JP4791728B2 - セル、特に液晶セルと電源または制御回路との間に電気接続を確立するための接続手段 - Google Patents

セル、特に液晶セルと電源または制御回路との間に電気接続を確立するための接続手段 Download PDF

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Description

本発明は、液晶セルまたは電気化学光起電力セル等の電気光学セルと外部電源または制御回路との間に、電気接続を確立するための接続手段に関する。また、本発明は、このようなセルを製造するための方法に関する。
第1の種類の公知の光起電力セルは、半導体材料の接合部に生じる光起電力効果を利用することにより、光を電気に変換する。半導体材料は、光吸収機能と結果として生じる電荷(電子と正孔)の分離機能との両方を果たす。材料は、純度が高く、欠陥のないものでなければならない。そうでないと、電子と正孔が、分離可能になる前に再結合してしまう。したがって、この種のセルの原価は非常に高い。
本発明は、電気化学セルと呼ばれる第2のタイプの光起電力セルに関する。このセルが含む半導体材料は、禁制帯があるため通常は可視光に感応されず、近紫外線の吸収を開始するのみである。しかし、この種の材料は、入射光子とその近くの電子との間の変換率を可能にする遷移金属錯体等の着色剤の吸収によって感応するおそれがある。着色剤は、光子の吸収により励起された後、半導体材料の伝導帯に電子を移動させる。半導体材料内に広がる電界により、電子を取り出すことができる。電子の移動後、着色剤は基本の酸化状態に戻る。半導体材料の伝導帯の電子と酸化着色剤の正孔との再結合は、メディエータによる酸化着色剤の減少よりもはるかにゆっくりと行われる。その結果、電荷分離が効率的に行われる。
前述したタイプのセルは、一般に、第1の透明前基板と、透明または不透明の第2の後基板とを含む。これら2枚の基板は各々、対向面に、対向電極と呼ばれる第1の電極と、光電極と通常呼ばれる第2の電極とを含む。これらの電極は、給電回路に接続されるものであり、従来、インジウムと酸化スズとの混合物、またはアンチモンと酸化スズとの混合物等の透明な導電性酸化物の薄層状に形成される。
2枚の基板が、基板の周囲に沿って延びるシール・フレームにより接合される。このシール・フレームは、基板の一方の層に配置された半導体材料と、メディエータを含む電解液とを保持するための密閉された容積を区画する。
本発明は、さらに、上面がセルの前面を形成する少なくとも1つの第1の透明前基板と、底面がセルの後面を形成する、透明または不透明の少なくとも1つの第2の後基板とを含み、基板が各々、対向面に、少なくとも1つの電極を含み、これらの電極が、選択された電極に適切な電圧を加えることにより、光学活性媒体の透過特性または反射特性を変化させることのできる表示制御回路に接続され、基板が、光学活性媒体を保持するための密閉された容積を区画するシール・フレームにより接合され、さらに、各電極と表示制御回路との間に電気接続を確立するための接続手段を含む、いわゆる電気光学セル、特に、電気化学光起電力セル等の液晶セルに関する。
セルの電極と電源回路との間に電気接続を確立するのに使用される接続手段により、前述したタイプの電気化学光起電力セルの分野における問題が常に生じる。この問題は、セルの基板間で保持される感応材料の光学的特性を変化させる電気制御信号を発生するデバイスに、セルの電極を接続しなければならない、電気光学表示セルでも生じる。
実際に、この種のセルの電極を電源または制御回路に接続することのできる接続パッドを形成するための、最も頻繁に使用される手法は、電極を担持する基板が他方の基板に対して突出するセルの少なくとも1つの縁部に沿って、接続パッドが突出するようにすることにある。したがって、この解決法では、電極に接近して電気接続を行うことができるように、セルの基板を互いにずらす必要がある。このような構成では、セルの大規模製造は、特にセルが円形の場合には困難であり、時間のかかる追加のガラススクライビング作業や切断作業が必要となる。
このような問題を克服するために、本出願人の欧州特許出願第A1−0936496号は、第1の解決法を提供している。この欧州特許出願は、セルの2枚の基板の各々が、表面の大部分に透明な電極を担持する電気化学光起電力セルを開示している。導電性材料で作られた接触突起が、電極が配置された基板の縁部と電極が面一になる横方向接触ゾーンで各電極に加えられる。
