JP4769026B2 - 反応容器及びこれを用いた物質の検出方法 - Google Patents

反応容器及びこれを用いた物質の検出方法 Download PDF

Info

Publication number
JP4769026B2
JP4769026B2 JP2005177653A JP2005177653A JP4769026B2 JP 4769026 B2 JP4769026 B2 JP 4769026B2 JP 2005177653 A JP2005177653 A JP 2005177653A JP 2005177653 A JP2005177653 A JP 2005177653A JP 4769026 B2 JP4769026 B2 JP 4769026B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
reaction
well
substance
detection
reagent
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Fee Related
Application number
JP2005177653A
Other languages
English (en)
Other versions
JP2006349557A (ja
Inventor
友子 藤村
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Shimadzu Corp
RIKEN Institute of Physical and Chemical Research
Toppan Inc
Original Assignee
Shimadzu Corp
RIKEN Institute of Physical and Chemical Research
Toppan Inc
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Shimadzu Corp, RIKEN Institute of Physical and Chemical Research, Toppan Inc filed Critical Shimadzu Corp
Priority to JP2005177653A priority Critical patent/JP4769026B2/ja
Publication of JP2006349557A publication Critical patent/JP2006349557A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP4769026B2 publication Critical patent/JP4769026B2/ja
Expired - Fee Related legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Landscapes

  • Physical Or Chemical Processes And Apparatus (AREA)
  • Sampling And Sample Adjustment (AREA)
  • Automatic Analysis And Handling Materials Therefor (AREA)
  • Apparatus Associated With Microorganisms And Enzymes (AREA)
  • Measuring Or Testing Involving Enzymes Or Micro-Organisms (AREA)

