず、球面部への追従性もよく、割れや白化などもなく、意匠性に優れたホログラムが立体面へ転写されていた。しかしながら、比較例3では剥離性が悪く剥離しにくく、転写時にバリが発生して正常に転写できなかった。なお、比較例2のホログラム転写箔10はホログラムの賦型性が悪く、光回折効果が得られなかったので、射出成形は行わなかった。   (Evaluation) In any of the molded products of Examples 4 to 6, the hologram transfer foil 10 followed the spherical portion and the edge portion, and the hologram was transferred to the acrylic resin surface. The hologram was not whitened by the heat of injection molding, had good followability to the spherical surface portion, was free of cracks and whitening, and was transferred to a three-dimensional surface with excellent design. However, Comparative Example 3 had poor peelability and was difficult to peel off, and burrs were generated during transfer, and transfer could not be performed normally. In addition, since the hologram transfer foil 10 of Comparative Example 2 had poor hologram moldability and no optical diffraction effect was obtained, injection molding was not performed.

実施例1〜3の硬化前のホログラム層はいずれも指乾状態であり、巻取りができ、以降の工程もロールツーロール加工ができた。また、ホログラム層15の破断伸度は、実施例1が31%、実施例2が31%、実施例3が505%であった。実施例1〜3のホログラム転写箔10の耐熱性は、実施例1が170℃、実施例2が170℃、実施例3が150℃であった。
さらに、実施例1〜3の第1ハードコート層15面の鉛筆硬度試験を、JIS−K−5400に準拠して測定したところ、いずれも2H以上の硬度を有し、さらに、実施例1〜3の第1ハードコート層15面のスクラッチ強度はサファイア200g以上であり、充分な耐久性を有していた。しかしながら、比較例1ではスクラッチ強度が悪く、充分な耐久性を有していなかった。
The hologram layers before curing in Examples 1 to 3 were all in a finger dry state and could be wound up, and the subsequent steps could be rolled to roll. The breaking elongation of the hologram layer 15 was 31% in Example 1, 31% in Example 2, and 505% in Example 3. The heat resistance of the hologram transfer foils 10 of Examples 1 to 3 was 170 ° C. in Example 1, 170 ° C. in Example 2, and 150 ° C. in Example 3.
Furthermore, when the pencil hardness test of the 1st hard-coat layer 15 surface of Examples 1-3 was measured based on JIS-K-5400, all have hardness of 2H or more. The scratch strength of the first hard coat layer 15 surface of No. 3 was 200 g or more of sapphire and had sufficient durability. However, in Comparative Example 1, the scratch strength was poor and the durability was not sufficient.

本発明の1実施例を示すホログラム転写箔の断面図である。It is sectional drawing of the hologram transfer foil which shows one Example of this invention. 本発明のホログラム転写箔を用いて転写した被転写物である。It is the transferred material transferred using the hologram transfer foil of the present invention.

符号の説明Explanation of symbols

10:ハードコート層転写箔
11:基材
13:離型層
15:ホログラム層
17:反射層
19:接着層
21:紫外線吸収層
100:媒体
101:支持体
103:受像層
105:画像
10: Hard coat layer transfer foil 11: Base material 13: Release layer 15: Hologram layer 17: Reflective layer 19: Adhesive layer 21: Ultraviolet absorption layer 100: Medium 101: Support body 103: Image receiving layer 105: Image

Claims (2)

基材と、該基材の一方の面へ離型層、ホログラム層、反射層及び接着層を設けてなるホログラム転写箔において、
前記離型層がメラミン系樹脂であり、
前記ホログラム層が電離放射線硬化性樹脂及び反応性シリコーンの硬化物、並びにポリエチレンワックスを含み、
前記電離放射線硬化性樹脂が(1)分子中にイソシアネート基を3個以上有するイソシアネート類、(2)分子中に水酸基を少なくとも1個と(メタ)アクリロイルオキシ基を少なくとも2個有する多官能(メタ)アクリレート類、又は(3)分子中に水酸基を少なくとも2個有する多価アルコール類の反応生成物であるウレタン(メタ)アクリレートオリゴマーを含有し、
前記ホログラム層のポリエチレンワックスの含有が質量基準で、電離放射線硬化樹脂:ポリエチレンワックス=100:0.01〜10であり、
前記ホログラム層が(1)電離放射線硬化前の塗膜が指乾状態で、(2)電離放射線硬化後の23℃における破断伸度が5%以上で、かつ、(3)基材、離型層、ホログラム層及び反射層を設けたホログラム転写箔状態で、150℃雰囲気中に1時間放置しても白化しない耐熱性を有し、
立体面へホログラムを転写できることを特徴とするホログラム転写箔。
In a hologram transfer foil comprising a substrate and a release layer, a hologram layer, a reflective layer and an adhesive layer provided on one surface of the substrate,
The release layer is a melamine resin;
The hologram layer is a cured product of an ionizing radiation curable resin and a reactive silicone, and a polyethylene wax seen including,
The ionizing radiation curable resin is (1) an isocyanate having three or more isocyanate groups in the molecule, (2) a polyfunctional (meta) having at least one hydroxyl group and at least two (meth) acryloyloxy groups in the molecule. ) Acrylates, or (3) a urethane (meth) acrylate oligomer that is a reaction product of polyhydric alcohols having at least two hydroxyl groups in the molecule,
The content of polyethylene wax in the hologram layer is based on mass, ionizing radiation curable resin: polyethylene wax = 100: 0.01-10,
The hologram layer is (1) the coating film before ionizing radiation curing is finger-dried, (2) the elongation at break at 23 ° C. after curing with ionizing radiation is 5% or more, and (3) the substrate and the mold release In a hologram transfer foil state provided with a layer, a hologram layer, and a reflective layer, it has heat resistance that does not whiten even if left in an atmosphere at 150 ° C. for 1 hour,
A hologram transfer foil characterized in that a hologram can be transferred to a three-dimensional surface .
請求項1に記載のホログラム転写箔を用いて、インモールド射出成形法で、立体面へホログラムが転写されてなることを特徴とするホログラム付き成形品。 A molded article with a hologram , wherein the hologram is transferred to a three-dimensional surface by an in-mold injection molding method using the hologram transfer foil according to claim 1.
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