JP4766943B2 - CIRCUIT ADHESIVE SHEET AND METHOD FOR MANUFACTURING THE SAME - Google Patents

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Description

本発明は、低温、短時間接続性に優れた回路接着シート及び接続構造体に関する。   The present invention relates to a circuit adhesive sheet and a connection structure excellent in low temperature and short time connectivity.

これまで、微細回路を接続するための回路接着シートに関して、接続性確保、短絡防止のために、種々の組成の検討および、回路接着シート構成の検討がなされている。
例えば、加熱によりラジカルを発生する硬化剤及びラジカル重合性物質を含む硬化剤層と導電性粒子及びラジカル重合性物質を含み加熱によりラジカルを発生する硬化剤を含まない導電粒子層とを積層する方法(特許文献1参照)、熱膨張係数を調整して接続信頼性を確保するため、無機質充填材を含む接着樹脂層と接着樹脂組成物を主成分とする接着剤層を積層する方法(特許文献2参照)、あるいは、接続時の熱ストレスを緩和して信頼性を確保するため、接着剤組成物に微小なゴム粒子を配合する方法(特許文献3参照)、接着性樹脂の伸びによる接続信頼性低下を抑制するため、弾性変形する粒子に金めっきした導電性粒子と小径のカプセル化した潜在性硬化剤を用いる方法(特許文献4参照)、導電性粒子を含む層と含まない層を積層し、隣接する回路間の短絡を防止し、接続性を確保する方法(特許文献5,6参照)、等が公知である。
Until now, regarding a circuit adhesive sheet for connecting a fine circuit, various compositions and circuit adhesive sheet configurations have been studied in order to ensure connectivity and prevent a short circuit.
For example, a method of laminating a curing agent layer containing a curing agent that generates radicals upon heating and a radical polymerizable substance and a conductive particle layer containing conductive particles and radical polymerizable substances that do not contain a curing agent that generates radicals upon heating. (Refer to Patent Document 1), a method of laminating an adhesive resin layer containing an inorganic filler and an adhesive layer mainly composed of an adhesive resin composition in order to adjust the thermal expansion coefficient to ensure connection reliability (Patent Document 1) 2), or a method of blending fine rubber particles in the adhesive composition in order to reduce thermal stress during connection and ensure reliability (see Patent Document 3), connection reliability due to elongation of adhesive resin In order to suppress the deterioration of the property, a method using a conductive particle plated with gold and a small diameter encapsulated latent curing agent (see Patent Document 4), a layer containing conductive particles and a layer not containing conductive particles The layers to prevent shorting between adjacent circuits, (see Patent Documents 5 and 6) how to ensure connectivity, etc. are known.

しかしながら、接続時の熱ストレス緩和、熱膨張係数のミスマッチ等を緩和する従来技術においては、より低温、短時間等の条件下では、充分な硬化が得られず、初期接続性、接続信頼性が満足できるものではなかった。
一方、圧着時には、接続性を確保するために接続部分から接着性樹脂を排除しなければならないため、充分な接続性確保のためには、高反応性の硬化剤を配合することには限界があった。また、一般に回路接着シートを作製する方法としては、予め溶剤等に硬化性樹脂及び硬化剤を添加して、溶剤を乾燥することによりシート化する方法が用いられるが、反応性の高い硬化剤を使用した場合は、溶剤の存在により保存性が低下してしまうため、電気的接続性の確保と接着強度、および保存性に満足のいくものではなかった。また、導電性粒子の種類、構成等による接続信頼性改良等の従来技術においても低温、短時間接続の場合は、接続信頼性確保を満足できるものではなかった。
However, in the conventional technology that alleviates thermal stress during connection, mismatch in thermal expansion coefficient, etc., sufficient curing cannot be obtained under conditions such as lower temperature and shorter time, and initial connectivity and connection reliability are reduced. It was not satisfactory.
On the other hand, at the time of crimping, the adhesive resin must be removed from the connecting portion to ensure the connectivity, so there is a limit to blending a highly reactive curing agent to ensure sufficient connectivity. there were. In general, as a method for producing a circuit adhesive sheet, a method of adding a curable resin and a curing agent to a solvent in advance and drying the solvent to form a sheet is used, but a highly reactive curing agent is used. When it was used, the storage stability was lowered due to the presence of the solvent, so that it was not satisfactory in ensuring electrical connection, adhesion strength, and storage stability. Further, even in the prior art such as improvement in connection reliability by the type and configuration of conductive particles, connection reliability cannot be ensured in the case of low temperature and short time connection.

特開平10−273630号公報Japanese Patent Laid-Open No. 10-273630 特開平10−226769号公報Japanese Patent Laid-Open No. 10-226769 特開平11−50032号公報Japanese Patent Laid-Open No. 11-50032 特許第2586154号Japanese Patent No. 2586154 特開平6−45024号公報JP-A-6-45024 特開2003−49152号公報JP 2003-49152 A

本発明は、微細回路の隣接する回路間の接着強度、電気的接続性を損なうことなく、保存性が良好で、低温、短時間で接続可能な回路接着シート、その製造方法、およびそれを用いた微細接続構造体を提供することを目的とする。   The present invention relates to a circuit adhesive sheet that has good storage stability and can be connected in a low temperature for a short time without impairing the adhesive strength and electrical connectivity between adjacent circuits of a fine circuit, its manufacturing method, and use thereof An object of the present invention is to provide a finely connected structure.

本発明者は、上記課題を解決するために鋭意研究を重ねた結果、硬化剤濃度が回路シートの膜厚方向において特定の分布状態を形成していることを特徴とする回路接着シートを用いることによって、上記課題を解決できることを見出した。
すなわち、本発明は次の通りのものである。
As a result of intensive studies to solve the above problems, the present inventor uses a circuit adhesive sheet characterized in that the curing agent concentration forms a specific distribution state in the film thickness direction of the circuit sheet. It has been found that the above problem can be solved.
That is, the present invention is as follows.

(1)少なくとも硬化剤及び硬化性の絶縁性樹脂を含む回路接着シートであって、回路接着シートの全体に亘って硬化剤が含まれており、回路接着シートの片側表面から厚み方向に沿ってシート厚の1/3倍の領域の硬化剤濃度が、それ以外の領域の硬化剤濃度の1.1〜10倍であることを特徴とする回路接着シート。
(2)硬化性の絶縁性樹脂との反応性が異なる少なくとも2種の硬化剤を含み、かつ回路接着シートの片側表面から厚み方向に沿ってシート厚の1/3倍の領域に、最も反応性の高い硬化剤を含むことを特徴とする上記(1)に記載の回路接着シート。
(3)少なくとも硬化剤の1種が固形の硬化剤であり、その平均粒径が回路接着シートのシート厚の1/50倍以上1/3倍以下であることを特徴とする上記(1)又は(2)に記載の回路接着シート。
(4)回路接着シートの平均膜厚の1/10〜1倍の平均粒径の導電性粒子を配合してなる上記(1)〜(3)に記載の回路接着シート。
(1) A circuit adhesive sheet containing at least a curing agent and a curable insulating resin , the curing agent is included over the entire circuit adhesive sheet, and along the thickness direction from one surface of the circuit adhesive sheet. A circuit adhesive sheet, wherein the concentration of the curing agent in a region of 1/3 times the thickness of the sheet is 1.1 to 10 times the concentration of the curing agent in other regions.
(2) It contains at least two kinds of curing agents having different reactivity with the curable insulating resin, and reacts most in the region of 1/3 times the sheet thickness along the thickness direction from one surface of the circuit adhesive sheet. The circuit adhesive sheet according to (1) above, which contains a highly curing agent.
(3) The above (1), wherein at least one of the curing agents is a solid curing agent, and an average particle diameter thereof is 1/50 to 1/3 times the sheet thickness of the circuit adhesive sheet. Or the circuit adhesive sheet as described in (2).
(4) The circuit adhesive sheet according to the above (1) to (3), wherein conductive particles having an average particle diameter 1/10 to 1 times the average film thickness of the circuit adhesive sheet are blended.

(5)少なくとも硬化剤と硬化性の絶縁性樹脂とを含む接着シートに、平滑な板上に分散した状態で存在する固形の硬化剤を転写することにより回路接着シートを得ることを特徴とする上記(1)〜(4)に記載の回路接着シートの製造方法。
(6)2軸延伸可能なフィルム上に粘着層を設けて積層体を形成し、該積層体の上に固形の硬化剤を付着させて固形硬化剤付着フィルムを作製し、該固形硬化剤付着フィルムを50%から1000%の範囲内で2軸延伸して保持し、少なくとも硬化剤と硬化性の絶縁性樹脂とを含んでなる接着シートに該固形硬化剤を転写することによって硬化剤濃度の高い領域を有する回路接着シートを作製する工程を含むことを特徴とする上記(1)〜(4)に記載の回路接着シートの製造方法。
(7)上記(1)〜(4)に記載の回路接着シートの硬化剤濃度の高い面を回路基板側に接触させて電子回路部品と回路基板とを接続することを特徴とする微細接続構造体の接続方法。
(8)上記(7)に記載の微細接続構造体の接続方法により接続された電子回路部品と回路基板とを含むことを特徴とする微細接続構造体。
(5) A circuit adhesive sheet is obtained by transferring a solid curing agent present in a dispersed state on a smooth plate to an adhesive sheet containing at least a curing agent and a curable insulating resin. The manufacturing method of the circuit adhesive sheet as described in said (1)-(4).
(6) An adhesive layer is provided on a biaxially stretchable film to form a laminate, and a solid curing agent is adhered onto the laminate to produce a solid curing agent-attached film, and the solid curing agent is adhered. The film is biaxially stretched and held within a range of 50% to 1000%, and the solid curing agent is transferred to an adhesive sheet comprising at least a curing agent and a curable insulating resin. The method for producing a circuit adhesive sheet according to any one of (1) to (4) above, comprising a step of producing a circuit adhesive sheet having a high region.
(7) A micro-connection structure characterized in that an electronic circuit component and a circuit board are connected by bringing a surface having a high curing agent concentration of the circuit adhesive sheet according to any one of (1) to (4) into contact with the circuit board side. How to connect the body.
(8) A fine connection structure comprising an electronic circuit component and a circuit board connected by the connection method of the fine connection structure according to (7).

本発明の回路接着シートは、保存性が良好で、低温、短時間で圧着した時の良好な接続性を確保することが出来る。また、本発明の回路接着シートを用いて得られた微細接続構造体は、隣接する接続端子間の良好な絶縁特性を有し、かつ接続した接続端子間の良好な電気的接続性を有する。   The circuit adhesive sheet of the present invention has good storage stability and can ensure good connectivity when it is pressure-bonded at a low temperature for a short time. Moreover, the fine connection structure obtained by using the circuit adhesive sheet of the present invention has good insulating properties between adjacent connection terminals and good electrical connectivity between the connected connection terminals.

