JP4790209B2 - 表面プラズモンに基づいた光ルータ - Google Patents

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Description

本発明は波長選択光ルータに関する。
全光学式ルータは、出力光信号を送る前に入力光信号を中間電気信号に変換しない。光信号と電気信号の間の変換を回避することで、全光学式ルータは、一般に、全光学式でないルータよりも高速にルーティングを行うことができる。また、全光学式ルータは、光信号と電気信号の間の変換が無いために、全光学式でないルータよりも一般に簡単なデバイスである。高速化および単純化によって、従来の全光学式ルータは全光学式でないルータよりも広く好まれるようになった。
全光学式ルータは望ましい動作速度を有するが、そのようなデバイスを製造することは、複雑で費用のかかることが多い。たとえば、多くの全光学式ルータでは、導波路の配列が使用される。適切な導波路の配列を作るには、通常、高精度な方法と高価なマスクが必要である。そのために、全光学式ルータは高価であることが多い。高速度でルーティングを行うが、高価で複雑な製造プロセスを必要としない光ルータを得ることが望ましい。
様々な実施形態で、光から電気へおよび電気から光への信号変換を行う光ルータを提供する。光から電気への変換で、入力ポートと出力ポートの間を伝播する表面プラズモンを生成する。表面プラズモンの伝播方向は、入力光信号の周波数に依存する。表面プラズモン伝播の方向依存性で、受信光信号の波長依存ルーティングが可能になる。表面プラズモンの生成、消滅、および伝播は高速プロセスであるので、これらの全光学式でないルータは高速で動作する。
第1の態様では、本発明は、光ルーティングを行う装置を特徴とする。この装置は、第1および第2の側面を有する金属層と、第1の側面に沿って位置付けされた規則的な配列の構造と、第1の側面の一部を照らすように位置付けされた入力光導波路とを含む。第1の側面の照らされる部分は上記構造のうちの構造に近接している。本装置は、また、入力光導波路で照らされない前記金属層の部分から放射される光を受け取るように位置付けされた複数の出力光導波路を含む。
第2の態様では、本発明は光信号をルーティングする方法を特徴とする。この方法は、入力光導波路からの光信号の受信に応答して金属表面に表面プラズモンのジェットを生成することを含む。この方法は、第1の波長を有する上記受信された光信号に応答した上記生成されたジェットから第1の出力光導波路の方向に選択的に光信号を生成することを含む。また、この方法は、第2の波長を有する上記受信された光信号に応答した上記生成されたジェットから第2の出力光導波路の方向に選択的に光信号を生成することを含む。
同様な参照番号は、様々な図の機能的に類似した要素を指す。
様々な実施形態は全光学式でないルータを提供する。新しい光ルータは、金属表面での表面プラズモンの生成と消滅を含んだ光から電気へおよび電気から光への中間変換を行う。表面プラズモンは、入力光ポートに入った光子で生成される。表面プラズモンの消滅によって、出力光ポートに光子が生成される。これらの光から電気へおよび電気から光への信号変換は、平面界面における粒子運動学で制約される単一粒子事象である。
図1は、金属層6と誘電体基板8の間の平面界面4における表面プラズモン生成の運動学を説明する。単位ベクトルi^は、金属−誘電体界面4に対して垂直であり、単位ベクトルu^は金属−誘電体界面4に対して平行である。運動量Kで周波数ωの光子が金属−誘電体界面4の前面に入射する。入射光子は、金属−誘電体界面4に垂直な単位ベクトルi^と角度θを成す。入射光子が単一の表面プラズモンを生成するとき、この表面プラズモンは同じ周波数ωおよび運動量Kspを有する。表面プラズモンは単位ベクトルu^で定義される方向に沿って伝播する。表面プラズモンの運動量Kspは、以下で説明するように、完全に光子入射面内にあるかもしれないし、部分的に光子入射面内にあるかもしれないし、または光子入射面に対して垂直であるかもしれない。