Description

本発明は、例えば抗原抗体反応による抗原の検出及びDNAの検出等に用いられる反応容器及びこれを用いた物質の検出方法に関するものである。
近年、化学反応やDNA反応、たんぱく質反応などをチップ上にて行うμ−Total Analysis System技術やLab−on−Chip技術が研究され実現して
きており、今まで大型の実験装置や大量の試薬が必要であった反応実験が数ミリ角以下の
チップで少量の試薬で行えるようになってきている。
このようなチップ上には、通常、ウェルと呼ばれる微小な穴やくぼみが形成され反応場として用いられており、半導体やガラスにエッチングで設けたり、穴のあいた板を積層することでウェルが形成されていた。
ウェルタイプのものとしては、例えば、基板表面に多数のウェルが設けられている検出用基板が開示されている(特許文献1参照)。
このようなウェル型の検出チップは、ウェル内にスポイトなどの分注器により、試薬を分注し、反応を行う。しかし、試薬を分注する際、気泡を巻き込んでしまうという問題がある。また、ウェル内に試薬を入れたとき、ウェル表面の凹凸の隙間に気泡が残こってしまうという問題がある。これは溶液との界面の状態、水においては内壁と水との接触角によっては顕著に起こってくる。例えば、直径2mm〜3mmで内壁と水との接触角が70°程度の垂直穴に試薬の充填を試みると、気泡と試薬との入れ替わりが起きず、気泡を含んだ状態になる。また、うまく気泡と入れ替わりがおき、試薬を充填できたとしても、底面の凹凸の隙間に気泡が残ることもある。
この状態において、熱による反応を利用する場合、反応のための熱をかけると気泡の膨張により試薬があふれるなどの不具合が生じる。
WO2003/031972号公報
本発明は、このような事情を考慮してなされたもので、ウェル状反応部を有する反応チップにおいて、試薬充填時に気泡の混入のない、また反応時に気泡影響を受けることのない反応容器及びこれを用いた物質の検出方法を提供することを目的とする。
請求項1の発明は、光透過性を有する基板と、前記基板に成形され、底部側が光透過性を有し底部側から蛍光検出可能なウェル状反応部と、を有し、前記ウェル状反応部の内面における全ての面に対して、純水との接触角が100°以上となる表面処理が施されていることを特徴とする反応容器である。
請求項2の発明は、前記ウェル状反応部の直径が0.01〜5mmの範囲内であり、かつ深さが0.01〜5mmの範囲内であることを特徴とする請求項1記載の反応容器である。
請求項の発明は、前記表面処理がフッ素を含むガスを用いたプラズマ処理であることを特徴とする請求項1または2に記載の反応容器である。
請求項の発明は、前記ウェル状反応部の内面に撥水性被膜を有することを特徴とする請求項1〜3のいずれか一項に記載の反応容器である。
請求項の発明は、さらに試薬収容部及び/またはPCR反応部を有することを特徴とする請求項1〜のいずれかに記載の反応容器である。
請求項の発明は、純水との接触角が100°以上となる表面処理が内面における全ての面に施されたウェル状反応部が成形された光透過性の基板を備える反応容器のウェル状反応部内に、認識物質を注入する工程と、ウェル状反応部に検出物質を注入する工程とを有し、前記認識物質又は前記検出物質のいずれかが蛍光標識されており、前記認識物質と前記検出物質との反応の有無を前記ウェル状反応部の底部側から蛍光検出する工程を有することを特徴とする物質の検出方法である。
請求項の発明は、前記検出物質が核酸であることを特徴とする請求項記載の物質の検出方法である。
本発明によれば、ウェル状反応部を有する反応容器の反応部に、容易に気泡の混入なく試薬を充填することができる。また、内壁の凹凸の隙間に残った気泡が存在しても反応時に影響のないものとなる。
以下、本発明の実施形態について、図面を参照して説明する。
図1に、本発明における一実施形態を示す図を示す。図1は、略長方形の板状の基板に、試料及び試薬を反応させるためのウェル状反応部が複数形成されている。
本発明に用いる基板は、反応系に悪影響を与えないものであればよい。また、反応を検出する際、基板下方より光学検出する場合は透明性が高い方が好ましい。
このようなものとして、例えば、PC(ポリカーボネート)、PP(ポリプロピレン)、シクロオレフィン系ポリマー、フッ素ポリマー、シリコーン樹脂などを用いることができる。
透明性、耐熱性、耐薬品性や反応系に対する影響などの点からシクロオレフィン系樹脂(ゼオノア(日本ゼオン株式会社製))やメチルペンテン系樹脂(TPX(三井化学株式会社製))を用いることが好ましい。
また、後述ように、本発明では、基板に設けるウェル反応部の内面の純水との接触角は100°以上であることが好ましいため、基板自体の接触角は100°以上であるものを用いても良い。このようなものとしては、ポリテトラフルオロエチレン(TEF)などのフッ素ポリマーやシリコーン樹脂、メチルペンテン系樹脂などが挙げられる。
このような合成樹脂を用いて基板を作成すれば、耐熱性、耐薬品性、成形加工性などに優れているため好ましい。さらに、2種類以上の樹脂を接合して用いてもよい。この場合、それぞれの樹脂の特徴を活かして基板を作成することにより、試薬及び試料等の特性に応じた多様な基板とすることが可能となり、用途ごとに使い分けることができる。例えば、基板の上半分と下半分とで材料を分けたりすることも可能となる。また、後述の試薬収容部やPCR反応部など部分ごとに材料を分けることもできる。