以下、本発明について具体的に説明する。
本発明の回路接着シートに用いる硬化性の絶縁性樹脂としては、熱硬化性樹脂、光硬化性樹脂、光及び熱硬化性樹脂、電子線硬化性樹脂等を用いることができる。取り扱いの容易さから、熱硬化性の絶縁性樹脂を用いることが好ましい。熱硬化性樹脂としては、エポキシ樹脂、アクリル樹脂等を用いることができるが、エポキシ樹脂が特に好ましい。
Hereinafter, the present invention will be specifically described.
As the curable insulating resin used for the circuit adhesive sheet of the present invention, thermosetting resin, photocurable resin, light and thermosetting resin, electron beam curable resin, and the like can be used. In view of ease of handling, it is preferable to use a thermosetting insulating resin. As the thermosetting resin, an epoxy resin, an acrylic resin, or the like can be used, and an epoxy resin is particularly preferable.

エポキシ樹脂は、1分子中に2個以上のエポキシ基を有する化合物であり、グリシジルエーテル基、グリシジルエステル基、脂環式エポキシ基を有する化合物、分子内の二重結合をエポキシ化した化合物が好ましい。具体的には、ビスフェノールA型エポキシ樹脂、ビスフェノールF型エポキシ樹脂、ナフタレン型エポキシ樹脂、ノボラックフェノール型エポキシ樹脂あるいは、それらの変性エポキシ樹脂を用いることができる。   The epoxy resin is a compound having two or more epoxy groups in one molecule, and is preferably a compound having a glycidyl ether group, a glycidyl ester group or an alicyclic epoxy group, or a compound obtained by epoxidizing a double bond in the molecule. . Specifically, bisphenol A type epoxy resin, bisphenol F type epoxy resin, naphthalene type epoxy resin, novolac phenol type epoxy resin, or modified epoxy resins thereof can be used.

本発明の回路接着シートに用いる硬化剤としては、前記硬化性の絶縁性樹脂を硬化できるものであればよい。硬化性の絶縁性樹脂として熱硬化性樹脂を用いる場合は、100℃以上で熱硬化性樹脂と反応する硬化剤が好ましい。エポキシ樹脂を硬化性樹脂として用いる場合は、硬化剤は、保存性の点から潜在性硬化剤であることが好ましく、例えば、イミダゾール系硬化剤、カプセル型イミダゾール系硬化剤、カチオン系硬化剤、ラジカル系硬化剤、ルイス酸系硬化剤、アミンイミド系硬化剤、ポリアミン塩系硬化剤、ヒドラジド系硬化剤等を用いることができる。保存性、低温反応性の点から、カプセル型のイミダゾール系硬化剤が好ましい。また、高反応性の硬化剤を樹脂あるいはセラミックスからなるマイクロカプセル等に封入し、熱可塑性樹脂、ワックス等でコーティングしたマイクロカプセル型硬化剤を用いることも好適である。   Any curing agent can be used for the circuit adhesive sheet of the present invention as long as it can cure the curable insulating resin. When a thermosetting resin is used as the curable insulating resin, a curing agent that reacts with the thermosetting resin at 100 ° C. or higher is preferable. When an epoxy resin is used as the curable resin, the curing agent is preferably a latent curing agent from the viewpoint of storage stability. For example, an imidazole curing agent, a capsule-type imidazole curing agent, a cationic curing agent, a radical A system curing agent, a Lewis acid curing agent, an amine imide curing agent, a polyamine salt curing agent, a hydrazide curing agent, and the like can be used. From the viewpoint of storage stability and low-temperature reactivity, capsule-type imidazole curing agents are preferred. It is also preferable to use a microcapsule type curing agent in which a highly reactive curing agent is encapsulated in a microcapsule or the like made of resin or ceramics and coated with a thermoplastic resin or wax.

本発明においては、回路接着シートの全体に亘って硬化剤が含まれており、硬化剤の濃度が、回路接着シートの片側表面から厚み方向に沿ってシート厚の1/3倍の領域にそれ以外の領域の硬化剤濃度の1.1〜10倍であることを特徴としている。
本発明の回路接着シートにおいては、膜厚方向の硬化剤濃度に分布があり、圧着時に接続面の絶縁性樹脂を効果的に排除することができ、硬化剤を均一配合する構造に比較してより少量の硬化剤で効果的に接続性を付与することが可能である。
In the present invention, the entire circuit adhesive sheet contains a curing agent, and the concentration of the curing agent is in the region of 1/3 times the sheet thickness along the thickness direction from one surface of the circuit adhesive sheet. It is characterized by being 1.1 to 10 times the concentration of the curing agent in the other region.
In the circuit adhesive sheet of the present invention, there is a distribution in the curing agent concentration in the film thickness direction, and the insulating resin on the connection surface can be effectively eliminated at the time of crimping, compared with a structure in which the curing agent is uniformly blended. It is possible to effectively impart connectivity with a smaller amount of curing agent.

本発明に用いる硬化剤としては、一種類の硬化剤を用いて濃度に分布を持たせても良いが、本発明に用いる硬化性樹脂に対して反応性の異なる2種以上の硬化剤を用いることが好ましく、かつ回路接着シートの片側表面から厚み方向に沿って平均膜厚の1/3倍以内の領域に最も反応性の高い硬化剤を含むことが好ましい。   The curing agent used in the present invention may have a concentration distribution using one kind of curing agent, but two or more curing agents having different reactivity with respect to the curable resin used in the present invention are used. It is preferable that the most reactive curing agent is contained in a region within 1/3 times the average film thickness along the thickness direction from one surface of the circuit adhesive sheet.

本発明に用いる硬化剤の少なくとも1種以上が固形の硬化剤であることが好ましい。
固形硬化剤としては、例えば、アミンアダクト系硬化剤(イミダゾール化合物とエポキシ樹脂との反応物)、ヒドラジド系硬化剤、ジシアンジアミド系硬化剤、および、それらを2種以上組み合わせた複合系硬化剤等である。また、保存性の観点から、固形硬化剤を熱可塑性樹脂、ワックス等でコーティングすることが好ましい。
It is preferable that at least one of the curing agents used in the present invention is a solid curing agent.
Examples of the solid curing agent include an amine adduct curing agent (reaction product of an imidazole compound and an epoxy resin), a hydrazide curing agent, a dicyandiamide curing agent, and a composite curing agent in which two or more thereof are combined. is there. From the viewpoint of storage stability, it is preferable to coat the solid curing agent with a thermoplastic resin, wax or the like.

また、固形硬化剤は、その平均粒径が本発明の回路接着シートの平均膜厚の1/50以上1/3倍以下であることが好ましく、1/20倍以上1/10倍以下であることが更に好ましい。硬化性の点から1/50倍以上が好ましく、接続性の点から1/3倍以下であることが好ましい。
硬化剤の平均粒径は、気流分散型のレーザー式粒度分布計(JOEL社製、HELOS)で測定できる。
The solid curing agent preferably has an average particle size of 1/50 or more and 1/3 or less of the average film thickness of the circuit adhesive sheet of the present invention, and is 1/20 or more and 1/10 or less. More preferably. From the viewpoint of curability, it is preferably 1/50 or more, and from the viewpoint of connectivity, it is preferably 1/3 or less.
The average particle diameter of the curing agent can be measured with an airflow dispersion type laser particle size distribution meter (manufactured by JOEL, HELOS).

本発明において、硬化性樹脂に対して硬化剤の反応性が高いとは、硬化剤と硬化性樹脂との反応開始温度が低い、あるいは、反応速度が速いということを意味している。反応開始温度に関しては、反応性の異なる2種の硬化剤を比較した場合に、反応性が高い硬化剤が、反応性の低い硬化剤より、10℃以上低いことが好ましく、20℃以上低いことが更に好ましい。反応開始温度に関しては、本発明に用いる硬化性樹脂と硬化剤を平均配合量で混合し、DSC等で測定することができる。   In the present invention, the high reactivity of the curing agent with respect to the curable resin means that the reaction start temperature between the curing agent and the curable resin is low or the reaction rate is high. Regarding the reaction start temperature, when two kinds of curing agents having different reactivities are compared, the curing agent having high reactivity is preferably 10 ° C. or more lower than the curing agent having low reactivity, and is 20 ° C. or more lower. Is more preferable. The reaction start temperature can be measured by DSC or the like after mixing the curable resin and the curing agent used in the present invention in an average blending amount.

反応速度に関しては、温度を変えた条件で反応率を測定し、アレニウスプロット等の方法を用いて測定することができる。反応速度に関しては、10%以上速いことが好ましく、20%以上速いことが更に好ましい。たとえば、保存性を高めるためのカプセル化を施していない硬化剤は、カプセル化しているものよりも反応性が高い。   The reaction rate can be measured using a method such as Arrhenius plot after measuring the reaction rate under conditions where the temperature is changed. The reaction rate is preferably 10% or more, more preferably 20% or more. For example, a curing agent that has not been encapsulated to enhance storage stability is more reactive than that encapsulated.

また、通常の製法では、硬化剤を予め、絶縁性接着剤溶液中に配合する方式をとる場合が多いが、その場合は、溶剤の影響を無視できず、絶縁性接着剤溶液中での硬化剤と硬化性樹脂との反応等の懸念から使用可能な潜在性付与方法に制限があった。また、溶剤乾燥時の加熱による硬化剤と硬化性樹脂との反応の懸念から硬化剤の種類に制限があった。本発明の回路接着シートの製造方法では、既に溶剤を含まない状態の絶縁性接着シートへ、乾式で硬化剤を転写する方法も可能である。従って、溶剤に対する使用可能な潜在性付与の材料、構成の制限も少なく、その効果を発揮することができる。   In addition, the usual manufacturing method often employs a method in which a curing agent is blended in an insulating adhesive solution in advance, but in this case, the influence of the solvent cannot be ignored, and curing in the insulating adhesive solution is performed. Because of concerns such as the reaction between the agent and the curable resin, there is a limit to the potential imparting method that can be used. In addition, there is a limitation on the type of curing agent due to the concern about the reaction between the curing agent and the curable resin due to heating during solvent drying. In the method for producing a circuit adhesive sheet of the present invention, a method of transferring a curing agent in a dry manner to an insulating adhesive sheet that already contains no solvent is also possible. Therefore, there are few restrictions on the potential imparting material and the configuration which can be used for the solvent, and the effect can be exhibited.

次いで本発明の回路接着シートについて説明する。
回路接着シートの厚みは2μm以上40μm以下であることが好ましく、5μm以上30μm以下であることがより好ましい。機械的接続強度の観点から2μm以上が好ましく、接続時の絶縁性樹脂の流動による絶縁性樹脂の流れ出し量が過剰となることを防止する観点から40μm以下であることが好ましい。
Next, the circuit adhesive sheet of the present invention will be described.
The thickness of the circuit adhesive sheet is preferably 2 μm or more and 40 μm or less, and more preferably 5 μm or more and 30 μm or less. 2 μm or more is preferable from the viewpoint of mechanical connection strength, and 40 μm or less is preferable from the viewpoint of preventing an excessive amount of the insulating resin flowing out due to the flow of the insulating resin during connection.