光子および表面プラズモンのエネルギーと運動量は分散関係を満足する。単一表面プラズモンに対する分散関係は次式で与えられる。
sp(ω)=(ω/c)([ε(ω)ε]/[ε(ω)+ε])1/2u^
ここで、ε(ω)およびεは界面4の2つの側の金属と誘電体の誘電率であり、cは光の速度である。光子の運動量Kの金属−誘電体海面4への投影Kr(ω)の分散関係は次式で与えられる。
|K(ω)|=(ω/c)(ε1/2sin(θ)
投影|K|の大きさは、光子の入射角に依存する。
図2は、界面自体に沿って並進運動が不変である金属−誘電体界面における単一光子による単一表面プラズモンの生成に関連した分散曲線を示す。そのような界面で、エネルギーと界面に沿った運動量の投影の両方が保存される。エネルギーの保存から、消滅した光子と生成された表面プラズモンは同じ周波数ωを有しなければならい。界面に沿った運動量の投影の保存から、KおよびKspは同じ単位ベクトルu^に対して平行でなければならないし、さらにK(ω)=Ksp(ω)でなければならない。
投影光子運動量K(ω)に対して平行および逆平行に伝播する表面プラズモンの運動量は、分岐Ksp+(ω)およびKsp−(ω)で与えられる。光子の限界分散曲線Kr±(ω)すなわちKr±(ω)=±(ω/c)(ε1/2の1つが表面プラズモンの分散曲線と交差する場合だけ、条件K(ω)=Ksp(ω)が満たされる。限界形式Kr±(ω)のどれもKsp+(ω)またはKsp−(ω)と交差しないので、光子分散曲線と表面プラズモン分散曲線の間に交点は存在しない。そのために、界面自体に沿って並進運動が不変である金属−誘電体界面で、単一光子が単一表面プラズモンに変換されることはありえない。
本発明者は、しかし、界面自体に沿って並進運動が不変でない界面では単一光子が単一表面プラズモンに変換され得ることに気付いた。そのような界面で、表面プラズモンの共鳴生成のために分散曲線が交差する必要はない。
図3は、界面自体に沿って並進運動不変性を有しない金属−誘電体界面4’を示す。界面4’内の変形の有限の規則的な配列12によって、並進運動不変性は壊れる。例示の変形14には、界面4’の両側の材料中の小さなくぼみおよび穴がある。変形14は、規則的な格子の場所を格子位置Pに画定する。格子位置PはP=mb+nbで定義される。ここで、bおよびbは基本格子ベクトルであり、nおよびmは整数である。基本ベクトルGおよびGを有する逆格子が、変形14の規則的な格子12と関連している。逆格子ベクトルは次式で定義される。
*=2πδij
逆格子は、金属−誘電体界面4’での表面プラズモンの生成で役割を担う。
規則的な配列12によって、金属−誘電体界面4’に沿った完全な並進運動不変性は個別のサブグループに緩和される。個別のサブグループは、配列の基本格子ベクトルbおよびbの整数倍数だけの並進運動を含む。緩和された並進運動不変性のために、エネルギー−運動量保存は、有限の規則的な配列12の中の金属−誘電体界面4’の部分に入射する光子に対して修正形式をとる。そのような光子に関して、単一光子の単一表面プラズモンへの共鳴変換は、次式の修正運動量保存関係で制約される。
sp(ω)=K(ω)+rG+sG
ここで、「r」および「s」は整数であり、GおよびGは、有限サイズの規則的な配列12に対する上記の逆格子ベクトルである。
修正保存則は、配列12の中でおおよその並進運動対称性を作るほどに十分に大きな配列12に対して妥当である。一般に、このことで、配列12は、少なくとも4以上の行および/または列の実質的に同一の変形14を有しなければならないかもしれない。例示の配列12は、1または2の独立した格子方向の個別の並進運動のもとで不変である。
