JP4763674B2 - ZnO膜形成装置および方法 - Google Patents
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- ZnOからなる第1ターゲットを備えた電子共鳴サイクロトロンプラズマによる第1スパッタ源と、
Ga2O3又はAl2O3からなる第2ターゲットを備えたRFマグネトロンプラズマによる第2スパッタ源と、
前記第1スパッタ源からのスパッタ粒子と前記第2スパッタ源からのスパッタ粒子とが堆積する基板が載置される基板台と
を備え、
前記第2ターゲットのスパッタされる面の法線と前記基板の表面の法線とのなす角度が、60°以上90°未満にされている
ことを特徴とするZnO膜形成装置。 - 請求項1記載のZnO膜形成装置において、
前記基板台は、前記基板の中心部を通る法線を軸として前記基板を回転させる基板回転機能を備える
ことを特徴とするZnO膜形成装置。 - 請求項1又は2記載の膜形成装置において、
前記第1スパッタ源で生成されるプラズマは、前記基板の法線方向に流れるようにされている
ことを特徴とするZnO膜形成装置。 - ZnOからなる第1ターゲットを備えた電子共鳴サイクロトロンプラズマによる第1スパッタと、
Ga2O3又はAl2O3からなる第2ターゲットを備えたRFマグネトロンプラズマによる第2スパッタとを同時に行って、
基板の上にGa又はAlがドープされたZnO膜を形成するZnO膜形成方法であって、
前記第2ターゲットのスパッタされる面の法線と前記基板の表面の法線とのなす角度を、60°以上90°未満にした状態で、前記第1スパッタ及び前記第2スパッタを同時に行う
ことを特徴とするZnO膜形成方法。 - 請求項4記載のZnO膜形成方法において、
前記第1スパッタ源で生成されるプラズマは、前記基板の法線方向に流れる状態とする
ことを特徴とするZnO膜形成方法。
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Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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JP5243459B2 (ja) * | 2010-01-13 | 2013-07-24 | 日本電信電話株式会社 | 透明導電膜の形成方法 |
JP2014173122A (ja) * | 2013-03-08 | 2014-09-22 | Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> | ErドープZnO膜形成方法 |
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JP6339972B2 (ja) * | 2015-06-22 | 2018-06-06 | 日本電信電話株式会社 | 酸化亜鉛化合物発光膜とその作製方法 |
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JP2009144232A (ja) | 2009-07-02 |
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