本発明の回路接着シートにおいて、該回路接着シートの厚み方向に対して、硬化剤粒子の存在している位置は、焦点方向の変位を測定できるレーザー顕微鏡により測定することができる。またこのとき同時に、硬化剤粒子の個数を測定することもできる。前記レーザー顕微鏡を用いて焦点方向の変位を測定する場合、その変位測定分解能は0.1μm以下であることが好ましく、0.01μm以下であることが特に好ましい。
本発明の回路接着シートに導電性粒子を配合する場合、導電性粒子の平均粒径は回路接着シートのシート厚の1/10〜1倍が好ましい。
In the circuit adhesive sheet of the present invention, the position where the curing agent particles are present with respect to the thickness direction of the circuit adhesive sheet can be measured by a laser microscope capable of measuring the displacement in the focal direction. At the same time, the number of curing agent particles can be measured. When the displacement in the focal direction is measured using the laser microscope, the displacement measurement resolution is preferably 0.1 μm or less, and particularly preferably 0.01 μm or less.
When mix | blending electroconductive particle with the circuit adhesive sheet of this invention, the average particle diameter of electroconductive particle has preferable 1/10 to 1 time of the sheet | seat thickness of a circuit adhesive sheet.

次に、回路接着シートの製造方法について説明する。
本発明の回路接着シートの製造方法としては、平滑な板上に硬化剤を散布して分散させ、この分散させた硬化剤を少なくとも硬化性樹脂を含む接着シートに転写する方法を用いることができる。
硬化剤粒子を散布する方法としては、硬化剤粒子を除電処理して散布することが好ましい。除電処理の方法は、例えば、散布装置の粒子吹き出し口にアースをとることによって行われる。このとき用いる平滑な板としては、ガラス板、テフロン(登録商標)板、金属板等を用いることができる。
Next, the manufacturing method of a circuit adhesive sheet is demonstrated.
As a method for producing the circuit adhesive sheet of the present invention, a method of dispersing and dispersing a curing agent on a smooth plate and transferring the dispersed curing agent to an adhesive sheet containing at least a curable resin can be used. .
As a method of spraying the curing agent particles, it is preferable to disperse the curing agent particles after removing the charge. For example, the static elimination treatment is performed by grounding the particle outlet of the spraying device. As the smooth plate used at this time, a glass plate, a Teflon (registered trademark) plate, a metal plate, or the like can be used.

硬化剤粒子の移動、凝集を防止するため、平滑な板上に粘着層を形成することが好ましく、接着シートへの硬化剤粒子の転写を容易にするため、弱粘着性の粘着層を設けることが好ましい。粘着剤としては、天然ゴム系、合成ゴム系、シリコーン系の粘着剤を用いることができる。粘着層の厚みは、1μmから10μmの範囲が好ましく、2μmから5μmの範囲がより好ましい。粘着層の厚みが薄すぎる場合は、粘着効果が不足し、厚すぎる場合は、転写が不充分となる。連続処理する場合は、粘着層を形成したフィルムを用いて、平滑な板上で転写することが好ましい。
本発明の回路接着シートは、回路接着シートの片側表面から一部の硬化剤粒子の一部分が露出していても差し支えない。
In order to prevent the migration and aggregation of the curing agent particles, it is preferable to form an adhesive layer on a smooth plate, and in order to facilitate the transfer of the curing agent particles to the adhesive sheet, a weak adhesive layer is provided. Is preferred. As the pressure-sensitive adhesive, a natural rubber-based, synthetic rubber-based, or silicone-based pressure-sensitive adhesive can be used. The thickness of the adhesive layer is preferably in the range of 1 μm to 10 μm, and more preferably in the range of 2 μm to 5 μm. When the thickness of the adhesive layer is too thin, the adhesive effect is insufficient, and when it is too thick, the transfer is insufficient. In the case of continuous processing, it is preferable to transfer on a smooth plate using a film on which an adhesive layer is formed.
In the circuit adhesive sheet of the present invention, a part of some curing agent particles may be exposed from one surface of the circuit adhesive sheet.

本発明の回路接着シートのより好ましい製造方法としては、2軸延伸可能なフィルム又はシート上に、粘着層を形成し、その上に硬化剤粒子を単層配列し、それらを延伸することにより、該硬化剤粒子を分散配列させ、延伸した状態を保った状態で、少なくとも硬化剤及び硬化性の絶縁性樹脂からなる接着シートに転写させる方法がある。   As a more preferable production method of the circuit adhesive sheet of the present invention, an adhesive layer is formed on a biaxially stretchable film or sheet, a single layer of curing agent particles is arranged thereon, and they are stretched. There is a method in which the curing agent particles are dispersed and arranged and transferred to an adhesive sheet made of at least a curing agent and a curable insulating resin in a stretched state.

2軸延伸可能なフィルムまたはシートとしては、公知の樹脂フィルム等を用いることができるが、ポリエチレン樹脂、ポリプロピレン樹脂、ポリエステル樹脂、ポリビニルブチラール樹脂、ポリビニルアルコール樹脂、ポリ塩化ビニリデン樹脂等の単独あるいは共重合体等、又は、ニトリルゴム、ブタジエンゴム、シリコーンゴム等のゴムシート等の柔軟で延伸可能な樹脂フィルムを用いることが好ましい。ポリプロピレン樹脂、ポリエステル樹脂が特に好ましい。延伸後の収縮率は10%以下になることが好ましい。   As the biaxially stretchable film or sheet, a known resin film or the like can be used, but a polyethylene resin, a polypropylene resin, a polyester resin, a polyvinyl butyral resin, a polyvinyl alcohol resin, a polyvinylidene chloride resin or the like can be used alone or in combination. It is preferable to use a flexible and stretchable resin film such as a coalescence or a rubber sheet such as nitrile rubber, butadiene rubber, or silicone rubber. Polypropylene resin and polyester resin are particularly preferable. The shrinkage after stretching is preferably 10% or less.

2軸延伸可能なフィルムまたはシート上に硬化剤粒子を単層配列し、固定する方法としては、公知の方法を用いることができる。例えば、少なくとも熱可塑性樹脂を含む粘着層を該2軸延伸可能なフィルム上に形成し、その上に硬化剤粒子を接触させて付着させ、ゴムロール等で荷重をかけて単層に配置する方法を採ることができる。この場合、隙間無く充填するためには、付着−ロール操作を数回繰り返す方法が好ましい。球状の硬化剤粒子の場合、最密充填が最も安定した構造なので比較的容易に充填することができる。あるいは、該2軸延伸可能なフィルム上に粘着剤を塗布して接着層を形成し、その上に硬化剤粒子を付着させ、必要なら数回付着を繰り返し、単層で分散配置する方法等を用いることができる。   As a method for arranging and fixing the curing agent particles in a single layer on a biaxially stretchable film or sheet, a known method can be used. For example, a method in which an adhesive layer containing at least a thermoplastic resin is formed on the biaxially stretchable film, and hardener particles are brought into contact with the adhesive layer, and a single layer is applied by applying a load with a rubber roll or the like. Can be taken. In this case, a method of repeating the adhesion-roll operation several times is preferable for filling without gaps. In the case of spherical hardener particles, the closest packing is the most stable structure, so that it can be filled relatively easily. Alternatively, an adhesive is formed on the biaxially stretchable film to form an adhesive layer, and the curing agent particles are adhered on the adhesive layer. If necessary, the adhesion may be repeated several times, and dispersed in a single layer. Can be used.

粘着層の厚みは、使用する硬化剤粒子の平均粒径の1/50から3倍の範囲が好ましく、1/10から2倍の範囲がより好ましい。硬化剤粒子付着時及び延伸時に硬化剤粒子を保持する観点から、粘着層の厚みは該硬化剤粒子の平均粒径の1/50以上が好ましく、延伸後の接着シートへの粒子転写の観点から3倍以下が好ましい。粘着層形成方法としては、粘着剤を溶剤又は水に分散又は溶解したものを、グラビアコーター、ダイコーター、ナイフコーター、バーコーター等の公知の方法で塗布し、乾燥する方法を用いることができる。ホットメルトタイプの粘着剤を使用する場合は、無溶剤でロールコートすることができる。   The thickness of the adhesive layer is preferably in the range of 1/50 to 3 times the average particle size of the curing agent particles used, and more preferably in the range of 1/10 to 2 times. From the viewpoint of holding the curing agent particles during adhesion of the curing agent particles and during stretching, the thickness of the adhesive layer is preferably 1/50 or more of the average particle diameter of the curing agent particles, from the viewpoint of particle transfer to the adhesive sheet after stretching. 3 times or less is preferable. As a method for forming the adhesive layer, a method in which a pressure-sensitive adhesive dispersed or dissolved in a solvent or water is applied by a known method such as a gravure coater, a die coater, a knife coater, or a bar coater and dried. When a hot-melt type pressure-sensitive adhesive is used, it can be roll-coated without a solvent.

粘着層に使用する粘着剤は、公知のものを使用することができるが、加熱しながら2軸延伸する場合は、非熱架橋性の粘着剤を用いることが好ましい。具体的には、天然ゴムラテックス系粘着剤、合成ゴムラテックス系粘着剤、合成樹脂エマルジョン系粘着剤、シリコーン系粘着剤、エチレン−酢酸ビニル共重合体粘着剤等を単独で、又は組み合わせて用いることができる。   As the pressure-sensitive adhesive used for the pressure-sensitive adhesive layer, a known one can be used, but when biaxial stretching is performed while heating, it is preferable to use a non-thermal crosslinkable pressure-sensitive adhesive. Specifically, natural rubber latex adhesives, synthetic rubber latex adhesives, synthetic resin emulsion adhesives, silicone adhesives, ethylene-vinyl acetate copolymer adhesives, etc. may be used alone or in combination. Can do.

該硬化剤粒子を粘着層に付着させるにあたっては、ほぼ隙間無く単層に配置すること(密集充填)が好ましい。密集充填する方法としては、前述の、2軸延伸可能なフィルム上に硬化剤粒子を分散配列し、固定する方法を用いることができる。なお、密集充填とは、充填された硬化剤粒子間の平均粒子間隔が、平均粒径の1/2以下であるように充填することをいうものとする。より好ましくは、充填された粒子間の平均粒子間隔が、平均粒径の1/5以下である。   In adhering the curing agent particles to the adhesive layer, it is preferable to dispose the curing agent particles in a single layer with almost no gap (dense filling). As the method of dense packing, the above-described method of dispersing and arranging the curing agent particles on the biaxially stretchable film can be used. In addition, close packing shall mean filling so that the average particle | grain space | interval between the filled hardening | curing agent particles may be 1/2 or less of an average particle diameter. More preferably, the average particle interval between the filled particles is 1/5 or less of the average particle size.