並進運動不変である界面に対する運動量保存則と異なり、上述の修正運動量保存則は、単一入射光子が単一表面プラズモンを生成する解を有する。生成された表面プラズモンは、規則的な配列12の逆格子ベクトルと相関関係にある方向に伝播する。
図4は、図3の金属−誘電体界面4’での光子の入射面内に運動量を有する表面プラズモンの生成に関連した粒子分散曲線を示す。分散曲線は、周波数ωの入射光子が運動量Ksp(ω)の表面プラズモンを生成することを示す。ここで、Ksp(ω)=K(ω)+Gである。分散曲線は、また、周波数ωの入射光子が運動量Ksp(ω)の表面プラズモンを生成することを示す。ここで、Ksp(ω)=K(ω)−Gである。周波数ωとωは異なり、生成された表面プラズモンは、互い逆平行である運動量Ksp(ω)とK’sp(ω)を有する。このために、周波数ωとωの入射光子は、界面4’に沿って反対方向に伝播する表面プラズモンを生成する。金属−誘電体界面4’の対称性の緩和によって、生成された表面プラズモンの伝播方向は周波数に依存するようになる。表面プラズモンの伝播の周波数依存性は、波長依存光ルーティングをもたらすことができる(以下を参照されたい)。
また、修正運動量保存関係には、配列12が2つの独立した格子方向を有する限りで、Ksp(ω)とK(ω)が平行でない解がある。図5は、Ksp1=K+GでKがGに垂直である場合の例示の解を示す。この解では、|Ksp|および|K|が同じ周波数ωで光子と表面プラズモン分散関係の解でなければならい。KとGは垂直であるので、K’sp1=K−Gで定義される運動量|K’sp1|および|K|は、また、同じ周波数ωでそれぞれの光子および表面プラズモン分散関係の解である。したがって、逆格子ベクトルGに垂直な投影運動量Kを有する光子は、異なる運動量の表面プラズモンを生成することができる。
表面プラズモンの生成された種類のうちの1つだけが出力光子を作ることができるならば、光子がいくつかの運動量値の表面プラズモンを生成できる状況は効率がよくない。1つより多い運動量値を有する表面プラズモンを生成することがないようにするために、図5に示すように逆格子ベクトルGおよびGに直交しない投影運動量K’を光子が持つように、光子入射面の光子を選ぶことができる。
図6は、図3で説明する例示の金属層の前面への760ナノメートル(nm)のレーザ光の照射に応答して、この例示の金属層の裏面に生成された電界強度を示す。金属層の前面は、誘電体溶融シリカ基板を有する金属−誘電体界面を形成する。図6で、測定された電界強度は測定された光子計数速度に比例する。図6のデータの収集中、金属層を平行レーザ光で照らした。このレーザ光は、金属層の垂直ベクトルに対して約50°の角度で金属層の前面に入射した。レーザ光は、金属層内の6×7長方形配列の穴に入射する。この穴は、直径が約200ナノメートル(nm)であり、有限の規則的な格子を形成し、この格子の格子ベクトルbおよびbはそれぞれ840nmおよび950nmの長さを有する。照射中に、金属層の裏面に沿って光ファイバの端面を高精度に引っ張って走査し、さらに光ファイバで光子生成速度を計数して電界強度を測定した。
図6において、電界強度の2次元プロットは2つの顕著な特徴を有する。第1の特徴は大きなピークの配列18である。大きなピークの配列18は、規則的な立方配列の穴が貫通する金属層の部分の上にある。大きなピークの配列18は、金の層の中の穴の配列に起因している。第2の特徴は、金層中の穴の配列の端で始まる直線20である。この直線20に沿って、電界強度は、表面プラズモンの束の間の電界によって高い値を持つ。直線20は、規則的な配列の変形を有する金属−誘電体界面に入射する光子が、限られた数の伝播方向を持った表面プラズモンを生成することを示す。金の実験的な層では、生成された表面プラズモンは、大きな消散なしに20ミクロン以上の距離を伝播する。
