JP4747776B2 - Organic EL panel, organic EL display, and manufacturing method thereof - Google Patents

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Description

本発明は、有機ELパネル、有機ELディスプレイおよびその製造方法に関する。   The present invention relates to an organic EL panel, an organic EL display, and a manufacturing method thereof.

有機ELディスプレイパネルの作製方式としては、電界をかけることにより赤・青・緑にそれぞれ発光する有機EL素子を配列する「3色発光方式」、および有機EL素子の発する白色の発光を、カラーフィルターでカットし、赤・青・緑を表現する「カラーフィルター方式」、さらに、有機EL素子の発する近紫外光、青色光、青緑色光または白色光を吸収し、波長分布変換を行って可視光域の光を発光する色変換色素を含む色変換層を用いる「色変換方式」が提案されている。   Organic EL display panel production methods include “three-color light emission method” in which organic EL elements that emit red, blue, and green light when applied to an electric field, and white light emitted by organic EL elements using color filters. "Color filter system" that expresses red, blue, and green, and absorbs near-ultraviolet light, blue light, blue-green light, or white light emitted by organic EL elements, and converts the wavelength distribution to visible light A “color conversion method” using a color conversion layer including a color conversion pigment that emits light in the region has been proposed.

これらの方式の内、成膜時にメタルマスクを用いる必要がなく、フォトプロセスを用いて所望の形状および配列を有するカラーフィルター層および/または色変換層を形成することができるという点において、「カラーフィルター方式」および「色変換方式」がディスプレイの大画面化および高精細化に有利であると考えられている。   Among these methods, a color mask layer and / or a color conversion layer having a desired shape and arrangement can be formed by using a photo process without using a metal mask during film formation. The “filter method” and “color conversion method” are considered to be advantageous for increasing the screen size and resolution.

カラーディスプレイとしての実用上の重要課題は、精細なカラー表示機能を有すると共に、色再現性を含め長期的な安定性を有することである。しかしながら、カラー有機ELディスプレイには、一定期間の駆動により発光特性(電流−輝度特性)が低下するという欠点を有している。   An important practical issue as a color display is that it has a fine color display function and has long-term stability including color reproducibility. However, the color organic EL display has a drawback that the light emission characteristics (current-luminance characteristics) are lowered by driving for a certain period.

この発光特性の低下原因の代表的なものは、ダークスポットの成長である。ダークスポットとは、発光欠陥点のことである。駆動時および保存中に酸化が進むとダークスポットの成長が進み、発光面全体に広がる。このダークスポットは、素子中の酸素または水分により、素子を構成する積層材料が酸化または凝集することによるものと考えられている。その成長は、通電中はもちろん、保存中にも進行し、特に(1)素子の周囲に存在する酸素または水分により加速され、(2)有機積層膜中に吸着物として存在する酸素または水分に影響され、および(3)素子作製時の部品に吸着している水分あるいは製造時等における水分の侵入にも影響されると考えられている。   A typical cause of the deterioration of the light emission characteristics is the growth of dark spots. A dark spot is a light emitting defect point. When oxidation proceeds during driving and during storage, the growth of dark spots proceeds and spreads over the entire light emitting surface. This dark spot is considered to be caused by oxidation or aggregation of the laminated material constituting the element due to oxygen or moisture in the element. The growth proceeds not only during energization but also during storage. In particular, the growth is accelerated by (1) oxygen or moisture present around the element, and (2) oxygen or moisture present as an adsorbate in the organic laminated film. And (3) it is considered that it is also affected by moisture adsorbed on components at the time of device fabrication or moisture intrusion at the time of production.

この水分の有機EL素子への侵入を妨げる手法として、基板上に絶縁性の水分・酸素遮断層を設けることが提案されてきている。水分・酸素遮断層として、ボリイミド変性シリコーン樹脂(たとえば、特許文献1〜3参照)などの有機樹脂を配設する技術、および膜厚0.01〜200μmの無機酸化物層(特許文献4参照)を配設する技術が知られている。無機酸化物膜層には、有機発光層の寿命を維持するために高い防湿性が要求される。   As a technique for preventing the moisture from entering the organic EL element, it has been proposed to provide an insulating moisture / oxygen barrier layer on the substrate. As a moisture / oxygen barrier layer, a technique for disposing an organic resin such as a polyimide-modified silicone resin (see, for example, Patent Documents 1 to 3), and an inorganic oxide layer having a thickness of 0.01 to 200 μm (see Patent Document 4) A technique for disposing the above is known. The inorganic oxide film layer is required to have high moisture resistance in order to maintain the life of the organic light emitting layer.

また、「カラーフィルター方式」および「色変換方式」の場合、カラーフィルター層上に形成した高分子膜層に、DCスパッタリングによりSiOx、SiNxを形成する方法があり、透明導電膜の密着性を向上させる効果が知られている(特許文献5および6参照)。また、低融点ガラスを焼結する方法がある(特許文献7参照)。   In the case of the “color filter method” and “color conversion method”, there is a method of forming SiOx and SiNx by DC sputtering on the polymer film layer formed on the color filter layer, thereby improving the adhesion of the transparent conductive film. The effect which makes it known is known (refer patent document 5 and 6). There is also a method of sintering low-melting glass (see Patent Document 7).

有機EL素子の性能低下に関しては、各所で活発な研究が行われており、これまでに様々な原因が発表されている。中でも、発光層をはじめとする有機EL層は酸素および水分への耐性が低い材料で構成されていることから、素子駆動時に放出される水分および酸素よる性能低下は深刻な問題である。   With regard to the performance degradation of organic EL elements, active research has been conducted in various places, and various causes have been announced so far. In particular, since the organic EL layer including the light emitting layer is made of a material having low resistance to oxygen and moisture, performance degradation due to moisture and oxygen released when the device is driven is a serious problem.

特開平5−134112号公報Japanese Patent Laid-Open No. 5-134112 特開平7−218717号公報JP-A-7-218717 特開平7−306311号公報JP-A-7-306311 特開平8−279394号公報JP-A-8-279394 特開平7−146480号公報Japanese Patent Laid-Open No. 7-146480 特開平10−10518号公報Japanese Patent Laid-Open No. 10-10518 特開2000−214318号公報JP 2000-214318 A 特開2003−233330号公報JP 2003-233330 A

しかしながら、「カラーフィルター方式」および「色変換方式」に水分・酸素遮断層として用いられる、SiOxまたはSiNxのような無機酸化物膜は、その中にピンホールが形成される場合があることが知られている。そのようなピンホールが形成された場合には、ピンホールを通って水分または酸素が有機EL層に到達して、ダークスポットが成長する恐れがある。特に、表示部際外周部ではダークスポットの成長が早いことが明らかとなっている。   However, it is known that an inorganic oxide film such as SiOx or SiNx used as a moisture / oxygen barrier layer in the “color filter system” and “color conversion system” may have pinholes formed therein. It has been. When such pinholes are formed, moisture or oxygen may reach the organic EL layer through the pinholes and dark spots may grow. In particular, it has been clarified that the dark spot grows rapidly at the outer peripheral portion near the display portion.

表示部外周では、ディスプレイ構造が異なるために、有機EL素子の駆動に伴う発熱によってディスプレイ内部の水分または酸素が基板から放出され、有機EL層に到達してダークスポットを成長させると考えられる。   Since the display structure is different on the outer periphery of the display unit, it is considered that moisture or oxygen inside the display is released from the substrate due to heat generated by driving the organic EL element, reaches the organic EL layer, and grows a dark spot.

表示部外周でのディスプレイ構造の違いに着目した技術として、特許文献8に記載のものがある。この技術は、インクジェット法でのインク吐出量の安定化、または蒸着法での気化材料の存在密度の均質化を目的としており、有効表示領域に隣接して、有機EL膜等の擬似画素群を形成している(請求項1、〔0007〕〔0014〕等)。擬似画素群は、有効表示領域と同様にバンク膜が最低限必要であるとしている。しかしながら、特許文献8に記載の技術の目的はEL機能層の均質化であるため、擬似画素群には「カラーフィルター層」および「色変換層」から放出される水分や酸素を遮断する機能を有していない。例えば、特許文献8には、ITO膜が無い実施例(実施例1)、ITO膜を島状に形成する実施例(実施例2、3)が記載されている。このように、特許文献8に記載の技術にあっては、透明導電膜の水分や酸素の遮断性能については考慮されていない。   As a technique paying attention to the difference in display structure on the outer periphery of the display unit, there is one described in Patent Document 8. This technology aims to stabilize the amount of ink ejected by the ink jet method or to homogenize the density of vaporized material by the vapor deposition method. Adjacent to the effective display area, a pseudo pixel group such as an organic EL film is formed. (Claim 1, [0007] [0014], etc.). The pseudo pixel group requires a bank film as a minimum as in the effective display area. However, since the purpose of the technique described in Patent Document 8 is to homogenize the EL functional layer, the pseudo pixel group has a function of blocking moisture and oxygen released from the “color filter layer” and the “color conversion layer”. I don't have it. For example, Patent Document 8 describes an example without an ITO film (Example 1) and an example in which an ITO film is formed in an island shape (Examples 2 and 3). As described above, in the technique described in Patent Document 8, the moisture and oxygen blocking performance of the transparent conductive film is not considered.