なお、基板の素材としてガラスを用いてもよい。
そして、基板には、ウェル状の反応部を備える。
ウェル状反応部は、基材がプラスチック、合成樹脂系であれば切削加工、成型加工により形成することができる。ガラスであれば切削加工により形成することができる。
また、ウェル状反応部は複数有することができる。
ウェルの形状は、底部が平坦であり、またウェル開口部から底面まで壁面が傾斜している円錐台形状であることが好ましい。
また、ウェルの大きさは、特に限定はしないが、ライフサイエンス分野では極微量での反応、検出が行われることが多く、開口部の直径及び深さが5mm以下、特に0.01mm〜5mmの範囲内であればよい。また、本発明ではこの大きさの範囲内のときに特に効果を発揮するものである。
本発明では、ウェル状反応部内面の純水との接触角が100°以上、好ましくは105°以上であることが好ましい。
濡れ性が高いと、試薬充填時に側面に液が引きずられる。ウェル状反応部内面の純水との接触角がが上記範囲であると、試薬を充填する際、ウェル内の側壁との濡れの影響をあまり受けず滑るように試薬が充填され、気泡の混入の影響も少ない(図2参照)。また、ウェルの底部はミクロ的に見ると表面が粗いが、底部との接触部が少ないため、表面凹凸と試薬の隙間に残った試薬の量も少なく、その影響をあまり受けないものとなる(図4参照)。
接触角が100°より小さい場合、例えば70°以上100°未満の場合、試薬充填の際、ウェル内の側壁との濡れの影響を受けながら試薬が落ちていくため、最終的にウェルの底部まで充填されたときに側壁に引きずられ、気泡が混入した状態になることがある(図3参照)。また、ウェルの底部はミクロ的に見ると表面が粗く、表面凹凸の内部まで試薬が充填されず、表面凹凸と試薬の隙間に気泡が残る(図5参照)。
ウェル状反応部内面の純水との接触角が100°以上、好ましくは105°以上とするためには、もともと純水との接触角がその範囲内である基材を用いて反応容器を形成してもよい。このような基材としては、前述したようにポリテトラフルオロエチレン(TEF、純水との接触角:約105°〜115°)などのフッ素ポリマーやシリコーン樹脂、TPX(純水との接触角:約100°)メチルペンテン系樹脂などが挙げられる。
また、プラズマ処理、コロナ処理、洗浄やコーティングなどの表面処理を施すことにより、接触角をあげてもよい。プラズマ処理の中でも特に大気圧近傍下で行う大気圧プラズマ処理であることが、生産性などの点から好ましい。
また、フッ素を含むガスを用いてプラズマ処理を施しても良い。特に大気圧近傍下でのプラズマ処理を施すことが、生産性などの点から好ましい。
フッ素系ガスを用いてプラズマ処理を施す場合、基材表面になんらかの被膜または官能基を導入すると考えられるが、この場合、反応系に悪影響を与えず、また耐熱性、耐薬品性があることが好ましい。
フッ素を含むガスとしては四フッ化炭素、四フッ化ケイ素などのフッ化炭素、フッ化珪素化合物やこれらのハロゲン化物などが挙げられる。
また、フッ化メタン、フッ化エタン、テトラフルオロメタン、ヘキサフルオロエタン、1,1,2,2−テトラフルオロエチレン、ヘキサフルオロプロパン、トリフルオロアセテート、ヘキサフルオロアセトンなどの有機フッ化化合物を含むガスや、フッ化エチレン、フッ化塩化エチレン、フッ化ビニール、フッ化ビニリデンなどフッ素含有モノマーを含むガスが挙げられる。
また、CF(CFRSiX(X:ハロゲンまたはR、R:有機官能基、なおRはそれぞれ異なっていてもよい)で表されるフッ素含有珪素化合物を含むガスを用いても良い。このようなものとして、例えば、1H,1H,2H,2H−パーフルオロデシルトリメトキシシラン、1H,1H,2H,2H−パーフルオロデシルトリエトキシシラン、ヘプタデカフルオロデシルトリクロロシラン、トリフルオロプロピルメトキシシランなどが挙げられる。
また、珪素ガスを用いてプラズマ処理を施しても良い。珪素ガスとしてはヘキサメチルジシロキサン(HMDSO)、テトラメチルシロキサン(TMSO)、テトラエトキシシラン(TEOS)などが挙げられる。
また、表面エネルギーの低い物質を、蒸着法、スプレー塗工やスピンコートなどのコーティング法やディッピング法によりウェル内に導入し撥水性被膜を形成しても良い。
表面エネルギーの低い物質は、反応系に悪影響を与えず、また耐熱性、耐薬品性があることが好ましい。
表面エネルギーの低い物質としては、フッ素系またはフッ素含有珪素化合物やシリコーン樹脂などが挙げられる。
フッ素系化合物としては、フッ化メタン、フッ化エタン、テトラフルオロメタン、ヘキサフルオロエタン、1,1,2,2−テトラフルオロエチレン、ヘキサフルオロプロパン、トリフルオロアセテート、ヘキサフルオロアセトンなどや、フッ化エチレン、フッ化塩化エチレン、フッ化ビニール、フッ化ビニリデンなどフッ素含有モノマーが挙げられる。
また、フッ素含有珪素化合物としては、CF(CFRSiX(X:ハロゲンまたはR、R:有機官能基、なおRはそれぞれ異なっていてもよい)で表されるフッ素含有珪素化合物が挙げられ、例えば、1H,1H,2H,2H−パーフルオロデシルトリメトキシシラン、1H,1H,2H,2H−パーフルオロデシルトリエトキシシラン、ヘプタデカフルオロデシルトリクロロシラン、トリフルオロプロピルメトキシシランなどが挙げられる。