図7Aから7Eは、図3および6に既に示した同じ金属−誘電体界面の裏面に沿った電界強度を示す階調プロットである。図7A〜7Eの挿入図は、表面プラズモンの生成と関連した修正運動量保存関係を示す。図7A〜7Eにおいて、電界強度は、界面の前面を様々なレーザ光構成で照らすことで生成された。これらのプロットのより明るい階調部分およびより暗い階調部分は、それぞれより高い電界強度およびより低い電界強度に対応する。これらのプロットで、電界強度は、金属層中の変形すなわち穴の配列にわたってピーク値の立方配列22を有する。これらのプロットで、電界強度の他の比較的高い値は、表面プラズモン・ジェット24、26、28の束の間の電界と関連している。ジェット24、26の表面プラズモンは、ピークの配列22と関連した変形の配列22から外側に伝播する。最後のジェット28は、金属層中の穴の別の配列(図示しない)から外側に伝播している表面プラズモンで生成される。
図7Aと7Bの比較で、入射レーザ光の周波数を変えることで表面プラズモン・ジェットの選択的な励起が可能になることが分かる。図7Aおよび7Bは、同じ入射方向であるが異なる周波数ωおよびω’のレーザ光で励起された表面プラズモンのジェットを示す。周波数ωで、レーザ光は運動量Ksp(ω)の表面プラズモンを強く励起する。ここで、Ksp(ω)=K(ω)−Gである。この表面プラズモンは図5Aのジェット24に属する。周波数ω’では、K(ω’)−Gに等しい運動量Ksp’(ω)の表面プラズモンが遥かに少量励起される。このことは、図7Bのジェット24に沿った束の間の光の強度がより低いことで理解できる。周波数ω’で、レーザ光は、Ksp’(ω)=K(ω)−2Gである運動量Ksp’(ω)の表面プラズモンを遥かに強く励起する。このことは、図7Bのジェット26で束の間の光の強度が比較的高いことで理解できる。このように、光子から表面プラズモンへの変換は、入射レーザ光の周波数をωとω’の間で変えることで、ジェット24と26の間で実質的に切り換えることができる。
図7Bと7Dの比較で、レーザ光の入射角を変えることで表面プラズモン・ジェットの選択的な励起が可能になることが分かる。図7Bおよび7Dは、異なるそれぞれの入射角θおよびθ’および同じ周波数ω’のレーザ光で励起された表面プラズモンのジェットを示す。光の入射角がθからθ’に変わるとき、ジェット26はオフになるが、ジェット24はほぼ同じ強度のままである。周波数を変えることなく、光の入射角がさらに同じ方向に変化するとき、図7Eに示すように、ジェット24と26の両方が実質的にオフになる。
図7Bと7Cの比較で、レーザ光の偏向を変えることでも、表面プラズモン・ジェット24、26の選択的励起が可能になることが分かる。図7Bおよび7Cは、周波数および入射方向が同じであるが偏向が異なるレーザ光で励起された表面プラズモンを示す。図7Bで、入射光の電界はどちらのジェット24、26とも直交しない。そのために、表面プラズモンは図7Bの両方のジェットで励起される。図7Cで、入射光の電界はジェット26の方向に対して垂直である。図7Cで、ジェット26は励起されない。その理由は、表面プラズモンは縦方向の電子密度波であり、したがって、伝播方向に垂直な電界で励起されないからである。図7Bの入射構成で、ただ1つの偏向すなわちジェット26に平行な偏向の入射レーザ光でジェット26の表面プラズモンが励起される。
図6および7A〜7Eが示すように、規則的な配列の変形によって、金属−誘電体界面は、表面プラズモンのジェットを含んだ、光から電気へおよび電気から光への信号変換をもたらすことができるようになる。表面プラズモン生成の方向依存性によって、光子から表面プラズモンへおよび表面プラズモンから光子への変換に基づいた光ルータを組み立てることができるようになる。そのような全光学式でないルータの製造では、より簡単でかつ多くの場合余り高価でない方法が必要であるが、なお光信号と電気信号の間の変換を行う回路を必要としないために、高いルーティング速度が可能になる。