硬化剤粒子を単層配列させた2軸延伸可能なフィルムを延伸させる方法としては、公知の方法を用いることができるが、均一分散配列という点から、2軸延伸装置を用いることが好ましい。粒子間隔の点から延伸度合いは、50%以上、1000%以下であることが好ましく、50%以上、300%以下であることがより好ましい。なお、100%延伸するとは、延伸方向に沿って延伸した部分の長さが延伸前の長さの100%であることを言う。延伸方向は、任意であるが、延伸角度が90°の2軸延伸が好ましく、同時延伸が好ましい。2軸延伸の場合、各方向の延伸度合いは同じであっても異なっていても構わない。   As a method of stretching a biaxially stretchable film in which hardener particles are arranged in a single layer, a known method can be used, but a biaxial stretching device is preferably used from the viewpoint of uniform dispersion alignment. From the viewpoint of particle spacing, the degree of stretching is preferably 50% or more and 1000% or less, and more preferably 50% or more and 300% or less. In addition, 100% stretching means that the length of the portion stretched along the stretching direction is 100% of the length before stretching. The stretching direction is arbitrary, but biaxial stretching with a stretching angle of 90 ° is preferable, and simultaneous stretching is preferable. In the case of biaxial stretching, the degree of stretching in each direction may be the same or different.

2軸延伸後のフィルムの膜厚は、転写する接着性シート及び接着性シートのベースフィルムの膜厚を合計した厚みの1/10から1倍であることが好ましく、1/5から1/2であることが特に好ましい。延伸後のフィルムのハンドリング性の観点から、1/10以上であることが好ましく、延伸後の接着性シートへの硬化剤粒子転写の観点から1倍以下であることが好ましい。   The film thickness of the biaxially stretched film is preferably 1/10 to 1 times the total thickness of the adhesive sheet to be transferred and the base film of the adhesive sheet, and 1/5 to 1/2. It is particularly preferred that From the viewpoint of handling properties of the stretched film, it is preferably 1/10 or more, and from the viewpoint of transfer of the curing agent particles to the stretched adhesive sheet, it is preferably 1 time or less.

2軸延伸装置としては、同時2軸連続延伸装置が好ましい。
同時2軸連続延伸装置としては、公知のものを使用することができるが、長辺側をチャック金具で固定し、それらの間隔を縦横同時に延伸することにより連続延伸するテンター型延伸機が好ましい。延伸度を調整する方式としては、スクリュー方式、パンタグラフ方式を用いることが可能だが、調整の精度の観点から、パンタグラフ方式がより好ましい。加熱しながら延伸する場合は、延伸部分の手前に予熱ゾーンを設けて、延伸部分の後方に熱固定ゾーンを設けることが好ましい。好ましくは、2軸延伸可能なフィルムは長尺のフィルムであり、接着シートも長尺の接着シートである。本願明細書において長尺とは長さが10m以上であることを指す。長尺の接着シートを用いれば連続して接続構造体を生産することができ効率がよい。
As the biaxial stretching apparatus, a simultaneous biaxial continuous stretching apparatus is preferable.
As the simultaneous biaxial continuous stretching apparatus, a known one can be used, but a tenter type stretching machine that continuously stretches by fixing the long side with a chuck fitting and simultaneously stretching the distance in the vertical and horizontal directions is preferable. As a method for adjusting the degree of stretching, a screw method or a pantograph method can be used, but a pantograph method is more preferable from the viewpoint of accuracy of adjustment. When stretching while heating, it is preferable to provide a preheating zone before the stretched portion and a heat setting zone behind the stretched portion. Preferably, the biaxially stretchable film is a long film, and the adhesive sheet is also a long adhesive sheet. In the present specification, the term “long” means that the length is 10 m or more. If a long adhesive sheet is used, a connection structure can be produced continuously, which is efficient.

接着シートは硬化剤及び硬化性の絶縁性樹脂を含んでなる接着層であり、この接着シートは通常は剥離可能なベースフィルム(保持フィルム)上に形成される。このため、得られる回路接着シートは、通常は剥離可能なベースフィルム上に形成される。本願明細書では、この回路接着シートとベースフィルムとの積層体を回路接着シートと言うことがある。
本発明の回路接着シートは、少なくとも硬化剤及び硬化性の絶縁性樹脂からなる単層のシートであってもよいし、さらに該シートに導電性粒子を含まず少なくとも絶縁性樹脂を含む樹脂シートを積層した複層のシートであっても構わない。
The adhesive sheet is an adhesive layer comprising a curing agent and a curable insulating resin, and this adhesive sheet is usually formed on a peelable base film (holding film). For this reason, the circuit adhesive sheet obtained is normally formed on a peelable base film. In the present specification, the laminate of the circuit adhesive sheet and the base film may be referred to as a circuit adhesive sheet.
The circuit adhesive sheet of the present invention may be a single-layer sheet comprising at least a curing agent and a curable insulating resin, and further includes a resin sheet that does not include conductive particles and includes at least an insulating resin. It may be a multilayered sheet.

本発明の回路接着シートには、硬化剤及び硬化性の絶縁性樹脂以外に、熱可塑性樹脂等を配合しても構わない。熱可塑性樹脂を配合することにより、容易にシート状に形成することが出来る。この場合の配合量は、硬化剤及び硬化性の絶縁性樹脂を合わせた成分100質量部に対して200質量部以下であることが好ましく、100質量部以下であることが特に好ましい。   The circuit adhesive sheet of the present invention may contain a thermoplastic resin or the like in addition to the curing agent and the curable insulating resin. By blending a thermoplastic resin, it can be easily formed into a sheet. In this case, the blending amount is preferably 200 parts by mass or less, particularly preferably 100 parts by mass or less, based on 100 parts by mass of the components including the curing agent and the curable insulating resin.

本発明の硬化性の絶縁性樹脂に配合できる熱可塑性樹脂は、フェノキシ樹脂、ポリビニルアセタール樹脂、ポリビニルブチラール樹脂、アルキル化セルロース樹脂、ポリエステル樹脂、アクリル樹脂、スチレン樹脂、ウレタン樹脂、ポリエチレンテレフタレート樹脂等であり、それらから選ばれる1種を用いても良いし、2種以上の樹脂を組み合わせて用いても差し支えない。これらの樹脂の中、水酸基、カルボキシル基等の極性基を有する樹脂は、接着強度の点から好ましい。また、熱可塑性樹脂は、ガラス転移温度が80℃以上である熱可塑性樹脂を1種以上含むことが好ましい。   Thermoplastic resins that can be blended with the curable insulating resin of the present invention include phenoxy resin, polyvinyl acetal resin, polyvinyl butyral resin, alkylated cellulose resin, polyester resin, acrylic resin, styrene resin, urethane resin, polyethylene terephthalate resin, etc. Yes, one kind selected from them may be used, or two or more kinds of resins may be used in combination. Among these resins, a resin having a polar group such as a hydroxyl group or a carboxyl group is preferable from the viewpoint of adhesive strength. Moreover, it is preferable that a thermoplastic resin contains 1 or more types of thermoplastic resins whose glass transition temperature is 80 degreeC or more.

本発明の回路接着シートには、導電性粒子を配合することができる。
本発明の回路接着シートに配合する導電性粒子の平均粒径は、回路接着シートの膜厚の1/10倍から1倍の範囲であることが好ましい。
本発明において導電性粒子の平均粒径は、導電性粒子の平均直径を意味する。
Conductive particles can be blended in the circuit adhesive sheet of the present invention.
The average particle diameter of the conductive particles blended in the circuit adhesive sheet of the present invention is preferably in the range of 1/10 to 1 times the film thickness of the circuit adhesive sheet.
In the present invention, the average particle diameter of the conductive particles means the average diameter of the conductive particles.

回路接着シートにおける導電性粒子の配合量としては、硬化剤及び硬化性の絶縁性樹脂を合わせた成分100質量部に対して、0.5質量部から20質量部であることが好ましく、1質量部から10質量部であることが特に好ましい。絶縁性の観点から20質量部以下が好ましく、電気的接続性の観点から0.5質量部以上が好ましい。   The blending amount of the conductive particles in the circuit adhesive sheet is preferably 0.5 parts by mass to 20 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the components including the curing agent and the curable insulating resin. It is particularly preferable that the amount is 10 parts by mass. 20 parts by mass or less is preferable from the viewpoint of insulation, and 0.5 parts by mass or more is preferable from the viewpoint of electrical connectivity.

導電性粒子としては、貴金属被覆された樹脂粒子、貴金属被覆された金属粒子、金属粒子、貴金属被覆された合金粒子及び合金粒子の中から選ばれた1種以上を用いることが好ましい。
貴金属被覆された樹脂粒子としては、ポリスチレン、ベンゾグアナミン、ポリメチルメタアクリレート等の球状粒子にニッケル、および金をこの順に被覆したものを用いることが好ましい。
As the conductive particles, it is preferable to use at least one selected from resin particles coated with noble metal, metal particles coated with noble metal, metal particles, alloy particles coated with noble metal, and alloy particles.
As the resin particles coated with the noble metal, it is preferable to use those obtained by coating spherical particles such as polystyrene, benzoguanamine, and polymethyl methacrylate with nickel and gold in this order.

接続する微細接続端子(バンプ)硬度に応じて、より柔軟な樹脂粒子を用いて貴金属被覆された樹脂粒子を形成することができる。
接続するバンプ硬度がビッカース硬度で50Hv未満である場合は、ポリメタアクリレート樹脂等の柔軟な樹脂粒子を用いることが好ましい。また、バンプ硬度が50Hv以上である場合は、ベンゾグアナミン樹脂等の硬質樹脂粒子を用いることが好ましい。
Resin particles coated with a noble metal can be formed using softer resin particles according to the hardness of the fine connection terminal (bump) to be connected.
When the bump hardness to be connected is less than 50 Hv in terms of Vickers hardness, it is preferable to use flexible resin particles such as polymethacrylate resin. Moreover, when bump hardness is 50 Hv or more, it is preferable to use hard resin particles, such as a benzoguanamine resin.

貴金属被覆された金属粒子としては、ニッケル、銅等の金属粒子に金、パラジウム、ロジウム等の貴金属を最外層に被覆したものを用いることが好ましい。被覆する方法としては、蒸着法、スパッタリング法等の薄膜形成法、乾式ブレンド法によるコーティング法、無電解めっき法、電解めっき法等の湿式法を用いることができる。量産性の点から、無電解めっき法が好ましい。   As the metal particles coated with the noble metal, it is preferable to use a metal particle such as nickel or copper coated with a noble metal such as gold, palladium or rhodium on the outermost layer. As a coating method, a thin film forming method such as a vapor deposition method or a sputtering method, a coating method using a dry blend method, a wet method such as an electroless plating method or an electrolytic plating method can be used. From the viewpoint of mass productivity, the electroless plating method is preferable.