簡潔に前述したこの発明の特徴によれば、セルの各電極と電源または制御回路との接続を行う際に介する電気接触横方向ゾーンの表面を増加させることができる。したがって、電極と電源または制御回路との間の電気接続が、はるかに確実に行われる。
しかし、シール・フレームの配置がスクリーン印刷により行われている。このスクリーン印刷は、手動または機械的に作動されるスクイジを使用して、例えばナイロンまたはステンレス鋼から作られた、非常に細かい網目を持つスクリーンの、妨げのない網目を通して、ペースト状の粘性を持つ材料を配置する手法であることを思い起こされたい。スクリーン印刷によりシール・フレームを配置する手法には、2つの重大な欠点がある。これらの欠点のうち、第1の欠点は、フレームの最終寸法を正確に制御することが難しい点である。実際に、上基板を下基板に載せるときに、シール材料が圧縮されて、加えられた圧力の作用により広がる傾向があるため、シール・フレームの幅は、一般に約0.1ミリメートルの正確さでしか制御することができない。さらに、スクリーン印刷により配置されたシール・フレームの、液晶に接触する内壁には通常凹凸があるため、これらのフレームを電極から十分な距離をおいて重ならないように配置しなければならない。このような状況は、接触が生じるセルの縁部とセルの実際の活性ゾーンとの間に十分な広さの空間があれば、受け入れることができる。しかし、セルの表示ゾーンの表面を最適化するため、またはかさばるという問題に対処するために、コネクタ技術のためのデッド・ゾーンの寸法を小さくしようとすると、スクリーン印刷手法により提供される正確さは不十分なものとなる。
スクリーン印刷配置手法の他の欠点は、このような手法を実施することにより、スクリーン印刷ステップが行われるときに、既に配置されている隣接構造にしばしば害を及ぼす大きな機械的応力を発生することにある。このような脆弱な構造を保護するためには、この構造をシール・フレームの配置後に配置することが好ましい。これは、シリンジ型ディスペンサによって、接触突起が対応する電極に配置される、欧州特許出願第A1−0936496号の場合である。しかし、この手法は不正確で、同一のセル上に形成することのできる接触突起の数がかなり制限されるため、この手法の使用は、接続密度の低いセルに向けたものとなる。
韓国企業であるSamsung Electronics Co.Ltd.,の欧州特許第EP−B1−0708931号からも、薄いシール・フレームを持つ液晶セルと、このようなセルの製造方法が公知である。この方法によれば、所望の液晶セルよりも寸法の大きい第1の基板の周囲に、シール材料のコードが配置される。次に、第1の基板と同一寸法の第2の基板が、第1、第2の基板とシールコードとにより区画されるキャビティを形成するように、第1の基板上に配置される。その後、2枚の基板を接合するようにシール材料を凝固させ、充填開口を介してキャビティに液晶を充填した後に閉鎖する。最後に、2枚の基板を組み立てたものがシール材料を通して鋸引きされ、所望の表示セルの寸法に戻される。
Samsungの特許では、シリンジ型ディスペンサを使用してシールコードが配置される。したがって、接触突起を、セルの2枚の基板を隔てる空間よりも低くしなければならない。そうでないと、シール材料が前記接触突起を覆う位置に余分な厚さの領域が生じる危険があり、このような余分な厚さの領域は、セルが密閉されていないことを意味する2枚の基板間の平行度不良を伴う限り、受け入れることはできない。さらに、接触突起が高くないため、十分な電気接触表面積を提供するために接触突起を幅広にしなければならず、接続可能な電極の数と、得られるディスプレイの解像度がかなり制限される。
本発明の目的は、セルの電極と電源または制御回路との間に確実かつコンパクトな電気接続を確立するための接続手段を含む、電気光学セル、特に液晶表示セル、または電気化学光起電力セルを提供することにより、他の技術に加えて前述した従来技術の欠点を克服することである。
また、本発明は、実施が容易で、既に配置されたセル要素に損傷を与える危険を特に制限する、前述したタイプのセルを製造する方法に関する。