図8および9は、表面プラズモンのジェットを生成して周波数選択光ルーティングを行う光ルータを示す。光ルータ30は、誘電体層32および誘電体層32の上にある金属層34を含む。金属層34は、金、銅、銀、またはアルミニウムのような金属を含み、ルーティングされる光の波長の浸透厚の1〜5倍の厚さである。例示の誘電体層36は、シリカ・ガラスのような硬い誘電体および空気のような軟らかな誘電体を含む。金属層34の前面は、誘電体層32との平面界面36を形成する。
金属−誘電体界面36は、第1、第2、および第3の規則的な配列38〜40の変形42を含む。変形42は、金属層34または誘電体基板32または両方の穴、小さなくぼみ、真っ直ぐなビア、バンプ、または真っ直ぐな隆起であってもよい。例示の変形42は、金属層34全体を横切っている。好ましくは、各配列38〜40は、一連の4以上の実質的に同一でかつ1つの方向に沿った等間隔の行の変形42を含む。そのような配列の大きさは、配列38〜40の中に個別のおおよその並進対称性を生成し、それによって、上記の修正運動量保存関係が満たされたときに表面プラズモンの共鳴発生を可能にする。また、いくつかの配列38〜40は、各行に一連の4以上の実質的に同一で等間隔に配置された変形42を含み、それによって、金属−誘電体界面36の2つの独立した方向に個別のおおよその並進対称性を作る。
いくつかの実施形態では、第1、第2、第3の規則的な配列38〜40の変形42は、金属−誘電体界面36の単一の規則的な配列の同一で等間隔に配置された変形42の一部である。例示の規則的な配列は、単純立方、体心立方、三角などのような格子の型を有する。
光ルータ30は、入力光導波路44、レンズ45および不透明層48を含む。例示の入力光導波路44は、単一モードまたはマルチモードの光ファイバを含む。金属−誘電体界面36の前面の一部を、ルーティングされる入力光信号で照らすように、入力光導波路44は位置決めされる。レンズ45は、入力光が単一角度θで界面36に入射するように、入力光導波路44からの入力光を平行にする。不透明層48は、第1の配列38の変形42全体にわたった窓50を含む。この窓によって、入力光信号は第1の配列38に表面プラズモンを生成することができるようになり、また、入力光は金属−誘電体界面の他の配列39〜40に直接プラズモンを生成することができなくなる。このために、入力光信号は、第1の配列38から外側に伝播する表面プラズモンを生成するだけである。
光ルータ30は、また、界面36の裏面に位置付けされた第1および第2の出力光導波路52、54および対応する挿入レンズ53、55を含む。例示の出力光導波路52、54は、単一モードおよびマルチモードの光ファイバを含む。レンズ53は、表面プラズモンによって放射され配列39を通って伝播する光を、第1の出力光導波路に集束する。レンズ55は、配列40を通って伝播する表面プラズモンによる光を、第2の出力光導波路54に集束する。
配列39および40は、第1の配列38中に画定される中心に対して異なる角度方向に沿って位置している。そのために、第1の配列38から外側に伝播する表面プラズモンは、変形42の配列39および40のせいぜい1つを通って伝播する。したがって、入力光信号で生成された個々の表面プラズモンは、出力光導波路52および54の1つに出力光信号を生成するだけである。
入力光導波路44と第1の配列38の相対的な向きによって、周波数ωおよびωの入力光は、それぞれ配列39および配列40に向かって伝播する表面プラズモンを生成するようになる。金属−誘電体界面36と第1の配列38の両方に対する入力光導波絽44の向きによって、そのような生成された表面プラズモンは上記の修正運動量保存関係を満たす運動量を確実に持つようになる。そのために、入力光信号周波数ωおよびωは、それぞれ第2の配列39および第3の配列40に向かって伝播する表面プラズモンのジェットを共鳴的に生成する。