撥水性被膜の膜厚は、特に限定はしないが、薄膜であることが好ましく、具体的には100nm以下であることが好ましい。
なお、接触角の測定は、公知の接触角計を用いて測定する。また、ウェル内の接触角の測定は困難であるため、同様の表面状態である基材の表面を用いて測定しても良い。
また、同一基板上に、試薬収容部を設けても良い(図6、7、8参照)。試薬収容部はウェル状に形成することができ、大きさなどに特に制限はない。試薬収容部は用いる試薬の種類などに応じて複数設けることができる。例えば、試薬収容部には検出物質を含む溶液や、認識物質が複数あり、多段階反応を行う場合は、1種の認識物質を含む溶液、またはその他バッファー、希釈液などを入れておくことができる。
また、DNAの検出反応に用いる場合、同一チップ上にPCR反応部を設けても良い(図7参照)。
PCR反応部を設けることにより、同一チップ上で検体の調整、DNAの検出を行うことができる。
PCR反応部としては、ウェル状の反応部を設けても良いし、流路を設け流路内で反応を行っても良い。
また、その他の反応部を設けても良い。
また、ウェル状反応部同士を接続する流路を設けてもよい(図8参照)。またウェル状反応部と試薬収容穴部、PCR反応部、その他の反応部を接続する流路を設けてもよい。これら流路を形成することにより、連続した反応を行わせることが可能となる。
本発明の反応容器は、様々な生化学系の反応用として用いることができ、例えば抗原抗体反応及びDNA反応の検出などに用いることができる。
本発明でいう検出物質とは、検出をしようとする対象物質のことで、認識物質とは、検出物質を特定するために用いる物質のことを言う。
抗原抗体反応による抗原検出の場合、例えば、予め各ウェル状反応部内に認識物質として抗原を含む試料を入れておき、後から検出物質として抗体を含む試薬を添加し、認識物質または、検出物質のいずれかに標識物質を付けておくことで、反応の有無を検出できる。標識物質としては、蛍光などの発光物質が一般的に用いられる。なおこの場合、基板上に試薬収容部を設けて置き、検出物質を収容しておいてもよい。
DNAの検出の場合、例えば、予めウェル状反応検出部内に認識物質として核酸プローブを用意しておく。その後、検出物質として検体DNAをウェル状反応検出部に供給し、核酸プローブと検体DNAのハイブリダイゼーションさ反応により、DNAの検出を行うことができる。その際、検出物質に標識物質を付けておけば、その標識物質の有無を検出することにより検出が可能となる。また、検体DNAは、血液等から抽出したDNAをPCR法、LAMP法などにより調整しておいたものを用いることができる。また、認識物質である核酸プローブとして配列の異なる核酸を複数用意することで検出物質としての検体DNAがどのような配列であるかを検出することができる。なおこの場合、基板上に試薬収容部を設けて置き、検出物質を収容しておいてもよい。
また、基板上にPCR反応部を設けておき、チップ上で連続して、血液などから抽出したDNAをPCR反応により増幅させ、それを検体とし、反応部で認識物質との反応の有無を検出してもよい。具体的には、例えばウェル状試薬収容部に検出物質として血液などから抽出したDNAを収容しておき、分注動作により、PCR反応部へ分注し、PCR反応により調整した検出物質をウェル状の反応検出部へ分注すればよい。ウェル状試薬収容部からPCR反応部、ウェル状反応検出部へは流路を用いて送液しても良い。
また、一塩基遺伝子多型(SNP)の解析にも用いることができる。なお、認識物質は複数あってもよく、検出物質が蛍光標識されていない場合には、認識物質のひとつが標識されていればよい。
また、標識物質は、反応した認識物質と検出物質に特有に作用するものを、認識物質と検出物質の反応後に加えることもできる。このようなものとしては、DNAの検出におけるインターカレーターなどがある。また、ここでいう標識物質とは間接的なものも含む。すなわち、蛍光物質などに結合する物質を標識物質として認識物質または検出物質に結合させておき、後から蛍光物質を加えても良い。
また、多段階反応を行ってSNPまたはDNAを検出してもよい。
例えば、インベーダー・アッセイ法(サードウェイブテクノロジーズ,Inc(米国ウィスコンシン州マディソン市)を用いても良い。これによりSNP解析の具現化を図ることが可能となる。
この場合、認識物質が複数種でもよく、予めウェル状反応部内に少なくとも1種の認識物質を入れておき、その後、検出物質と認識物質を同時または順次注入し、反応をおこなっても良い。
また、ウェル状反応部、PCR反応部には、反応用液の乾燥を防ぐ目的でミネラルオイルなどの反応用液より比重の軽い溶液を加えても良い。
また、認識物質はウェル状反応部内に固定してもよいし、固定させずに保持させておくだけでもよい。
また、前記ウェル状反応部、試薬収容部、PCR反応部には、フィルムなどのフタ材で被覆しても良い。
<実施例1>
(チップ作成(成形))
図1のウェル形状の検出チップを、成形により作成する。成形に用いた樹脂は、ネオフロン N−20P(ダイキン工業株式会社製)を用いて成形品を作成した。成形温度は350℃、型締め力は50tonF、金型温度は100℃、計量値24mmで行った。成形機は住友重機械工業サイキャップM3で成形を行い、スクリュー系はφ35mmである。検出部底厚は0.3mmで成形を行った。
ウェル内の接触角の測定は困難であったため、ウェル内の表面状態と同様の表面状態であるウェルの表面を用いて測定した値をウェル内の接触角とした。