本発明は、上面がセルの前面を形成する少なくとも1つの第1の透明前基板と、底面が前記セルの後面を形成する、透明または不透明の少なくとも1つの第2の後基板とを含み、基板が、物理的特性、特に光学的または電気的特性を変化させることのできる感応材料を保持するための密閉された容積を区画するシール・フレームにより接合され、基板が各々、対向面に、少なくとも1つの電極を含み、これらの電極が電源または制御回路に接続され、セルの電極が、前記セルと電源または制御回路との間に電気接続を確立するために、セルの縁部とほぼ同じところまで延びて接続手段を形成する、電気光学セル、特に、液晶表示セルまたは電気化学光起電力セルであって、このセルは、シール・フレームが、2枚の基板の一方に構成された、感応材料を保持するための容積を内側面を介して区画する少なくとも1つの壁を含み、この壁が、接続接触部を解放するように、したがって電極が壁を通過する状態で、セルの縁部に対して後退位置に延び、前記基板と壁の外側面とにより区画された間隙の少なくとも一部を満たすシール接合部により、基板が接合され、電気接続手段が、壁から電極が突出する位置にある各電極の延長部に加えられた、導電性材料で作られた接触突起を含むことを特徴とするセルに関する。
これらの特徴によれば、セルの各電極と電源または制御回路との接続を行う際に介する横方向電気接触ゾーンの表面を増加させることができる。したがって、電極と電源または制御回路との間の電気接続が、はるかに確実に行われる。さらに、シール・フレームが2つの部分、すなわち感応材料を保持するための容積を区画する壁と、壁の外面に接触して配置され、前記壁がセルの縁部よりもわずかに後方に構成されているために2枚の基板間に空いた間隙を満たすシール材料のコードとから形成されることにより、セルの接続のためのデッド・ゾーンの寸法を実質的に小さくすることができ、したがって、前記ゾーンの表示ゾーンの表面を最適化することができ、または空間要求を減らすことができる。最後に、シール材料が接触突起を覆うことにより、突起が損傷を受ける危険が防止される。
別の態様によれば、本発明は、また、前述したタイプの少なくとも1つのセルを製造する方法に関し、この方法は、基板の各々に対応する電極を構成するステップと、電極がセルの縁部と面一になる領域で、導電性材料で作られた接触突起を各電極に配置するステップと、感応材料を保持するための容積を内側面を介して区画する少なくとも1つの壁を、基板の少なくとも一方に構成するステップと、第2の基板を第1の基板に接合するステップと、前記基板と壁の外側面とにより区画された間隙に流入可能なシール材料を、シール材料が前記間隙の少なくとも一部を満たすまで導入するステップと、シール材料が、得られたセルのシール・フレームを形成するように、シール材料を凝固させるステップとを含むことを特徴とする。
本発明の他の特徴および利点は、添付図面を参照しながら、単に非限定的な例示として示される、以下の本発明によるセルについての実施形態の詳細な説明を読めばより明らかになろう。
本発明は、セル、例えば液晶セルのためのシール・フレームを、2つの部分、すなわち、セルの縁部に近接して非常に正確に形成することができ、かつ液晶等の感応材料を保持するための容積を内側面を介して区画する壁と、2枚の基板間の間隙に導入され、結果として生じるシール・フレームに機械抵抗と基板の接着力とを与える接合部とから形成することにある、一般的な進歩的概念から生じたものである。したがって、電極がセルから現れるのに必要な空間を減らすことができ、よりコンパクトなセルが得られ、またはより大きな活性面が提供される。実際に、これまで、シール・フレームを正確に配置することは困難であったため、電極がシール・フレームから適切に突出することを確実にするために、セルの縁部から十分離れた位置にシール・フレームを配置しなければならず、セルの活性面がかなり小さくなっていた。さらに、シール材料が、導電路の端部に配置された導電突起を覆うため、前記接続手段が損傷を受ける危険が防止される。
本発明について、液晶表示セルと組み合わせて説明する。この例は、単に例示的なものであり、本発明を、任意のタイプの電気光学セルまたは電気化学光起電力セルに同様に適用できることは言うまでもない。
図1は、製造中の液晶セル2の平面図であり、このセルは、2枚の重なった基板4、6、例えばガラス基板を組み立てたものから形成される。前基板4は透明であるが、後基板6は透明または不透明とすることができる。