金属粒子としては、銀、銅、ニッケル等の金属から選ばれるものを用いることが好ましい。合金粒子としては、融点が150℃以上500℃以下のものが好ましく、さらには150℃以上350℃以下の低融点合金粒子を用いることがより好ましい。融点が500℃以下であると、接続端子間に金属結合を形成することも可能であり、接続信頼性の点から好ましい。また、耐熱接続信頼性の観点から、融点が150℃以上であることが好ましい。
貴金属被覆された合金粒子としては、例えば、金、銀、銅、ニッケル、錫、亜鉛、ビスマス、インジウム等から選ばれた2種以上からなる合金粒子に上記方法等を用いて貴金属被覆したものを用いることができる。
As the metal particles, those selected from metals such as silver, copper and nickel are preferably used. The alloy particles preferably have a melting point of 150 ° C. or more and 500 ° C. or less, and more preferably low melting point alloy particles having a melting point of 150 ° C. or more and 350 ° C. or less. When the melting point is 500 ° C. or less, a metal bond can be formed between the connection terminals, which is preferable from the viewpoint of connection reliability. Moreover, it is preferable that melting | fusing point is 150 degreeC or more from a viewpoint of heat-resistant connection reliability.
As the alloy particles coated with the noble metal, for example, alloy particles composed of two or more kinds selected from gold, silver, copper, nickel, tin, zinc, bismuth, indium, etc. are coated with the noble metal using the above method or the like. Can be used.

合金粒子としては、例えば、金、銀、銅、ニッケル、錫、亜鉛、ビスマス、インジウム等から選ばれた2種以上からなる合金粒子が好ましい。融点が150℃以上500℃以下の合金粒子を用いる場合は、予め粒子表面にフラックス等を被覆しておくことが好ましい。いわゆるフラックスを用いることにより、表面の酸化物等を取り除くことができ好ましい。フラックスとしては、アビエチン酸等の脂肪酸等を用いることができる。   As the alloy particles, for example, alloy particles composed of two or more selected from gold, silver, copper, nickel, tin, zinc, bismuth, indium and the like are preferable. When alloy particles having a melting point of 150 ° C. or higher and 500 ° C. or lower are used, it is preferable to coat the particle surface with a flux or the like in advance. It is preferable to use a so-called flux because the surface oxides can be removed. As the flux, fatty acids such as abietic acid can be used.

導電性粒子の平均粒径と最大粒径の比は2以下であることが好ましく、1.5以下であることがより好ましい。該導電性粒子の粒度分布はより狭いほうが好ましく、該導電性粒子の粒径分布の幾何標準偏差は、1.2〜2.5であることが好ましく、1.2〜1.4であることが特に好ましい。幾何標準偏差が上記値であると粒径のバラツキが小さくなる。通常、接続する2端子間に一定のギャップが存在する場合には、粒径が揃っているほど、導電性粒子が有効に機能すると考えられる。   The ratio of the average particle size to the maximum particle size of the conductive particles is preferably 2 or less, and more preferably 1.5 or less. The particle size distribution of the conductive particles is preferably narrower, and the geometric standard deviation of the particle size distribution of the conductive particles is preferably 1.2 to 2.5, and preferably 1.2 to 1.4. Is particularly preferred. When the geometric standard deviation is the above value, the variation in particle size is reduced. Usually, when a certain gap exists between two terminals to be connected, it is considered that the conductive particles function more effectively as the particle diameters become uniform.

粒度分布の幾何標準偏差とは、粒度分布のσ値(累積84.13%の粒径値)を累積50%の粒径値で除した値である。粒度分布のグラフの横軸に粒径(対数)を設定し、縦軸に累積値(%、累積個数比、対数)を設定すると粒径分布はほぼ直線になり、粒径分布は対数正規分布に従う。累積値とは全粒子数に対して、ある粒径以下の粒子の個数比を示したもので、%で表す。粒径分布のシャープさはσ(累積84.13%の粒径値)と平均粒径(累積50%の粒径値)の比で表現される。σ値は実測値あるいは、前述グラフのプロット値からの読み取り値である。   The geometric standard deviation of the particle size distribution is a value obtained by dividing the σ value of the particle size distribution (particle size value of 84.13% cumulative) by the particle size value of 50% cumulative. When the particle size distribution (logarithm) is set on the horizontal axis of the particle size distribution graph and the cumulative value (%, cumulative number ratio, logarithm) is set on the vertical axis, the particle size distribution is almost linear, and the particle size distribution is lognormal distribution. Follow. The cumulative value indicates the number ratio of particles having a certain particle size or less with respect to the total number of particles, and is expressed in%. The sharpness of the particle size distribution is expressed by the ratio of σ (the cumulative particle size value of 84.13%) and the average particle size (the cumulative particle size value of 50%). The σ value is an actual measurement value or a read value from the plot value of the graph.

平均粒径及び粒度分布は、公知の方法、装置を用いて測定することができ、湿式粒度分布計、レーザー式粒度分布計等を用いることができる。あるいは、電子顕微鏡等で粒子を観察し、平均粒径、粒度分布を算出しても構わない。
導電性粒子の平均粒径は、回路接着シートのシート厚の1/10〜1倍が好ましく、より好ましくは1/10〜1/2倍、更に好ましくは1/10〜1/3倍である。
The average particle size and particle size distribution can be measured using a known method and apparatus, and a wet particle size distribution meter, a laser particle size distribution meter, or the like can be used. Alternatively, the average particle size and particle size distribution may be calculated by observing the particles with an electron microscope or the like.
The average particle diameter of the conductive particles is preferably 1/10 to 1 times the sheet thickness of the circuit adhesive sheet, more preferably 1/10 to 1/2 times, still more preferably 1/10 to 1/3 times. .

本発明の回路接着シートは、上記構成成分に添加剤を配合しても差し支えない。
回路接着シートと被着物との密着性を向上させるために、添加剤として、カップリング剤を配合することができる。該カップリング剤としては、シランカップリング剤、チタンカップリング剤、アルミカップリング剤等を用いることができるが、シランカップリング剤が好ましい。該シランカップリング剤としては、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、γ−メルカプトトリメトキシシラン、γ−アミノプロピルトリメトキシシラン、β−アミノエチル−γ−アミノプロピルトリメトキシシラン、γ−ウレイドプロピルトリメトキシシラン等を用いることができる。
In the circuit adhesive sheet of the present invention, an additive may be blended with the above components.
In order to improve the adhesion between the circuit adhesive sheet and the adherend, a coupling agent can be blended as an additive. As the coupling agent, a silane coupling agent, a titanium coupling agent, an aluminum coupling agent, or the like can be used, and a silane coupling agent is preferable. Examples of the silane coupling agent include γ-glycidoxypropyltrimethoxysilane, γ-glycidoxypropyltriethoxysilane, γ-mercaptotrimethoxysilane, γ-aminopropyltrimethoxysilane, β-aminoethyl-γ- Aminopropyltrimethoxysilane, γ-ureidopropyltrimethoxysilane, and the like can be used.

該カップリング剤の配合量は硬化剤および硬化性の絶縁性樹脂を合わせた成分100質量部に対して、0.01質量部から1質量部が好ましい。密着性向上の観点から0.01質量部以上が好ましく、信頼性の観点から1質量部以下が好ましい。   The blending amount of the coupling agent is preferably 0.01 parts by mass to 1 part by mass with respect to 100 parts by mass of the components including the curing agent and the curable insulating resin. 0.01 mass part or more is preferable from a viewpoint of adhesive improvement, and 1 mass part or less is preferable from a reliability viewpoint.

さらに、吸湿時において、回路接着シート中のイオン性成分による絶縁性低下を防止するため、添加剤としてイオン捕捉剤を配合することができる。該イオン捕捉剤としては、有機イオン交換体、無機イオン交換体、無機イオン吸着剤等を用いることができるが、耐熱性に優れる無機イオン交換体が好ましい。該無機イオン交換体としては、ジルコニウム系化合物、ジルコニウムビスマス系化合物、アンチモンビスマス系化合物、マグネシウムアルミニウム化合物を用いることができる。交換するイオンのタイプとしては、陽イオンタイプ、陰イオンタイプ、両イオンタイプがあるが、イオンマイグレーション直接の原因になる金属イオン(陽イオン)、電気伝導度を上昇させ、金属イオンの生成原因になる陰イオンを両方とも交換できるため両イオンタイプが好ましい。   Furthermore, an ion scavenger can be blended as an additive in order to prevent insulation deterioration due to ionic components in the circuit adhesive sheet during moisture absorption. As the ion scavenger, an organic ion exchanger, an inorganic ion exchanger, an inorganic ion adsorbent, and the like can be used, but an inorganic ion exchanger excellent in heat resistance is preferable. As the inorganic ion exchanger, zirconium compounds, zirconium bismuth compounds, antimony bismuth compounds, and magnesium aluminum compounds can be used. There are cation type, anion type, and both ion types as ion types to be exchanged, but metal ions (cations) that cause ion migration directly, increase electrical conductivity, and cause generation of metal ions. Both anions are preferred because both anions can be exchanged.

配合する該イオン捕捉剤の平均粒径は、0.01μm以上5μm以下であることが好ましく、0.01μm以上1μm以下であることがより好ましい。
イオン捕捉剤の配合量としては、樹脂成分100質量部に対して0.01質量部から3質量部であることが好ましい。配合量が0.01質量部未満の場合は、イオン捕捉効果が不充分であり、電気的接続の観点から3質量部以下が好ましい。
The average particle size of the ion scavenger to be blended is preferably 0.01 μm or more and 5 μm or less, and more preferably 0.01 μm or more and 1 μm or less.
The compounding amount of the ion scavenger is preferably 0.01 to 3 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the resin component. When the blending amount is less than 0.01 parts by mass, the ion trapping effect is insufficient, and 3 parts by mass or less is preferable from the viewpoint of electrical connection.

次に、微細接続端子を有する電子回路部品とそれに対応する回路を有する回路基板とを回路接着シートで電気的に接続する、本発明の接続方法を説明する。該接続方法において、該電子回路部品とそれに対応する回路を有する回路基板とは、本発明の回路接着シートを用いて電気的に接続する。   Next, the connection method of the present invention in which an electronic circuit component having fine connection terminals and a circuit board having a corresponding circuit are electrically connected with a circuit adhesive sheet will be described. In the connection method, the electronic circuit component and a circuit board having a corresponding circuit are electrically connected using the circuit adhesive sheet of the present invention.

本発明の回路接着シートの硬化剤濃度の高い面を、相対的に配線高さの低い回路基板側に接触させ、相対的に配線高さの高い回路部品側から熱圧着することにより、接続することが好ましい。
硬化剤濃度の高い面を相対的に配線高さの低い回路基板面に配置することにより、より接続強度を高め、信頼性を高めることができる。
The circuit adhesive sheet of the present invention is connected by bringing the surface having a high curing agent concentration into contact with the circuit board side having a relatively low wiring height, and thermocompression bonding from the circuit component side having a relatively high wiring height. It is preferable.
By disposing the surface having a high curing agent concentration on the circuit board surface having a relatively low wiring height, the connection strength can be further increased and the reliability can be increased.