3箇所測定した結果、得られた値の平均値は111°であった。なお、用いた測定装置はFACE自動固体エナジー解析装置CA−VE型である。
(インベーダー反応)
インベーダー反応はインベーダーアッセイキット(ThirdWaveTechonogy社製に順ずる)。
ウェル状反応部にインベーダープローブ0.15μlを針の内径2mmのピペットを用いて加えて、乾燥させた。
検出物質としてPCR反応により調整済みのPCR産物1μlに対して、インベーダー試薬3.644μl、蛍光物質としてFAMが結合しているFRET 0.75μl、Clevase 0.75μlを乾燥させたインベーダープローブが底に乾燥しているウェル状反応部に2μlずつを針の内径2mmのピペットを用いて加えた。次にミネラルオイルを4μlを針の内径2mmのピペットを用いて加えて、61℃、40分間インベーダー反応を行った。反応時には気泡の膨張による反応液の噴出しは見られなかった。
反応が完了したら、蛍光検出を行った。測定した結果、蛍光が検出され、反応が起こったことが確認された。なお、ここでいうインベーダープローブ、インベーダー試薬、FRET、Clevaseは認識物質である。
<実施例2>
(チップ作成(成形))
図1のウェル形状の検出チップを、成形により作成する。成形に用いた樹脂は、ゼオノア 1420R(日本ゼオン株式会社製を)用いて成形品を作成した。成形温度は280℃、型締め力は100tonF、金型温度は90℃、計量値24mmで行った。成形機は住友重機械工業サイキャップM3で成形を行い、スクリュー系はφ35mmである。検出部底厚は0.3mmで成形を行った。
(表面処理)
フッ素を含むガスとして、CFを3%含むHeガスを用い、大気圧近傍下でプラズマ処理を施した。
ウェル内の接触角の測定は困難であったため、ウェル内の表面状態と同様の表面状態であるウェルの表面を用いて測定した値をウェル内の接触角とした。
3箇所測定した結果、得られた値の平均値は108°であった。なお、用いた測定装置はFACE自動固体エナジー解析装置CA−VE型である。
(インベーダー反応)
インベーダー反応はインベーダーアッセイキット(ThirdWaveTechonogy社製に順ずる)。
ウェル状反応部にインベーダープローブ0.15μlを針の内径2mmのピペットを用いて加えて、乾燥させた。
検出物質としてPCR反応により調整済みのPCR産物1μlに対して、インベーダー試薬3.644μl、蛍光物質としてFAMが結合しているFRET 0.75μl、Clevase 0.75μlを乾燥させたインベーダープローブが底に乾燥しているウェル状反応部に2μlずつを針の内径2mmのピペットを用いて加えた。次にミネラルオイルを4μlを針の内径2mmのピペットを用いて加えて、61℃、40分間インベーダー反応を行った。反応時には気泡の膨張による反応液の噴出しは見られなかった。
反応が完了したら、蛍光検出を行った。測定した結果、蛍光が検出され、反応が起こったことが確認された。なお、ここでいうインベーダープローブ、インベーダー試薬、FRET、Clevaseは認識物質である。
<比較例>
(チップ作成(成形))
図1のウェル形状の検出チップを、成形により作成する。成形に用いた樹脂は、ノバテック PPMA04(日本ポリプロ株式会社製)を用いて成形品を作成した。成形温度は210℃、型締め力は50tonF、金型温度は20℃、計量値24mmで行った。成形機は住友重機械工業サイキャップM3で成形を行い、スクリュー系はφ35mmである。検出部底厚は0.3mmで成形を行った。
ウェル内の接触角の測定は困難であったため、ウェル内の表面状態と同様の表面状態であるウェルの表面を用いて測定した値をウェル内の接触角とした。
3箇所測定した結果、得られた値の平均値は91°であった。なお、用いた測定装置はFACE自動固体エナジー解析装置CA−VE型である。
(インベーダー反応)
インベーダー反応はインベーダーアッセイキット(ThirdWaveTechonogy社製に順ずる)。
ウェル状反応部にインベーダープローブ0.15μlを針の内径2mmのピペットを用いて加えて、乾燥させた。
検出物質としてPCR反応により調整済みのPCR産物1μlに対して、インベーダー試薬3.644μl、蛍光物質としてFAMが結合しているFRET 0.75μl、Clevase 0.75μlを乾燥させたインベーダープローブが底に乾燥しているウェル状反応部に2μlずつを針の内径2mmのピペットを用いて加えた。次にミネラルオイルを4μlを針の内径2mmのピペットを用いて加えて、61℃、40分間インベーダー反応を行った。反応時に、気泡の上昇による反応液の噴出しにより、その後の蛍光検出による反応の有無が確認できなかった。
本発明の反応容器の一例を示す概略図である。 本発明の反応容器における試薬の充填を説明する概略図である。 従来の反応容器における試薬の充填を説明する概略図である。 本発明の反応容器における充填された試薬の状態を説明する概略図である。 従来の反応容器における充填された試薬の状態を説明する概略図である。 本発明の反応容器の一例を示す概略図である。 本発明の反応容器の一例を示す概略図である。 本発明の反応容器の一例を示す概略図である。
符号の説明
1 反応容器
2 基板
4 反応溶液
3 ウェル状反応部
5 試薬収納部
6 PCR反応部(流路タイプ)
7 流路
8 ウェル底面の微細な凹凸