セル2が液晶を封入するためのキャビティ8を区画し、このキャビティ8は、基板4、6と、詳細に後述するように基板4、6を互いに固着させるシール材料を受けるためのシール壁10、12とにより区画されることが、図1に見て取れる。また、前基板4と後基板6は、複数の電極14と対向電極16とを担持する。図1に見て取れるように、これらの電極14と対向電極16とは、ほぼ直線であり、互いに垂直に延びる。図面をより理解しやすくするために誇張して薄く示したこれらの電極14、16は、電子制御回路(図示せず)に接続される。この回路は、選択された電極に適切な電圧を加えることにより、該当する電極の交点で、液晶により形成された化合物の透過特性または光反射特性を変化させることができる。勿論、明らかに、このような電極の他の多くの構成を想定することができるため、図示した形状と電極の数は、単に例示的なものである。
セル2の電極14、16は、これらの電極が上に配置される基板4、6の縁部近くまで延びて、セル2と制御回路との間に電気接続を確立するために接続手段18を形成する。しかし、壁12は、接続手段18、したがって接続手段18を通る電極14、16を解放するように、セルの縁部から後退して延びる。
接続手段18は、壁12から電極14、16が突出する位置にあり、各電極14、16の延長部に加えられた、導電性材料で作られた接触突起20(図2および3により見やすく示される)により形成される。これらの接触突起20によれば、各電極14、16と電子制御回路との接続を行う際に介する横方向電気接触ゾーンの表面を増加させることができる。したがって、電極14、16と制御回路との電気接続がはるかに確実に行われる。
本発明の1つの特徴によれば、接触突起20は、2枚の基板4、6を隔てる空間ほど高くはなく、この高さは、2枚の基板を互いに接続するシール・フレームの高さによって決まる。
図1に示す例では、密閉された壁10は2枚の重なったガラス基板4、6間の外形に追従するが、壁12は液晶セル2の内形に追従し、外壁10が内壁12を囲む。したがって、互いにある距離をおいて平行に延びるほぼ垂直な壁の形をとるこれらの壁10、12は、一方10が外気に、他方12が液晶に直接接触する。これらの壁は、図1およびさらにはっきりと図2に見て取れる充填チャネル22にとって有利であり、このチャネル22には、シール材料が充填されてセル2のシール・フレームを形成する。したがって、シール材料を供給するための少なくとも1つの孔24が前基板4に形成され、この孔24は充填チャネル22に連通し、キャビティ8に液晶を充填するための孔26も前記前基板4にあけられている。充填チャネル22がセル2の形状に応じて非常に長くなるため、充填チャネル22を、互いに壁要素により隔離された2つまたは複数のチャネルに分離して、対応する充填孔24を介して各チャネルに充填することができる。勿論、変形形態によれば、外壁10に少なくとも1つの充填孔を形成することもできる。
勿論、壁10を省略して、内側面を介して液晶に接触する壁12のみを保持してもよいことは明らかである。この場合、壁12を構成して上基板4を下基板6上に配置した後、壁12の外側面と2枚の重なった基板4、6とにより区画された間隙28に、シール材料を、図3に示すように前記シール材料が前記間隙28の容積の少なくとも一部を満たすまで導入する。
この動作は、シール材料ディスペンサにより達成することができる。ディスペンサは、シール材料30のコード(細長いもの)を形成するように、2枚の基板4、6の周囲の少なくとも一部に沿って移動し、このシール材料30は、壁12の外側面に当接して前記2枚の基板4、6を接合することにより、シール・フレームを形成する。シール・フレーム30がセルの縁部と同じところまで延びる必要はない。シール・フレーム30は、シール・フレームの役割を果たすのに十分な幅、すなわち、感応材料を外気から隔離して、感応材料がセルの外側に漏れるのを防止し、2枚の基板4、6を共に保持するのに十分な幅であればよい。
シール材料30のコードを形成するために、2枚の重なった基板4、6により区画されたセル2の縁部の1つを、ある量のシール材料を含む容器に浸すこともできる。毛管作用により、シール材料は、壁12の周囲外側に位置する空いた容積28を徐々に満たす。もう1つの可能性は、壁12の周囲外側で2枚の基板4、6の一方にあけられた充填孔を介して、前記基板4、6間にシール材料を注入することにある。
本発明によれば、出来上がるセル2の適切な動作に必要なすべての構造、例えば電極または接触突起(これらの製造ステップについては詳細に後述する)を、2枚の基板4または6の一方の内面に配置した後、基板はフォトレジスト材料の層で覆われる。その後、このフォトレジスト層は、従来のフォトエッチング手法により構成されて、壁10、12により区画された前記充填チャネル22の形をなす。充填チャネル22が得られると、適切に下塗りされた残りの基板が第1の基板に接合される。勿論、これらの動作の順序は、単に例示的なものであり、変更することができる。