したがって、特に、カラーフィルターを用いた基板構造の場合において、有機EL層への水分および酸素の侵入を確実に阻止して、ダークスポットの発生を防止することが強く求められている。   Therefore, particularly in the case of a substrate structure using a color filter, there is a strong demand to prevent the occurrence of dark spots by reliably preventing the entry of moisture and oxygen into the organic EL layer.

本発明の一の側面によると、表示領域内に行列状に設けられた複数の画素を個別に駆動して情報の表示を行う有機ELディスプレイのための有機ELパネルであって、
透明基板と、
前記透明基板の上で、前記画素の各々に対応する位置に設けられた色変調部と、
前記色変調部の上で、前記画素の列の各々に対応する位置に設けられた第一の電極と、
前記第一の電極の上で、少なくとも前記画素の各々に対応する位置に設けられた有機発光層と、
前記有機発光層の上で、前記画素の行の各々に対応する位置に設けられた第二の電極と、
前記第一の電極と同一の面で、前記表示領域の周囲の少なくとも一部に設けられた有機発光層保護部と
を有する有機ELパネルが提供される。
According to one aspect of the present invention, there is provided an organic EL panel for an organic EL display that displays information by individually driving a plurality of pixels provided in a matrix in a display region,
A transparent substrate;
On the transparent substrate, a color modulation unit provided at a position corresponding to each of the pixels;
A first electrode provided at a position corresponding to each of the columns of pixels on the color modulation unit;
On the first electrode, at least an organic light emitting layer provided at a position corresponding to each of the pixels,
A second electrode provided on the organic light emitting layer at a position corresponding to each row of the pixels;
There is provided an organic EL panel having an organic light emitting layer protecting part provided on at least a part of the periphery of the display area on the same surface as the first electrode.

本発明の他の側面によると、表示領域内に行列状に設けられた複数の画素を個別に駆動して情報の表示を行う有機ELディスプレイのための有機ELパネルの製造方法であって、
透明基板を供するステップと、
前記透明基板の上で、前記画素の各々に対応する位置に色変調部を設けるステップと、
前記色変調部の上で、前記画素の列の各々に対応する位置に第一の電極を設けるステップと、
前記第一の電極と同一の面で、前記表示領域の周囲の少なくとも一部に有機発光層保護部を設けるステップと、
前記第一の電極の上で、少なくとも前記画素の各々に対応する位置に有機発光層を設けるステップと、
前記有機発光層の上で、前記画素の行の各々に対応する位置に第二の電極を設けるステップと
を含む方法が提供される。
According to another aspect of the present invention, there is provided a method of manufacturing an organic EL panel for an organic EL display for individually displaying a plurality of pixels provided in a matrix in a display area and displaying information.
Providing a transparent substrate;
Providing a color modulation section on the transparent substrate at a position corresponding to each of the pixels;
Providing a first electrode at a position corresponding to each of the columns of pixels on the color modulator;
Providing an organic light emitting layer protective part on at least a part of the periphery of the display area on the same surface as the first electrode;
Providing an organic light emitting layer on the first electrode at a position corresponding to at least each of the pixels;
Providing a second electrode on the organic light emitting layer at a location corresponding to each of the rows of pixels.

以下に詳細に説明するように、本発明によると、有機発光層保護層(好ましくは水分および酸素遮断性に優れた透明導電性酸化物膜または金属膜)が設けられ、基板側からの有機発光層への水分および酸素の侵入を効果的に防止することが可能となる。したがって、本発明によると、ダークスポットが発生することなく、長期間にわたって優れた発光特性を維持できる有機ELパネルを提供することができる。   As described in detail below, according to the present invention, an organic light emitting layer protective layer (preferably a transparent conductive oxide film or metal film excellent in moisture and oxygen barrier properties) is provided, and organic light emission from the substrate side is performed. It becomes possible to effectively prevent moisture and oxygen from entering the layer. Therefore, according to the present invention, it is possible to provide an organic EL panel capable of maintaining excellent light emission characteristics over a long period of time without generating dark spots.

以下に、本発明の実施の形態を、添付図面を参照しながら説明する。もっとも、本発明は、以下に説明する実施の形態によって、限定されるものではない。   Embodiments of the present invention will be described below with reference to the accompanying drawings. However, the present invention is not limited to the embodiments described below.

上記したように、本発明の一の側面によると、表示領域内に行列状に設けられた複数の画素を個別に駆動して情報の表示を行う有機ELディスプレイのための有機ELパネルであって、透明基板と、色変調部と、第一の電極と、有機発光層保護部と、有機発光層と、第二の電極とを有する有機ELパネルが提供される。   As described above, according to one aspect of the present invention, an organic EL panel for an organic EL display that displays information by individually driving a plurality of pixels provided in a matrix in a display area. An organic EL panel having a transparent substrate, a color modulation part, a first electrode, an organic light emitting layer protection part, an organic light emitting layer, and a second electrode is provided.

本発明にかかる有機ELパネルは、有機ELディスプレイのためのものである。有機ELディスプレイは、表示領域内に行列状に設けられた複数の画素を個別に駆動して情報の表示を行うことができる。なお、前記画素として、複数種類のサブ画素(例えば青色、緑色および赤色のサブ画素)が設けられていてもよい。   The organic EL panel according to the present invention is for an organic EL display. The organic EL display can display information by individually driving a plurality of pixels provided in a matrix in the display area. Note that a plurality of types of sub-pixels (for example, blue, green, and red sub-pixels) may be provided as the pixels.

本発明にかかる有機ELパネルは、透明基板を有する。透明基板は、可視光(波長400〜700nm)に対して透明であることが好ましい。また、透明基板は、積層される層の形成に用いられる条件(溶媒、温度等)に耐え得るものであることが好ましい。また、透明基板は、寸法安定性に優れていることが好ましい。透明基板の例として、ガラス基板、ならびにポリオレフィン、アクリル樹脂(ポリメチルメタクリレートを含む)、ポリエステル樹脂(ポリエチレンテレフタレートを含む)、ポリカーボネート樹脂もしくはポリイミド樹脂などの樹脂で形成された剛直性の樹脂基板または可撓性のフィルム基板が挙げられる。透明基板の厚さは、例えば1.1mmとすることができる   The organic EL panel according to the present invention has a transparent substrate. The transparent substrate is preferably transparent to visible light (wavelength 400 to 700 nm). The transparent substrate is preferably one that can withstand the conditions (solvent, temperature, etc.) used to form the layer to be laminated. The transparent substrate is preferably excellent in dimensional stability. Examples of transparent substrates include glass substrates, rigid resin substrates formed of resins such as polyolefins, acrylic resins (including polymethylmethacrylate), polyester resins (including polyethylene terephthalate), polycarbonate resins, and polyimide resins. A flexible film substrate may be mentioned. The thickness of the transparent substrate can be, for example, 1.1 mm.

また、本発明にかかる有機ELパネルは、前記透明基板の上で、前記画素の各々に対応する位置に設けられた色変調部をさらに有する。本明細書において、「上に設けられた」は、基板に対して有機発光層の存在する向きに設けられていることを意図する。また、透明基板の上に色変調部を設けるとは、透明基板の上に色変調部を直接設ける場合の他、透明基板の上に、何らかの部材を介して色変調部を設ける場合も含む。その他の部材に関しても同様である。   In addition, the organic EL panel according to the present invention further includes a color modulation unit provided at a position corresponding to each of the pixels on the transparent substrate. In this specification, “provided on” intends to be provided in the direction in which the organic light emitting layer exists with respect to the substrate. The provision of the color modulation unit on the transparent substrate includes not only the case where the color modulation unit is provided directly on the transparent substrate but also the case where the color modulation unit is provided on the transparent substrate via some member. The same applies to other members.

色変調部は、カラーフィルター層、色変換層、またはカラーフィルター層と色変換層との積層体から構成することができる。カラーフィルター層は、所望される波長域の光のみを透過させる層である。また、カラーフィルター層と色変換層との積層構成を採る場合、色変換層にて波長分布変換された光の色純度を向上させることにカラーフィルター層は有効である。カラーフィルター層の材料の例として、市販の液晶用カラーフィルター材料(富士フイルムエレクトロマテリアルズ製カラーモザイクなど)が挙げられる。   The color modulation part can be composed of a color filter layer, a color conversion layer, or a laminate of a color filter layer and a color conversion layer. The color filter layer is a layer that transmits only light in a desired wavelength range. Further, when adopting a laminated structure of the color filter layer and the color conversion layer, the color filter layer is effective in improving the color purity of the light subjected to wavelength distribution conversion in the color conversion layer. Examples of the material for the color filter layer include commercially available color filter materials for liquid crystals (such as color mosaic manufactured by Fuji Film Electromaterials).

色変換層は、色変換色素とマトリクス樹脂とを有する層であることが好ましい。色変換色素は、入射光の波長分布変換を行って、異なる波長域の光を放射する色素であり、好ましくは有機発光層からの光(例えば近紫外光または青色〜青緑色の光)の波長分布変換を行って、所望の波長域の光(例えば青色、緑色または赤色)を放射する色素である。色変換色素の材料の例として、赤色光を放射するローダミン系色素、シアニン系色素など;緑色光を放射するクマリン系色素、ナフタルイミド系色素など;青色光を放射するクマリン系色素などが挙げられる。   The color conversion layer is preferably a layer having a color conversion dye and a matrix resin. The color conversion dye is a dye that converts the wavelength distribution of incident light and emits light in different wavelength ranges, and preferably has a wavelength of light from an organic light emitting layer (for example, near ultraviolet light or blue to blue-green light). A pigment that performs distribution conversion and emits light in a desired wavelength band (for example, blue, green, or red). Examples of color conversion dye materials include rhodamine dyes and cyanine dyes that emit red light; coumarin dyes and naphthalimide dyes that emit green light; and coumarin dyes that emit blue light. .