Claims (7)

  1. 光透過性を有する基板と、
    前記基板に成形され、底部側が光透過性を有し底部側から蛍光検出可能なウェル状反応部と、
    を有し、
    前記ウェル状反応部の内面における全ての面に対して、純水との接触角が100°以上となる表面処理が施されていることを特徴とする反応容器。
  2. 前記ウェル状反応部の直径が0.01〜5mmの範囲内であり、かつ深さが0.01〜5mmの範囲内であることを特徴とする請求項1記載の反応容器。
  3. 前記表面処理がフッ素を含むガスを用いたプラズマ処理であることを特徴とする請求項1または2に記載の反応容器。
  4. 前記ウェル状反応部の内面に撥水性被膜を有することを特徴とする請求項1〜3のいずれか一項に記載の反応容器。
  5. さらに試薬収容部及び/またはPCR反応部を有することを特徴とする請求項1〜4のいずれか一項に記載の反応容器。
  6. 純水との接触角が100°以上となる表面処理が内面における全ての面に施されたウェル状反応部が成形された光透過性の基板を備える反応容器のウェル状反応部内に、認識物質を注入する工程と、ウェル状反応部に検出物質を注入する工程とを有し、前記認識物質又は前記検出物質のいずれかが蛍光標識されており、前記認識物質と前記検出物質との反応の有無を前記ウェル状反応部の底部側から蛍光検出する工程を有することを特徴とする物質の検出方法。
  7. 前記検出物質が核酸であることを特徴とする請求項6記載の物質の検出方法。
JP2005177653A 2005-06-17 2005-06-17 反応容器及びこれを用いた物質の検出方法 Expired - Fee Related JP4769026B2 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2005177653A JP4769026B2 (ja) 2005-06-17 2005-06-17 反応容器及びこれを用いた物質の検出方法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2005177653A JP4769026B2 (ja) 2005-06-17 2005-06-17 反応容器及びこれを用いた物質の検出方法