方法の変形形態によれば、フォトレジスト層は、充填チャネルだけでなく、2枚の基板4、6間の一定の距離を維持するためのスペーサ(わかりやすくするために図示せず)も形成するように構成される。本発明によれば、1つの製造ステップで、距離構造と充填チャネルとを構成することができる。この方法により達成される時間および費用の節約に加えて、本発明による方法のこの変形形態の別の利点は、スペーサとシール・フレームが随伴して形成されるため、前記スペーサは、従来技術の場合のように、次のシール・フレームの製造ステップ中に損傷を受けることが少なくなる。最後に、充填チャネルとスペーサとが同一の材料を使用して形成されるため、本発明の方法がさらに簡略化される。
本発明の範囲内で使用されるフォトリソグラフィ手法は、従来のものであり、当業者に公知である。この手法は、基本的に、感応させるゾーンの形状を模したマスクの透明ゾーンを透過する光によって、フォトレジスト層を感応させることにある。フォトレジスト材料は、従来通り、当業者が難なく選択することのできる感応樹脂であり、その通常の目的は、光放射によって感応させ、エッチングする位置を覆うゾーンの化学的除去の後に樹脂が存在する位置で、エッチングする層の表面を、化学反応物の作用から保護することである。Dow Chemicalの感応cyclotenおよびMicroChem Corp.により参照番号SU8で販売されている製品を、壁10、12を形成するのに適切な材料として引用することができる。
前述したように、充填チャネル22と、必要に応じてスペーサとを区画する密閉された壁10、12とを構成させた後、2枚の基板4、6が接合される。その後、前記チャネル22への充填を開始する。このために、セル2が形成される作業密閉空間に、真空を形成し、真空が確立されると、シール材料が、充填チャネル22に連通する孔24の上方に加えられる。毛管作用により、シール材料がチャネル22に流入し始める。その後、作業密閉空間に大気圧が再び確立される。非常高い真空が広がる充填チャネルと大気圧との差圧の影響により、シール材料が充填チャネルの底部に押し込まれる。
一般に、セル2を密閉するのに使用される材料は、液状で充填チャネル22に導入されて、上基板4を通る紫外線を使用した感応により重合される感応樹脂である。シール材料は、液晶を効率的に保持し、かつ周囲大気からのガス拡散現象から液晶を保護するために、セル2の縁部を密閉しなければならない。2枚の基板4、6を共に保持することができるように、シール材料は、接着力を有していなければならない。変形形態として、作業密閉空間の温度上昇の影響により重合される樹脂により、シール材料を形成することもできる。成分が、時間が経つと硬化するか、または成分が互いの存在下にあるときに温度上昇の影響により硬化する、二成分接着剤をシール材料として使用することもできる。製品Loctite 3492およびNorland Optical Adhesives 61を、シール・フレームを形成するのに適切な材料として引用することができる。本発明の要件に適切な、別の系統の接着剤は、シアノアクリレート接着剤により形成される。最後に、熱可塑性樹脂を、本発明の範囲内で使用することもできる。
シール材料を充填チャネル22に導入して凝固させた後、充填孔26を介して液晶をセル2に導入することができる。有利には、シール材料の導入、その凝固、その後の液晶を導入するステップは、順々に、または同一の機械で同時に行うことができる。最後に、壁12の小室部とのシールの連続性を達成するために、液晶充填孔26が、充填孔26に近接する空間32と共に閉鎖されて、セル2の周囲全体が完全に密閉される。最後に、偏光板等の更なる層を基板4、6に配置することもできる。
通常、電極14、16は、インジウムと酸化スズとの混合物、すなわちITO等の透明な導電性酸化物の薄層の形にフォトエッチングすることにより形成される。電極14、16を構成するステップの後に、接触突起20を形成するステップが行われる。勿論、変形形態によれば、第1に導電性材料の層を配置し、次に層の表面に接触突起を形成し、最後に、電極を形成するために導電層を構成することもできる。
