JP4765929B2 - 透過膜の阻止率向上方法、透過膜処理方法および透過膜装置 - Google Patents
透過膜の阻止率向上方法、透過膜処理方法および透過膜装置 Download PDFInfo
- Publication number
- JP4765929B2 JP4765929B2 JP2006346694A JP2006346694A JP4765929B2 JP 4765929 B2 JP4765929 B2 JP 4765929B2 JP 2006346694 A JP2006346694 A JP 2006346694A JP 2006346694 A JP2006346694 A JP 2006346694A JP 4765929 B2 JP4765929 B2 JP 4765929B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- module
- processing target
- permeate
- permeable membrane
- rejection rate
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
Images
Description
(1) 並列的かつ段階的に配置された透過膜モジュールの1次側に阻止率向上剤を通液し、2次側から透過液を取り出して阻止率を向上させる方法において、
複数のモジュールの1次側に被処理液供給路が分岐して連絡し、2次側から透過液取出路が集合して系外に連絡するように構成し、
集合した透過液取出路の透過液中の標識物質を検出する検出装置を設け、
前記複数のモジュールに設けられた複数の弁の開閉を制御装置により制御して、特定のモジュールの透過液を前記透過液取出路に取出し、
前記検出装置により透過液中の標識物質を検出して、阻止率の低い特定のモジュールを処理対象モジュールとして選択し、
前記制御装置により前記モジュールの弁の開閉を制御して、処理対象モジュールおよび/または処理対象モジュール以外のモジュールの透過流束を調整することにより、処理対象モジュールに重点的に阻止率向上剤を通液して阻止率を向上させることを特徴とする透過膜の阻止率向上方法。
(2) 阻止率向上剤がイオン性または非イオン性高分子である上記(1)記載の方法。
(3) 阻止率向上剤が標識物質を含む上記(1)または(2)記載の方法。
(4) 処理対象モジュール以外の少なくとも1以上のモジュールの透過流束を減少させることにより、処理対象モジュールに重点的に阻止率向上剤を通液して、処理対象モジュールの阻止率を向上させる上記(1)ないし(3)のいずれかに記載の方法。
(5) 処理対象モジュールの1次側から取り出す濃縮液量を減少させることにより、処理対象モジュールに重点的に阻止率向上剤を通液して、処理対象モジュールの透過流束を調整し、処理対象モジュールの阻止率を向上させる上記(1)ないし(4)のいずれかに記載の方法。
(6) 並列に配置されている複数のモジュールから、処理対象モジュールを選択する上記(1)ないし(5)のいずれかに記載の方法。
(7) 段階的に配置されている複数のモジュールから、後段に配置されているモジュールを処理対象モジュールとして選択し、前段のモジュールの透過流束を減少させ、後段のモジュールから取り出す濃縮液量を減少させて透過流束を調整し、処理対象モジュールの阻止率を向上させる上記(1)ないし(6)のいずれかに記載の方法。
(8) 全体のモジュールに阻止率向上剤を通液して透過膜の阻止率を向上させる操作を行った後、
複数のモジュールから阻止率の低い特定のモジュールを検出して処理対象モジュールとして選択し、
処理対象モジュールに重点的に阻止率向上剤を通液して、処理対象モジュールの阻止率を向上させる上記(1)ないし(7)のいずれかに記載の方法。
(9) 上記(1)ないし(8)のいずれかに記載の方法により阻止率を向上させた透過膜モジュールの1次側に被処理液を通液し、2次側から透過液を取り出す透過膜処理方法。
(10) 1次側に被処理液を通液し、2次側から透過液を取り出すように、並列的かつ段階的に配置された複数の透過膜モジュールと、
複数のモジュールの1次側に分岐して連絡する被処理液供給路、および2次側から集合して系外に連絡する透過液取出路と、
集合した透過液取出路の透過液中の標識物質を検出することにより、複数のモジュールから阻止率の低い特定のモジュールを検出して処理対象モジュールとして選択する検出装置と、
処理対象モジュールに重点的に阻止率向上剤を通液して、処理対象モジュールの阻止率を向上させる通液装置と、
前記複数のモジュールに設けられた弁の開閉の制御により、特定のモジュールの透過液を前記透過液取出路に取出して、前記検出装置により阻止率の低い特定のモジュールを検出させ、この検出装置の検出信号によって前記弁の開閉を制御することにより、処理対象モジュールに重点的に阻止率向上剤を通液するように制御する制御装置と
を含む透過膜装置。
1a、1b・・、2a、2b・・、3a、3b・・モジュール
2 第2段
3 第3段
4 透過膜
5 濃縮液室
6 透過液室
7 被処理液供給路
8 透過液取出路
9、10、18、19 連絡路
11 濃縮液取出路
12 阻止率向上剤槽
13、16 ポンプ
14 阻止率向上剤供給路
15 標識物質槽
17 標識物質供給路
20 制御装置
21 検出装置
V1a、V1b・・ 弁
Claims (10)
- 並列的かつ段階的に配置された透過膜モジュールの1次側に阻止率向上剤を通液し、2次側から透過液を取り出して阻止率を向上させる方法において、
複数のモジュールの1次側に被処理液供給路が分岐して連絡し、2次側から透過液取出路が集合して系外に連絡するように構成し、
集合した透過液取出路の透過液中の標識物質を検出する検出装置を設け、
