JP4748321B2 - 感放射線性樹脂組成物および液晶表示素子用スペーサー - Google Patents
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Description
そこで、このような問題を解決するために、スペーサーをフォトリソグラフィーにより形成する方法が採用されるようになってきた。この方法は、感放射線性樹脂組成物を基板上に塗布し、所定のマスクを介して例えば紫外線を露光したのち現像して、ドット状やストライプ状のスペーサーを形成するものであり、画素形成領域以外の所定の場所にのみスペーサーを形成することができるため、前述したような問題は基本的に解決される。
そこで、大型基板に対応可能な露光方式として、ステップ露光方式が提唱されている。しかし、ステップ露光方式では、一枚の基板に数回露光され、各露光毎に、位置合せやステップ移動に時間を要するため、一括露光方式に比較して、スループットの低減が問題視されている。
一方、液晶表示素子を作製する工程でのスループットを向上させる観点から、ガラス基板を張り合わせる前に、液晶材料をガラス基板の表面にたらしておく工程技術”ODF(One Drop Fill)法"が導入されており、この方法により、液晶表示素子の作製に要する時間を大幅に短縮することができる。例えば30インチの液晶表示素子の場合、液晶材料を充填するのに、従来の方法では約5日間を要するが、ODF法では2時間程度で十分であり、スループットの大幅な向上が可能となる。
特許文献1では、感光性樹脂組成物中に、水酸基を有する共重合性樹脂に、(メタ)アクリロイルオキシアルキルイソシアネート化合物を反応させて得られた光重合性官能基を構成単位として有する共重合性樹脂を用いることで高感度化、高回復率化等のスペーサーとしての性能向上を達成できることが開示されている。しかし、柔軟性に関しては考慮されていない。
以上のように、従来の感放射線性樹脂組成物では、光重合性官能基を構成単位として有する共重合性樹脂を用いることで、高感度化と高回復率化は可能であるが、高感度化と高回復率化に加え、さらに柔軟性を併せ持つスペーサーを与える材料とはいえない。
M.K.Georges, R.P.N.Veregin, P.M.Kazmaier, G.K.Hamer, Macromolecules, 1993, Vol.26, p.2987 Matyjaszewski,K.Coca,S.Gaynor,G.wei,M.Woodworth, B.E. Macromolecules, 1997, Vol.30, p.7348 Hamasaki,S.Kamigaito,M.Sawamoto, M. Macromolecules, 2002, Vol.35, p.2934
[A]リビングラジカル重合で得られた、光重合性不飽和基を有する共重合体、[B]重合性不飽和化合物、および[C]感放射線性重合開始剤を含有することを特徴とする感放射線性樹脂組成物によって達成される。
[A]上記光重合性不飽和基を有する共重合体が、2つ以上のブロックセグメントを有し、そのうち少なくとも1つのブロックセグメントに、光重合性不飽和基を含有していることを特徴とする本発明の感放射線性樹脂組成物によって達成される。
[A]光重合性不飽和基を有する共重合体が(a1)アルカリ可溶性重合性不飽和化合物および/または不飽和カルボン酸無水物、あるいはそれらカルボン酸の保護化物に由来する重合単位を少なくとも1つ含有していることを特徴とする本発明の感放射線性樹脂組成物によって達成される。
下記式(1)、(2)あるいは(3)のそれぞれで表されるチオカルボニルチオ化合物を分子量制御剤として用いる重合を経て製造されたものである上記感放射線性樹脂組成物によって好ましく達成される。
−OX1、−SX1、−OC(=O)X1、−N(X1)(X2)、−C(=O)OX1、
−C(=O)N(X1)(X2)、−P(=O)(OX1)2、−P(=O)(X1)2または重合体鎖を有する1価の基を示し、X1およびX2は相互に独立に炭素数1〜18のアルキル基、炭素数2〜18のアルケニル基、炭素数6〜18の1価の芳香族炭化水素基または炭素原子と異項原子との合計原子数3〜18の1価の複素環式基を示し、前記炭素数1〜20のアルキル基、炭素数6〜20の1価の芳香族炭化水素基、炭素原子と異項原子との合計原子数3〜20の1価の複素環式基、X1およびX2はそれぞれ置換されていてもよい。〕
前記感放射線性樹脂組成物からなる、液晶表示素子用スペーサーの形成に用いられる感放射線性樹脂組成物(以下、「液晶表示素子用スペーサー用感放射線性樹脂組成物」という。)によって達成される。
液晶表示素子用スペーサー用感放射線性樹脂組成物から形成されてなる液晶表示素子用スペーサーによって達成される。
少なくとも以下の工程を以下に記載の順序で含むことを特徴とする液晶表示素子用スペーサーの形成方法によって達成される。
(イ)液晶表示素子用スペーサー用感放射線性樹脂組成物の塗膜を基板上に形成する工程、
(ロ)該塗膜の少なくとも一部に露光する工程、
(ハ)露光後の該塗膜を現像する工程、および
(ニ)現像後の該塗膜を加熱する工程。
前記液晶表示素子用スペーサーを具備する液晶表示素子によって達成される。
以下、本発明の感放射線性樹脂組成物の各成分について詳述する。
本発明の感放射線性樹脂組成物における(A)光重合性不飽和基を有する共重合体とは、化学構造が異なる重合性不飽和化合物で構成されたセグメントを少なくとも2つ以上含み、かつ光重合性不飽和基を含むブロックセグメントを有する共重合体を意味するものとする。ブロックセグメントは重合性不飽和化合物の単一種重合体または複数種の重合体から成ることができる。光重合性不飽和基を有する共重合体はその重合方法や組成に指定は無いが、例えば、カルボキシル基、酸無水物、水酸基等の官能基を有するブロック共重合体に、少なくとも1個のエチレン性不飽和基と、エポキシ基、イソシアネート基等の1個の官能基を有する化合物を付加反応させて得られる。この時、ブロックセグメントはランダム共重合体であってもよい。(A)光重合性不飽和基を有する共重合体はそれぞれがランダム共重合体からなる2つのブロックセグメントを含んでいてもよい。一次重合で生成されるブロックセグメントと二次重合で一次ブロックセグメントに付与される二次ブロックセグメントの2つ以上のセグメントを有し、そのうち少なくとも1つのセグメントに、光重合性不飽和基を含有していることが好ましい。例えば、(A)光重合性不飽和基を有する共重合体は、化合物(a1)ラジカル重合性を有する不飽和カルボン酸および/または不飽和カルボン酸無水物、あるいはそれらカルボン酸の保護化物、および化合物(a3)(a1)(a2)以外のラジカル重合性化合物を含有する重合性混合物を溶媒中、重合開始剤の存在下でリビングラジカル重合し、更に化合物(a2)水酸基等の官能基を有する化合物または、化合物(a1)、(a2)、(a3)を含有する重合性混合物を追添して重合を継続してえられる共重合体(以下、「共重合体[α]」という。)に、(a4)少なくとも1個のエチレン性不飽和基と、エポキシ基、イソシアネート基等の1個の官能基を有する化合物を付加反応することによって製造することができる。また、必要に応じて、さらに重合性混合物を追添して、ブロックセグメントを追加することができる。このようにして得られた(A)光重合性不飽和基を有する共重合体が有するアルカリ可溶性部位は化合物(a1)に由来する。
次に、(A)共重合体を製造するリビングラジカル重合について説明する。
リビングラジカル重合に際しては、重合性不飽和化合物としてカルボキシル基などの活性ラジカルを失活させるおそれがある官能基を有する化合物を用いる場合、成長末端が失活しないようにするため、必要に応じて、重合性不飽和化合物中の該官能基を、例えばエステル化などにより保護して重合したのち、脱保護することにより、(A)共重合体を得ることもできる。
上記チオカルボニルチオ化合物とラジカル開始剤との組み合わせに関しては、特許文献2、特許文献3および特許文献4のほか、特許文献5〜9に詳しく記載されている。
本発明における好ましい上記チオカルボニルチオ化合物としては、例えば、上記式(1)、上記式(2)、または上記式(3)で表される化合物などを挙げることができる。