好ましくは、接触突起20は、限定されないが、金等の導電性材料を使用するガルバニック成長により形成される。したがって、堆積により、2枚の基板4、6の全面にわたって金の層が配置される。金の層の配置前に、例えばクロム層を基板4、6の表面に堆積させることができ、これにより、基板4、6の表面に前記金の層をより良好に接着することができる。一般に、金の層は、シード層と呼ばれる。
金の層の堆積後、ガルバニック成長現象の発生を希望する位置、すなわち電極14、16の端部に、開口が形成されたフォトレジスト剤の層が配置される。成長層は電気接触して陰極を形成し、その後、基板4、6は、陽極として作用する白金片とは反対側のガルバニック成長浴に浸される。浴は、Lea Ronal CompanyによりAURALL 292の商品名で販売されている、金とシアン化カリウムベースの二層体である。電圧を加える影響により、ガルバニック成長浴の溶液中の電気化学カップルが解離して、フォトレジスト層により保護されない基板4、6の位置に金が堆積される。電圧値と電圧を加える時間に応じて、接触突起20の成長速度を制御することができる。これらの接触突起20が所望の寸法に達すると、電圧が切断される。その後、基板4、6を化学エッチング浴に浸してフォトレジスト、金、クロムの層を順次除去するだけでよい。金の層が除去されると、接触突起20もわずかにエッチングされ、基板4、6に最初に堆積された金の層の厚さに近い値だけ、高さが減少する。これらの異なる化学エッチングは、ITOから作られた電極14、16に影響を与えないことに留意されたい。
変形形態によれば、導電性粒子が配合されたエポキシ等の接着剤を使用するスクリーン印刷等の選択的な印刷堆積手法により、接触突起20を形成することができる。
接触突起20の構成後、液晶分子配向膜が電極14、16に配置される。これらの配向膜を、例えばフレキソ印刷により形成することができる。
配向膜が配置された後、シール材料と液晶を導入するための孔24、26が、基板の一方、ここでは前基板4にあけられる。
その後、詳細に前述した動作モードにより、壁10、12が構成される。壁10、12と同時に、必要に応じて、例えば直線の棒または突起状の距離構造を形成することができる。
壁10および/または12が構成されると、前基板4が後基板6に取り付けられ、充填チャネル22の充填を開始することができる。内壁12のみが形成される場合、例えば、液体シール材料を含む容器にセル2の縁部の1つを浸すことにより、壁12の外側面と2枚の重なった基板4、6とにより区画された間隙28に充填することもできる。毛管作用により、シール材料は、間隙28を徐々に満たし、接触突起20に損傷を与えることなく接触突起20を覆う。しかし、充填チャネル22を形成するように内壁12と外壁10とが同時に構成される場合、シール材料は、この目的で前基板4に設けられた充填孔24を介して前記チャネル22に導入される。
シール材料が凝固して、2枚の基板4、6が永久に接合されると、上基板4にあけられた充填孔26を介してキャビティ8に液晶が充填され、その後、充填が終了すると、充填孔26が接着プラグにより密閉される。これらの動作はすべて、同一の機械で同時に行うことができる。
製造方法のこの段階で、セル2は、例えば鋸引きまたはウォータ・ジェット切断により切断され、この動作に続いて、研削ステップを行ってセル2の寸法を最終的な大きさにする。鋸引き線は、図1に点線で示される。図示した例では、セルが、大きな活性面を有する突起20によって具現化される横方向接触ゾーン突起を持つ通常の外形を有するように、鋸引き線が接触突起20を通過することに留意されたい。その後、導電路34をマスクの開口を通してセル2の縁部に堆積させることができ、この導電路を使用して、例えば、セル2の縁部に容易に接触することのできる導電性ワイヤ(図示せず)により、接触突起20、すなわち電極14、16を、電子制御回路(図示せず)の入力端子に接続する。
本発明は、前述した実施形態に限定されるものではなく、本発明の範囲から逸脱することなく、種々の簡単な改変および変形形態を想定することができる。特に、本発明は、本発明によるシール・フレームにより対になって接合され、感応材料または流体を保持するための容積を区画する少なくとも1つの壁から形成された、3枚以上、例えば4枚の基板と、該当する2枚の基板間の間隙を満たすシール材料のコードと、前記壁から電極が突出する位置にある各電極の延長部に加えられた、導電性材料の突起とを含むセルにも同様に適用される。