回路接着シートの膜厚は、接続する配線高さの和の1倍〜2倍であることが好ましい。微細接続構造体の機械的強度の観点から1倍以上が好ましく、接続時に回路接着シートの樹脂流動による過剰な樹脂のはみ出しを防ぐという観点から2倍以下であることが好ましい。
本発明において、回路接着シートは、硬化剤及び硬化性の絶縁性樹脂を含んでなる接着層であり、この接着シートは通常は剥離可能なベースフィルム(保持フィルム)上に形成される。このため、得られる回路接着シートは、通常は剥離可能なベースフィルム上に形成される。
本願明細書では、この回路接着シートとベースフィルムとの積層体をも回路接着シートと言うことがある。
The film thickness of the circuit adhesive sheet is preferably 1 to 2 times the sum of the connected wiring heights. From the viewpoint of the mechanical strength of the fine connection structure, it is preferably 1 or more, and from the viewpoint of preventing excessive resin from protruding due to the resin flow of the circuit adhesive sheet during connection, it is preferably 2 or less.
In the present invention, the circuit adhesive sheet is an adhesive layer comprising a curing agent and a curable insulating resin, and this adhesive sheet is usually formed on a peelable base film (holding film). For this reason, the circuit adhesive sheet obtained is normally formed on a peelable base film.
In the present specification, the laminate of the circuit adhesive sheet and the base film may be referred to as a circuit adhesive sheet.

本発明はまた、上記微細接続方法により接続された微細接続構造体にも関する。
本発明の微細接続構成体を構成する回路基板の材質は、有機基板でも無機基板でも、差し支えない。有機基板としては、ポリイミドフィルム基板、ポリアミドフィルム基板、ポリエーテルスルホンフィルム基板、エポキシ樹脂をガラスクロスに含浸させたリジッド基板、ビスマレイミド−トリアジン樹脂をガラスクロスに含浸させたリジッド基板等を用いることができる。無機基板としては、シリコン基板、ガラス基板、アルミナ基板、窒化アルミ基板等を用いることができる。配線基板の配線材料は、インジウム錫酸化物、インジウム亜鉛酸化物等の無機配線材料、金メッキ銅、クロム−銅、アルミニウム、金バンプ等の金属配線材料、アルミニウム、クロム等の金属材料でインジウム錫酸化物等の無機配線材料を覆った複合配線材料等を用いることができる。
The present invention also relates to a fine connection structure connected by the fine connection method.
The material of the circuit board constituting the finely connected structure of the present invention may be an organic substrate or an inorganic substrate. As the organic substrate, a polyimide film substrate, a polyamide film substrate, a polyethersulfone film substrate, a rigid substrate obtained by impregnating a glass cloth with an epoxy resin, a rigid substrate obtained by impregnating a glass cloth with a bismaleimide-triazine resin, or the like may be used. it can. As the inorganic substrate, a silicon substrate, a glass substrate, an alumina substrate, an aluminum nitride substrate, or the like can be used. The wiring material of the wiring board is inorganic wiring materials such as indium tin oxide and indium zinc oxide, metal wiring materials such as gold-plated copper, chromium-copper, aluminum and gold bumps, and metal materials such as aluminum and chromium indium tin oxide. A composite wiring material covering an inorganic wiring material such as an object can be used.

本発明の回路接着シートを適用する用途、あるいは本発明の微細接続構造体を構成する電子回路部品としては、液晶ディスプレイ機器、プラズマディスプレイ機器、エレクトロルミネッセンスディスプレイ機器等の表示機器の配線板接続用途および、それら機器のLSI等の電子部品実装用途、その他の機器の配線基板接続部分、LSI等の電子部品実装用途に使用することができる。上記表示機器の中でも、信頼性を必要とされるプラズマディスプレイ機器、エレクトロルミネッセンスディスプレイ機器に用いるのが好ましい。
次に、実施例および比較例によって本発明を説明する。
As an application to which the circuit adhesive sheet of the present invention is applied, or as an electronic circuit component constituting the fine connection structure of the present invention, a wiring board connection application of a display device such as a liquid crystal display device, a plasma display device, an electroluminescence display device, etc. These devices can be used for mounting electronic components such as LSIs, wiring board connecting portions of other devices, and mounting electronic components such as LSIs. Among the display devices, it is preferably used for plasma display devices and electroluminescence display devices that require reliability.
Next, the present invention will be described with reference to examples and comparative examples.

[実施例1]
フェノキシ樹脂(ガラス転移温度98℃、数平均分子量14000)35g、ビスフェノールA型エポキシ樹脂(エポキシ当量190、25℃粘度、14000mPa・S)28g、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン0.4gを酢酸エチル−トルエンの混合溶剤(混合比1:1)に溶解し、固形分50%溶液とする。
マイクロカプセル型潜在性イミダゾール硬化剤を含有する液状エポキシ樹脂(マイクロカプセルの平均粒径4μm、活性温度125℃、硬化剤含有量12g)37gを前記固形分50%溶液に配合分散させた。その後、厚さ50μmのポリエチレンテレフタレートフィルム(ベースフィルム)上に塗布し、60℃で10分間送風乾燥し、膜厚20μmのフィルム状の接着シートを得た。接着シート中における硬化剤濃度は11.9重量%であり、平均含有量は2.62g/mであった。
[Example 1]
Acetic acid containing 35 g of phenoxy resin (glass transition temperature 98 ° C., number average molecular weight 14000), 28 g of bisphenol A type epoxy resin (epoxy equivalent 190, 25 ° C. viscosity, 14000 mPa · S), 0.4 g of γ-glycidoxypropyltrimethoxysilane Dissolve in a mixed solvent of ethyl-toluene (mixing ratio 1: 1) to obtain a 50% solid content solution.
37 g of a liquid epoxy resin containing microcapsule-type latent imidazole curing agent (average size of microcapsules 4 μm, active temperature 125 ° C., curing agent content 12 g) was blended and dispersed in the 50% solid content solution. Then, it apply | coated on the 50-micrometer-thick polyethylene terephthalate film (base film), air-dried at 60 degreeC for 10 minute (s), and obtained the film-form adhesive sheet of 20-micrometer-thickness. The concentration of the curing agent in the adhesive sheet was 11.9% by weight, and the average content was 2.62 g / m 2 .

厚さ40μmの無延伸ポリエチレンフィルム上に、粘着層としてニトリルゴムラテックス−メチルメタアクリレートのグラフト共重合体接着剤を3μmの厚みで塗布したものに、前記マイクロカプセル型潜在性イミダゾール硬化剤を含有する液状エポキシ樹脂より反応性の高い硬化剤として、平均粒径4.0μmのアミンアダクト(エポキシ樹脂とイミダゾールの付加体、軟化点105℃、真密度1.21g/cm)ほぼ隙間無く単層塗布した。すなわち、該硬化剤粒子を該フィルム上にほぼ敷き詰めるように散布し、過剰な硬化剤粒子を軟質ゴムからなるスクレバーで掻き落とした。この操作を2回繰り返すことにより、隙間無く単層塗布した硬化剤粒子付着フィルムを得た。 The microcapsule-type latent imidazole curing agent is contained in a non-stretched polyethylene film having a thickness of 40 μm coated with a nitrile rubber latex-methyl methacrylate graft copolymer adhesive as a pressure-sensitive adhesive layer in a thickness of 3 μm. As a hardener more reactive than liquid epoxy resin, amine adduct with average particle size of 4.0μm (adduct of epoxy resin and imidazole, softening point 105 ° C, true density 1.21g / cm 3 ) with almost no gap, single layer coating did. That is, the curing agent particles were sprayed so as to be almost spread on the film, and excess curing agent particles were scraped off with a scrubber made of soft rubber. By repeating this operation twice, a hardener particle-adhered film coated with a single layer without a gap was obtained.

このフィルムを2軸延伸装置(東洋精機製X6H−S、パンタグラフ方式のコーナーストレッチ型の2軸延伸装置)を用いて縦横にそれぞれ10個のチャックを用いて固定し、その後20%/秒の速度で100%延伸して固定した。その後、この延伸フィルムに前記接着シートをラミネートした後、剥離し、回路接着シートを得た。
使用した硬化剤粒子は、ほぼすべて、回路接着シートへ転写された。
This film was fixed using 10 chucks in the vertical and horizontal directions using a biaxial stretching device (X6H-S manufactured by Toyo Seiki, pantograph type corner stretching type biaxial stretching device), and then a speed of 20% / sec. And stretched 100% and fixed. Then, after laminating the adhesive sheet on the stretched film, it was peeled off to obtain a circuit adhesive sheet.
Almost all of the used curing agent particles were transferred to the circuit adhesive sheet.

得られた回路接着シート中の硬化剤粒子のうち、無作為に100個を選び、焦点方向の変位を測定できるレーザー顕微鏡(キーエンス社製、VK9500、形状測定分解能0.01μm)を用いて、回路接着シート表面からの距離を測定した。その結果、移行した硬化剤は、全て転写面からシートの厚み方向にシート厚の1/3の領域における接着シート中に存在した。移行した硬化剤量は1.2g/mであり、転写面からシートの厚み方向にシート厚の1/3の領域における接着シート中の硬化剤濃度は、24.4重量%であり、それ以外の領域の濃度の2.05倍であった。 Using a laser microscope (Keyence Co., VK9500, shape measurement resolution 0.01 μm) capable of measuring the displacement in the focal direction by randomly selecting 100 of the curing agent particles in the obtained circuit adhesive sheet, the circuit The distance from the surface of the adhesive sheet was measured. As a result, all of the transferred curing agent was present in the adhesive sheet in the region of 1/3 of the sheet thickness in the sheet thickness direction from the transfer surface. The amount of the hardener transferred was 1.2 g / m 2 , and the hardener concentration in the adhesive sheet in the region of 1/3 of the sheet thickness from the transfer surface to the sheet thickness direction was 24.4% by weight. It was 2.05 times the density of the other region.

[実施例2]
フェノキシ樹脂(ガラス転移温度98℃、数平均分子量14000)37g、ナフタレン型エポキシ樹脂(エポキシ当量136、半固形)37g、γ−ウレイドプロピルトリメトキシシラン0.06gを酢酸エチル−トルエンの混合溶剤(混合比1:1)に溶解し、固形分50%溶液とする。
マイクロカプセル型潜在性イミダゾール硬化剤を含有する液状エポキシ樹脂(マイクロカプセルの平均粒径5μm、活性温度125℃、硬化剤含有量8.6g)26g、前記固形分50%溶液に配合分散させる。その後、厚さ50μmのポリエチレンテレフタレートフィルム上に塗布し、60℃で15分間送風乾燥し、膜厚20μmのフィルム状の接着シートを得た。
接着シート中における硬化剤濃度は8.56重量%であり、平均含有量は1.88g/mであった。
[Example 2]
37 g of phenoxy resin (glass transition temperature 98 ° C., number average molecular weight 14000), 37 g of naphthalene type epoxy resin (epoxy equivalent 136, semi-solid), 0.06 g of γ-ureidopropyltrimethoxysilane were mixed with ethyl acetate-toluene mixed solvent (mixed) To a 50% solid content solution.
A liquid epoxy resin containing a microcapsule-type latent imidazole curing agent (average particle diameter of microcapsule 5 μm, active temperature 125 ° C., curing agent content 8.6 g) is mixed and dispersed in the above-mentioned 50% solid content solution. Then, it apply | coated on the 50-micrometer-thick polyethylene terephthalate film, and air-dried at 60 degreeC for 15 minute (s), and obtained the film-form adhesive sheet of 20-micrometer-thickness.
The concentration of the curing agent in the adhesive sheet was 8.56% by weight, and the average content was 1.88 g / m 2 .