全光学的でないルータ30の好ましい実施形態により、周波数ωの入力光は第2の配列39に向かって伝播する表面プラズモンを生成だけになり、周波数ωの入力光は第3の配列40に向かって伝播する表面プラズモンを生成だけになる。1つのそのような構成では、入力光の入射面は、第1の配列38の逆格子ベクトルを含み、配列39および40は図4および8で示すように第1の配列38の両側にある。
金属−誘電体界面36と第2の配列39の両方に対する出力光導波路52の相対的な向きは、第1の配列38から外側に伝播する表面プラズモンが第2の配列39で光を共鳴的に放射するように設計される。さらに、放射光は出力光導波路52の方に向けられる。したがって、第2の配列39に到達する表面プラズモンは、第2の規則的な配列39の変形42に関して前に述べた修正保存関係を満たす周波数と運動量で光子を放射する。そのような相対的な向きによって、周波数ωの入力光エネルギーの出力光導波路52への効率のよい結合が保証される。
同様に、金属−誘電体界面36と第2の配列40の両方に対する出力光導波路54の相対的な向きは、第1の配列38から外側に伝播する表面プラズモンが第3の配列40に光を共鳴的に放射するように設計される。さらに、放射光は出力光導波路54の方に向けられる。したがって、第3の配列40に到達する表面プラズモンは、変形42の第3の規則的な配列40に関して前述の修正保存関係を満たす周波数と運動量で光子を放射する。そのような相対的な向きによって、周波数ωの入力光エネルギーの出力光導波路54への効率のよい結合が保証される。
図10は、図8および9の全光学的でない光ルータ30で光を光学的にルーティングする方法60を示す。光ルータ30は、入力光導波路44からの周波数ωまたはωの光信号の受信に応答して、金属表面に表面プラズモンのジェットを生成する(ステップ62)。このジェットは、周波数ωを有する入力光信号に応答して、閾値を超えた光信号を出力導波路52に放射する(ステップ64)。このジェットは、また、他の出力導波路54にも光信号を放射するが、そのような光信号は閾値より下の値を有する。このジェットは、周波数ωの入力光信号に応答して他の出力光導波路54に閾値を超えた光信号を放射する(ステップ66)。このジェットは、また、出力導波路52に別の光信号を生成するが、そのような光信号は閾値より下の値を有する。
図8の光ルータ30に加えて、様々なファイバ・デバイスが、また、表面プラズモンを含んだ光−電気−光変換に基づいた周波数選択光ルーティングを実現することができる。
図11は、表面プラズモンに基づいた周波数選択光ルーティングを実現するファイバ・バンドル70を示す。ファイバ・バンドル70は、入力光ファイバ72および入力光ファイバ72から光を受ける取る複数の出力光ファイバ74、76を含む。ファイバ・バンドル70で、光ルーティングは、ファイバ・バンドル70のファイバ接合領域80の端面78に沿った表面プラズモンの伝播を含む。
図12は、図11のファイバ接合領域80の端面の図を与える。ファイバ接合領域80において、屈折率整合媒体82が光ファイバ72、74、76の端面間に配置される。ファイバ接合領域80の端面78は、平坦化され、金属層、たとえば金の層で覆われて、平面の金属−誘電体界面84を生成している。平面金属−誘電体界面84は、同一の変形86の配列を含む。変形によって、端面76に沿って2次元格子周期性が生じる。例示の変形86は、平面界面84の2つの側にある誘電体または金属の中の小さなくぼみである。変形86の例示の配列は、ファイバ接合領域80の端面78を平坦化した後でのマスク制御エッチングを含んだよく知られている方法で作ることができる。