また、Z1の炭素数6〜20の1価の芳香族炭化水素基としては、例えば、フェニル基、1−ナフチル基、2−ナフチル基、1−アントラセニル基、9−アントラセニル基、ベンジル基、α−メチルベンジル基、α,α−ジメチルベンジル基、フェネチル基などを挙げることができる。
また、同Xの炭素数2〜18のアルケニル基としては、例えば、ビニル基、1−プロペニル基、2−プロペニル基、1−ブテニル基、2−ブテニル基、3−ブテニル基、1−ペンテニル基、2−ペンテニル基、3−ペンテニル基、4−ペンテニル基、1−ヘキセニル基、2−ヘキセニル基、3−ヘキセニル基、4−ヘキセニル基、5−ヘキセニル基などを挙げることができる。
式(1)において、R1は、p=1のとき、炭素数1〜20のアルキル基、炭素数3〜20の1価の脂環族炭化水素基、炭素数6〜20の1価の芳香族炭化水素基、炭素原子と異項原子との合計原子数3〜20の1価の複素環式基、−OX、−SX、−N(X)2または重合体鎖を有する1価の基を示す。
上記炭素数3〜20の1価の脂環族炭化水素基に対する置換基としては、例えば、上記Z1の炭素数1〜20のアルキル基、炭素数6〜20の1価の芳香族炭化水素基、炭素原子と異項原子との合計原子数3〜20の1価の複素環式基およびXに対する置換基について例示した基と同様のものの中から適宜選択することができ、これらの置換基は置換誘導体中に1個以上あるいは1種以上存在することができる。ただし、置換誘導体中の合計炭素数ないし合計原子数は20を超えないことが好ましい。
上記炭素数1〜20のアルカンとしては、例えば、メタン、エタン、プロパン、n−ブタン、i−ブタン、n−ペンタン、i−ペンタン、ネオペンタン、n−ヘキサン、n−ヘプタン、n−オクタン、n−ノナン、n−デカン、n−ドデカン、n−テトラデカン、n−ヘキサデカン、n−オクタデカン、n−エイコサンなどを挙げることができる。
上記炭素数1〜20のアルカンに由来するp価の基、炭素数6〜20の芳香族炭化水素に由来するp価の基および合計原子数3〜20の複素環式化合物に由来するp価の基に対する置換基としては、例えば、上記Z1の炭素数1〜20のアルキル基、炭素数6〜20の1価の芳香族炭化水素基、炭素原子と異項原子との合計原子数3〜20の1価の複素環式基およびXに対する置換基について例示した基と同様のものの中から適宜選択することができ、これらの置換基は置換誘導体中に1個以上あるいは1種以上存在することができる。ただし、置換誘導体中の合計炭素数ないし合計原子数は20を超えないことが好ましい。
また、Z2のm価の基を与える炭素数6〜20の芳香族炭化水素としては、例えば、上記R1のp価の基を与える炭素数6〜20の芳香族炭化水素について例示した化合物と同様のものを挙げることができる。
また、Z2のm価の基を与える炭素原子と異項原子との合計原子数3〜20の複素環式化合物としては、例えば、上記R1のp価の基を与える炭素原子と異項原子との合計原子数3〜20の複素環式化合物について例示した化合物と同様のものを挙げることができる。
また、Z2のm価の基を与える重合体鎖としては、例えば、上記Z1の重合体鎖を有する1価の基について例示した付加重合系重合体鎖、重付加系重合体鎖や重縮合系重合体鎖と同様のものを挙げることができる。Z2の重合体鎖を有するm価の基においては、該重合体鎖が直接式(2)中のチオカルボニル基の炭素原子に結合しても、例えば−CH2−COO−、−C(CH3)(CN)CH2CH2−COO−などの連結手を介して式(2)中のチオカルボニル基の炭素原子に結合してもよい。
また、R2の炭素数3〜20の1価の脂環族炭化水素基やその置換誘導体としては、例えば、上記R1ただし、p=1)の炭素数3〜20の1価の脂環族炭化水素基やその置換誘導体について例示した基と同様のものを挙げることができる。
式(2)において、Z2と−C(=S)−S−R2との間の連結部分が脂肪族炭素原子である場合は、Z2中の脂肪族炭素原子が−C(=S)−S−R2と結合し、該連結部分が芳香族炭素原子である場合は、Z2中の芳香族炭素原子が−C(=S)−S−R2と結合し、さらに該連結部分が硫黄原子である場合は、Z2を示す−SR中の硫黄原子が−C(=S)−S−R2と結合している。
−OX1、−SX1、−OC(=O)X1、−N(X1)(X2)、−C(=O)OX1、
−C(=O)N(X1)(X2)、−P(=O)(OX1)2、−P(=O)(X1)2または重合体鎖を有する1価の基を示し、X1およびX2は相互に独立に炭素数1〜18のアルキル基、炭素数2〜18のアルケニル基、炭素数6〜18の1価の芳香族炭化水素基または炭素原子と異項原子との合計原子数3〜18の1価の複素環式基を示し、前記炭素数1〜20のアルキル基、炭素数6〜20の1価の芳香族炭化水素基、炭素原子と異項原子との合計原子数3〜20の1価の複素環式基、X1およびX2はそれぞれ置換されていてもよい。
Z3およびZ4は上記式(1)におけるZ1として上記に例示したものを同様に例示することができる。
Z3およびZ4としてはそれぞれ、炭素数1〜20のアルキル基のほか、重合性不飽和化合物との反応性の面から、特に、式(1)中のチオカルボニル基(C=S)の炭素原子と、Z3およびZ4中の窒素原子や酸素原子等の異項原子とが共有結合している基、より具体的には、炭素原子と異項原子との合計原子数3〜20の1価の複素環式基、−OX1、−N(X1)(X2)等が好ましく、特に、メチル基、エチル基、1−ピロール基、1−ピラゾール基、メトキシ基、エトキシ基、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基等が好ましい。
また、前記重合に際しては、他の分子量制御剤、例えば、α−メチルスチレンダイマー、t−ドデシルメルカプタン等の1種以上を、ジスルフィド化合物(1)と併用することもできる。
プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル等のプロピレングリコールモノアルキルエーテル;
エチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、エチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート、ジプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、ジプロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート等の(ポリ)アルキレングリコールモノアルキルエーテルアセテート;
ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールメチルエチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、ジプロピレングリコールジメチルエーテル、ジプロピレングリコールメチルエチルエーテル、ジプロピレングリコールジエチルエーテル等の(ポリ)アルキレングリコールジエーテル;
テトラヒドロフラン等の他のエーテル;
メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、2−ヘプタノン、3−ヘプタノン等のケトン;
ジアセトンアルコール(即ち、4−ヒドロキシ−4−メチルペンタン−2−オン)、4−ヒドロキシ−4−メチルヘキサン−2−オン等のケトアルコール;
乳酸メチル、乳酸エチル等の乳酸アルキルエステル;
2−ヒドロキシ−2−メチルプロピオン酸エチル、ヒドロキシ酢酸エチル、2−ヒドロキシ−3−メチルブタン酸メチル、3−メトキシプロピオン酸メチル、3−メトキシプロピオン酸エチル、3−エトキシプロピオン酸メチル、3−エトキシプロピオン酸エチル、エトキシ酢酸エチル、3−メチル−3−メトキシブチルアセテート、3−メチル−3−メトキシブチルプロピオネート、酢酸エチル、酢酸n−プロピル、酢酸i−プロピル、酢酸n−ブチル、酢酸i−ブチル、酢酸4−メトキシブチル、酢酸3−メトキシブチル、酢酸2−メトキシブチル、ぎ酸n−ペンチル、酢酸i−ペンチル、プロピオン酸n−ブチル、酪酸エチル、酪酸n−プロピル、酪酸i−プロピル、酪酸n−ブチル、ピルビン酸メチル、ピルビン酸エチル、ピルビン酸n−プロピル、アセト酢酸メチル、アセト酢酸エチル、2−オキソブタン酸エチル等の他のエステル;
トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素;
N−メチルピロリドン、N,N−ジメチルホルムアミド、N,N−ジメチルアセトアミド等のアミド