前記複数のモジュールに設けられた複数の弁の開閉を制御装置により制御して、特定のモジュールの透過液を前記透過液取出路に取出し、
前記検出装置により透過液中の標識物質を検出して、阻止率の低い特定のモジュールを処理対象モジュールとして選択し、
前記制御装置により前記モジュールの弁の開閉を制御して、処理対象モジュールおよび/または処理対象モジュール以外のモジュールの透過流束を調整することにより、処理対象モジュールに重点的に阻止率向上剤を通液して阻止率を向上させることを特徴とする透過膜の阻止率向上方法。 - 阻止率向上剤がイオン性または非イオン性高分子である請求項1記載の方法。
- 阻止率向上剤が標識物質を含む請求項1または2記載の方法。
- 処理対象モジュール以外の少なくとも1以上のモジュールの透過流束を減少させることにより、処理対象モジュールに重点的に阻止率向上剤を通液して、処理対象モジュールの阻止率を向上させる請求項1ないし3のいずれかに記載の方法。
- 処理対象モジュールの1次側から取り出す濃縮液量を減少させることにより、処理対象モジュールに重点的に阻止率向上剤を通液して、処理対象モジュールの透過流束を調整し、処理対象モジュールの阻止率を向上させる請求項1ないし4のいずれかに記載の方法。
- 並列に配置されている複数のモジュールから、処理対象モジュールを選択する請求項1ないし5のいずれかに記載の方法。
- 段階的に配置されている複数のモジュールから、後段に配置されているモジュールを処理対象モジュールとして選択し、前段のモジュールの透過流束を減少させ、後段のモジュールから取り出す濃縮液量を減少させて透過流束を調整し、処理対象モジュールの阻止率を向上させる請求項1ないし6のいずれかに記載の方法。
- 全体のモジュールに阻止率向上剤を通液して透過膜の阻止率を向上させる操作を行った後、
複数のモジュールから阻止率の低い特定のモジュールを検出して処理対象モジュールとして選択し、
処理対象モジュールに重点的に阻止率向上剤を通液して、処理対象モジュールの阻止率を向上させる請求項1ないし7のいずれかに記載の方法。 - 請求項1ないし8のいずれかに記載の方法により阻止率を向上させた透過膜モジュールの1次側に被処理液を通液し、2次側から透過液を取り出す透過膜処理方法。
- 1次側に被処理液を通液し、2次側から透過液を取り出すように、並列的かつ段階的に配置された複数の透過膜モジュールと、
複数のモジュールの1次側に分岐して連絡する被処理液供給路、および2次側から集合して系外に連絡する透過液取出路と、
集合した透過液取出路の透過液中の標識物質を検出することにより、複数のモジュールから阻止率の低い特定のモジュールを検出して処理対象モジュールとして選択する検出装置と、
処理対象モジュールに重点的に阻止率向上剤を通液して、処理対象モジュールの阻止率を向上させる通液装置と、
前記複数のモジュールに設けられた弁の開閉の制御により、特定のモジュールの透過液を前記透過液取出路に取出して、前記検出装置により阻止率の低い特定のモジュールを検出させ、この検出装置の検出信号によって前記弁の開閉を制御することにより、処理対象モジュールに重点的に阻止率向上剤を通液するように制御する制御装置と
を含む透過膜装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2006346694A JP4765929B2 (ja) | 2006-12-22 | 2006-12-22 | 透過膜の阻止率向上方法、透過膜処理方法および透過膜装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2006346694A JP4765929B2 (ja) | 2006-12-22 | 2006-12-22 | 透過膜の阻止率向上方法、透過膜処理方法および透過膜装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2008155123A JP2008155123A (ja) | 2008-07-10 |
JP4765929B2 true JP4765929B2 (ja) | 2011-09-07 |
Family
ID=39656625
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2006346694A Expired - Fee Related JP4765929B2 (ja) | 2006-12-22 | 2006-12-22 | 透過膜の阻止率向上方法、透過膜処理方法および透過膜装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP4765929B2 (ja) |
Families Citing this family (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPWO2016111370A1 (ja) * | 2015-01-09 | 2017-10-19 | 東レ株式会社 | 水処理方法 |
JPWO2016111371A1 (ja) * | 2015-01-09 | 2017-10-19 | 東レ株式会社 | 半透膜の阻止性能向上方法、半透膜、半透膜造水装置 |
Family Cites Families (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS58109106A (ja) * | 1981-12-18 | 1983-06-29 | Kurita Water Ind Ltd | 膜性能回復方法 |
JP3028447B2 (ja) * | 1993-05-12 | 2000-04-04 | 住友重機械工業株式会社 | 浄水処理装置 |
JP2000005575A (ja) * | 1998-06-24 | 2000-01-11 | Terumo Corp | 膜寿命監視システムおよび膜寿命監視方法 |