変形86のパターンは、入力光ファイバ72が平面界面84に沿って伝播する表面プラズモンを光学的に励起することができるように構成される。特に、予め選ばれた第1および第2の入力周波数の光は、第1の出力ファイバ74および第2の出力ファイバ76それぞれに選択的に伝播する表面プラズモンを励起する。また、変形86の周期的な配列によって、生成された表面プラズモンが出力光ファイバ74、76に結合する光を生成することができるようになる。したがって、そのような表面プラズモンは、光−電気−光変換を含むプロセスを介して光ファイバ72、74、76の間の周波数選択光ルーティングをもたらす。修正運動量保存関係についての上の議論で、当業者はそのような光ルーティングに適切な変形86の配列を設計することができるようになるかもしれない。
光ルータの他のファイバ実施形態では、入力および出力光ファイバは、平面金属−誘電体界面に光学的に側面結合する。光ファイバは、ファイバの光学コアが金属−誘電体界面に光学的に結合することができるように光学クラッドの部分が取り除かれた結合領域を有する。金属−誘電体界面は、実質的に同一の変形の周期的な配列を含む。変形の配列によって、入力光ファイバは、選ばれた入力光周波数に対して表面プラズモンを生成する。変形の配列によって、出力光ファイバは、金属−誘電体界面の関連した結合領域を通って伝播する表面プラズモンが放射する光を受け取る。
図8および11〜12を再度参照して、光ルータ30、70のいくつかの実施形態では、光周波数に基づいてではなくて、入射角、入射偏向、または金属−誘電体界面36、84の誘電率に基づいて光信号のルーティングが行われる。1つのそのような実施形態では、ルータ30は、入力光導波路44から放出される光の入射角θ”を変えるための機械的なデバイスを含む。このルータ30では、入力光は、選択された入射角θ”に基づいて第1または第2の出力光導波路52、54に向かって放射する表面プラズモンを生成する。別の実施形態では、ルータ30は、金属層34に接続されかつ誘電体層32にまたがって電圧を加えるように構成された可変電圧源を含む。印加された電圧が誘電体層の誘電率を変え、したがって界面36での表面プラズモンの分散関係を変えることができるように、誘電体層32は電気光学的に活性である。このルータ30では、入力光は、誘電体層32にかかる選択された電圧に基づいて第1および第2の出力光導波路52、54に向かって放射する表面プラズモンを生成する。別の実施形態では、ルータ30は、入力光導波路44の端面とレンズ45の間に位置付けされた可変光偏向回転子を含む。このルータ30では、入力光は、選択された入射偏向に基づいて第1および第2の出力光導波路52、54に向かって放射する表面プラズモンを生成する。
本発明は、説明、図、および特許請求の範囲を考慮に入れて当業者に明らかな他の実施形態を含む意図である。
平面金属−誘電体界面での光子による表面プラズモン生成の運動学を示す断面図である。 図1の界面における表面プラズモンと光子の分散関係を示す図である。 界面自体に沿って並進運動不変性を有しない界面を示す平面図である。 光子の入射面における単一表面プラズモンの生成が分散関係でどのように可能になるかを示す図である。 投影光子運動量が逆格子ベクトルに垂直であるとき、1より多い運動量を有する表面プラズモンが入射光子でどのように生成されるかを示す図である。 図3の金属層の前面が照射されるのに応答して、その金属層の裏面に誘起される電界強度を示す図である。 図3の金属層の前面に入射する様々な光構成について、この金属層の裏面に沿った電界強度を示す階調プロットである。 図3の金属層の前面に入射する様々な光構成について、この金属層の裏面に沿った電界強度を示す階調プロットである。 図3の金属層の前面に入射する様々な光構成について、この金属層の裏面に沿った電界強度を示す階調プロットである。 図3の金属層の前面に入射する様々な光構成について、この金属層の裏面に沿った電界強度を示す階調プロットである。 図3の金属層の前面に入射する様々な光構成について、この金属層の裏面に沿った電界強度を示す階調プロットである。 周波数選択光ルーティングを行う光ルータを示すそれぞれの透視断面図である。 周波数選択光ルーティングを行う光ルータを示す裏面図である。 図8および9の光ルータで光を光学的にルーティングする方法を示す図である。 周波数選択光ルーティングを行うために、ファイバ・バンドルの端面を使用する簡単な光ルータを示す図である。 周波数選択光ルーティングを行うために、ファイバ・バンドルの端面を使用する簡単な光ルータを示す図である。