色変調部は、画素の各々に対応する位置に設けられる。画素として、複数種類のサブ画素(例えば赤色、緑色および青色のサブ画素)がパターン化されて設けられる場合、対応するサブ画素に応じて、複数の種類の色変調部が設けられることが好ましい。具体的には、赤色、緑色および青色のサブ画素に対する色変調部として、それぞれ、例えば、有機発光層からの光を吸収して赤色光を放射する赤色変調部、緑色光を放射する緑色変調部、青色光を放射する青色変調部などを設けることができる。当業者に明らかなように、複数種類の色変調部を行列状に配置することによってフルカラー表示が可能になる。   The color modulation unit is provided at a position corresponding to each pixel. When a plurality of types of sub-pixels (for example, red, green, and blue sub-pixels) are provided as pixels, it is preferable that a plurality of types of color modulation units are provided according to the corresponding sub-pixels. Specifically, as color modulation units for red, green, and blue sub-pixels, for example, a red modulation unit that absorbs light from an organic light emitting layer and emits red light, and a green modulation unit that emits green light, respectively. In addition, a blue modulation unit that emits blue light can be provided. As will be apparent to those skilled in the art, full color display is possible by arranging a plurality of types of color modulation sections in a matrix.

なお、色変調部の厚さは、例えば10μmとすることができる。また、色変調部の大きさは、例えば幅0.08mm、ピッチ0.11mmとすることができる。   The thickness of the color modulation part can be set to 10 μm, for example. In addition, the size of the color modulation unit can be set, for example, to a width of 0.08 mm and a pitch of 0.11 mm.

色変調部は、スピンコート法、ロールコート法、キャスト法、ディップコート法などを用いて各色変調部の材料を塗布し、フォトリソグラフ法などを用いてパターニングすることによって形成することができる。   The color modulation part can be formed by applying the material of each color modulation part using a spin coating method, a roll coating method, a casting method, a dip coating method, or the like, and patterning using a photolithographic method or the like.

本発明にかかる有機ELパネルは、色変調部と第一の電極との間に、色変調部を覆うように設けられた平坦化層をさらに有することが好ましい。平坦化層を設けることにより、電極を形成するための表面をより平坦化することができる。平坦化層の材料として、透明性の有機樹脂等の公知の材料を用いることができる。平坦化層の厚さは、色変調部の上で例えば0.1〜10μmとすることができる。平坦化層は、公知の任意の方法により形成することができる。例えば、平坦化層は、有機樹脂をスピンコート法により塗布し、フォトリソグラフィ法によりパターニングすることにより形成することができる。   The organic EL panel according to the present invention preferably further includes a planarization layer provided so as to cover the color modulation part between the color modulation part and the first electrode. By providing the planarization layer, the surface for forming the electrode can be further planarized. As a material for the planarization layer, a known material such as a transparent organic resin can be used. The thickness of the planarization layer can be set to 0.1 to 10 μm, for example, on the color modulation portion. The planarization layer can be formed by any known method. For example, the planarization layer can be formed by applying an organic resin by a spin coating method and patterning by a photolithography method.

本発明にかかる有機ELパネルは、色変調部(好ましくは平坦化層)と第一の電極との間に、色変調部を覆うように設けられたパッシベーション層をさらに有することが好ましい。パッシベーション層を設けることにより、酸素および/または水分などを遮断することができる。パッシベーション層の材料の例として、SiOx、SiNx、SiNxOy、AlOx、TiOx、TaOx、ZnOxなどの絶縁性の無機酸化物、無機窒化物、無機酸化窒化物などが挙げられる。パッシベーション層の厚さは、例えば0.1〜1μmとすることができる。パッシベーション層は、スパッタ法等の公知の方法により形成することができる。   The organic EL panel according to the present invention preferably further includes a passivation layer provided so as to cover the color modulation part between the color modulation part (preferably a planarization layer) and the first electrode. By providing the passivation layer, oxygen and / or moisture can be blocked. Examples of the material for the passivation layer include insulating inorganic oxides such as SiOx, SiNx, SiNxOy, AlOx, TiOx, TaOx, and ZnOx, inorganic nitrides, and inorganic oxynitrides. The thickness of the passivation layer can be set to 0.1 to 1 μm, for example. The passivation layer can be formed by a known method such as sputtering.

本発明にかかる有機ELパネルは、前記色変調部(好ましくはパッシベーション層)の上で、前記画素の列の各々に対応する位置に設けられた第一の電極をさらに有する。換言すると、有機ELパネルは、第一の方向に延びるストライプ状の複数の第一の電極を有する。第一の電極は、透明電極であることが好ましく、具体的には波長400〜800nmの光に対して好ましくは50%以上、より好ましくは85%以上の透過率を有する。第一の電極の材料の例として、SnO2、In23、ITO、IZO、ZnOとAlとの合金などの導電性金属酸化物を用いることができる。第一の電極の厚さは、通常50nm以上、好ましくは50nm〜1μm、より好ましくは100〜500nmの範囲内とすることができる。第一の電極は、スパッタ法等の公知の方法により形成することができる。 The organic EL panel according to the present invention further includes a first electrode provided at a position corresponding to each of the pixel columns on the color modulation section (preferably a passivation layer). In other words, the organic EL panel has a plurality of striped first electrodes extending in the first direction. The first electrode is preferably a transparent electrode, and specifically has a transmittance of preferably 50% or more, more preferably 85% or more with respect to light having a wavelength of 400 to 800 nm. As an example of the material of the first electrode, a conductive metal oxide such as SnO 2 , In 2 O 3 , ITO, IZO, an alloy of ZnO and Al can be used. The thickness of the first electrode is usually 50 nm or more, preferably 50 nm to 1 μm, more preferably 100 to 500 nm. The first electrode can be formed by a known method such as sputtering.

また、本発明にかかる有機ELパネルは、補助電極をさらに有することが好ましい。補助電極により、第一の電極(透明電極)の抵抗を抑制することができる。補助電極の材料の例として、Al,Mo,Ni,Cr,W等の金属が挙げられる。補助電極は、表示領域、第一の電極の外部駆動回路との引き出し線を形成する領域のいずれにも設けることができる。例えば、表示領域においては有機発光層からの発光を妨げないように、第一の電極の縁部に沿って、第一の電極に並行に、第一の電極に接触するように配設することができる。また、引き出し線形成領域においては、第一の電極(透明電極)の電気抵抗を低減することを目的に、第一の電極と同等の幅で形成することができる。補助電極の厚さは、通常50nm以上、好ましくは50nm〜1μmの範囲とすることができる。図4に、本発明にかかる有機ELパネルにおける第一の電極6および補助電極12(3列分)の模式的な平面図を示す。   The organic EL panel according to the present invention preferably further includes an auxiliary electrode. The resistance of the first electrode (transparent electrode) can be suppressed by the auxiliary electrode. Examples of the material of the auxiliary electrode include metals such as Al, Mo, Ni, Cr, and W. The auxiliary electrode can be provided in either the display region or a region where a lead line with the external drive circuit of the first electrode is formed. For example, in the display area, it is arranged along the edge of the first electrode so as to be in contact with the first electrode in parallel with the first electrode so as not to prevent light emission from the organic light emitting layer. Can do. In the lead line formation region, it can be formed with the same width as the first electrode for the purpose of reducing the electric resistance of the first electrode (transparent electrode). The thickness of the auxiliary electrode is usually 50 nm or more, preferably 50 nm to 1 μm. FIG. 4 shows a schematic plan view of the first electrode 6 and the auxiliary electrodes 12 (for three rows) in the organic EL panel according to the present invention.

本発明にかかる有機ELパネルは、前記第一の電極と同一の面で、前記表示領域の周囲の少なくとも一部に設けられた有機発光層保護部をさらに有する。有機発光層保護部は、第一の電極と同一の面に設けられる。特に、有機発光層保護部は、平坦化層またはパッシベーション層上に設けられることが好ましい。なお、有機発光層保護部の厚さは、50nm〜1μmとすることが好ましく、100〜500nmとすることがさらに好ましい。   The organic EL panel according to the present invention further includes an organic light emitting layer protection part provided on at least a part of the periphery of the display area on the same surface as the first electrode. The organic light emitting layer protective part is provided on the same surface as the first electrode. In particular, the organic light emitting layer protective part is preferably provided on the planarization layer or the passivation layer. The thickness of the organic light emitting layer protective part is preferably 50 nm to 1 μm, and more preferably 100 to 500 nm.

また、有機発光層保護部は、表示領域の周囲の少なくとも一部に設けられる。特に、有機発光層保護部は、表示領域の外部であって、第一の電極と外部駆動回路とをつなぐ引出し線を形成する領域の以外の領域に設けることが好ましい。有機発光層保護部は、なるべく広い領域に形成することにより、ダークスポットの発生を抑制することができる。   Further, the organic light emitting layer protection part is provided at least at a part around the display area. In particular, the organic light emitting layer protection part is preferably provided in a region outside the display region other than a region where a lead line connecting the first electrode and the external drive circuit is formed. By forming the organic light emitting layer protection part in as wide a region as possible, the generation of dark spots can be suppressed.