厚さ45μmの無延伸ポリエチレンフィルム上に実施例1と同じニトリルゴムラテックス−メチルメタアクリレートのグラフト共重合体接着剤を3μm塗布したものに平均粒径5μmの1,3−ビス(ヒドラジノエチル)−5−イソプロピルヒダントイン(融点120℃、真比重1.33)を実施例1と同様の方法によりほぼ隙間無く単層塗布した硬化剤粒子付着フィルムを得た。
このフィルムを実施例1と同様の方法により2軸延伸装置を用いて縦横にそれぞれ200%延伸して固定した。その後、この延伸フィルムに前記接着シートをラミネートした後、剥離し、回路接着シートを得た。
1,3-bis (hydrazinoethyl) having an average particle diameter of 5 μm was applied to 3 μm of the same nitrile rubber latex-methyl methacrylate graft copolymer adhesive as in Example 1 on an unstretched polyethylene film having a thickness of 45 μm. A curing agent particle-adhered film was obtained in which -5-isopropylhydantoin (melting point: 120 ° C., true specific gravity: 1.33) was applied by a method similar to that of Example 1 with almost no gap.
The film was stretched by 200% in the vertical and horizontal directions and fixed in the same manner as in Example 1 using a biaxial stretching apparatus. Then, after laminating the adhesive sheet on the stretched film, it was peeled off to obtain a circuit adhesive sheet.

得られた回路接着シートの硬化剤粒子のうち、無作為に100個を選び、焦点方向の変位を測定できるレーザー顕微鏡(キーエンス社製、VK9500、形状測定分解能0.01μm)を用いて、回路接着シート表面からの距離を測定した。その結果、移行した硬化剤は、全て転写面からシートの厚み方向にシート厚の1/3の領域における接着シート中に存在した。移行した硬化剤量は0.73g/mであり、転写面からシートの厚み方向にシート厚の1/3の領域における接着シート中の硬化剤濃度は、16.84重量%であり、それ以外の領域の硬化剤濃度の1.97倍であった。 Using a laser microscope (Keyence Corporation, VK9500, shape measurement resolution 0.01 μm) capable of measuring the displacement in the focal direction by randomly selecting 100 of the curing agent particles of the obtained circuit adhesive sheet. The distance from the sheet surface was measured. As a result, all of the transferred curing agent was present in the adhesive sheet in the region of 1/3 of the sheet thickness in the sheet thickness direction from the transfer surface. The amount of the curing agent transferred was 0.73 g / m 2 , and the concentration of the curing agent in the adhesive sheet in the region of 1/3 of the sheet thickness from the transfer surface to the sheet thickness direction was 16.84% by weight. It was 1.97 times the concentration of the curing agent in the other region.

[実施例3]
フェノキシ樹脂(ガラス転移温度45℃、数平均分子量12000)20g、フェノキシ樹脂(ガラス転移温度98℃、数平均分子量14000)23g、ナフタレン型エポキシ樹脂(エポキシ当量136、半固形)26g、γ−グリシドキシプロピルトリエトキシシラン0.1gを酢酸エチル−トルエンの混合溶剤(混合比1:1)に溶解し、固形分50%溶液とする。マイクロカプセル型潜在性イミダゾール硬化剤を含有する液状エポキシ樹脂(マイクロカプセルの平均粒径4μm、活性温度125℃、硬化剤含有量10.3g)31g、平均粒径3.0μmの金めっきプラスチック粒子5gを前記固形分50%溶液に配合分散させる。その後、厚さ50μmのポリエチレンテレフタレートフィルム上に塗布し、60℃で15分間送風乾燥し、膜厚20μmのフィルム状の接着シートを得た。
接着シート中における硬化剤濃度は10.26重量%であり、平均含有量は2.26g/mであった。
[Example 3]
20 g of phenoxy resin (glass transition temperature 45 ° C., number average molecular weight 12000), 23 g of phenoxy resin (glass transition temperature 98 ° C., number average molecular weight 14000), 26 g of naphthalene type epoxy resin (epoxy equivalent 136, semi-solid), γ-glycid 0.1 g of xylpropyltriethoxysilane is dissolved in a mixed solvent of ethyl acetate-toluene (mixing ratio 1: 1) to obtain a 50% solid content solution. Liquid epoxy resin containing microcapsule type latent imidazole curing agent (average particle size of microcapsule 4 μm, active temperature 125 ° C., curing agent content 10.3 g) 31 g, gold-plated plastic particles 5 g of average particle size 3.0 μm Is dispersed in the 50% solid content solution. Then, it apply | coated on the 50-micrometer-thick polyethylene terephthalate film, and air-dried at 60 degreeC for 15 minute (s), and obtained the film-form adhesive sheet of 20-micrometer-thickness.
The concentration of the curing agent in the adhesive sheet was 10.26% by weight, and the average content was 2.26 g / m 2 .

実施例1と同様の方法によりほぼ隙間無く単層塗布した硬化剤粒子付着フィルムを得た。このフィルムを実施例1と同様の方法により2軸延伸装置を用いて縦横にそれぞれ250%延伸して固定した。その後、この延伸フィルムに前記接着シートをラミネートした後、剥離し、回路接着シートを得た。
得られた回路接着シートの硬化剤粒子のうち、無作為に100個を選び、焦点方向の変位を測定できるレーザー顕微鏡(キーエンス社製、VK9500、形状測定分解能0.01μm)を用いて、回路接着シート表面からの距離を測定した。その結果、移行した硬化剤は、全て転写面からシートの厚み方向にシート厚の1/3の領域における接着シート中に存在した。移行した硬化剤量は0.4g/mであり、転写面からシートの厚み方向にシート厚の1/3の領域における接着シート中の硬化剤濃度は、14.85重量%であり、それ以外の領域の硬化剤濃度の1.44倍であった。
By the same method as in Example 1, a hardener particle-adhered film coated with a single layer with almost no gap was obtained. This film was stretched and fixed by 250% in the vertical and horizontal directions using a biaxial stretching apparatus in the same manner as in Example 1. Then, after laminating the adhesive sheet on the stretched film, it was peeled off to obtain a circuit adhesive sheet.
Using a laser microscope (Keyence Corporation, VK9500, shape measurement resolution 0.01 μm) capable of measuring the displacement in the focal direction by randomly selecting 100 of the curing agent particles of the obtained circuit adhesive sheet. The distance from the sheet surface was measured. As a result, all of the transferred curing agent was present in the adhesive sheet in the region of 1/3 of the sheet thickness in the sheet thickness direction from the transfer surface. The amount of the hardener transferred was 0.4 g / m 2 , and the hardener concentration in the adhesive sheet in the region of 1/3 of the sheet thickness from the transfer surface to the thickness direction of the sheet was 14.85 wt%. It was 1.44 times the concentration of the curing agent in the other region.

[比較例1]
フェノキシ樹脂(ガラス転移温度98℃、数平均分子量14000)35g、ビスフェノールA型エポキシ樹脂(エポキシ当量190、25℃粘度、14000mPa・S)28g、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン0.3gを酢酸エチル−トルエンの混合溶剤(混合比1:1)に溶解し、固形分50%溶液とする。
マイクロカプセル型潜在性イミダゾール硬化剤を含有する液状エポキシ樹脂(マイクロカプセルの平均粒径5μm、活性温度125℃、硬化剤含有量12g)37g、を前記固形分50%溶液に配合分散させた。
その後、厚さ50μmのポリエチレンテレフタレートフィルム上に塗布し、60℃で15分間送風乾燥し、膜厚20μmのフィルム状の回路接着シートを得た。回路接着シート中における硬化剤濃度は11.9重量%であり、平均含有量は2.62g/mであった。
[Comparative Example 1]
Acetic acid containing 35 g of phenoxy resin (glass transition temperature 98 ° C., number average molecular weight 14,000), bisphenol A type epoxy resin (epoxy equivalent 190, viscosity at 25 ° C., 14000 mPa · S) 28 g, and γ-glycidoxypropyltrimethoxysilane 0.3 g Dissolve in a mixed solvent of ethyl-toluene (mixing ratio 1: 1) to obtain a 50% solid content solution.
37 g of a liquid epoxy resin containing microcapsule-type latent imidazole curing agent (average size of microcapsules 5 μm, active temperature 125 ° C., curing agent content 12 g) was mixed and dispersed in the 50% solid content solution.
Then, it apply | coated on the 50-micrometer-thick polyethylene terephthalate film, and air-dried for 15 minutes at 60 degreeC, and obtained the film-form circuit adhesive sheet of 20-micrometer-thickness. The concentration of the curing agent in the circuit adhesive sheet was 11.9% by weight, and the average content was 2.62 g / m 2 .

[比較例2]
フェノキシ樹脂(ガラス転移温度45℃、数平均分子量12000)42g、ナフタレン型エポキシ樹脂(エポキシ当量136、半固形)32g、γ−ウレイドプロピルトリメトキシシラン0.06gを酢酸エチル−トルエンの混合溶剤(混合比1:1)に溶解し、固形分50%溶液とする。
マイクロカプセル型潜在性イミダゾール硬化剤を含有する液状エポキシ樹脂(マイクロカプセルの平均粒径5μm、活性温度125℃、硬化剤含有量8.6g)26g、平均粒径3.0μmの金めっきプラスチック粒子6.0gを前記固形分50%溶液に配合分散させた。
その後、厚さ50μmのポリエチレンテレフタレートフィルム上に塗布し、60℃で15分間送風乾燥し、膜厚20μmのフィルム状の回路接着シートを得た。回路接着シートにおける硬化剤濃度は8.1重量%であり、平均含有量は1.85g/mであった。
[Comparative Example 2]
42 g of phenoxy resin (glass transition temperature 45 ° C., number average molecular weight 12000), 32 g of naphthalene type epoxy resin (epoxy equivalent 136, semi-solid), 0.06 g of γ-ureidopropyltrimethoxysilane were mixed with ethyl acetate-toluene mixed solvent (mixed) To a 50% solid content solution.
Liquid epoxy resin containing microcapsule type latent imidazole curing agent (average particle size of microcapsule 5 μm, active temperature 125 ° C., curing agent content 8.6 g) 26 g, gold-plated plastic particles 6 having an average particle size of 3.0 μm 0.0 g was mixed and dispersed in the 50% solid content solution.
Then, it apply | coated on the 50-micrometer-thick polyethylene terephthalate film, and air-dried for 15 minutes at 60 degreeC, and obtained the film-form circuit adhesive sheet of 20-micrometer-thickness. The concentration of the curing agent in the circuit adhesive sheet was 8.1% by weight, and the average content was 1.85 g / m 2 .