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2006349557A JP2006349557A (ja) 2006-12-28
JP4769026B2 true JP4769026B2 (ja) 2011-09-07

Family

ID=37645568

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2005177653A Expired - Fee Related JP4769026B2 (ja) 2005-06-17 2005-06-17 反応容器及びこれを用いた物質の検出方法

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP4769026B2 (ja)

Families Citing this family (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US8568668B2 (en) 2007-12-10 2013-10-29 Shimadzu Corporation Micro droplet operation device and reaction processing method using the same
US8993241B2 (en) 2008-01-18 2015-03-31 National University Corporation University Of Toyama Reaction device, reaction method and method of synthesizing cDNA
DE102009028339A1 (de) * 2009-08-07 2011-02-24 Wacker Chemie Ag Bioreaktor aus Siliconmaterialien
DE102009028338A1 (de) * 2009-08-07 2011-02-10 Wacker Chemie Ag Bioreaktor mit Siliconbeschichtung
CN102947448A (zh) * 2010-06-22 2013-02-27 环球生物研究株式会社 用于防止核酸扩增反应中的反应溶液的蒸发的组合物
JP2012189410A (ja) * 2011-03-10 2012-10-04 Rohm Co Ltd マイクロチップ
JP6757527B2 (ja) * 2016-06-07 2020-09-23 Nissha株式会社 測定方法とそれに用いる反応容器
JP6961416B2 (ja) * 2017-07-27 2021-11-05 太平洋セメント株式会社 シリカの製造方法