また、有機発光層保護部は、水分および/または酸素に対する遮断能を有することが好ましい。ここで、第一の電極と同一の材料(透明導電性酸化物)および補助電極と同一の材料(金属)は、水分および/または酸素に対する遮断能を有する。このため、有機発光層保護部は、第一の電極または補助電極と同一の材料を用いて、ダミーパターンとして形成することができる。この場合、ダミーパターンは、外部駆動回路とは接続されておらず、また第一の電極および補助電極から分離されていることが好ましい。すなわち、第一の電極と同一の面のうち表示領域の周囲に、外部駆動回路に接続されない金属膜または酸化物導電膜を形成することで有機発光層保護部を設けることができる。   Moreover, it is preferable that the organic light emitting layer protection part has a blocking ability against moisture and / or oxygen. Here, the same material (transparent conductive oxide) as that of the first electrode and the same material (metal) as that of the auxiliary electrode have a blocking ability against moisture and / or oxygen. For this reason, the organic light emitting layer protection part can be formed as a dummy pattern using the same material as the first electrode or the auxiliary electrode. In this case, the dummy pattern is preferably not connected to the external drive circuit and separated from the first electrode and the auxiliary electrode. In other words, the organic light emitting layer protection portion can be provided by forming a metal film or an oxide conductive film that is not connected to the external drive circuit around the display region on the same surface as the first electrode.

換言すると、前記有機発光層保護部が、金属膜または酸化物導電膜であることが好ましい。具体的には、前記金属膜が、Al、Mo、Ni、CrおよびWならびにこれらを主成分とする合金からなる群から選択される材料からなることが好ましい。また、前記酸化物導電膜が、SnO2、In23、ITO、IZOおよびZnOとAlとの合金からなる群から選択される材料から形成されていることが好ましい。また、水分および/または酸素遮断層としての機能を考慮して、有機発光層保護部に、第一の電極および補助電極と異なる材料を用いることもできる。例えば、IZO膜が、ITO膜より水分および/または酸素遮断層として高い機能を有することを示す結果が得られている。理論に拘束されるものではないが、これは、IZO膜がアモルファスであるため結晶粒界等の水分および酸素の通過経路が少ないためであると予測している。 In other words, the organic light emitting layer protective part is preferably a metal film or an oxide conductive film. Specifically, it is preferable that the metal film is made of a material selected from the group consisting of Al, Mo, Ni, Cr, and W and alloys containing these as main components. The oxide conductive film is preferably made of a material selected from the group consisting of SnO 2 , In 2 O 3 , ITO, IZO, and an alloy of ZnO and Al. In consideration of the function as a moisture and / or oxygen barrier layer, a material different from the first electrode and the auxiliary electrode can also be used for the organic light emitting layer protection part. For example, the results show that the IZO film has a higher function as a moisture and / or oxygen barrier layer than the ITO film. Without being bound by theory, it is predicted that this is because the passage of moisture and oxygen such as crystal grain boundaries is small because the IZO film is amorphous.

有機発光層保護部は、第一の電極および補助電極と同様に、スパッタ法等の公知の方法により形成することができる。なお、第一の電極を設けるステップと有機発光層保護部を設けるステップとが、同一の処理により行われることが好ましい。すなわち、有機発光層保護部を、第一の電極または補助電極と同一の材料を用いて、ダミーパターンとして形成するこの場合、パターニングを行うことで、第一の電極または補助電極を形成するステップと同時に、有機発光層保護部を形成することができる。   The organic light emitting layer protective part can be formed by a known method such as a sputtering method, similarly to the first electrode and the auxiliary electrode. In addition, it is preferable that the step which provides a 1st electrode and the step which provides an organic light emitting layer protection part are performed by the same process. That is, the organic light emitting layer protection part is formed as a dummy pattern using the same material as the first electrode or auxiliary electrode. In this case, patterning is performed to form the first electrode or auxiliary electrode. At the same time, the organic light emitting layer protective part can be formed.

上記したように、本発明者は、種々の検討の結果、ダークスポットが表示領域の周辺部において発生することが多いことを見出した。この部位は、ディスプレイ構造が変化する境界に隣接する部位である。すなわち、表示領域内では、一般に、カラーフィルター層等の上に平坦化層(高分子膜層)を形成し、その上にSiOxまたはSiNx等のパッシベーション層(無機防湿膜)を形成した後、発光部を形成するための第一の電極が形成される。一方、表示領域の外部は、発光部として機能させないため、第一の電極は形成しない。この事実は、透明導電性酸化物膜または金属膜等の第一の電極が、水分や酸素に対して極めて優れた遮断性を有することを示している。本発明は、この知見に基づいて、より有効にダークスポットの発生を防止することができる有機EL素子を提供するものである。   As described above, as a result of various studies, the present inventor has found that dark spots often occur in the periphery of the display area. This part is a part adjacent to the boundary where the display structure changes. That is, in the display area, generally, a planarization layer (polymer film layer) is formed on a color filter layer or the like, and a passivation layer (inorganic moisture barrier film) such as SiOx or SiNx is formed thereon, and then light emission is performed. A first electrode for forming the part is formed. On the other hand, the first electrode is not formed outside the display area because it does not function as a light emitting portion. This fact indicates that the first electrode such as a transparent conductive oxide film or a metal film has an extremely excellent barrier property against moisture and oxygen. Based on this finding, the present invention provides an organic EL element that can more effectively prevent the occurrence of dark spots.

本発明にかかる有機ELパネルは、隣り合う第一の電極の間、および/または、有機発光層保護部と第二の電極との間に絶縁膜を有することが好ましい。絶縁膜の材料の例として、ポリイミド等が挙げられる。絶縁膜の厚さは、有機発光層保護部の上で例えば100nm〜3μmとすることができる。絶縁膜は、フォトリソグラフ法等の公知の方法で形成することができる。   The organic EL panel according to the present invention preferably has an insulating film between adjacent first electrodes and / or between the organic light emitting layer protecting part and the second electrode. Examples of the material for the insulating film include polyimide. The thickness of the insulating film can be set to, for example, 100 nm to 3 μm on the organic light emitting layer protection part. The insulating film can be formed by a known method such as a photolithography method.

本発明にかかる有機ELパネルは、前記第一の電極の上で、少なくとも前記画素の各々に対応する位置に(好ましくは全ての画素に対応する位置を覆うように一体として)設けられた有機発光層をさらに有する。有機ELパネルは、必要に応じて、正孔注入層、正孔輸送層、電子輸送層および/または電子注入層をさらに有することができる。具体的には、有機発光素子は、例えば以下に示す順番で、上記層を有することができる。なお、以下の(1)〜(6)の積層構造を有する有機ELパネルにあっては、有機発光層または正孔注入層に陽極が電気的に接触され、有機発光層、電子輸送層または電子注入層に陰極が電気的に接触される。
(1)有機発光層
(2)正孔注入層/有機発光層
(3)有機発光層/電子注入層
(4)正孔注入層/有機発光層/電子注入層
(5)正孔輸送層/有機発光層/電子注入層
(6)正孔注入層/正孔輸送層/有機発光層/電子注入層
(7)正孔注入層/正孔輸送層/有機発光層/電子輸送層/電子注入層
The organic EL panel according to the present invention is an organic light-emitting device provided on the first electrode at a position corresponding to at least each of the pixels (preferably integrally covering the positions corresponding to all the pixels). It further has a layer. The organic EL panel can further have a hole injection layer, a hole transport layer, an electron transport layer, and / or an electron injection layer as necessary. Specifically, the organic light emitting device can have the above layers in the order shown below, for example. In the organic EL panel having the following laminated structure (1) to (6), the anode is in electrical contact with the organic light emitting layer or the hole injection layer, and the organic light emitting layer, electron transport layer or electron The cathode is in electrical contact with the injection layer.
(1) Organic light emitting layer (2) Hole injection layer / organic light emitting layer (3) Organic light emitting layer / electron injection layer (4) Hole injection layer / organic light emitting layer / electron injection layer (5) Hole transport layer / Organic light emitting layer / electron injection layer (6) Hole injection layer / hole transport layer / organic light emitting layer / electron injection layer (7) Hole injection layer / hole transport layer / organic light emitting layer / electron transport layer / electron injection layer