同様に、シールコードにより区画された周囲の外側に、接触突起を配置することも完全に想定できる。
最後に、本発明は、図5に示すような、セルの大規模製造方法にも同様に適用される。このような1バッチのセル2は、すべてのセル2に共通な2枚の板36、38と、セル2ごとに、液晶を封入するためのキャビティ8と、シール材料が充填されて2枚の板36、38を接続してシール・フレームを形成する充填チャネルとを区画する密閉された壁10、12のネットワークとを含む。有利には、キャビティ8に液晶を充填するための第1の複数の孔26と、シール材料を供給するための第2の複数の孔24とが、上板36に形成される。この特徴によれば、例えば液晶セルの側部を通らずに、液晶セルの上部から、充填チャネルに充填することができる。したがって、セルの側部の1つに通常配置される充填孔に接近することができるようにバッチを細片に分割する必要なく、セルの完全なバッチのまま作業することができる。したがって、実際に、セル2は、切断前にバッチの形で完成される。特に、供給孔24には、バッチ全体のセルのシール・フレームを形成するためのシール材料を充填し密閉することができるため、個々のセルの場合よりも簡単かつ経済的に行うことができる。同様に、セルがバッチの形のままで、セル2に液晶を充填し、充填孔26を閉鎖することができる。
セルのシール・フレームを形成する流体シール材料を受けるための充填チャネルと、対応するシール材料用供給孔とを示す、セルの上面図である。 わかりやすくするために、上ガラス基板を省略した、図1に示すセルの斜視図である。 本発明の方法により形成された、2枚の重なった基板と壁の外面とにより区画された容積を示す、上基板の一部を切断した斜視図である。 図3に示すセルの横断面図である。 本発明による1バッチのセルの概略図である。

Claims (16)

  1. 上面がセル(2)の前面を形成する少なくとも1つの第1の透明前基板(4)と、
    底面が前記セル(2)の後面を形成する、透明または不透明の少なくとも1つの第2の後基板(6)とを含み、
    双方の基板(4、6)が、物理的特性、特に光学的または電気的特性を変化させることのできる感応材料を保持するための容積(8)を区画するシール・フレームにより接合され、
    前記基板(4、6)が、対向面に、少なくとも1つの電極(14、16)を含み、前記電極(14、16)が電源または制御回路に接続され、
    前記セル(2)の前記電極(14、16)が、前記セル(2)と前記電源または制御回路との間に電気接続を確立するために、前記セルの縁部とほぼ同じところまで延びて接続手段(18)を形成する、電気光学セル、特に、液晶表示セル(2)または電気化学光起電力セルを製造する方法であって、
    前記基板(4、6)の各々に対応する電極(14、16)を構成するステップと、
    前記電極が前記セルの前記縁部と面一になる領域で、導電性材料で作られた接触突起(20)を各電極(14、16)に配置するステップと、
    前記感応材料を保持するための前記容積(8)を内側面を介して区画する少なくとも1つの壁(12)を、前記基板(4、6)の一方に構成し、前記壁(12)が、前記接続接触部(18)を解放するように、したがって前記電極(14、16)が前記壁(12)を通過する状態で、前記セルの縁部に対して後退位置に延びるステップと、
    前記第2の基板(4)を前記第1の基板(6)に接合するステップと、
    前記基板(4、6)と前記壁(12)の外側面とにより区画された間隙(28)に流入可能なシール材料を、前記シール材料が前記間隙の少なくとも一部を満たすまで導入するステップと、
    前記シール材料が、得られた前記セル(2)の前記シール・フレームを形成するように、前記シール材料を凝固させるステップとを含むことを特徴とする方法。
  2. 大きな活性面のある横方向接触ゾーンを持つほぼ平坦な縁部を有するように、前記セル(2)を切断するステップをさらに含むことを特徴とする請求項1に記載の方法。
  3. 前記シール材料が、毛管作用により、前記間隙(28)に入り込むことを特徴とする請求項1または2に記載の方法。
  4. 上面がセル(2)の前面を形成する少なくとも1つの第1の透明前基板(4)と、
    底面が前記セル(2)の後面を形成する、透明または不透明の少なくとも1つの第2の後基板(6)とを含み、
    前記基板(4、6)が、物理的特性、特に光学的または電気的特性を変化させることのできる感応材料を保持するための容積(8)を区画するシール・フレームにより接合され、