等を挙げることができる。
前記重合において、ラジカル重合開始剤の使用量は、全不飽和化合物100重量部に対して、好ましくは0.1〜50重量部、より好ましくは0.1〜20重量部である。
また、チオカルボニルチオ化合物(1)〜(3)の使用量は、全不飽和化合物100重量部に対して、好ましくは0.1〜50重量部、より好ましくは0.2〜16重量部、特に好ましくは0.4〜8重量部である。この場合、チオカルボニルチオ化合物(1)〜(3)の使用量が0.1重量部未満では、分子量および分子量分布の規制効果が低下する傾向があり、一方50重量部を超えると、低分子量成分が優先的に生成してしまうおそれがある。
また、溶媒の使用量は、全不飽和化合物100重量部に対して、好ましくは50〜1,000重量部、より好ましくは100〜500重量部である。
また、重合温度は、好ましくは0〜150℃、より好ましくは50〜120℃であり、重合時間は、好ましくは10分〜20時間、より好ましくは30分〜6時間である。
ジカルボン酸として、例えばマレイン酸、フマル酸、シトラコン酸、メサコン酸、イタコン酸など;
ジカルボン酸の無水物として、例えば上記ジカルボン酸として例示した上記化合物の酸無水物など;
多価カルボン酸のモノ〔(メタ)アクリロイロキシアルキル〕エステルとして、例えばコハク酸モノ〔2−(メタ)アクリロイロキシエチル〕、フタル酸モノ〔2−(メタ)アクリロイロキシエチル〕など;
両末端のそれぞれにカルボキシル基と水酸基とを有するポリマーのモノ(メタ)アクリレートとして、例えばω−カルボキシポリカプロラクトンモノ(メタ)アクリレートなど;
カルボキシル基を有する多環式化合物およびその無水物として、例えば5−カルボキシビシクロ[2.2.1]ヘプト−2−エン、5,6−ジカルボキシビシクロ[2.2.1]ヘプト−2−エン、5−カルボキシ−5−メチルビシクロ[2.2.1]ヘプト−2−エン、5−カルボキシ−5−エチルビシクロ[2.2.1]ヘプト−2−エン、5−カルボキシ−6−メチルビシクロ[2.2.1]ヘプト−2−エン、5−カルボキシ−6−エチルビシクロ[2.2.1]ヘプト−2−エン、5,6−ジカルボキシビシクロ[2.2.1]ヘプト−2−エン無水物などがそれぞれ挙げられる。
共重合体[α]において、(a1)不飽和カルボン酸系化合物に由来する繰り返し単位の含有率は、共重合体[α]に基づいて好ましくは1〜50重量%、さらに好ましくは5〜40重量%である。(a1)不飽和カルボン酸系化合物に由来する繰り返し単位の含有率が1重量%未満では、(a4)少なくとも1個のエチレン性不飽和基と、エポキシ基等の1個の官能基を有する化合物との反応により得られる重合体のアルカリ現像液に対する溶解性が低下する傾向があり、一方50重量%を超えると、該重合体のアルカリ現像液に対する溶解性が大きくなりすぎるおそれがある。
(a2)水酸基含有不飽和化合物としては、例えば、
アクリル酸5−ヒドロキシペンチルエステル、アクリル酸6−ヒドロキシヘキシルエステル、アクリル酸7−ヒドロキシヘプチルエステル、アクリル酸8−ヒドロキシオクチルエステル、アクリル酸9−ヒドロキシノニルエステル、アクリル酸10−ヒドロキシデシルエステル、アクリル酸11−ヒドロキシウンデシルエステル、アクリル酸12−ヒドロキシト゛デシルエステルの如きアクリル酸ヒドロキシアルキルエステル;
メタクリル酸5−ヒドロキシペンチルエステル、メタクリル酸6−ヒドロキシヘキシルエステル、メタクリル酸7−ヒドロキシヘプチルエステル、メタクリル酸8−ヒドロキシオクチルエステル、メタクリル酸9−ヒドロキシノニルエステル、メタクリル酸10−ヒドロキシデシルエステル、メタクリル酸11−ヒドロキシウンデシルエステル、メタクリル酸12−ヒドロキシト゛デシルエステルの如きメタクリル酸ヒドロキシアルキルエステル;
アクリル酸2−(6−ヒドロキシエチルヘキサノイルオキシ)エチルエステル、アクリル酸3−(6−ヒドロキシエチルヘキサノイルオキシ)プロピルエステル、アクリル酸4−(6−ヒドロキシエチルヘキサノイルオキシ)ブチルエステル、アクリル酸5−(6−ヒドロキシエチルヘキサノイルオキシ)ペンチルエステル、アクリル酸6−(6−ヒドロキシエチルヘキサノイルオキシ)へキシルエステルの如きアクリル酸(6−ヒドロキシエチルヘキサノイルオキシ)アルキルエステル;
メタクリル酸2−(6−ヒドロキシエチルヘキサノイルオキシ)エチルエステル、メタクリル酸3−(6−ヒドロキシエチルヘキサノイルオキシ)プロピルエステル、メタクリル酸4−(6−ヒドロキシエチルヘキサノイルオキシ)ブチルエステル、メタクリル酸5−(6−ヒドロキシエチルヘキサノイルオキシ)ペンチルエステル、メタクリル酸6−(6−ヒドロキシエチルヘキサノイルオキシ)へキシルエステルの如きメタクリル酸(6−ヒドロキシエチルヘキサノイルオキシ)アルキルエステル;
アクリル酸2−(3−ヒドロキシ−2,2−ジメチル−プロポキシカルボニルオキシ)−エチルエステル、アクリル酸3−(3−ヒドロキシ−2,2−ジメチル−プロポキシカルボニルオキシ)−プロピルエステル、アクリル酸4−(3−ヒドロキシ−2,2−ジメチル−プロポキシカルボニルオキシ)−ブチルエステル、アクリル酸5−(3−ヒドロキシ−2,2−ジメチル−プロポキシカルボニルオキシ)−ペンチルエステル、アクリル酸6−(3−ヒドロキシ−2,2−ジメチル−プロポキシカルボニルオキシ)−ヘキシルエステルの如きアクリル酸(3−ヒドロキシ−2,2−ジメチル−プロポキシカルボニルオキシ)−アルキルエステル;
メタクリル酸2−(3−ヒドロキシ−2,2−ジメチル−プロポキシカルボニルオキシ)−エチルエステル、メタクリル酸3−(3−ヒドロキシ−2,2−ジメチル−プロポキシカルボニルオキシ)−プロピルエステル、メタクリル酸4−(3−ヒドロキシ−2,2−ジメチル−プロポキシカルボニルオキシ)−ブチルエステル、メタクリル酸5−(3−ヒドロキシ−2,2−ジメチル−プロポキシカルボニルオキシ)−ペンチルエステル、メタクリル酸6−(3−ヒドロキシ−2,2−ジメチル−プロポキシカルボニルオキシ)−ヘキシルエステルの如きメタクリル酸(3−ヒドロキシ−2,2−ジメチル−プロポキシカルボニルオキシ)−アルキルエステル;
アクリル酸4−ヒドロキシ−シクロヘキシルエステル、アクリル酸4−ヒドロキシメチル−シクロヘキシルメチルエステル、アクリル酸4−ヒドロキシエチル−シクロヘキシルエチルエステル、アクリル酸3−ヒドロキシ−ビシクロ[2.2.1]ヘプト−5−エン−2−イルエステル、アクリル酸3−ヒドロキシメチル−ビシクロ[2.2.1]ヘプト−5−エン−2−イルメチルエステル、アクリル酸3−ヒドロキシエチル−ビシクロ[2.2.1]ヘプト−5−エン−2−イルエチルエステル、アクリル酸8−ヒドロキシ−ビシクロ[2.2.1]ヘプト−5−エン−2−イルエステル、アクリル酸2−ヒドロキシ−オクタヒドロ−4,7−メタノ−インデン−5−イルエステル、アクリル酸2−ヒドロキシメチル−オクタヒドロ−4,7−メタノ−インデン−5−イルメチルエステル、アクリル酸2−ヒドロキシエチル−オクタヒドロ−4,7−メタノ−インデン−5−イルエチルエステル、アクリル酸3−ヒドロキシ−アダマンタン−1−イルエステル、アクリル酸3−ヒドロキシメチル−アダマンタン−1−イルメチルエステル、アクリル酸3−ヒドロキシエチル−アダマンタン−1−イルエチルエステルの如き脂環式構造を有するアクリル酸ヒドロキシアルキルエステル;
メタクリル酸4−ヒドロキシ−シクロヘキシルエステル、メタクリル酸4−ヒドロキシメチル−シクロヘキシルメチルエステル、メタクリル酸4−ヒドロキシエチル−シクロヘキシルエチルエステル、メタクリル酸3−ヒドロキシ−ビシクロ[2.2.1]ヘプト−5−エン−2−イルエステル、メタクリル酸3−ヒドロキシメチル−ビシクロ[2.2.1]ヘプト−5−エン−2−イルメチルエステル、メタクリル酸3−ヒドロキシエチル−ビシクロ[2.2.1]ヘプト−5−エン−2−イルエチルエステル、メタクリル酸8−ヒドロキシ−ビシクロ[2.2.1]ヘプト−5−エン−2−イルエステル、メタクリル酸2−ヒドロキシ−オクタヒドロ−4,7−メタノ−インデン−5−イルエステル、メタクリル酸2−ヒドロキシメチル−オクタヒドロ−4,7−メタノ−インデン−5−イルメチルエステル、メタクリル酸2−ヒドロキシエチル−オクタヒドロ−4,7−メタノ−インデン−5−イルエチルエステル、メタクリル酸3−ヒドロキシ−アダマンタン−1−イルエステル、メタクリル酸3−ヒドロキシメチル−アダマンタン−1−イルメチルエステル、メタクリル酸3−ヒドロキシエチル−アダマンタン−1−イルエチルエステルの如き脂環式構造を有するメタクリル酸ヒドロキシアルキルエステル等を挙げることができる。
共重合体[α]において、(a2)の水酸基含有不飽和化合物に由来する繰り返し単位の含有率は、共重合体[α]に基づいて、好ましくは1〜50重量%、さらに好ましくは3〜40重量%、特に好ましくは5〜30重量%である。(a2)水酸基含有不飽和化合物に由来する繰り返し単位の含有率が1重量%未満では、(a4)不飽和イソシアネート化合物の重合体への導入率が低下して、感度が低下する傾向があり、一方50重量%を超えると、(a4)不飽和イソシアネート化合物との反応により得られる重合体の保存安定性が低下する傾向がある。
化合物(a3)としては、例えば、
メチルアクリレート、エチルアクリレート、n−プロピルアクリレート、i−プロピルアクリレート、n−ブチルアクリレート、i−ブチルアクリレート、sec−ブチルアクリレート、t−ブチルアクリレートなどのアクリル酸アルキルエステル;メチルメタクリレート、エチルメタクリレート、n−プロピルメタクリレート、i−プロピルメタクリレート、n−ブチルメタクリレート、i−ブチルメタクリレート、sec−ブチルメタクリレート、t−ブチルメタクリレートなどのメタクリル酸アルキルエステル;シクロヘキシルアクリレート、2−メチルシクロヘキシルアクリレート、トリシクロ[5.2.1.02,6]デカン−8−イルアクリレート(以下、「トリシクロ[5.2.1.02,6]デカン−8−イル」を「ジシクロペンタニル」という。)、2−ジシクロペンタニルオキシエチルアクリレート、イソボロニルアクリレート、テトラヒドロフリルアクリレートなどのアクリル酸の脂環族エステル;シクロヘキシルメタクリレート、2−メチルシクロヘキシルメタクリレート、ジシクロペンタニルメタクリレート、2−ジシクロペンタニルオキシエチルメタクリレート、イソボロニルメタクリレート、テトラヒドロフリルメタクリレートなどのメタクリル酸の脂環族エステル;フェニルアクリレート、ベンジルアクリレートなどのアクリル酸アリールエステル;フェニルメタクリレート、ベンジルメタクリレートなどのメタクリル酸アリールエステル;マレイン酸ジエチル、フマル酸ジエチル、イタコン酸ジエチルなどのジカルボン酸ジエステル;2−ヒドロキシエチルアクリレート、2−ヒドロキシプロピルアクリレートなどのアクリル酸ヒドロキシアルキルエステル;2−ヒドロキシエチルメタクリレート、2−ヒドロキシプロピルメタクリレートなどのメタクリル酸ヒドロキシアルキルエステル;スチレン、α−メチルスチレン、m−メチルスチレン、p−メチルスチレン、p−メトキシスチレンなどの芳香族ビニル化合物や、アクリロニトリル、メタクリロニトリル、塩化ビニル、塩化ビニリデン、アクリルアミド、メタクリルアミド、酢酸ビニル、1,3−ブタジエン、イソプレン、2,3−ジメチル−1,3−ブタジエン、N−シクロヘキシルマレイミド、N−フェニルマレイミド、N−ベンジルマレイミド、N−スクシンイミジル−3−マレイミドベンゾエート、N−スクシンイミジル−4−マレイミドブチレート、N−スクシンイミジル−6−マレイミドカプロエート、N−スクシンイミジル−3−マレイミドプロピオネート、N−(9−アクリジニル)マレイミドなどを挙げることができる。
また化合物(a3)のうち、エポキシ基含有重合性不飽和化合物としては、例えば、アクリル酸グリシジル、アクリル酸2−メチルグリシジル、アクリル酸3,4−エポキシブチル、アクリル酸6,7−エポキシヘプチル、アクリル酸3,4−エポキシシクロヘキシル等のアクリル酸エポキシアルキルエステル;メタクリル酸グリシジル、メタクリル酸2−メチルグリシジル、メタクリル酸3,4−エポキシブチル、メタクリル酸6,7−エポキシヘプチル、メタクリル酸3,4−エポキシシクロヘキシル等のメタクリル酸エポキシアルキルエステル;α−エチルアクリル酸グリシジル、α−n−プロピルアクリル酸グリシジル、α−n−ブチルアクリル酸グリシジル、α−エチルアクリル酸6,7−エポキシヘプチル等のα−アルキルアクリル酸エポキシアルキルエステル;o−ビニルベンジルグリシジルエーテル、m−ビニルベンジルグリシジルエーテル、p−ビニルベンジルグリシジルエーテル等のグリシジルエーテルを挙げることができる。
2−(メタクリロイルオキシエチル)オキセタン、2−(2−(2−メチルオキセタニル))エチルメタクリレート、2−(2−(3−メチルオキセタニル))エチルメタクリレート、2−(メタクリロイルオキシエチル)−2−メチルオキセタン、2−(メタクリロイルオキシエチル)−4−メチルオキセタン、2−(メタクリロイルオキシエチル)−2−トリフロロメチルオキセタン、2−(メタクリロイルオキシエチル)−3−トリフロロメチルオキセタン、2−(メタクリロイルオキシエチル)−4−トリフロロメチルオキセタン、2−(メタクリロイルオキシエチル)−2−ペンタフロロエチルオキセタン、2−(メタクリロイルオキシエチル)−3−ペンタフロロエチルオキセタン、2−(メタクリロイルオキシエチル)−4−ペンタフロロエチルオキセタン、2−(メタクリロイルオキシエチル)−2−フェニルオキセタン、2−(メタクリロイルオキシエチル)−3−フェニルオキセタン、2−(メタクリロイルオキシエチル)−4−フェニルオキセタン、2,3−ジフロロ−2−(メタクリロイルオキシエチル)オキセタン、2,4−ジフロロ−2−(メタクリロイルオキシエチル)オキセタン、3,3−ジフロロ−2−(メタクリロイルオキシエチル)オキセタン、3,4−ジフロロ−2−(メタクリロイルオキシエチル)オキセタン、4,4−ジフロロ−2−(メタクリロイルオキシエチル)オキセタン、2−(メタクリロイルオキシエチル)−3,3,4−トリフロロオキセタン、2−(メタクリロイルオキシエチル)−3,4,4−トリフロロオキセタン、2−(メタクリロイルオキシエチル)−3,3,4,4−テトラフロロオキセタン、2−(アクリロイルオキシメチル)オキセタン、2−メチル−2−(アクリロイルオキシメチル)オキセタン、3−メチル−2−(アクリロイルオキシメチル)オキセタン、4−メチル−2−(アクリロイルオキシメチル)オキセタン、2−(アクリロイルオキシメチル)−2−トリフロロメチルオキセタン、2−(アクリロイルオキシメチル)−3−トリフロロメチルオキセタン、2−(アクリロイルオキシメチル)−4−トリフロロメチルオキセタン、2−(アクリロイルオキシメチル)−2−ペンタフロロエチルオキセタン、2−(アクリロイルオキシメチル)−3−ペンタフロロエチルオキセタン、2−(アクリロイルオキシメチル)−4−ペンタフロロエチルオキセタン、2−(アクリロイルオキシメチル)−2−フェニルオキセタン、2−(アクリロイルオキシメチル)−3−フェニルオキセタン、2−(アクリロイルオキシメチル)−4−フェニルオキセタン、2,3−ジフロロ−2−(アクリロイルオキシメチル)オキセタン、2,4−ジフロロ−2−(アクリロイルオキシメチル)オキセタン、3,3−ジフロロ−2−(アクリロイルオキシメチル)オキセタン、3,4−ジフロロ−2−(アクリロイルオキシメチル)オキセタン、4,4−ジフロロ−2−(アクリロイルオキシメチル)オキセタン、2−(アクリロイルオキシメチル)−3,3,4−トリフロロオキセタン、2−(アクリロイルオキシメチル)−3,4,4−トリフロロオキセタン、2−(アクリロイルオキシメチル)−3,3,4,4−テトラフロロオキセタン、2−(アクリロイルオキシエチル)オキセタン、2−(2−(2−メチルオキセタニル))エチルメタクリレート、2−(2−(3−メチルオキセタニル))エチルメタクリレート、2−(アクリロイルオキシエチル)−2−メチルオキセタン、2−(アクリロイルオキシエチル)−4−メチルオキセタン、2−(アクリロイルオキシエチル)−2−トリフロロメチルオキセタン、2−(アクリロイルオキシエチル)−3−トリフロロメチルオキセタン、2−(アクリロイルオキシエチル)−4−トリフロロメチルオキセタン、2−(アクリロイルオキシエチル)−2−ペンタフロロエチルオキセタン、2−(アクリロイルオキシエチル)−3−ペンタフロロエチルオキセタン、2−(アクリロイルオキシエチル)−4−ペンタフロロエチルオキセタン、2−(アクリロイルオキシエチル)−2−フェニルオキセタン、2−(アクリロイルオキシエチル)−3−フェニルオキセタン、2−(アクリロイルオキシエチル)−4−フェニルオキセタン、2,3−ジフロロ−2−(アクリロイルオキシエチル)オキセタン、2,4−ジフロロ−2−(アクリロイルオキシエチル)オキセタン、3,3−ジフロロ−2−(アクリロイルオキシエチル)オキセタン、3,4−ジフロロ−2−(アクリロイルオキシエチル)オキセタン、4,4−ジフロロ−2−(アクリロイルオキシエチル)オキセタン、2−(アクリロイルオキシエチル)−3,3,4−トリフロロオキセタン、2−(アクリロイルオキシエチル)−3,4,4−トリフロロオキセタン、2−(アクリロイルオキシエチル)−3,3,4,4−テトラフロロオキセタン等の(メタ)アクリル酸エステルが挙げられる。
上記化合物(a3)は、単独でまたは2種以上を混合して使用することができる。
本発明における〔A〕共重合体は、共重合体〔α〕に、(a4)少なくとも1個のエチレン性不飽和基と、イソシアネート基、エポキシ基等の1個の官能基を有する化合物を反応させることにより得られるものである。
イソシアネート基含有不飽和化合物としては、例えば、
2−アクリロイルオキシエチルイソシアネート、3−アクリロイルオキシプロピルイソシアネート、4−アクリロイルオキシブチルイソシアネート、6−アクリロイルオキシヘキシルイソシアネート、8−アクリロイルオキシオクチルイソシアネート、10−アクリロイルオキシデシルイソシアネート、1,1−(ビスアクリロイルオキシメチル)エチルイソシアネートの如きアクリル酸誘導体;
2−メタクリロイルオキシエチルイソシアネート、3−メタクリロイルオキシプロピルイソシアネート、4−メタクリロイルオキシブチルイソシアネート、6−メタクリロイルオキシヘキシルイソシアネート、8−メタクリロイルオキシオクチルイソシアネート、10−メタクリロイルオキシデシルイソシアネート、1,1−(ビスメタクリロイルオキシメチル)エチルイソシアネートの如きメタクリル酸誘導体
を挙げることができる。
これらの不飽和イソシアナート化合物のうち、共重合体〔α〕との反応性の点から、2−アクリロイルオキシエチルイソシアネート、2−メタクリロイルオキシエチルイソシアネート等が好ましい。
アクリル酸グリシジル、アクリル酸2−メチルグリシジル、4−ヒドロキシブチルアクリレートグリシジルエーテル、アクリル酸3,4−エポキシブチル、アクリル酸6,7−エポキシヘプチル、アクリル酸3,4−エポキシシクロヘキシル等のアクリル酸エポキシ(シクロ)アルキルエステル;
メタクリル酸グリシジル、メタクリル酸2−メチルグリシジル、メタクリル酸3,4−エポキシブチル、メタクリル酸6,7−エポキシヘプチル、メタクリル酸3,4−エポキシシクロヘキシル等のメタクリル酸エポキシ(シクロ)アルキルエステル;
α−エチルアクリル酸グリシジル、α−n−プロピルアクリル酸グリシジル、α−n−ブチルアクリル酸グリシジル、α−エチルアクリル酸6,7−エポキシヘプチル、α−エチルアクリル酸3,4−エポキシシクロヘキシル等の他のα−アルキルアクリル酸エポキシ(シクロ)アルキルエステル;
o−ビニルベンジルグリシジルエーテル、m−ビニルベンジルグリシジルエーテル、p−ビニルベンジルグリシジルエーテル等のグリシジルエーテル
等を挙げることができる。
本発明において、共重合体〔α〕とイソシアネート基含有不飽和化合物との反応は、例えば、ジラウリン酸ジ−n−ブチルすず(IV)等の触媒やp−メトキシフェノール等の重合禁止剤を含む共重合体〔α〕溶液に、室温または加温下で、攪拌しつつ、イソシアネート基含有不飽和化合物を投入することによって実施することができる。
上記の共重合体〔A〕を含む感放射線性樹脂組成物は、現像する際に現像残りを生じることなく容易に所定パターン形状を形成することができる。
前記〔A〕光重合性不飽和基を有する共重合体は、単独でまたは2種以上を混合して使用することができる。
また、本発明においては、他のアルカリ可溶性樹脂を1種以上、〔A〕光重合性不飽和基を有する共重合体と併用することもできる。
本発明の感放射線性樹脂組成物における〔B〕重合性不飽和化合物としては、2官能以上のアクリレートおよびメタクリレート(以下、「(メタ)アクリレート」という。)が好ましい。
本発明において、重合性不飽和化合物は、単独でまたは2種以上を混合して使用することができる。
〔C〕感放射線性重合開始剤は、放射線に感応して、〔B〕重合性不飽和化合物の重合を開始しうる活性種を生じる成分である。
このような〔C〕感放射線性重合開始剤としては、O−アシルオキシム系化合物、アセトフェノン系化合物、ビイミダゾール系化合物、ベンゾイン系化合物、ベンゾフェノン系化合物、α−ジケトン系化合物、多核キノン系化合物、キサントン系化合物、ホスフィン系化合物、トリアジン系化合物等を挙げることができる。
エタノン、1−〔9−エチル−6−〔2−メチル−4−(2,2−ジメチル−1,3−ジオキソラニル)メトキシベンゾイル〕−9.H.−カルバゾール−3−イル〕−、1−(O−アセチルオキシム)が好ましい。
前記アセトフェノン系化合物としては、例えば、α−ヒドロキシケトン系化合物、α−アミノケトン系化合物等を挙げることができる。
本発明においては、アセトフェノン系化合物を併用することにより、感度、スペーサー形状や圧縮強度をさらに改善することが可能となる。
本発明においては、ビイミダゾール系化合物を併用することにより、感度、解像度や密着性をさらに改善することが可能となる。
また、ビイミダゾール系化合物を併用する場合、それを増感するため、ジアルキルアミノ基を有する脂肪族系または芳香族系の化合物(以下、「アミノ系増感剤」という。)を添加することができる。
これらのアミノ系増感剤のうち、特に4,4’−ビス(ジエチルアミノ)ベンゾフェノンが好ましい。
前記アミノ系増感剤は、単独でまたは2種以上を混合して使用することができる。
また、ビイミダゾール系化合物とアミノ系増感剤とを併用する場合、アミノ系増感剤の添加量は、ビイミダゾール系化合物100重量部に対して、好ましくは0.1〜50重量部、さらに好ましくは1〜20重量部である。アミノ系増感剤の添加量が0.1重量部未満では、感度、解像度や密着性の改善効果が低下する傾向があり、一方50重量部を超えると、得られるスペーサーの形状が損なわれる傾向がある。
また、ビイミダゾール系化合物とアミノ系増感剤とを併用する場合、チオール系化合物の添加量は、ビイミダゾール系化合物100重量部に対して、好ましくは0.1〜50重量部、さらに好ましくは1〜20重量部である。チオール系化合物の添加量が0.1重量部未満では、スペーサーの形状の改善効果が低下したり、膜減りを生じやすくなる傾向があり、一方50重量部を超えると、得られるスペーサーの形状が損なわれる傾向がある。
ビス(p−トリル)ヨードニウム テトラキス(ペンタフルオロフェニル)ボレート、(p−トリル)(p−イソプロピルフェニル)ヨードニウム テトラキス(ペンタフルオロフェニル)ボレート等のヨードニウム塩が挙げられる。
これらの感放射線カチオン重合開始剤の市販品としては、例えばジアゾニウム塩であるアデカウルトラセットPP−33(旭電化工業(株)製)、スルホニウム塩であるOPTOMER SP−150、同−170(旭電化工業(株)製)、およびメタロセン化合物であるIrgacure261(チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製)などが挙げられる。
上記の感放射線重合開始剤は、単独で、または2種類以上を混合して使用することができる。
感放射線性樹脂組成物において、他の感放射線重合開始剤の使用割合は、全感放射線重合開始剤100重量部に対して、好ましくは100重量部以下、さらに好ましくは80重量部以下、特に好ましくは60重量部以下である。他の感放射線重合開始剤の使用割合が100重量部を超えると、本発明の所期の効果が損なわれるおそれがある。
本発明の感放射線性樹脂組成物には、必要に応じて、本発明の効果を損なわない範囲で上記以外の任意添加剤、例えば、接着助剤、界面活性剤、保存安定剤、耐熱性向上剤などを配合することができる。
上記接着助剤は、形成されたスペーサーと基板との接着性を向上させるために使用する成分である。
接着助剤の配合量は、〔A〕重合体100重量部に対して、好ましくは20重量部以下、さらに好ましくは15重量部以下である。接着助剤の配合量が20重量部を超えると、現像残りを生じやすくなる傾向がある。
また、上記界面活性剤は、塗布性を向上させるために使用する成分である。
このような界面活性剤としては、例えば、フッ素系界面活性剤、シリコーン系界面活性剤などが好ましい。
界面活性剤の配合量は、〔A〕ブロック共重合体100重量部に対して、好ましくは1.0重量部以下、さらに好ましくは0.5重量部以下である。この場合、界面活性剤の配合量が1.0重量部を超えると、膜ムラを生じやすくなる傾向がある。
上記保存安定剤としては、例えば、硫黄、キノン類、ヒドロキノン類、ポリオキシ化合物、アミン、ニトロニトロソ化合物などを挙げることができ、より具体的には、4−メトキシフェノール、N−ニトロソ−N−フェニルヒドロキシルアミンアルミニウムなどを挙げることができる。
これらの保存安定剤は、単独でまたは2種以上を混合して使用することができる。
保存安定剤の配合量は、〔A〕ブロック共重合体100重量部に対して、好ましくは3.0重量部以下、さらに好ましくは0.5重量部以下である。保存安定剤の配合量が3.0重量部を超えると、感度が低下してパターン形状が劣化するおそれがある。
例えば、N−(アルコキシメチル)グリコールウリル化合物、N−(アルコキシメチル)メラミン化合物などを挙げることができる。
上記N−(アルコキシメチル)メラミン化合物としては、例えば、N,N,N’,N’,N’’,N’’−ヘキサ(メトキシメチル)メラミン、N,N,N’,N’,N’’,N’’−ヘキサ(エトキシメチル)メラミン、N,N,N’,N’,N’’,N’’−ヘキサ(n−プロポキシメチル)メラミン、N,N,N’,N’,N’’,N’’−ヘキサ(i−プロポキシメチル)メラミン、N,N,N’,N’,N’’,N’’−ヘキサ(n−ブトキシメチル)メラミン、N,N,N’,N’,N’’,N’’−ヘキサ(t−ブトキシメチル)メラミンなどを挙げることができる。
これらのN−(アルコキシメチル)メラミン化合物のうち、N,N,N’,N’,N’’,N’’−ヘキサ(メトキシメチル)メラミンが好ましく、その市販品としては、例えば、ニカラックN−2702、同MW−30M(以上 三和ケミカル(株)製)などを挙げることができる。
本発明の感放射線性樹脂組成物は、上記の〔A〕光重合性不飽和基を有する共重合体、〔B〕成分、〔C〕成分および上記の如き任意的に添加するその他の成分を均一に混合することによって調製される。本発明の感放射線性樹脂組成物は、好ましくは適当な溶媒に溶解されて溶液状態で用いられる。例えば〔A〕光重合性不飽和基を有する共重合体、〔B〕成分、〔C〕成分および任意的に添加されるその他の成分を、所定の割合で混合することにより、溶液状態の感放射線性樹脂組成物を調製することができる。
このような溶媒としては、上述した〔A〕光重合性不飽和基を有する共重合体を製造するために使用できる溶媒として例示したものと同様のものを挙げることができる。
本発明の感放射線性樹脂組成物を溶液状態として調製する場合、溶液中に占める溶媒以外の成分、すなわち〔A〕光重合性不飽和基を有する共重合体、〔B〕成分および〔C〕成分ならびに任意的に添加されるその他の成分の合計量の割合は、使用目的や所望の膜厚の値などに応じて任意に設定することができ、例えば5〜50重量%、好ましくは7〜40重量%、さらに好ましくは10〜35重量%である。
このようにして調製された組成物溶液は、孔径0.5μm程度のミリポアフィルタなどを用いて濾過した後、使用に供することもできる。
次に、本発明の感放射線性樹脂組成物を用いて本発明のスペーサーを形成する方法について説明する。
本発明のスペーサーの形成方法は、以下の工程を以下に記載の順序で実施することを特徴とするものである。
(2)上記被膜の少なくとも一部に露光する工程、
(3)露光後の被膜を現像する工程、および
(4)現像後の被膜を加熱する工程。
透明基板の一面に透明導電膜を形成し、該透明導電膜の上に、本発明の感放射線性樹脂組成物の組成物溶液を塗布したのち、塗布面を加熱(プレベーク)することにより、被膜を形成する。
スペーサーの形成に用いられる透明基板としては、例えば、ガラス基板、樹脂基板などを挙げることができ、より具体的には、ソーダライムガラス、無アルカリガラスなどのガラス基板;ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリエーテルスルホン、ポリカーボネート、ポリイミドなどのプラスチックからなる樹脂基板を挙げることができる。
組成物溶液の塗布方法としては、特に限定されず、例えば、スプレー法、ロールコート法、回転塗布法(スピンコート法)、スリットダイ塗布法(スピンレス法)、バー塗布法、インクジェット塗布法などの適宜の方法を採用することができ、特にスピンコート法、スリットダイ塗布法が好ましい。
また、プレベークの条件は、各成分の種類、配合割合などによっても異なるが、好ましくは70〜120℃で1〜15分間程度である。
なお、被膜のプレベーク後の膜厚は、特に限定されないが、好ましくは0.5〜10μm、より好ましくは1.0〜7.0μm程度である。
本発明の感光性樹脂組成物の被膜を形成する方法としては、他にドライフィルム法によることができる。
また、本発明の感光性樹脂組成物の被膜を形成する際に、ドライフィルム法を採用する場合、該ドライフィルムは、ベースフィルム、好ましくは可とう性のベースフィルム上に、本発明の感光性樹脂組成物からなる感光性層を積層してなるもの(以下、「感光性ドライフィルム」という)である。
これらカバーフィルムは、必要に応じて2層もしくは3層のカバーフィルムを積層することができる。
次いで、形成された被膜の少なくとも一部に放射線を露光する。この場合、被膜の一部に露光する際には、所定のパターンを有するフォトマスクを介して露光する。
露光に使用される放射線としては、例えば可視光線、紫外線、遠紫外線などを使用することができる。波長が190〜450nmの範囲にある放射線が好ましく、特に365nmの紫外線を含む放射線が好ましい。
露光量は、露光される放射線の波長365nmにおける強度を照度計(OAI model 356 、OAI Optical Associates Inc.製)により測定した値として、好ましくは100〜10,000J/m2、より好ましくは1,500〜3,000J/m2である。
次いで、露光後の被膜を現像することにより、不要な部分を除去して、所定のパターンを形成する。
現像方法としては、液盛り法、ディッピング法、シャワー法などのいずれでもよく、現像時間は、好ましくは常温で10〜180秒間程度である。
現像後、例えば流水洗浄を30〜90秒間行ったのち、例えば圧縮空気や圧縮窒素で風乾させることによって、所望のパターンが形成される。
次いで、得られたパターン(被膜)を、例えばホットプレート、オーブンなどの加熱装置により、所定温度、例えば180〜240℃で、所定時間、例えばホットプレート上では5〜30分間、オーブン中では15〜180分間、加熱(ポストベーク)することにより、所定のスペーサーを得ることができる。
本発明の液晶表示素子は、以下の方法により作製される。まず、液晶配向能を有する配向膜が形成された基板を2枚作成し、それぞれの配向膜における液晶配向方向が直交または逆平行となるように、2枚の基板を間隙(セルギャップ)を介して対向させ、2枚の基板の周辺部を本発明のスペーサーを介して貼り合わせ、基板の表面およびスペーサーにより区画されたセルギャップ内に液晶を充填し、充填孔を封止して液晶セルを構成する。そして、液晶セルの外表面、すなわち、液晶セルを構成するそれぞれの基板の他面側に、偏光板を、その偏光方向が当該基板の一面に形成された配向膜の液晶配向方向と一致または直交するように貼り合わせることにより、本発明の液晶表示素子を得る。
また、液晶セルの外側に使用される偏光板としては、ポリビニルアルコールを延伸配向させながら、ヨウ素を吸収させたH膜と呼ばれる偏光膜を酢酸セルロース保護膜で挟んだ偏光板またはH膜そのものからなる偏光板などを挙げることができる。
装置:GPC−101(昭和電工(株)製)
カラム:GPC−KF−801、GPC−KF−802、GPC−KF−803およびGPC−KF−804を結合
移動相:リン酸0.5重量%を含むテトラヒドロフラン
合成例1
冷却管、撹拌機を備えたフラスコに、ピラゾール−1−ジカルボン酸シアノ(ジメチル)メチルエステル4重量部、酢酸3−メトキシブチル250重量部を仕込み、引き続いてメタクリル酸18重量部、スチレン5重量部、メタクリル酸トリシクロ[5.2.1.02,6]デカン−8−イル30重量部、メタクリル酸テトラヒドロフラン−2−イル17重量部、メタクリル酸ベンジル30重量部を仕込んで、窒素置換したのち、緩やかに攪拌しつつ、溶液の温度を70℃に上昇させる。70℃に達した段階で2,2’−アゾビス(2,4−ジメチルバレロニトリル)を2重量部添加し、この温度を3時間保持して重合後、メタクリル酸2−(6−ヒドロキシエチルヘキサノイルオキシ)エチルエステル(商品名PLACCEL FM1D(ダイセル化学工業(株)製)20重量部を添加し、更に3時間保持することにより、固形分濃度31.0重量%の共重合体〔α〕溶液を得た。この〔α〕重合体を、重合体(α−1)とする。
次いで、前記共重合体〔α〕溶液に、2−メタクリロイルオキシエチルイソシアネート(商品名カレンズMOI、昭和電工(株)製)10重量部、4−メトキシフェノール0.08重量部を添加したのち、60℃で2時間攪拌して反応させることにより、固形分濃度32.6重量%の〔A〕重合体溶液を得た。この〔A〕重合体を、重合体(A−1)とする。
冷却管、撹拌機を備えたフラスコに、ピラゾール−1−ジカルボン酸シアノ(ジメチル)メチルエステル4重量部、ジエチレングリコールメチルエチルエーテル250重量部を仕込み、引き続いてメタクリル酸18重量部、スチレン5重量部、メタクリル酸トリシクロ[5.2.1.02,6]デカン−8−イル30重量部、メタクリル酸テトラヒドロフラン−2−イル17重量部、メタクリル酸ベンジル30重量部を仕込んで、窒素置換したのち、緩やかに攪拌しつつ、溶液の温度を70℃に上昇させる。70℃に達した段階で2,2’−アゾビス(2,4−ジメチルバレロニトリル)を2重量部添加し、この温度を3時間保持して重合後、メタクリル酸2−ヒドロキシエチルエステル20重量部を添加し、更に3時間保持することにより、固形分濃度31.1重量%の共重合体〔α〕溶液を得た。この〔α〕重合体を、重合体(α−2)とする。
次いで、前記共重合体〔α〕溶液に、2−メタクリロイルオキシエチルイソシアネート(商品名カレンズMOI、昭和電工(株)製)10重量部、4−メトキシフェノール0.08重量部を添加したのち、60℃で2時間攪拌して反応させることにより、固形分濃度32.7重量%の〔A〕重合体溶液を得た。この〔A〕重合体を、重合体(A−2)とする。
冷却管、撹拌機を備えたフラスコに、ピラゾール−1−ジカルボン酸シアノ(ジメチル)メチルエステル4重量部、ジエチレングリコールメチルエチルエーテル250重量部を仕込み、引き続いてメタクリル酸10重量部、アクリル酸4重量部、スチレン5重量部、メタクリル酸ブチル41重量部、メタクリル酸ベンジル40重量部を仕込んで、窒素置換したのち、緩やかに攪拌しつつ、溶液の温度を70℃に上昇させる。70℃に達した段階で2,2’−アゾビス(2,4−ジメチルバレロニトリル)を2重量部添加し、この温度を3時間保持して重合後、メタクリル酸2−(6−ヒドロキシエチルヘキサノイルオキシ)エチルエステル(商品名PLACCEL FM1D(ダイセル化学工業(株)製20重量部を添加し、更に3時間保持することにより、固形分濃度31.3重量%の共重合体〔α〕溶液を得た。この〔α〕重合体を、重合体(α−3)とする。
次いで、前記共重合体〔α〕溶液に、2−アクリロイルオキシエチルイソシアネート(商品名カレンズAOI、昭和電工(株)製)10重量部、4−メトキシフェノール0.08重量部を添加したのち、60℃で2時間攪拌して反応させることにより、固形分濃度32.8重量%の〔A〕重合体溶液を得た。この〔A〕重合体を、重合体(A−3)とする。
冷却管、撹拌機を備えたフラスコに、ピラゾール−1−ジカルボン酸シアノ(ジメチル)メチルエステル4重量部、ジエチレングリコールメチルエチルエーテル250重量部を仕込み、引き続いてメタクリル酸18重量部、スチレン5重量部、メタクリル酸トリシクロ[5.2.1.02,6]デカン−8−イル30重量部、メタクリル酸テトラヒドロフラン−2−イル17重量部、メタクリル酸グリシジル10重量部、メタクリル酸ベンジル20重量部を仕込んで、窒素置換したのち、緩やかに攪拌しつつ、溶液の温度を70℃に上昇させる。70℃に達した段階で2,2’−アゾビス(2,4−ジメチルバレロニトリル)を2重量部添加し、この温度を3時間保持して重合後、メタクリル酸2−(6−ヒドロキシエチルヘキサノイルオキシ)エチルエステル(商品名PLACCEL FM1D(ダイセル化学工業(株)製)20重量部を添加し、更に3時間保持することにより、固形分濃度31.1重量%の共重合体〔α〕溶液を得た。この〔α〕重合体を、重合体(α−4)とする。
次いで、前記共重合体〔α〕溶液に、2−メタクリロイルオキシエチルイソシアネート(商品名カレンズMOI、昭和電工(株)製)10重量部、4−メトキシフェノール0.08重量部を添加したのち、60℃で2時間攪拌して反応させることにより、固形分濃度31.6重量%の〔A〕重合体溶液を得た。この〔A〕重合体を、重合体(A−4)とする。
冷却管、撹拌機を備えたフラスコに、ピラゾール−1−ジカルボン酸シアノ(ジメチル)メチルエステル4重量部、ジエチレングリコールメチルエチルエーテル250重量部を仕込み、引き続いてメタクリル酸18重量部、スチレン5重量部、メタクリル酸トリシクロ[5.2.1.02,6]デカン−8−イル30重量部、メタクリル酸テトラヒドロフラン−2−イル17重量部、メタクリル酸2−メチルグリシジル10重量部、メタクリル酸ベンジル20重量部を仕込んで、窒素置換したのち、緩やかに攪拌しつつ、溶液の温度を70℃に上昇させる。70℃に達した段階で2,2’−アゾビス(2,4−ジメチルバレロニトリル)を2重量部添加し、この温度を3時間保持して重合後、メタクリル酸2−(6−ヒドロキシエチルヘキサノイルオキシ)エチルエステル(商品名PLACCEL FM1D(ダイセル化学工業(株)製)20重量部を添加し、更に3時間保持することにより、固形分濃度31.0重量%の共重合体〔α〕溶液を得た。この〔α〕重合体を、重合体(α−5)とする。
次いで、前記共重合体〔α〕溶液に、4−メトキシフェノール0.08重量部を添加したのち、60℃で2時間攪拌して反応させることにより、固形分濃度31.5重量%の〔A〕重合体溶液を得た。この〔A〕重合体を、重合体(A−5)とする。
冷却管、撹拌機を備えたフラスコに、ピラゾール−1−ジカルボン酸シアノ(ジメチル)メチルエステル4重量部、ジエチレングリコールメチルエチルエーテル250重量部を仕込み、引き続いてスチレン5重量部、メタクリル酸トリシクロ[5.2.1.02,6]デカン−8−イル30重量部、メタクリル酸テトラヒドロフラン−2−イル17重量部、メタクリル酸ベンジル25重量部を仕込んで、窒素置換したのち、緩やかに攪拌しつつ、溶液の温度を70℃に上昇させる。70℃に達した段階で2,2’−アゾビス(2,4−ジメチルバレロニトリル)を2重量部添加し、この温度を3時間保持して重合後、メタクリル酸23重量部を添加し、更に3時間保持することにより、重合することにより、固形分濃度27.7重量%の共重合体〔α〕溶液を得た。この〔α〕重合体を、重合体(α−6)とする。
次いで、前記共重合体〔α〕溶液に、メタクリル酸グリシジル10重量部、4−メトキシフェノール0.08重量部、テトラブチルアンモニウムブロミド0.07重量部を添加したのち、60℃で2時間攪拌して反応させることにより、固形分濃度29.4重量%の〔A〕重合体溶液を得た。この〔A〕重合体を、重合体(A−6)とする。
冷却管、撹拌機を備えたフラスコに、2,2’−アゾビスイソブチロニトリル5重量部、ジエチレングリコールメチルエチルエーテル250重量部を仕込み、引き続いてメタクリル酸18重量部、メタクリル酸トリシクロ[5.2.1.02,6]デカン−8−イル30重量部、スチレン5重量部、メタクリル酸2−ヒドロキシエチルエステル25重量部、メタクリル酸テトラヒドロフラン−2−イル17重量部を仕込んで、窒素置換したのち、緩やかに攪拌しつつ、溶液の温度を80℃に上昇させ、この温度を4時間保持し、その後100℃に上昇させ、この温度を1時間保持して重合することにより、固形分濃度28.0重量%の共重合体〔β−1〕溶液を得た。
次いで、前記共重合体〔β−1〕溶液に、2−メタクリロイルオキシエチルイソシアネート(商品名カレンズMOI、昭和電工(株)製)14重量部、4−メトキシフェノール0.08重量部を添加したのち、60℃で2時間攪拌して反応させることにより、固形分濃度30.9重量%の重合体(a−1)溶液を得た。