有機発光層の材料としては、任意の公知の材料を用いることができる。たとえば、青色から青緑色の発光を得るためには、例えば縮合芳香環化合物、環集合化合物、金属錯体(Alq3のようなアルミニウム錯体など)、スチリルベンゼン系化合物(4,4’−ビス(ジフェニルビニル)ビフェニル(DPVBi)など)、ポルフィリン系化合物、ベンゾチアゾール系、ベンゾイミダゾール系、ベンゾオキサゾール系などの蛍光増白剤、芳香族ジメチリディン系化合物などの材料が好ましく使用される。あるいはまた、ホスト化合物にドーパントを添加することによって、種々の波長域の光を発する有機発光層を形成してもよい。ホスト化合物としては、ジスチリルアリーレン系化合物(たとえば出光興産製IDE−120など)、N,N’−ジトリル−N,N’−ジフェニルビフェニルアミン(TPD)、アルミニウムトリス(8−キノリノラート)(Alq3)等を用いることができる。ドーパントとしては、ペリレン(青紫色)、クマリン6(青色)、キナクリドン系化合物(青緑色〜緑色)、ルブレン(黄色)、4−ジシアノメチレン−2−(p−ジメチルアミノスチリル)−6−メチル−4H−ピラン(DCM、赤色)、白金オクタエチルポルフィリン錯体(PtOEP、赤色)などを用いることができる。 Any known material can be used as the material of the organic light emitting layer. For example, in order to obtain light emission from blue to blue-green, for example, a condensed aromatic ring compound, a ring assembly compound, a metal complex (such as an aluminum complex such as Alq 3 ), a styrylbenzene compound (4,4′-bis (diphenyl) (Vinyl) biphenyl (DPVBi), etc.), porphyrin-based compounds, benzothiazole-based, benzimidazole-based, benzoxazole-based fluorescent brighteners, and aromatic dimethylidin-based compounds are preferably used. Or you may form the organic light emitting layer which emits the light of a various wavelength range by adding a dopant to a host compound. Examples of the host compound include distyrylarylene compounds (eg, IDE-120 manufactured by Idemitsu Kosan Co., Ltd.), N, N′-ditolyl-N, N′-diphenylbiphenylamine (TPD), aluminum tris (8-quinolinolate) (Alq 3 ). ) Etc. can be used. As dopants, perylene (blue purple), coumarin 6 (blue), quinacridone compounds (blue green to green), rubrene (yellow), 4-dicyanomethylene-2- (p-dimethylaminostyryl) -6-methyl- 4H-pyran (DCM, red), platinum octaethylporphyrin complex (PtOEP, red), or the like can be used.

正孔注入層の林料としては、Pc類(CuPcなどを含む)またはインダンスレン系化合物などを用いることができる。正孔輸送層は、トリアリールアミン部分構造、カルバゾール部分構造、オキサジアゾール部分構造を有する材料を用いて形成することができる。用いることができる材料は、好ましくは、TPD、α−NPD、MTDAPB(o−、m−、p−)、m−MTDATAなどを含む。   As the forest material for the hole injection layer, Pc (including CuPc) or indanthrene compounds can be used. The hole transport layer can be formed using a material having a triarylamine partial structure, a carbazole partial structure, or an oxadiazole partial structure. Materials that can be used preferably include TPD, [alpha] -NPD, MTDAPB (o-, m-, p-), m-MTDATA, and the like.

電子輸送層の材料としては、A1q3のようなアルミニウム錯体;PBD、TPOBのようなオキサジアゾール誘導体;TAZのようなトリアゾール誘導体;トリアジン誘導体;フェニルキノキサリン類;BMB−2Tのようなチオフェン誘導体などを用いることができる。電子注入層の材料としては、Alq3のようなアルミニウム錯体、あるいはアルカリ金属ないしアルカリ土類金属をドープしたアルミニウムのキノリノール錯体などを用いることができる。 The material of the electron transport layer, aluminum complexes such as A1q 3; PBD, oxadiazole derivatives such as TPOB; thiophene derivatives such as BMB-2T; triazine derivatives; phenylquinoxalines such triazole derivatives such as TAZ Can be used. As the material for the electron injection layer, an aluminum complex such as Alq 3 or an aluminum quinolinol complex doped with an alkali metal or an alkaline earth metal can be used.

また、任意選択的に、有機発光層(または電子輸送層もしくは電子注入層)と陰極との界面に、アルカリ金属、アルカリ土類金属またはそれらを含む合金、アルカリ金属フッ化物などの電子注入性材料の薄膜(例えば膜厚10nm以下)のバッファ層を設けることで、電子注入効率を高めることができる。   Optionally, an electron injecting material such as an alkali metal, an alkaline earth metal, an alloy containing them, or an alkali metal fluoride is provided at the interface between the organic light emitting layer (or electron transport layer or electron injection layer) and the cathode. By providing a buffer layer of a thin film (for example, a film thickness of 10 nm or less), the electron injection efficiency can be increased.

なお、正孔注入層、正孔輸送層、有機発光層、電子輸送層および電子注入層の厚さは、それぞれにおいて所望される特性を実現するのに充分なように適宜設定されるべきものあり、例えば、それぞれ100nm、20nm、30nm、20nmおよび10nmとすることができる。また、正孔注入層、正孔輸送層、有機発光層、電子輸送層および電子注入層は、蒸着(抵抗加熱または電子ビーム加熱)などの当該技術において知られている任意の手段を用いて形成することができる。   The thicknesses of the hole injection layer, the hole transport layer, the organic light emitting layer, the electron transport layer, and the electron injection layer should be appropriately set so as to be sufficient for realizing the desired characteristics in each. For example, it can be set to 100 nm, 20 nm, 30 nm, 20 nm, and 10 nm, respectively. In addition, the hole injection layer, the hole transport layer, the organic light emitting layer, the electron transport layer, and the electron injection layer are formed by using any means known in the art such as vapor deposition (resistance heating or electron beam heating). can do.

本発明にかかる有機ELパネルは、前記有機発光層の上で、前記画素の行の各々に対応する位置に設けられた第二の電極をさらに有する。換言すると、有機ELパネルは、第一の電極にかかる第一の方向と交差する(好ましくは直交する)第二の方向に延びる複数のストライプ状の複数の第二の電極を有する。このように、行列状に交差する第一の電極および第二の電極を設けることにより、パッシブマトリクス駆動を行うことができる。   The organic EL panel according to the present invention further includes a second electrode provided on the organic light emitting layer at a position corresponding to each row of the pixels. In other words, the organic EL panel has a plurality of striped second electrodes extending in a second direction that intersects (preferably orthogonally) the first direction applied to the first electrode. In this manner, passive matrix driving can be performed by providing the first electrode and the second electrode that intersect in a matrix.

第二の電極は、反射電極であることが好ましく、高反射率の金属、アモルファス合金、微結晶性合金を用いて形成されることが好ましい。高反射率の金属は、Al、Ag、Mo、W、Ni、Crなどを含む。高反射率のアモルファス合金は、NiP、NiB、CrPおよびCrBなどを含む。高反射率の微結晶性合金は、NiAlなどを含む。第二の電極は、陰極として用いてもよいし、陽極として用いてもよい。第二の電極を陰極として用いる場合には、第二の電極と有機発光層との界面に、前述のバッファ層を設けて有機発光層に対する電子注入の効率を向上させてもよい。   The second electrode is preferably a reflective electrode, and is preferably formed using a highly reflective metal, amorphous alloy, or microcrystalline alloy. High reflectivity metals include Al, Ag, Mo, W, Ni, Cr, and the like. High reflectivity amorphous alloys include NiP, NiB, CrP, CrB, and the like. The highly reflective microcrystalline alloy includes NiAl and the like. The second electrode may be used as a cathode or an anode. When the second electrode is used as a cathode, the aforementioned buffer layer may be provided at the interface between the second electrode and the organic light emitting layer to improve the efficiency of electron injection into the organic light emitting layer.

第二の電極は、用いる材料に依存して、蒸着(抵抗加熱または電子ビーム加熱)、スパッタ、イオンプレーティング、レーザーアブレーションなどの当該技術において知られている任意の手段を用いて形成することができる。所望の形状を与えるマスクを用いて複数の第二の電極を形成してもよいし、あるいは、逆テーパー状の断面形状を有する分離隔壁を用いて複数の第二の電極を形成してもよい。   The second electrode can be formed using any means known in the art such as vapor deposition (resistance heating or electron beam heating), sputtering, ion plating, laser ablation, etc., depending on the material used. it can. A plurality of second electrodes may be formed using a mask that gives a desired shape, or a plurality of second electrodes may be formed using a separation partition wall having a reverse tapered cross-sectional shape. .

第二の電極のそれぞれは、たとえば、第二の方向に延びるストライプ形状でとすることができる。ここで、第一の電極に関する第一の方向と、当該第二の方向とは交差していることが好ましく、直交していることがより好ましい。そのような構成を採ることによって、第一の電極の1つと、第二の電極の1つとに電界を印加することによって、それらの電極の交差する部位の有機発光層を発光させる、パッシブマトリクス駆動を行うことができる。   Each of the second electrodes may have a stripe shape extending in the second direction, for example. Here, the first direction relating to the first electrode and the second direction are preferably crossed, more preferably orthogonal. By adopting such a configuration, a passive matrix drive in which an electric field is applied to one of the first electrodes and one of the second electrodes to emit light from the organic light emitting layer at the intersection of the electrodes. It can be performed.

本発明にかかる有機ELパネルは、前記第一の電極の一方の端と電気的に接続して設けられた、前記第一の電極と外部駆動回路とを電気的に接続するための第一の接続電極をさらに有することが好ましい。また、本発明にかかる有機ELパネルは、前記第二の電極の一方の端と電気的に接続して設けられた、前記第二の電極と外部駆動回路とを電気的に接続するための第二の接続電極をさらに有することが好ましい。これらの第一および第二の接続電極を介して、有機ELパネルの第一および第二の電極を外部駆動回路に電気的に接続することができる。   An organic EL panel according to the present invention is a first electrode for electrically connecting the first electrode and an external drive circuit, which is provided in electrical connection with one end of the first electrode. It is preferable to further have a connection electrode. In addition, an organic EL panel according to the present invention is provided to electrically connect the second electrode and an external drive circuit provided electrically connected to one end of the second electrode. It is preferable to further have two connection electrodes. Through these first and second connection electrodes, the first and second electrodes of the organic EL panel can be electrically connected to an external drive circuit.