Family Cites Families (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0999932A (ja) * 1995-08-03 1997-04-15 Dainippon Printing Co Ltd 反応器
JPH09257797A (ja) * 1996-03-18 1997-10-03 Sekisui Chem Co Ltd 免疫測定用品
JPH11316226A (ja) * 1998-05-06 1999-11-16 Olympus Optical Co Ltd 自動測定用カートリッジ及び自動測定法
JPH11332854A (ja) * 1998-05-27 1999-12-07 Sekisui Chem Co Ltd 栓体表面処理方法
JP2003014760A (ja) * 2001-04-27 2003-01-15 Canon Inc プローブ担体、プローブ固定用担体およびそれらの製造方法
DE10239739B4 (de) * 2002-08-29 2006-05-11 Leica Mikrosysteme Gmbh Vorrichtung und Verfahren zur Durchführung von immunologischen Markierungstechniken für Gewebedünnschnitte
JP2004212359A (ja) * 2003-01-09 2004-07-29 Fuji Electric Systems Co Ltd マイクロウェルプレートの製造方法

Also Published As

Publication number Publication date
JP2006349557A (ja) 2006-12-28

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP4769026B2 (ja) 反応容器及びこれを用いた物質の検出方法
US10227644B2 (en) Apparatus and methods for parallel processing of microvolume liquid reactions
EP2952590B1 (en) Alternative nucleotide flows in sequencing-by-synthesis methods
AU2013350823B2 (en) Handling liquid samples
JP2020052050A (ja) 吸着防止剤及びその使用
US8808647B2 (en) Multi-well plate with tailored chambers
JP4769027B2 (ja) 容器
US10627420B2 (en) Systems and methods for loading liquid samples
JP6483118B2 (ja) マイクロチャンバープレート
JP4878200B2 (ja) 生化学反応カセット
US9592509B2 (en) Flow passage device and method of transporting liquid using the same
JP2009002806A (ja) 化学発光計測装置
KR20160086937A (ko) 액체 시료들을 탑재하기 위한 시스템 및 방법
US20090060786A1 (en) Microfluidic apparatus for wide area microarrays
JP2008109864A (ja) 遺伝子配列解析システム
JP5485772B2 (ja) マイクロ流路チップ及びマイクロ分析システム
JP2006349559A (ja) 反応容器及びこれを用いた物質の検出方法
US7829271B2 (en) Process for distributing drops of a liquid of interest onto a surface
WO2006098435A1 (ja) 検出チップ及びこれを用いた物質の検出方法
US8945486B2 (en) Microwell device
JP2007189960A (ja) 反応容器
JP5000861B2 (ja) 反応チップ
JP2006345807A (ja) 反応チップ
CN115243792A (zh) 流通池及其制造和使用方法
JP5009532B2 (ja) 断熱容器及び反応容器ユニット

Legal Events

Date Code Title Description
A711 Notification of change in applicant

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A711

Effective date: 20080317

RD03 Notification of appointment of power of attorney

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7423

Effective date: 20080317

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A821

Effective date: 20080317

A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20080523

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20100609

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20100629

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20100830

A02 Decision of refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02

Effective date: 20100921

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20101215

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A821

Effective date: 20101216

A911 Transfer to examiner for re-examination before appeal (zenchi)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A911

Effective date: 20110222

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20110329

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20110510

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A821

Effective date: 20110511

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20110531

A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20110617

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 4769026

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20140624

Year of fee payment: 3

S533 Written request for registration of change of name

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313533

R350 Written notification of registration of transfer

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350

S111 Request for change of ownership or part of ownership

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313117

R350 Written notification of registration of transfer

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees