JP4745365B2 - 基板の処理方法及び基板の処理装置 - Google Patents
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Description
17 塗布処理装置
56 除去液吐出ノズル
61 除去液混合装置
80 CCDカメラ
81 主制御装置
82 記憶部
100 固定ブロック
W ウェハ
Claims (2)
- 基板を処理する処理方法であって、
基板の外縁部に対して所定の方向から除去液を吐出して、前記基板の外縁部に形成されている処理膜を除去する工程を有し、
前記処理膜を除去する際に、前記吐出された除去液が前記外縁部から飛散する方向を撮像し、
当該撮像した飛散する方向を基に、当該飛散する方向が基板の半径方向で、かつ基板の外方向になるように前記除去液の吐出方向を調整することを特徴とする、基板の処理方法。 - 基板を処理する処理装置であって、
基板の外縁部に形成された処理膜に除去液を吐出する除去液吐出ノズルと、
前記除去液吐出ノズルから吐出された除去液が前記外縁部から飛散する方向を撮像するための撮像手段と、
前記除去液吐出ノズルを所定の方向に向かせる駆動部と、
前記撮像手段により撮像された前記除去液の飛散する方向に基づいて、当該飛散する方向が基板の半径方向で、かつ基板の外方向になるように、前記除去液吐出ノズルからの除去液の吐出方向を調整すべく前記駆動部を制御する制御部と、を有することを特徴とする、基板の処理装置。
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