図1に、本発明の第一の実施の形態にかかる有機ELパネルの模式的な平面図を示す。図2に、本発明の第一の実施の形態にかかる有機ELパネルの、第一の電極に垂直な平面における模式的な断面図を示す(図1中、a−a断面)。図1および2に示すように、本発明の第一の実施の形態にかかる有機EL素子は、透明基板1と、色変調部2R,2G,2Bと、ブラックマトリクス3と、平坦化層4と、パッシベーション層5と、第一の電極(透明電極)6と、有機発光層保護部7と、有機発光層8と、第二の電極(反射電極)9、第一の電極と外部駆動回路とを電気的に接続するための第一の接続電極10、第二の電極と外部駆動回路とを電気的に接続するための第二の接続電極11とを有する。   FIG. 1 shows a schematic plan view of an organic EL panel according to the first embodiment of the present invention. FIG. 2 is a schematic cross-sectional view in a plane perpendicular to the first electrode of the organic EL panel according to the first embodiment of the present invention (a-a cross section in FIG. 1). As shown in FIGS. 1 and 2, the organic EL device according to the first embodiment of the present invention includes a transparent substrate 1, color modulation units 2R, 2G, and 2B, a black matrix 3, and a planarization layer 4. The passivation layer 5, the first electrode (transparent electrode) 6, the organic light emitting layer protection part 7, the organic light emitting layer 8, the second electrode (reflective electrode) 9, the first electrode and an external drive circuit A first connection electrode 10 for electrically connecting the second electrode and a second connection electrode 11 for electrically connecting the second electrode and the external drive circuit.

第一の実施の形態にかかる有機ELパネルにあっては、第一の電極と第二の電極とは直交するように行列状に設けられており、これらの交わる部位の各々に画素が形成され、全体として四角形状の表示領域が形成される。表示領域の四つの辺のうち、第一の電極と垂直な二つの辺の近傍には、第一の接続電極がそれぞれ設けられており、第一の電極と平行な二つの辺の近傍には、第二の接続電極がそれぞれ設けられている。第一の電極に関して、表示領域はその中央で第一の電極と垂直に二つの領域に分けられており、各領域の第一の電極は、より近くに位置する第一の接続電極と電気的に接続されている。第二の電極は、その両端において、第二の接続電極と電気的に接続されている。表示領域の周囲のうち、表示領域と第二の接続電極との間の領域に、ダミーパターンとして、第一の電極と同一の平面内に透明導電性酸化物からなる有機発光層保護部が設けられている。ダミーパターンは、外部駆動回路とは接続されておらず、また第一の電極からも分離されている。   In the organic EL panel according to the first embodiment, the first electrode and the second electrode are provided in a matrix so as to be orthogonal to each other, and a pixel is formed at each of the intersecting portions. As a whole, a rectangular display area is formed. Of the four sides of the display area, a first connection electrode is provided in the vicinity of the two sides perpendicular to the first electrode, and in the vicinity of the two sides parallel to the first electrode. A second connection electrode is provided. With respect to the first electrode, the display region is divided into two regions perpendicular to the first electrode at the center, and the first electrode in each region is electrically connected to the first connection electrode located closer to it. It is connected to the. The second electrode is electrically connected to the second connection electrode at both ends thereof. An organic light emitting layer protective portion made of a transparent conductive oxide is provided in the same plane as the first electrode as a dummy pattern in a region between the display region and the second connection electrode in the periphery of the display region. It has been. The dummy pattern is not connected to the external drive circuit and is also separated from the first electrode.

図3に、本発明の第二の実施の形態にかかる有機ELパネルの模式的な平面図を示す。第二の実施の形態にかかる有機ELパネルにあっては、表示領域の四つの辺のうち、第一の電極と垂直な一の辺の近傍に、第一の接続電極が設けられており、第一の電極と平行な一の辺の近傍に、第二の接続電極が設けられている。第一の電極は、その一方の端に位置する第一の接続電極と電気的に接続されている。同様に、第二の電極は、その一方の端に位置する第二の接続電極と電気的に接続されている。表示領域の周囲のうち、表示領域と第一の接続電極との間を除く全ての領域に、ダミーパターンとして、第一の電極と同一の平面内に透明導電性酸化物からなる有機発光層保護部が設けられている。   FIG. 3 shows a schematic plan view of an organic EL panel according to the second embodiment of the present invention. In the organic EL panel according to the second embodiment, the first connection electrode is provided in the vicinity of one side perpendicular to the first electrode among the four sides of the display region, A second connection electrode is provided in the vicinity of one side parallel to the first electrode. The first electrode is electrically connected to the first connection electrode located at one end thereof. Similarly, the second electrode is electrically connected to a second connection electrode located at one end thereof. Protection of the organic light emitting layer made of a transparent conductive oxide in the same plane as the first electrode as a dummy pattern in all areas around the display area except between the display area and the first connection electrode Is provided.

以下に、本発明の実施例を、添付図面を参照しながら説明する。もっとも、本発明は、以下に説明する実施例によって限定されるものではない。   Embodiments of the present invention will be described below with reference to the accompanying drawings. However, the present invention is not limited to the examples described below.

[実施例1]
実施例1として、上記した本発明の第一の実施の態様に準じた有機ELパネルを作製した。画素数は160×120(RGB)、画素ピッチは0.33mmとした。
[Example 1]
As Example 1, an organic EL panel according to the above-described first embodiment of the present invention was produced. The number of pixels was 160 × 120 (RGB), and the pixel pitch was 0.33 mm.

透明基板1として、フュージョンガラス(コーニング製1737ガラス、100×100×1.1mm)を用いた。   As the transparent substrate 1, fusion glass (Corning 1737 glass, 100 × 100 × 1.1 mm) was used.

透明基板上に、以下のようにブラックマトリクス3を形成した。すなわち、スピンコート法を用いてブラックマトリクス材料(富士フィルムエレクトロニクスマテリアルズ株式会社製:カラーモザイクCK−7800)を塗布し、フォトリソグラフィ法によってパターニングを実施した。これにより、幅0.03mm、ピッチ0.11mm、膜厚1μmの開口部をもつブラックマトリクスを得た。   On the transparent substrate, the black matrix 3 was formed as follows. That is, a black matrix material (Fuji Film Electronics Materials Co., Ltd .: Color Mosaic CK-7800) was applied using a spin coating method, and patterning was performed by a photolithography method. As a result, a black matrix having openings with a width of 0.03 mm, a pitch of 0.11 mm, and a film thickness of 1 μm was obtained.

その後、透明基板上に、以下のように青色変換フィルタ層2Bを形成した。すなわち、スピンコート法を用いて青色フィルタ材料(富士フィルムエレクトロニクスマテリアルズ株式会社製:カラーモザイクCB−7001)を塗布し、フォトリソグラフィ法によってパターニングを実施した。これにより、幅0.08mm、ピッチ0.33mm、厚さ10μmの複数のストライプからなる青色変換フィルタ層を得た。   Then, the blue conversion filter layer 2B was formed on the transparent substrate as follows. That is, a blue filter material (manufactured by Fuji Film Electronics Materials Co., Ltd .: Color Mosaic CB-7001) was applied using a spin coating method, and patterning was performed by a photolithography method. As a result, a blue color conversion filter layer composed of a plurality of stripes having a width of 0.08 mm, a pitch of 0.33 mm, and a thickness of 10 μm was obtained.

その後、透明基板上に、以下のように緑色変換フィルタ層2Gを形成した。すなわち、蛍光色素としてクマリン6(0.7重量部)を溶剤のプロピレングリコールモノエチルアセテート(PGMEA)120重量部へ溶解させた。得られた溶液に対して100重量部の新日鐵化学製VPA100を加えて溶解させ、塗布液を得た。この塗布液を塗布し、フォトリソグラフィ法にてパターニングを実施した。これにより、幅0.08mm、ピッチ0.33mm、厚さ10μmの複数のストライプからなる緑色変換フィルタ層を得た。なお、当該緑色変換フィルタ層は、色変換層のみで構成されている。   Thereafter, a green color conversion filter layer 2G was formed on the transparent substrate as follows. That is, coumarin 6 (0.7 parts by weight) as a fluorescent dye was dissolved in 120 parts by weight of a solvent, propylene glycol monoethyl acetate (PGMEA). To the obtained solution, 100 parts by weight of Nippon Steel Chemical VPA100 was added and dissolved to obtain a coating solution. This coating solution was applied, and patterning was performed by a photolithography method. As a result, a green color conversion filter layer composed of a plurality of stripes having a width of 0.08 mm, a pitch of 0.33 mm, and a thickness of 10 μm was obtained. The green color conversion filter layer is composed of only a color conversion layer.

その後、透明基板上に、以下のように赤色変換フィルタ層2Rを形成した。すなわち、蛍光色素としてクマリン6(0.6重量部)、ローダミン6G(0.3重量部)およびベーシックバイオレット(0.3重量部)を120重量部のPGMEA中へ溶解させた。得られた溶液に対して100重量部の新日鐵化学製VPA100を加えて溶解させ、塗布液を得た。この塗布液を塗布し、フォトリソグラフ用にてパターニングを実施した。これにより、幅0.08mm、ピッチ0.33mm、厚さ10μmの複数のストライプからなる赤色変換フィルタ層を得た。なお、当該赤色変換フィルタ層は、色変換層のみで構成されている。   Thereafter, a red color conversion filter layer 2R was formed on the transparent substrate as follows. That is, coumarin 6 (0.6 parts by weight), rhodamine 6G (0.3 parts by weight) and basic violet (0.3 parts by weight) were dissolved in 120 parts by weight of PGMEA as fluorescent dyes. To the obtained solution, 100 parts by weight of Nippon Steel Chemical VPA100 was added and dissolved to obtain a coating solution. This coating solution was applied, and patterning was performed for photolithography. As a result, a red color conversion filter layer composed of a plurality of stripes having a width of 0.08 mm, a pitch of 0.33 mm, and a thickness of 10 μm was obtained. The red color conversion filter layer is composed only of a color conversion layer.