    前記基板(4、6)が、対向面に、少なくとも1つの電極(14、16)を含み、前記電極(14、16)が電源または制御回路に接続され、
    前記セル(2)の前記電極(14、16)が、前記セル(2)と前記電源または制御回路との間に電気接続を確立するために、前記セルの縁部とほぼ同じところまで延びて接続手段(18)を形成する、電気光学セル、特に、液晶表示セル(2)または電気化学光起電力セルを製造する方法であって、
    前記基板(4、6)の各々に対応する電極(14、16)を構成するステップと、
    前記電極が前記セルの前記縁部と面一になる領域で、導電性材料で作られた接触突起(20)を各電極(14、16)に配置するステップと、
    互いにある距離をおいて延び、間に前記接触スタッド(20)が配置される2つの壁(10、12)により区画された、少なくとも1つの充填チャネル(22)を、前記基板(4、6)の一方に構成するステップと、
    前記第2の基板(6)を前記第1の基板(4)に接合するステップと、
    前記充填チャネル(22)に流入可能なシール材料を、前記シール材料が前記充填チャネル(22)の全容積を満たすまで導入するステップと、
    前記シール材料が、前記シール・フレームを形成するように、前記シール材料を凝固させるステップと、
    大きな活性面のある横方向接触ゾーンを持つほぼ平坦な縁部を有するように、前記セル(2)を切断するステップとを含むことを特徴とする方法。
  5. すべてのセル(2)に共通な2枚の板(36、38)と、セルごとに、感応材料を保持するための容積(8)と、前記2枚の板(36、38)を接続して、前記セルのためのシール・フレームを形成するために、シール材料が充填される充填チャネル(22)を区画する壁(10、12)のネットワークとを含むことを特徴とする請求項4に記載の方法。
  6. 前記容積(8)に前記感応材料を充填するための第1の複数の孔(26)と、前記シール材料を供給するための第2の複数の孔(24)とが、板(36)、(38)の一方に形成されることを特徴とする請求項5に記載の方法。
  7. 前記シール材料が、毛管作用により、前記間隙(28)または前記充填チャネル(22)に貫入することを特徴とする請求項4ないし6のいずれか一項に記載の方法。
  8. 前記充填チャネル(22)に真空を形成するステップと、
    前記シール材料を前記前記充填チャネル(22)に貫入させるステップと、
    前記真空が広がる前記充填チャネル(22)と環境圧力との差圧の影響により、前記シール材料が前記充填チャネルの底部に押し込まれるように、前記セル(2)の外側に再び圧力を確立するステップとを含むことを特徴とする請求項10ないし12のいずれか一項に従属する請求項7に記載の方法。
  9. フォトレジスト材料の層が前記基板の一方(6)に配置され、前記層が、フォトエッチング手法により構成されて、1つまたは複数の壁(10、12)の形をなすことを特徴とする請求項1ないし8のいずれか一項に記載の方法。
  10. 前記フォトレジスト層が、1つまたは複数の壁(10、12)だけでなく、前記セル(2)の前記2枚の基板(4、6)間の一定の距離を維持するための距離構造も形成するように構成されることを特徴とする請求項9に記載の方法。
  11. 前記シール材料が、光または周囲媒体の温度を上昇させることによる加熱を使用した感応により重合可能な樹脂、熱可塑性樹脂と、シアノアクリレート接着剤と、時間が経つと硬化するか、または成分が互いの存在下にあるときに温度上昇の影響により硬化する二成分接着剤とからなる群から選択されることを特徴とする請求項1ないし10のいずれか一項に記載の方法。
  12. 前記接触突起(20)が、ガルバニック成長により形成されることを特徴とする請求項1ないし11のいずれか一項に記載の方法。
  13. 前記接触突起(20)が、金で作られることを特徴とする請求項12に記載の方法。
  14. 前記接触突起が、選択的な印刷により形成されることを特徴とする請求項1ないし11のいずれか一項に記載の方法。
  15. 導電性粒子が配合された樹脂が使用されることを特徴とする請求項14に記載の方法。
  16. 前記樹脂がエポキシ接着剤であることを特徴とする請求項15に記載の方法。
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