Claims (9)

  1. 光ルーティングを行うための装置であって、
    第1および第2の側面を有する金属層と、
    前記第1の側面に沿って位置付けされた構造の規則的な配列と、
    前記第1の側面の一部を照らすように位置付けされた入力光導波路であって、前記一部が前記構造のうちのいくつかのすぐ近傍にある、入力光導波路と、
    前記入力光導波路で照らされない前記金属層の部分から放射される光を受け取るように位置付けされた複数の出力光導波路とを備え、
    前記入力光導波路からの光の第1及び第2の波長が、照らされる部分を異なる方向に沿って外出する表面プラズモンを生成するように、前記配列が構成されている装置。
  2. 前記規則的な配列内の構造が、2つの方向に規則的に配置されており、
    前記出力光導波路のうちの第1および第2の出力光導波路が、前記金属層の異なる部分から放射される光を受け取るように位置付けされ、前記異なる部分が前記規則的な配列内にある点のまわりの異なる角度位置を有する、請求項1に記載の装置。
  3. さらに、前記第1の側面に沿って構造の別の規則的な配列を備え、前記別の規則的な配列は、表面プラズモンが前記出力光導波路の1つに向かって光を放射するように位置付けされている、請求項1に記載の装置。
  4. さらに、前記金属層の前記第1の側面と接触している実質的に透明な誘電体層を備える、請求項1に記載の装置。
  5. さらに、前記誘電体層の誘電率を変えることができるデバイスを備える、請求項に記載の装置。
  6. 入力光導波路からの光信号の受信に応答して金属表面に表面プラズモンを生成するステップと、
    第1の波長を有する前記受信された光信号に応答した前記生成された表面プラズモンから、第1の出力光導波路の方向に選択的に光信号を生成するステップと、
    異なる第2の波長を有する前記受信された光信号に応答した前記生成された表面プラズモンから、第2の出力光導波路の方向に選択的に光信号を生成するステップとを備え、
    前記光信号の受信が、前記第1の波長を有する信号に応答して、一つの方向に沿った運動量を有する表面プラズモンを生成し、前記第2の波長を有する信号に応答して、異なる方向に沿った運動量を有する表面プラズモンを生成する方法。
  7. 前記表面プラズモンの生成が、前記金属表面に沿った変形の規則的な配列の一部に前記光信号の光を当てることを含む、請求項6に記載の方法。
  8. 光ルータであって、
    実質的に透明な誘電体基板と、
    前記誘電体基板と界面を形成する第1の側面を有する金属層と、
    前記界面の一部を照らすように位置付けされた入力光導波路と、
    出力光導波路とを備え、
    前記界面は、前記入力導波路からの第1の波長の光が前記出力光導波路への光を放射する表面プラズモンを生成するように構成されており、
    前記界面の一部は、前記入力光導波路からの第2の波長の光が、前記第1の波長の光により生成される表面プラズモンとは異なる方向に沿って前記界面の一部から外出する表面プラズモンを生成するように構成されている光ルータ。
  9. さらに、前記第2の波長の光により生成された表面プラズモンによって生成される光を受け取るように位置付けされた第2の出力光導波路を備えている、請求項8に記載の装置。
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