その後、ブラックマトリクスおよび各色の色変換フィルタ層の上に、以下のように平坦化膜4を形成した。すなわち、スピンコート法を用いて平坦化材料(JSR製:NN810)を色変換層およびブラックマトリクスを被覆するように塗布し、フォトリソグラフィ法によってパターニングを実施した。平坦化層の膜厚はブラックマトリクス上で5μmとした。この厚さの平坦化膜を設けることで、カラーフィルタ層(2R、2G、2B)上に薄い平坦化膜が形成される。   Thereafter, the planarizing film 4 was formed on the black matrix and the color conversion filter layer of each color as follows. That is, a planarizing material (manufactured by JSR: NN810) was applied using a spin coating method so as to cover the color conversion layer and the black matrix, and patterning was performed by a photolithography method. The thickness of the planarizing layer was 5 μm on the black matrix. By providing the planarizing film having this thickness, a thin planarizing film is formed on the color filter layers (2R, 2G, 2B).

その後、平坦化膜の上に、以下のようにパッシベーション層5を形成した。すなわち、ターゲットとしてSiO2、スパッタガスとしてArおよびO2の混合ガスを用いて、スパッタ法によりSiO2膜を堆積させた。これにより、膜厚300nmのパッシベーション層を得た。 Thereafter, a passivation layer 5 was formed on the planarizing film as follows. That is, a SiO 2 film was deposited by sputtering using SiO 2 as a target and a mixed gas of Ar and O 2 as a sputtering gas. Thereby, a passivation layer having a thickness of 300 nm was obtained.

その後、パッシベーション層の上に、以下のように、第一の電極(透明電極)6と、有機発光層保護部(ダミーパターン)7と、第二の電極の引き出し線とを形成した。すなわち、DCスパッタ法(ターゲットIn−Zn酸化物、スパッタガス:O2およびAr)を用い、室温において200nmのIZOをパッシベーション層上の全面に堆積させた。その後、シュウ酸水溶液をエッチング液として用いるフォトリソグラフィ法によってパターニングを行った。これにより、透明電極と、ダミーパターンと、第二の電極の引き出し線とを形成した。透明電極は、色変換フィルタ層2R,2G,2Bの上方に位置し、色変換フィルタのストライプと同一方向に伸びる、幅0.1mm、ピッチ0.11mm、厚さ200nmのストライプ状とした。また、ダミーパターンは、第一の実施の形態に関連して上記したように、表示領域の外側で、第二の接続電極を形成する位置よりも内側に位置し、幅0.5mm、長さ40.25mm、厚さ200nmとした。第二の電極の引き出し線は、第一の電極に垂直な方向に、幅0.3mm、ピッチ0.33mm、厚さ200nmとした。 Thereafter, on the passivation layer, a first electrode (transparent electrode) 6, an organic light emitting layer protection part (dummy pattern) 7, and a lead wire for the second electrode were formed as follows. That is, using a DC sputtering method (target In—Zn oxide, sputtering gas: O 2 and Ar), 200 nm of IZO was deposited on the entire surface of the passivation layer at room temperature. Thereafter, patterning was performed by a photolithography method using an oxalic acid aqueous solution as an etching solution. Thereby, a transparent electrode, a dummy pattern, and a lead line for the second electrode were formed. The transparent electrode was positioned above the color conversion filter layers 2R, 2G, and 2B and formed in a stripe shape having a width of 0.1 mm, a pitch of 0.11 mm, and a thickness of 200 nm extending in the same direction as the stripe of the color conversion filter. Further, as described above in connection with the first embodiment, the dummy pattern is located outside the display region and inside the position where the second connection electrode is formed, and has a width of 0.5 mm and a length. The thickness was 40.25 mm and the thickness was 200 nm. The lead wire of the second electrode had a width of 0.3 mm, a pitch of 0.33 mm, and a thickness of 200 nm in a direction perpendicular to the first electrode.

その後、フォトリソグラフ法を用いて、透明電極のストライプの間隙およびダミーパターン上に、絶縁膜(ポリイミド膜、東レ株式会社製フォトニース)(図示せず)を形成した。   Thereafter, an insulating film (polyimide film, Photo Nice manufactured by Toray Industries, Inc.) (not shown) was formed on the gap between the transparent electrodes and the dummy pattern by using a photolithographic method.

その後、第一の電極の上に、以下のように反射電極分雛隔壁(図示せず)を形成した。すなわち、第一の電極の上に、ネガ型フォトレジスト(本ゼオン製ZPN1168)をスピンコート法によって塗布し、プリベークを行い、フォトマスクを用いて所定のパターンを焼き付け、60秒間にわたって110℃のホットプレート上でポストエクスポージャーベークを行った後に現像を行い、さらに15分間にわたって160℃のホットプレート上で加熱を行った。これにより、第二の電極(反射電極)を設けない領域に、透明電極20のストライプと直行する方向に伸び、逆テーパー形状(上に向かって細くなる形状)の断面を有するストライプ状の反射電極分雛隔壁を形成した。   Thereafter, a reflecting electrode partition wall (not shown) was formed on the first electrode as follows. That is, on the first electrode, a negative type photoresist (ZPN 1168 manufactured by Zeon) is applied by spin coating, pre-baked, a predetermined pattern is baked using a photomask, and hot hot at 110 ° C. for 60 seconds. Development was performed after post-exposure baking on the plate, and heating was further performed on a hot plate at 160 ° C. for 15 minutes. As a result, a stripe-shaped reflective electrode that extends in a direction perpendicular to the stripe of the transparent electrode 20 and has a cross section of an inversely tapered shape (a shape that narrows upward) in a region where the second electrode (reflective electrode) is not provided. A dividing wall was formed.

その後、第一の電極の上に、以下のように正孔注入層(図示せず)、正孔輸送層(図示せず)、有機発光層8および電子注入層(図示せず)を形成した。すなわち、反射電極分離隔壁以下の構造を形成した基板を抵抗加熱蒸着装置内に装着し、正孔注入層、正孔輸送層、有機発光層、電子注入層を、真空を破らずに順次成膜した。成膜に際して、真空槽内圧を1×10-4Paまで減圧した。正孔注入層として、膜厚100nmの銅フタロシアニン(CuPc)を、正孔輸送層として、膜厚20nmの4,4’−ビス[N−(1−ナフチル)−N−フェニルアミノ]ビフェニル(α−NPD)を、有機発光層として、膜厚30nmの4,4’−ビス(2,2’−ジフェニルビニル)ビフェニル(DPVBi)を、そして電子注入層として、膜厚20nmのAlq3を積層した。 Thereafter, a hole injection layer (not shown), a hole transport layer (not shown), an organic light emitting layer 8 and an electron injection layer (not shown) were formed on the first electrode as follows. . That is, a substrate having a structure below the reflective electrode separation partition is mounted in a resistance heating vapor deposition apparatus, and a hole injection layer, a hole transport layer, an organic light emitting layer, and an electron injection layer are sequentially formed without breaking the vacuum. did. During film formation, the internal pressure of the vacuum chamber was reduced to 1 × 10 −4 Pa. Copper phthalocyanine (CuPc) with a film thickness of 100 nm is used as the hole injection layer, and 4,4′-bis [N- (1-naphthyl) -N-phenylamino] biphenyl (α with a film thickness of 20 nm is used as the hole transport layer. -NPD) as an organic light-emitting layer, 30 nm-thick 4,4'-bis (2,2'-diphenylvinyl) biphenyl (DPVBi), and 20 nm-thick Alq 3 as an electron injection layer. .

その後、真空を破ることなしに、電子注入層の上に、以下のように第二の電極(反射電極)9を形成した。すなわち、表示領域および第二の電極の引き出し線との接合部に開口部を持つマスクを用いて、Mg/Ag(質量比10/1)を堆積させた。これにより、膜厚200nmの反射電極を形成した。   Thereafter, the second electrode (reflective electrode) 9 was formed on the electron injection layer as follows without breaking the vacuum. That is, Mg / Ag (mass ratio 10/1) was deposited using a mask having an opening at the junction between the display region and the second electrode lead line. Thereby, a reflective electrode having a thickness of 200 nm was formed.

その後、得られた有機ELパネルを、グローブボックス内乾燥窒素雰囲気下(酸素および水分濃度ともに10ppm以下)において、封止ガラス(図示せず)とUV硬化接着剤を用いて封止した。   Thereafter, the obtained organic EL panel was sealed with a sealing glass (not shown) and a UV curable adhesive in a dry nitrogen atmosphere in the glove box (both oxygen and moisture concentrations were 10 ppm or less).

[実施例2]
ダミーパターンとしてAl膜を膜厚300nmで形成した以外は実施例1と同様の方法で、実施例2にかかる有機ELパネルを形成した。
[Example 2]
An organic EL panel according to Example 2 was formed in the same manner as in Example 1 except that an Al film having a film thickness of 300 nm was formed as a dummy pattern.