冷却管、撹拌機を備えたフラスコに、2,2’−アゾビスイソブチロニトリル5重量部、ジエチレングリコールメチルエチルエーテル250重量部を仕込み、引き続いてメタクリル酸18重量部、メタクリル酸トリシクロ[5.2.1.02,6]デカン−8−イル30重量部、スチレン5重量部、ブタジエン5重量部、メタクリル酸6−ヒドロキシヘキシルエステル25重量部、メタクリル酸テトラヒドロフラン−2−イル17重量部を仕込んで、窒素置換したのち、緩やかに攪拌しつつ、溶液の温度を80℃に上昇させ、この温度を4時間保持し、その後100℃に上昇させ、この温度を1時間保持して重合することにより、固形分濃度27.5重量%の共重合体(a−2)溶液を得た。
得られた共重合体(a−2)について、MwをGPCを用いて測定したところ、14,000であった。
(I)感放射線性樹脂組成物の調製
上記合成例重合体〔A〕、〔B〕および〔C〕成分、さらに、接着助剤としてγ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン5重量部、界面活性剤としてFTX−218(商品名、(株)ネオス製)0.5重量部、保存安定剤として4−メトキシフェノール0.5重量部を混合し、固形分濃度が20重量%になるようにプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートに溶解したのち、孔径0.5μmのミリポアフィルタでろ過して、組成物溶液を調製した。各成分の量を表1に示す。
なお、実施例7〜8については下記に示すドライフィルム法を用いて実施した。実施例7〜8については上記調製において固形分濃度50重量%になるよう調製した。
スピンナーを用いて塗膜する代わりに、感放射線性樹脂組成物の液状組成物をドライフィルム法で塗膜を作成した以外は、実施例1〜6と同様にして、パターン状薄膜を形成して評価した。各成分を表1に示す。なお、露光工程前にベースフィルムの剥離除去を行った。評価結果を表2に示す。
ドライフィルムの作成および転写は以下のごとく行った。
厚さ38μmのポリエチレンテレフタレート(PET)フィルム上に、アプリケーターを用いて感放射線性樹脂組成物の液状組成物を塗布し、塗膜を100℃で5分間加熱し、厚さ4μmの感放射線性ドライフィルムを作製した。次に、ガラス基板の表面に、感放射線性転写層の表面が当接されるように感放射線性転写ドライフィルムを重ね合わせ、熱圧着法で感放射線性ドライフィルムをガラス基板に転写した。
実施例7と同様にして、感放射線性ドライフィルムを作製後、パターン状薄膜を形成して評価した。各成分を表1に示す。評価結果を表2に示す。
合成例に記載
A−1〜A−6
(B)成分
B−1:ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート
(C)成分
C−1:1−〔9−エチル−6−(2−メチルベンゾイル)−9.H.−カルバゾール−3−イル〕−エタン−1−オンオキシム−O−アセタート(商品名IRGACURE OXE 02、チバ・スペシャルティー・ケミカルズ社製)
C−2:2−(4−メチルベンゾイル)−2−(ジメチルアミノ)−1−(4−モルフォリノフェニル)−ブタン−1−オン(商品名イルガキュア379、チバ・スペシャルティー・ケミカルズ社製)
上記に示すように調製した組成物の評価を以下のように実施した。評価結果を表2に示す。
無アルカリガラス基板上にスピンナーを用いて、前記組成物溶液を塗布したのち、80℃のホットプレート上で3分間プレベークして、膜厚4.0μmの被膜を形成した。ドライフィルムの場合、実施例7で示した方法により被膜を形成した。
次いで、得られた被膜に、15μm角の残しパターンを有するフォトマスクを介して、365nmにおける強度が250W/m2の紫外線を10秒間露光した。その後、水酸化カリウムの0.05重量%水溶液により、25℃で60秒間現像したのち、純水で1分間洗浄した。その後、オーブン中、230℃で20分間ポストベークすることにより、所定パターンのスペーサーを形成した。
露光量を変量とした以外は前記(II)スペーサーの形成と同様にして、スペーサーを形成したとき、現像後の残膜率(現像後の膜厚×100/初期膜厚。以下同様。)が90%以上になる露光量を感度とした。この露光量が1,000J/m2以下のとき、感度が良好といえる。以下の評価項目はそれぞれの実施例における感度でパターン形成した。
前記(II)で現像時に現像時間を40秒間に短縮した時、パターンが形成されている場合を良好(○)、残渣が生じている場合を不良(×)として評価した。評価結果を表2に示す。
前記(II)でパターンを形成したとき、残しパターンが解像できている場合を良好(○)、解像できていない場合を不良(×)として評価した。評価結果を表2に示す。
前記(II)で得たパターンについて、微小圧縮試験機(DUH−201、(株)島津製作所製)を用い、直径50μmの平面圧子により、50mNの荷重を加えたときの変形量を、測定温度23℃で測定した。この値が0.5μm以上のとき、圧縮変位量は良好といえる。評価結果を表2に示す。
前記(II)で得たパターンについて、更にオーブン中で230℃で20分放置した後、スペーサーの高さ変化が2%未満であれば良好(○)、2%〜4%未満であればやや良好(△)、4%以上であれば不良(×)として評価した。評価結果を表2に示す
前記(II)で得たパターンを形成した基板に、液晶配向剤としてAL3046(商品名、JSR(株)製)を液晶配向膜塗布用印刷機に用いて塗布したのち、180℃で1時間乾燥して、乾燥膜厚0.05μmの配向剤の塗膜を形成した。その後、この塗膜に、ポリアミド製の布を巻き付けたロールを有するラビングマシーンを用い、ロールの回転数500rpm、ステージの移動速度1cm/秒として、ラビング処理を行った。このとき、パターンの削れや剥がれの有無を評価した。評価結果を表2に示す。
Claims (8)
- [A]リビングラジカル重合で得られた、光重合性不飽和基を有する共重合体、[B]重合性不飽和化合物、および[C]感放射線性重合開始剤を含有することを特徴とする感放射線性樹脂組成物。
- [A]光重合性不飽和基を有する共重合体が2つ以上のブロックセグメントを有し、そのうち少なくとも1つのブロックセグメントが、光重合性不飽和基を有している請求項1に記載の感放射線性樹脂組成物。
- [A]光重合性不飽和基を有する共重合体がアルカリ可溶性重合性不飽和化合物および/または不飽和カルボン酸無水物、あるいはそれらカルボン酸の保護化物に由来する重合単位を少なくとも1つ含有している請求項1〜2に記載の感放射線性樹脂組成物。
- [A]光重合性不飽和基を有する共重合体が、下記式(1)、(2)または(3)のそれぞれで表されるチオカルボニルチオ化合物を分子量制御剤として用いる重合により製造されたものである請求項1〜3のいずれかに記載の感放射線性樹脂組成物。
−OX1、−SX1、−OC(=O)X1、−N(X1)(X2)、−C(=O)OX1、
−C(=O)N(X1)(X2)、−P(=O)(OX1)2、−P(=O)(X1)2または重合体鎖を有する1価の基を示し、X1およびX2は相互に独立に炭素数1〜18のアルキル基、炭素数2〜18のアルケニル基、炭素数6〜18の1価の芳香族炭化水素基または炭素原子と異項原子との合計原子数3〜18の1価の複素環式基を示し、前記炭素数1〜20のアルキル基、炭素数6〜20の1価の芳香族炭化水素基、炭素原子と異項原子との合計原子数3〜20の1価の複素環式基、X1およびX2はそれぞれ置換されていてもよい。〕 - 請求項1に記載の感放射線性樹脂組成物からなる、液晶表示素子用スペーサーの形成に用いられる感放射線性樹脂組成物。
- 請求項5に記載の感放射線性樹脂組成物から形成されてなる液晶表示素子用スペーサー。
- 少なくとも以下の工程を以下に記載の順序で含むことを特徴とする液晶表示素子用スペーサーの形成方法。
(イ)請求項5に記載の感放射線性樹脂組成物の被膜を基板上に形成する工程、
(ロ)該被膜の少なくとも一部に露光する工程、
(ハ)露光後の該被膜を現像する工程、および
(ニ)現像後の該被膜を加熱する工程。 - 請求項6に記載のスペーサーを具備する液晶表示素子。
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