(接続抵抗値測定方法)
厚み1.1mmのガラス基板上に配線幅80μm、配線ピッチ200μmのインジウムスズ酸化物(ITO、シート抵抗25Ω)配線を200本形成し、その配線上に、アルミ配線(チタン1重量部含む、5000Å)を形成する。この基板上に幅2mmの回路接着シートを仮張りし、2.5mm幅の圧着ヘッドを用いて、80℃、0.3MPa、3秒間加圧した後、ポリエチレンテレフタレートのベースフィルムを剥離する。そこへ、配線幅100μm、配線ピッチ200μm、厚み18μmの銅配線にニッケル1μm、金0.02μmのメッキを施した回路を200本有するフレキシブルプリント配線板(材質ポリイミド樹脂、厚み25μm)を配線位置を合わせて仮接続した後、160℃、5秒間、5MPa加圧圧着する。圧着後、接続端子間の抵抗値を四端子法の抵抗計で抵抗測定する。測定数20箇所の平均抵抗値を接続抵抗値とする。
(Connection resistance measurement method)
Two hundred indium tin oxide (ITO, sheet resistance 25Ω) wires having a wiring width of 80 μm and a wiring pitch of 200 μm are formed on a glass substrate having a thickness of 1.1 mm, and aluminum wiring (including 1 part by weight of titanium, 5000 μm) is formed on the wiring. ). A circuit adhesive sheet having a width of 2 mm is temporarily stretched on this substrate, and after pressurizing at 80 ° C., 0.3 MPa for 3 seconds using a 2.5 mm-width crimping head, the polyethylene terephthalate base film is peeled off. A flexible printed wiring board (material polyimide resin, thickness 25 μm) having 200 circuits in which a copper wiring having a wiring width of 100 μm, a wiring pitch of 200 μm, and a thickness of 18 μm is plated with nickel of 1 μm and gold of 0.02 μm is placed at the wiring position. In addition, after temporary connection, pressure bonding with 5 MPa is performed at 160 ° C. for 5 seconds. After crimping, the resistance between the connection terminals is measured with a four-terminal resistance meter. The average resistance value at 20 measurement points is defined as the connection resistance value.

(環境試験)
接続抵抗値測定法と同様にして、ガラス基板とフレキシブルプリント配線板を、回路接着シートを用いて圧着接続する。圧着後、圧着した基板を60℃、95%相対湿度中に250時間保持した後に取り出し、25℃、50%相対湿度環境中に1時間放置する。その後、接続抵抗値測定法と同様にして、接続抵抗値を測定し、環境試験後接続抵抗値とする。同じ基板のフレキシブルプリント配線板を幅10mmに切断し、インストロン(SHIMADU AGS−50A)を用いて90°ピール強度を測定する。引張り速度は50mm/分で行う。ピール強度が7.84N/cm以上のものを○、7.84N/cm未満のものを×とする。
(Environmental testing)
In the same manner as the connection resistance value measuring method, the glass substrate and the flexible printed wiring board are crimped and connected using a circuit adhesive sheet. After pressure bonding, the pressure-bonded substrate is held at 60 ° C. and 95% relative humidity for 250 hours and then taken out and left in a 25 ° C. and 50% relative humidity environment for 1 hour. Thereafter, the connection resistance value is measured in the same manner as the connection resistance value measuring method, and is set as the connection resistance value after the environmental test. The flexible printed wiring board of the same board | substrate is cut | disconnected to width 10mm, and 90 degree peel strength is measured using an Instron (SHIMADU AGS-50A). The pulling speed is 50 mm / min. Those having a peel strength of 7.84 N / cm or more are indicated by ○, and those having a peel strength of less than 7.84 N / cm are indicated by ×.

(保存性)
回路接着シートを35℃の恒温室に3日間保存し、その後、接続抵抗測定法と同様にして圧着接続し、前記環境試験と同様にして、ピール強度を測定し、ピール強度が7.84N/cm以上のものを○、7.84N/cm未満のものを×とする。
(Storability)
The circuit adhesive sheet is stored in a thermostatic chamber at 35 ° C. for 3 days, and then crimped and connected in the same manner as in the connection resistance measurement method. The peel strength is measured in the same manner as in the environmental test, and the peel strength is 7.84 N / The thing of cm or more is set as (circle) and the thing below 7.84 N / cm is set as x.

以上の結果を表1に示す。
本実施例において、接続抵抗値測定法は、初期の電気的接続性を示す。
環境試験においては、接続抵抗値は電気的接続性の信頼性を示し、ピール強度は、接着強度の信頼性を示す。
表1において、実施例1〜3は、接続抵抗値及び環境試験後の抵抗値が低く、電気的接続性が良好であることを示している。環境試験後においてもピール強度が高いことより、接着強度が高いことがわかる。また、保存後のピール強度が、保存前の強度を維持していることより、保存性が良好であることがわかる。
表1に示すように、実施例1及び2では、導電性粒子は存在しないが、金属電極同士の食い込みにより、接触によって接続することが可能であった。
また、(接続抵抗値測定方法)の圧着条件は、160℃、5秒間、5MPa加圧で行っているが、170〜190℃、10〜15秒、5MPa加圧が一般的な条件であるため、低温、短時間での実施となる。
The results are shown in Table 1.
In this embodiment, the connection resistance value measurement method shows initial electrical connectivity.
In the environmental test, the connection resistance value indicates the reliability of electrical connectivity, and the peel strength indicates the reliability of adhesive strength.
In Table 1, Examples 1-3 have shown that a connection resistance value and the resistance value after an environmental test are low, and electrical connectivity is favorable. From the fact that the peel strength is high even after the environmental test, it can be seen that the adhesive strength is high. Moreover, since the peel strength after storage maintains the strength before storage, it can be seen that the storage stability is good.
As shown in Table 1, in Examples 1 and 2, no conductive particles were present, but it was possible to connect by contact by biting between metal electrodes.
In addition, the pressure-bonding condition of (connection resistance value measuring method) is 160 ° C., 5 seconds, and 5 MPa pressure, but 170-190 ° C., 10-15 seconds, 5 MPa pressure is a common condition. , Low temperature, short time.

Figure 0004766943
Figure 0004766943

本発明の回路接着シートは、低温、短時間接続性、接続信頼性に優れ、微細回路接続が求められる高精細なディスプレイ装置等の接続材料として好適である。   The circuit adhesive sheet of the present invention is excellent as a connection material for high-definition display devices and the like that are excellent in low temperature, short-time connectivity and connection reliability and require fine circuit connection.

Claims (8)

少なくとも硬化剤及び硬化性の絶縁性樹脂を含む回路接着シートであって、回路接着シートの全体に亘って硬化剤が含まれており、回路接着シートの片側表面から厚み方向に沿ってシート厚の1/3倍の領域の硬化剤濃度が、それ以外の領域の硬化剤濃度の1.1〜10倍であることを特徴とする回路接着シート。 A circuit adhesive sheet comprising at least a curing agent and a curable insulating resin , the curing agent is included over the entire circuit adhesive sheet, and the thickness of the sheet is increased along the thickness direction from one surface of the circuit adhesive sheet. A circuit adhesive sheet, wherein the concentration of the curing agent in the region of 1/3 is 1.1 to 10 times the concentration of the curing agent in the other region . 硬化性の絶縁性樹脂との反応性が異なる少なくとも2種の硬化剤を含み、かつ回路接着シートの片側表面から厚み方向に沿ってシート厚の1/3倍の領域に、最も反応性の高い硬化剤を含むことを特徴とする請求項1に記載の回路接着シート。   Highest reactivity in the region of 1/3 times the sheet thickness along the thickness direction from one surface of the circuit adhesive sheet, including at least two curing agents having different reactivity with the curable insulating resin The circuit adhesive sheet according to claim 1, further comprising a curing agent. 少なくとも硬化剤の1種が固形の硬化剤であり、その平均粒径が回路接着シートのシート厚の1/50倍以上1/3倍以下であることを特徴とする請求項1又は2に記載の回路接着シート。   The at least 1 type of hardening | curing agent is a solid hardening | curing agent, The average particle diameter is 1/50 time or more and 1/3 time or less of the sheet | seat thickness of a circuit adhesive sheet, The claim 1 or 2 characterized by the above-mentioned. Circuit adhesive sheet. 回路接着シートの平均膜厚の1/10〜1倍の平均粒径の導電性粒子を配合してなる請求項1〜3のいずれか1項に記載の回路接着シート。   The circuit adhesive sheet according to any one of claims 1 to 3, wherein conductive particles having an average particle diameter 1/10 to 1 times the average film thickness of the circuit adhesive sheet are blended. 少なくとも硬化剤と硬化性の絶縁性樹脂とを含む接着シートに、平滑な板上に分散した状態で存在する固形の硬化剤を転写することにより回路接着シートを得ることを特徴とする請求項1〜4のいずれかに記載の回路接着シートの製造方法。 2. A circuit adhesive sheet is obtained by transferring a solid curing agent present in a dispersed state on a smooth plate to an adhesive sheet containing at least a curing agent and a curable insulating resin. The manufacturing method of the circuit adhesive sheet in any one of -4. 2軸延伸可能なフィルム上に粘着層を設けて積層体を形成し、該積層体の上に固形の硬化剤を付着させて固形硬化剤付着フィルムを作製し、該固形硬化剤付着フィルムを50%から1000%の範囲内で2軸延伸して保持し、少なくとも硬化剤と硬化性の絶縁性樹脂とを含んでなる接着シートに該固形硬化剤を転写することによって硬化剤濃度の高い領域を有する回路接着シートを作製する工程を含むことを特徴とする請求項1〜4のいずれかに記載の回路接着シートの製造方法。   An adhesive layer is provided on a biaxially stretchable film to form a laminate, and a solid curing agent is deposited on the laminate to produce a solid curing agent-attached film. % To 1000% biaxially stretched and held, and by transferring the solid curing agent to an adhesive sheet comprising at least a curing agent and a curable insulating resin, a region having a high curing agent concentration is formed. The method for producing a circuit adhesive sheet according to claim 1, further comprising a step of producing a circuit adhesive sheet having the circuit adhesive sheet. 請求項1〜4のいずれかに記載の回路接着シートの硬化剤濃度の高い面を回路基板側に接触させて電子回路部品と回路基板とを接続することを特徴とする微細接続構造体の接続方法。   The connection of the fine connection structure characterized by connecting the electronic circuit component and a circuit board by making the surface with a high hardening | curing agent density | concentration of the circuit adhesive sheet in any one of Claims 1-4 contact a circuit board side. Method. 請求項7に記載の微細接続構造体の接続方法により接続された電子回路部品と回路基板とを含むことを特徴とする微細接続構造体。   An electronic circuit component and a circuit board, which are connected by the connection method of the fine connection structure according to claim 7, and a fine connection structure.
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