JP4784054B2 - 固体撮像素子および固体撮像素子の製造方法 - Google Patents
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- 入射光を光電変換するセンサ部と、
前記センサ部から読み出した信号電荷を転送する垂直電荷転送部と、
前記垂直電荷転送部を遮光すると共に前記センサ部上に開口部を有する遮光膜と、
前記遮光膜に形成された開口部および当該遮光膜の少なくとも一部を覆うと共に、前記遮光膜に形成された開口部の四角を露出させる形状を有し、前記センサ部表面においての前記入射光の反射を低減する反射低減膜とを備えた
固体撮像素子。 - 前記反射低減膜は、前記遮光膜に形成された開口部の四角を露出させる十字型に形成されている
請求項1記載の固体撮像素子。 - 全面に形成された前記反射低減膜において、前記遮光膜に形成された開口部の四角を露出させる開口が設けられている
請求項1記載の固体撮像素子。 - 前記反射低減膜は窒化シリコン膜からなる
請求項1〜3の何れかに記載の固体撮像素子。 - 入射光を光電変換するセンサ部から読み出した信号電荷を転送する垂直電荷転送部を形成し、前記垂直電荷転送部を遮光すると共に前記センサ部上に開口部を有する遮光膜を形成した後、
前記センサ部表面においての前記入射光の反射を低減する反射低減膜を、前記遮光膜に形成された開口部および当該遮光膜の少なくとも一部を覆うと共に、当該開口部の四角を露出させる形状に形成する
固体撮像素子の製造方法。 - 前記反射低減膜は、前記遮光膜に形成された開口部の四角を露出させる十字型に形成される
請求項5記載の固体撮像素子の製造方法。 - 前記反射低減膜は、全面に形成された当該反射低減膜において前記遮光膜に形成された開口部の四角を露出させる開口を設けた形状に形成される
請求項5記載の固体撮像素子の製造方法。 - 前記反射低減膜は窒化シリコン膜からなる
請求項5〜7の何れかに記載の固体撮像素子の製造方法。
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