[比較例1]
ダミーパターンを形成しない以外は実施例1と同様の方法で、比較例1にかかる有機ELパネルを形成した。
[Comparative Example 1]
An organic EL panel according to Comparative Example 1 was formed in the same manner as in Example 1 except that no dummy pattern was formed.

[評価]
表1に、実施例1,2および比較例1で得られた有機ELパネルの概要を示す。これらの有機ELパネルのそれぞれ10パネルについて、駆動デューティが1/60、初期輝度150cd/m2、駆動雰囲気85℃で連続点灯した際の1000hにおける表示領域のダークスポットの発生を観察した。結果を表2に示す。なお、ダークスポット密度は、以下のように算出した。すなわち、有機ELパネルの点灯状態で、全表示領域のうち、非点灯領域(輝度が周囲よりも50%以上低い部分)の面積が10μm2以上となる箇所を計数した。これを表示領域の面積である20.9cm2で割り、cm2あたりのダークスポット数を算出した。
[Evaluation]
Table 1 shows an outline of the organic EL panels obtained in Examples 1 and 2 and Comparative Example 1. For each of these 10 organic EL panels, the occurrence of dark spots in the display area at 1000 hours when the driving duty was 1/60, the initial luminance was 150 cd / m 2 , and the driving atmosphere was 85 ° C. was observed. The results are shown in Table 2. The dark spot density was calculated as follows. That is, in the lighting state of the organic EL panel, the locations where the area of the non-lighting region (the portion whose luminance is 50% or more lower than the surroundings) out of all the display regions was counted 10 μm 2 or more. Divided by 20.9Cm 2 is the area of the display region which was calculated dark number of spots per cm 2.

Figure 0004747776
Figure 0004747776

Figure 0004747776
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表2から分かるように、実施例1〜2の素子は、比較例の素子において発生したダークスポットの発生が少ない。ここから、ダミーパターンが、水分および酸素から有機発光層を保護する層として有効に機能していることが分かる。以上のことから、表示領域の周囲に有機発光層保護層を形成することが、ダークスポットの発生防止、ひいては有機ELパネルの長寿命化に有効であることが分かる。   As can be seen from Table 2, the devices of Examples 1 and 2 have less dark spots generated in the device of the comparative example. From this, it can be seen that the dummy pattern effectively functions as a layer for protecting the organic light emitting layer from moisture and oxygen. From the above, it can be seen that forming an organic light emitting layer protective layer around the display region is effective in preventing the occurrence of dark spots and thus extending the life of the organic EL panel.

図1に、本発明の第一の実施の形態にかかる有機ELパネルの模式的な平面図を示す。FIG. 1 shows a schematic plan view of an organic EL panel according to the first embodiment of the present invention. 図2に、本発明の第一の実施の形態にかかる有機ELパネルの、第一の電極に垂直な平面における模式的な断面図を示す。FIG. 2 is a schematic cross-sectional view in a plane perpendicular to the first electrode of the organic EL panel according to the first embodiment of the present invention. 図3に、本発明の第二の実施の形態にかかる有機ELパネルの模式的な平面図を示す。FIG. 3 shows a schematic plan view of an organic EL panel according to the second embodiment of the present invention. 図4に、本発明にかかる有機ELパネルにおける第一の電極および補助電極の模式的な平面図を示す。FIG. 4 shows a schematic plan view of the first electrode and the auxiliary electrode in the organic EL panel according to the present invention.

符号の説明Explanation of symbols

1:透明基板
2R,2G,2B:色変調部
3:ブラックマトリクス
4:平坦化層
5:パッシベーション層
6:第一の電極(透明電極)
7:有機発光層保護部
8:有機発光層
9:第二の電極(反射電極)
10:第一の接続電極
11:第二の接続電極
12:補助電極

1: Transparent substrates 2R, 2G, 2B: Color modulation unit 3: Black matrix 4: Flattening layer 5: Passivation layer 6: First electrode (transparent electrode)
7: Organic light emitting layer protective part 8: Organic light emitting layer 9: Second electrode (reflective electrode)
10: First connection electrode 11: Second connection electrode 12: Auxiliary electrode

Claims (7)

表示領域内に行列状に設けられた複数の画素を個別に駆動して情報の表示を行う有機ELディスプレイのための有機ELパネルであって、
透明基板と、
前記透明基板の上で、前記画素の各々に対応する位置に設けられた色変調部と、
前記色変調部の上で、前記画素の列の各々に対応する位置に設けられた第一の電極と、
前記第一の電極の上で、少なくとも前記画素の各々に対応する位置に設けられた有機発光層と、
前記有機発光層の上で、前記画素の行の各々に対応する位置に設けられた第二の電極と、
前記第一の電極と同一の面で、前記表示領域の周囲の少なくとも一部に設けられ、金属膜またはSnO 、In 、IZOおよびZnOとAlとの合金からなる群から選択される酸化物導電膜である有機発光層保護部と
を有する有機ELパネル。
An organic EL panel for an organic EL display that displays information by individually driving a plurality of pixels provided in a matrix in a display area,
A transparent substrate;
On the transparent substrate, a color modulation unit provided at a position corresponding to each of the pixels;
A first electrode provided at a position corresponding to each of the columns of pixels on the color modulation unit;
On the first electrode, at least an organic light emitting layer provided at a position corresponding to each of the pixels,
A second electrode provided on the organic light emitting layer at a position corresponding to each row of the pixels;
Provided on at least a part of the periphery of the display region on the same surface as the first electrode, and selected from the group consisting of a metal film or SnO 2 , In 2 O 3 , IZO and an alloy of ZnO and Al. The organic electroluminescent panel which has an organic light emitting layer protective part which is an oxide electrically conductive film .
前記有機発光層保護部が、第一の電極から分離されており、外部駆動回路に接続されておらず、第一の電極と外部駆動回路とをつなぐ引出し線を形成する領域以外の領域に設けられた請求項1に記載の有機ELパネル。The organic light emitting layer protection unit is separated from the first electrode, is not connected to the external drive circuit, and is provided in a region other than a region where a lead line connecting the first electrode and the external drive circuit is formed. The organic EL panel according to claim 1. 前記有機発光層保護部が、水分および/または酸素に対する遮断能を有する、請求項1または2に記載の有機ELパネル。 The organic EL panel according to claim 1 , wherein the organic light emitting layer protective part has a blocking ability against moisture and / or oxygen. 前記金属膜が、Al、Mo、Ni、CrおよびWならびにこれらを主成分とする合金からなる群から選択される材料からなる、請求項1〜3のいずれかに記載の有機ELパネル。 The organic EL panel according to any one of claims 1 to 3, wherein the metal film is made of a material selected from the group consisting of Al, Mo, Ni, Cr, and W and an alloy containing these as a main component. 表示領域内に行列状に設けられた複数の画素を個別に駆動して情報の表示を行う有機ELディスプレイのための有機ELパネルの製造方法であって、
透明基板を供するステップと、
前記透明基板の上で、前記画素の各々に対応する位置に色変調部を設けるステップと、
前記色変調部の上で、前記画素の列の各々に対応する位置に第一の電極を設けるステップと、
前記第一の電極と同一の面で、前記表示領域の周囲の少なくとも一部に、金属膜またはSnO 、In 、IZOおよびZnOとAlとの合金からなる群から選択される酸化物導電膜である有機発光層保護部を設けるステップと、
前記第一の電極の上で、少なくとも前記画素の各々に対応する位置に有機発光層を設けるステップと、
前記有機発光層の上で、前記画素の行の各々に対応する位置に第二の電極を設けるステップと
を含む方法。
A method of manufacturing an organic EL panel for an organic EL display that displays information by individually driving a plurality of pixels provided in a matrix in a display area,
Providing a transparent substrate;
Providing a color modulation section on the transparent substrate at a position corresponding to each of the pixels;
Providing a first electrode at a position corresponding to each of the columns of pixels on the color modulator;
An oxide selected from the group consisting of a metal film or SnO 2 , In 2 O 3 , IZO and an alloy of ZnO and Al on at least a part of the periphery of the display region on the same surface as the first electrode Providing an organic light emitting layer protective part which is a conductive film ;
Providing an organic light emitting layer on the first electrode at a position corresponding to at least each of the pixels;
Providing a second electrode on the organic light emitting layer at a position corresponding to each of the rows of pixels.
前記有機発光層保護部を設けるステップが、さらに第一の電極から分離されており、外部駆動回路に接続されておらず、第一の電極と外部駆動回路とをつなぐ引出し線を形成する領域以外の領域に、前記有機発光層保護部を設けるステップである請求項5に記載の方法。The step of providing the organic light emitting layer protection portion is further separated from the first electrode, is not connected to the external drive circuit, and other than a region for forming a lead line connecting the first electrode and the external drive circuit The method according to claim 5, wherein the step of providing the organic light emitting layer protective part in the region is provided. 前記第一の電極の材料と、前記有機発光層保護部の材料とが同一の材料である場合において、前記第一の電極を設けるステップと前記有機発光層保護部を設けるステップとが、同一の処理により行われる、請求項5または6に記載の方法。 In the case where the material of the first electrode and the material of the organic light emitting layer protective part are the same material, the step of providing the first electrode and the step of providing the organic light emitting layer protective part are the same. The method according to claim 5 or 6, wherein the method is carried out by processing.
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