JP2001314734A (ja) * | 2000-05-08 | 2001-11-13 | Nitto Denko Corp | 膜分離装置の洗浄方法 |
JP4868108B2 (ja) * | 2004-10-18 | 2012-02-01 | 栗田工業株式会社 | 透過膜の阻止率向上剤、阻止率向上方法、透過膜及び水処理方法 |
JP2006224049A (ja) * | 2005-02-21 | 2006-08-31 | Japan Organo Co Ltd | 分離膜の性能回復方法および装置並びにその方法により処理された分離膜 |
-
2006
- 2006-12-22 JP JP2006346694A patent/JP4765929B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2008155123A (ja) | 2008-07-10 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
Damtie et al. | Removal of fluoride in membrane-based water and wastewater treatment technologies: Performance review | |
CN103492054B (zh) | 膜组件的洗涤方法 | |
US20080164209A1 (en) | Water treatment systems and methods | |
AU2010334047B2 (en) | Water production system and operation method therefor | |
IL154322A (en) | Process and device for merging liquid product from different membranes | |
AU2001286770A1 (en) | Process and apparatus for blending product liquid from different TFC membranes | |
CN103328079B (zh) | 膜组件的洗涤方法、造水方法以及造水装置 | |
JP4765929B2 (ja) | 透過膜の阻止率向上方法、透過膜処理方法および透過膜装置 | |
Zhang et al. | Treatment of surfactants with concentrations below critical micelle concentration by ultrafiltration: A mini-review | |
JP6648695B2 (ja) | 半透膜分離装置の運転方法 | |
Suzuki et al. | Plugging nanoscale imperfections in the polyamide active layer of thin-film composite reverse osmosis membrane to inhibit advective solute transport | |
JP6658510B2 (ja) | 半透膜の阻止性能向上方法、半透膜、半透膜造水装置 | |
JP3497841B2 (ja) | 現像廃液再生装置及び現像廃液再生方法 | |
JP5050536B2 (ja) | 透過膜の阻止率向上方法、透過膜処理方法、透過膜装置および純水製造装置 | |
JP2009240917A (ja) | 透過膜の阻止率向上方法および透過膜装置 | |
WO2016111370A1 (ja) | 水処理方法 | |
JP2011020032A (ja) | 逆浸透膜の処理方法及び逆浸透膜装置 | |
KR100954427B1 (ko) | 복수의 여과막을 이용하여 처리수를 혼합하는 고도 정수처리장치 및 이를 이용한 고도 정수처리방법 | |
JP2008036522A (ja) | 逆浸透膜処理方法 | |
KR20170130815A (ko) | Edi를 이용한 초순수 제조 시스템 | |
KR101968525B1 (ko) | 역삼투막의 역세척 방법 및 그 시스템 | |
CN214141919U (zh) | 一种渗滤液浓缩液处理系统 | |
JP4998200B2 (ja) | ガス溶解水の製造ユニット、製造装置及び製造方法 | |
JP6980992B2 (ja) | 水処理方法および水処理装置 | |
TWM653283U (zh) | Ai智能型水處理系統 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20090917 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20110214 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20110222 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20110422 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20110517 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20110530 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20140624 Year of fee payment: 3 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |